JP2000017251A - 研磨用水性組成物 - Google Patents
研磨用水性組成物Info
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- JP2000017251A JP2000017251A JP18622098A JP18622098A JP2000017251A JP 2000017251 A JP2000017251 A JP 2000017251A JP 18622098 A JP18622098 A JP 18622098A JP 18622098 A JP18622098 A JP 18622098A JP 2000017251 A JP2000017251 A JP 2000017251A
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- Japan
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- diamond abrasive
- abrasive grains
- hectorite
- polishing
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 引火性が実質上なく、ダイヤモンド砥粒の実
用上問題となる経時的沈降を発生させないだけで、加工
面に効率的で十分な研摩効率をもたらす適性粘度を有す
るダイヤモンド砥粒含有研磨用組成物を提供する。 【解決手段】 ダイヤモンド砥粒０．１〜５重量％、ヘ
クトライト０．０５〜３重量％およびグリコール系溶剤
１〜８０重量％含有する研磨用水性組成物。
用上問題となる経時的沈降を発生させないだけで、加工
面に効率的で十分な研摩効率をもたらす適性粘度を有す
るダイヤモンド砥粒含有研磨用組成物を提供する。 【解決手段】 ダイヤモンド砥粒０．１〜５重量％、ヘ
クトライト０．０５〜３重量％およびグリコール系溶剤
１〜８０重量％含有する研磨用水性組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明はダイヤモンド砥粒
を含有する研磨用水性組成物に関する。
を含有する研磨用水性組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】ダイヤモンド砥粒を含有する研磨用組成
物は、例えばラップ装置等を用いて種々の加工物や工作
物(例えば、ステンレス、アルミ合金、セラミックス等)
の精密仕上げに広く使用されている。従来からこの種の
研磨用組成物としては鉱油等の油剤にダイヤモンド砥粒
をスラリー状に分散させた油性組成物およびエチレング
リコール等の水溶液にダイヤモンド砥粒をスラリー状に
分散させた水性組成物が使用されている。
物は、例えばラップ装置等を用いて種々の加工物や工作
物(例えば、ステンレス、アルミ合金、セラミックス等)
の精密仕上げに広く使用されている。従来からこの種の
研磨用組成物としては鉱油等の油剤にダイヤモンド砥粒
をスラリー状に分散させた油性組成物およびエチレング
リコール等の水溶液にダイヤモンド砥粒をスラリー状に
分散させた水性組成物が使用されている。
【０００３】しかしながら、前者の場合には研磨後に加
工物や工作物等を洗浄剤を用いる洗浄処理が必要なだけ
でなく、引火性が高いので作業衛生や安全性の点で問題
があり、また、後者の場合にはダイヤモンド砥粒が経時
的に沈降しやすいために研磨作用が有効に発揮されず、
長い加工時間を必要とするだけでなく、余分な組成物を
使用するので非経済的である。なお、後者の場合、増粘
によってダイヤモンド砥粒の沈降性を改良した組成物も
知られているが、高粘度のために加工面への組成物の供
給が困難となり、効率的で十分な研磨効果が得難いとい
う問題がある。
工物や工作物等を洗浄剤を用いる洗浄処理が必要なだけ
でなく、引火性が高いので作業衛生や安全性の点で問題
があり、また、後者の場合にはダイヤモンド砥粒が経時
的に沈降しやすいために研磨作用が有効に発揮されず、
長い加工時間を必要とするだけでなく、余分な組成物を
使用するので非経済的である。なお、後者の場合、増粘
によってダイヤモンド砥粒の沈降性を改良した組成物も
知られているが、高粘度のために加工面への組成物の供
給が困難となり、効率的で十分な研磨効果が得難いとい
う問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、引火性が
実質上なく、有効な研磨作用が実用上妨げられる程度の
ダイヤモンド砥粒の経時的沈降を発生させないで、加工
面に効率的で十分な研磨効果をもたらす適性粘度を有す
るダイヤモンド砥粒含有研磨用組成物を提供するために
なされたものである。
実質上なく、有効な研磨作用が実用上妨げられる程度の
ダイヤモンド砥粒の経時的沈降を発生させないで、加工
面に効率的で十分な研磨効果をもたらす適性粘度を有す
るダイヤモンド砥粒含有研磨用組成物を提供するために
なされたものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】即ちこの発明は、ダイヤ
モンド砥粒０．１〜５重量％、ヘクトライト０．０５〜
３重量％およびグリコール系溶剤１〜８０重量％含有す
る研磨用水性組成物に関する。
モンド砥粒０．１〜５重量％、ヘクトライト０．０５〜
３重量％およびグリコール系溶剤１〜８０重量％含有す
る研磨用水性組成物に関する。
【０００６】
【発明の実施の形態】ダイヤモンド砥粒としては従来か
ら当該分野において常用されている天然または人造の工
業用ダイヤモンド砥粒を適宜使用すればよく、該砥粒の
平均粒径は特に限定的ではないが、経時的沈降の防止ま
たは遅延の観点からは１０μm以下、特に０．１〜５μm
にするのが好ましい。
ら当該分野において常用されている天然または人造の工
業用ダイヤモンド砥粒を適宜使用すればよく、該砥粒の
平均粒径は特に限定的ではないが、経時的沈降の防止ま
たは遅延の観点からは１０μm以下、特に０．１〜５μm
にするのが好ましい。
【０００７】ダイヤモンド砥粒の配合量は０．１〜５重
量％、好ましくは０．５〜２重量％である。ダイヤモン
ド砥粒の配合量が０．１重量％よりも少なくなると長い
研摩時間が必要となって作業効率が低下し、また、該配
合量を５重量％よりも多くしてもそれに応じた研磨効果
は得られず、非経済的である。
量％、好ましくは０．５〜２重量％である。ダイヤモン
ド砥粒の配合量が０．１重量％よりも少なくなると長い
研摩時間が必要となって作業効率が低下し、また、該配
合量を５重量％よりも多くしてもそれに応じた研磨効果
は得られず、非経済的である。
【０００８】ヘクトライトとしては天然のもの以外に市
販の合成品、例えば、日本シリカ工業株式会社製の「ヘ
クトライトＲＤ」等を適宜使用すればよい。ヘクトライ
トの主要な作用効果はダイヤモンド砥粒の経時的沈降の
防止または遅延である。ヘクトライト以外の粘土鉱物
(例えば、ベントナイト等)もグリコール系溶剤の配合量
が比較的少ない場合(１〜２０重量％)には使用可能であ
るが、グリコール系溶剤の配合量が多くなるとダイヤモ
ンド砥粒の分散安定性を低下させるか、または該砥粒の
分散を困難にするので一般的には好ましくない。
販の合成品、例えば、日本シリカ工業株式会社製の「ヘ
クトライトＲＤ」等を適宜使用すればよい。ヘクトライ
トの主要な作用効果はダイヤモンド砥粒の経時的沈降の
防止または遅延である。ヘクトライト以外の粘土鉱物
(例えば、ベントナイト等)もグリコール系溶剤の配合量
が比較的少ない場合(１〜２０重量％)には使用可能であ
るが、グリコール系溶剤の配合量が多くなるとダイヤモ
ンド砥粒の分散安定性を低下させるか、または該砥粒の
分散を困難にするので一般的には好ましくない。
【０００９】ヘクトライトの配合量は０．０５〜３重量
％、好ましくは０．１〜１重量％である。ヘクトライト
の配合量が０．０５重量％よりも少なくなるとダイヤモ
ンド砥粒の経時的沈降に対する十分な防止または遅延効
果は得られず、また、該配合量が３重量％よりも多くな
ると組成物がゲル化するようになるので好ましくはな
い。
％、好ましくは０．１〜１重量％である。ヘクトライト
の配合量が０．０５重量％よりも少なくなるとダイヤモ
ンド砥粒の経時的沈降に対する十分な防止または遅延効
果は得られず、また、該配合量が３重量％よりも多くな
ると組成物がゲル化するようになるので好ましくはな
い。
【００１０】本発明において用いる好適なグリコール系
溶剤としては次の一般的(Ｉ):
溶剤としては次の一般的(Ｉ):
【化２】 (式中、Ｒ1は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ2は水
素原子または炭素原子数１〜４のアルキル基を示し、ｎ
は１〜２０の数を示す)で表される溶剤が挙げられる。
この種の溶剤の分子量は１０００以下が好ましく、分子
量が１０００よりも大きくなると組成物の粘度が過度に
高くなって作業効率や加工面の研磨効率が悪化する。
素原子または炭素原子数１〜４のアルキル基を示し、ｎ
は１〜２０の数を示す)で表される溶剤が挙げられる。
この種の溶剤の分子量は１０００以下が好ましく、分子
量が１０００よりも大きくなると組成物の粘度が過度に
高くなって作業効率や加工面の研磨効率が悪化する。
【００１１】この種の溶剤としては次のものが例示され
るが、これらは所望により２種以上適宜併用してもよ
い:エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリ
エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、エチルジグ
リコール、ブチルジグリコール、およびエチレンオキシ
ドとプロピレンオキシドとのブロックコポリマーもしく
はランダムコポリマー。
るが、これらは所望により２種以上適宜併用してもよ
い:エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリ
エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、エチルジグ
リコール、ブチルジグリコール、およびエチレンオキシ
ドとプロピレンオキシドとのブロックコポリマーもしく
はランダムコポリマー。
【００１２】グリコール系溶剤の配合量は１〜８０重量
％、好ましくは２〜５０重量％である。グリコール系溶
剤の配合量が１重量％よりも少なくなるとダイヤモンド
砥粒の水性媒体への十分な分散効果が得られなくなり、
研磨効率も低下し、また、該配合量が８０重量％よりも
多くなると、分散系が不安定になるだけでなく、引火性
が高くなる。
％、好ましくは２〜５０重量％である。グリコール系溶
剤の配合量が１重量％よりも少なくなるとダイヤモンド
砥粒の水性媒体への十分な分散効果が得られなくなり、
研磨効率も低下し、また、該配合量が８０重量％よりも
多くなると、分散系が不安定になるだけでなく、引火性
が高くなる。
【００１３】本発明によるダイヤモンド砥粒含有研磨姓
組成物の残余成分である水としては通常はイオン交換水
または蒸留水を使用するが、水道水等の非精製水を使用
してもよい。
組成物の残余成分である水としては通常はイオン交換水
または蒸留水を使用するが、水道水等の非精製水を使用
してもよい。
【００１４】本発明による研磨用水性組成物には、上記
の配合成分の外に、所望により、各種の添加剤、例え
ば、防錆剤(例えば、アルカノールアミン、アルキルカ
ルボン酸塩等)、防腐剤(例えば、１,２−ベンゾイソチ
アゾリン−３−オン等)、消泡剤(例えば、ジメチルシロ
キサンポリマー、中級アルコール等)、潤滑剤(例えば、
脂肪酸エステル、脂肪酸アミド等)、極圧剤(例えば、硫
化脂肪酸塩等)および界面活性剤(例えば、非イオン系界
面活性剤等)等を適宜配合してもよい。
の配合成分の外に、所望により、各種の添加剤、例え
ば、防錆剤(例えば、アルカノールアミン、アルキルカ
ルボン酸塩等)、防腐剤(例えば、１,２−ベンゾイソチ
アゾリン−３−オン等)、消泡剤(例えば、ジメチルシロ
キサンポリマー、中級アルコール等)、潤滑剤(例えば、
脂肪酸エステル、脂肪酸アミド等)、極圧剤(例えば、硫
化脂肪酸塩等)および界面活性剤(例えば、非イオン系界
面活性剤等)等を適宜配合してもよい。
【００１５】本発明による研磨用水性組成物の調製法は
特に限定的ではないが、一般的にはヘクトライトを水に
均一に分散させ、次いでグリコール系溶剤をこの水性分
散液に均一に分散させた後、ダイヤモンド砥粒を均一に
分散させる方法が好ましい。ヘクトライトおよびグリコ
ール系溶剤の分散には撹拌力の強いホモミキサーやホモ
ディスパーを使用するのが好適である。
特に限定的ではないが、一般的にはヘクトライトを水に
均一に分散させ、次いでグリコール系溶剤をこの水性分
散液に均一に分散させた後、ダイヤモンド砥粒を均一に
分散させる方法が好ましい。ヘクトライトおよびグリコ
ール系溶剤の分散には撹拌力の強いホモミキサーやホモ
ディスパーを使用するのが好適である。
【００１６】本発明による研磨用水性組成物の粘度は上
記の配合成分の種類や配合量によって左右され、特に限
定的ではない。
記の配合成分の種類や配合量によって左右され、特に限
定的ではない。
【００１７】また、本発明による研磨用水性組成物の使
用方法も特に限定的ではなく、外部からラップ装置等と
工作物の被処理表面との接触部に注加する常法のほかに
噴霧法や通液法等を適宜利用すればよい。本発明による
研磨用水性組成物は金属一般の研磨精密仕上げに汎用で
きるものであるが、特に鉄、鋼、アルミニウム合金等の
研磨加工等に有効である。
用方法も特に限定的ではなく、外部からラップ装置等と
工作物の被処理表面との接触部に注加する常法のほかに
噴霧法や通液法等を適宜利用すればよい。本発明による
研磨用水性組成物は金属一般の研磨精密仕上げに汎用で
きるものであるが、特に鉄、鋼、アルミニウム合金等の
研磨加工等に有効である。
【００１８】
【実施例】以下、本発明を実施例によって説明する。実施例１ 表１に示す配合処方により、次の手順に従って研磨用組
成物１を調製した。イオン交換水にヘクトライト(日本
シリカ工業株式会社製「ヘクトライトＲＤ」)を加え、ホ
モミキサーを用いて３０００rpmで１０分間撹拌して均
一に分散させ、この分散液にエチレングリコールを加
え、ホモミキサーを用いて３０００rpmで１０分間撹拌
することによって均一な分散液を得た。この均一分散液
に超音波をかけながらダイヤモンド砥粒[東名ダイヤモ
ンド工業株式会社の製品(平均粒径:１μm)]を加えて本
発明による研磨用組成物を得た(超音波処理時間:３０分
間)。
成物１を調製した。イオン交換水にヘクトライト(日本
シリカ工業株式会社製「ヘクトライトＲＤ」)を加え、ホ
モミキサーを用いて３０００rpmで１０分間撹拌して均
一に分散させ、この分散液にエチレングリコールを加
え、ホモミキサーを用いて３０００rpmで１０分間撹拌
することによって均一な分散液を得た。この均一分散液
に超音波をかけながらダイヤモンド砥粒[東名ダイヤモ
ンド工業株式会社の製品(平均粒径:１μm)]を加えて本
発明による研磨用組成物を得た(超音波処理時間:３０分
間)。
【００１９】実施例２〜４ 表１に示す配合処方により、実施例１の手順に準拠して
研磨用組成物２〜４を調製した。
研磨用組成物２〜４を調製した。
【００２０】比較例１および２ 表１に示す配合処方により、エチレングリコール水溶液
またはプロピレングリコール水溶液に超音波をかけなが
らダイヤモンド砥粒を加えて研磨用組成物１'または２'
を調製した(超音波処理時間:３０分間)。
またはプロピレングリコール水溶液に超音波をかけなが
らダイヤモンド砥粒を加えて研磨用組成物１'または２'
を調製した(超音波処理時間:３０分間)。
【００２１】
【表１】
【００２２】研磨用組成物の沈降性試験 実施例１〜４および比較例１および２で調製した研磨用
組成物２０mlをメスシリンダー(２０ml)に入れ、これを
３０℃の恒温室内に３日間放置した後、メスシリンダー
内の研磨用組成物の上部の透明部分の体積を測定するこ
とによって研磨用組成物の沈降性を評価し、結果を以下
の表２に示す。
組成物２０mlをメスシリンダー(２０ml)に入れ、これを
３０℃の恒温室内に３日間放置した後、メスシリンダー
内の研磨用組成物の上部の透明部分の体積を測定するこ
とによって研磨用組成物の沈降性を評価し、結果を以下
の表２に示す。
【００２３】
【表２】
【００２４】
【発明の効果】本発明による研磨用組成物を使用するこ
とにより、安全な作業環境下において、加工物等の被処
理面を効率よく研磨加工することができる。
とにより、安全な作業環境下において、加工物等の被処
理面を効率よく研磨加工することができる。
Claims (3)
- 【請求項１】 ダイヤモンド砥粒０．１〜５重量％、ヘ
クトライト０．０５〜３重量％およびグリコール系溶剤
１〜８０重量％含有する研磨用水性組成物。 - 【請求項２】 ダイヤモンド砥粒が１０μm以下の平均
粒径を有するダイヤモンド砥粒である請求項１記載の研
磨用水性組成物。 - 【請求項３】 グリコール系溶剤が一般式(I): 【化１】 (式中、Ｒ1は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ2は水
素原子または炭素原子数１〜４のアルキル基を示し、ｎ
は１〜２０の数を示す)で表される溶剤である請求項１
記載の研磨用水性組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18622098A JP2000017251A (ja) | 1998-07-01 | 1998-07-01 | 研磨用水性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18622098A JP2000017251A (ja) | 1998-07-01 | 1998-07-01 | 研磨用水性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000017251A true JP2000017251A (ja) | 2000-01-18 |
Family
ID=16184479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18622098A Pending JP2000017251A (ja) | 1998-07-01 | 1998-07-01 | 研磨用水性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000017251A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100466422B1 (ko) * | 2000-04-18 | 2005-01-13 | 제일모직주식회사 | Ｃｍｐ용 조성물 |
| JP2009161572A (ja) * | 2007-12-28 | 2009-07-23 | Neos Co Ltd | ラップ剤組成物 |
| JP6099067B1 (ja) * | 2016-04-26 | 2017-03-22 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 研磨用組成物 |
-
1998
- 1998-07-01 JP JP18622098A patent/JP2000017251A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100466422B1 (ko) * | 2000-04-18 | 2005-01-13 | 제일모직주식회사 | Ｃｍｐ용 조성물 |
| JP2009161572A (ja) * | 2007-12-28 | 2009-07-23 | Neos Co Ltd | ラップ剤組成物 |
| JP6099067B1 (ja) * | 2016-04-26 | 2017-03-22 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 研磨用組成物 |
| WO2017187749A1 (ja) * | 2016-04-26 | 2017-11-02 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 研磨用組成物 |
| JP2017197708A (ja) * | 2016-04-26 | 2017-11-02 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 研磨用組成物 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20050120 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20071101 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071113 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20080318 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |