JP2000017014A - 末端に官能基を有する飽和炭化水素系重合体及びその製造方法 - Google Patents
末端に官能基を有する飽和炭化水素系重合体及びその製造方法Info
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- JP2000017014A JP2000017014A JP11112642A JP11264299A JP2000017014A JP 2000017014 A JP2000017014 A JP 2000017014A JP 11112642 A JP11112642 A JP 11112642A JP 11264299 A JP11264299 A JP 11264299A JP 2000017014 A JP2000017014 A JP 2000017014A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】末端に水酸基を導入した飽和炭化水素系重合体
は高耐候性ウレタン原料として有用である。これまで
は、重合終了後にオレフィン末端へと変換し、さらにハ
イドロボレーション反応を行うといった多段階の反応が
必要であった。 【解決手段】カチオン重合によって得られるハロゲン末
端炭化水素系重合体に、水酸基を保護した置換基および
不飽和結合を含む化合物を反応させることによって、保
護した水酸基を末端に有する飽和炭化水素系重合体を容
易に得ることができる。この化合物は加水分解によって
容易に水酸基末端の重合体に変換が可能なである。
は高耐候性ウレタン原料として有用である。これまで
は、重合終了後にオレフィン末端へと変換し、さらにハ
イドロボレーション反応を行うといった多段階の反応が
必要であった。 【解決手段】カチオン重合によって得られるハロゲン末
端炭化水素系重合体に、水酸基を保護した置換基および
不飽和結合を含む化合物を反応させることによって、保
護した水酸基を末端に有する飽和炭化水素系重合体を容
易に得ることができる。この化合物は加水分解によって
容易に水酸基末端の重合体に変換が可能なである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、保護された水酸基
を末端に有する炭化水素系重合体及び水酸基を末端に有
する炭化水素系重合体、及びこれらの製造方法に関す
る。
を末端に有する炭化水素系重合体及び水酸基を末端に有
する炭化水素系重合体、及びこれらの製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】一般に、アニオン重合によって合成され
るポリブタジエンポリオールおよびポリイソプレンポリ
オールを水素添加することによって、末端に水酸基を有
する飽和炭化水素系重合体が得られることが知られてい
る。リビングアニオン重合では、重合終了後にエチレン
オキシドを作用させることにより、１級の水酸基を容易
に末端に定量的に導入することが可能である。
るポリブタジエンポリオールおよびポリイソプレンポリ
オールを水素添加することによって、末端に水酸基を有
する飽和炭化水素系重合体が得られることが知られてい
る。リビングアニオン重合では、重合終了後にエチレン
オキシドを作用させることにより、１級の水酸基を容易
に末端に定量的に導入することが可能である。
【０００３】これらの水酸基末端ポリオールはイソシア
ネート化合物と容易に反応し、ウレタン系の硬化物を与
える。このポリマーを用いることによって、ポリエーテ
ル系あるいはポリエステル系ポリオールを成分とするウ
レタン組成物で問題とされている、耐候性、耐薬品性等
の性能を向上させることが知られている。しかしこれら
の水酸基末端ポリオールを用いたウレタン組成物の素材
としての各種耐久性については、まだ十分とは言えな
い。また水酸基末端ポリオールを製造する際には、水素
添加という困難な工程を経る必要があるという問題もあ
る。
ネート化合物と容易に反応し、ウレタン系の硬化物を与
える。このポリマーを用いることによって、ポリエーテ
ル系あるいはポリエステル系ポリオールを成分とするウ
レタン組成物で問題とされている、耐候性、耐薬品性等
の性能を向上させることが知られている。しかしこれら
の水酸基末端ポリオールを用いたウレタン組成物の素材
としての各種耐久性については、まだ十分とは言えな
い。また水酸基末端ポリオールを製造する際には、水素
添加という困難な工程を経る必要があるという問題もあ
る。
【０００４】一方、高耐候性が期待される飽和炭化水素
系高分子重合体として、カチオン重合により得られるポ
リイソブチレンが知られている。特にリビングカチオン
重合により、定量的にポリイソブチレンの末端に官能基
を導入する反応は知られている。Ｊ．Ｐ．Ｋｅｎｎｅｄ
ｙらはリビングカチオン重合によって合成される塩素基
を末端に有するポリイソブチレンをまず合成し、次いで
tＢｕＯＫを用いて末端の脱塩酸反応をおこなうこと
によりイソプロペニル基末端基に誘導したり、あるいは
四塩化チタン存在下でアリルトリメチルシランを反応
させることでアリル基末端のポリイソブチレンを合成し
た後に、ＢＨ3または９−ＢＢＮといったヒドリド−ボ
ラン試薬と過酸化水素を用いることによって定量的に末
端に水酸基を導入する方法を開示している（例えばB. I
van, J.P. Kennedy, and V. S. C. Chang, J. Polym. S
ci., Polym. Chem, Ed., 1980, 18, 3177およびB. Iva
n,and J. P. Kennedy, Polym. Mater. Sci. Eng., 198
8, 58, 866など）。さらにＪ．Ｐ．Ｋｅｎｎｅｄｙら
は、水酸基末端ポリイソブチレンとイソシアネート基を
複数有する化合物との反応によって得られたウレタン樹
脂が高耐候性を示すことも報告している。しかしなが
ら、この方法はリビングカチオン重合によって得られた
塩素末端のポリイソブチレンをオレフィン末端に誘導し
た後に、水酸基に変換する必要がある。 さらに、用い
る原料が極めて特殊であり、この方法は工業的スケール
で飽和炭化水素系ポリオールを製造するには適していな
い。
系高分子重合体として、カチオン重合により得られるポ
リイソブチレンが知られている。特にリビングカチオン
重合により、定量的にポリイソブチレンの末端に官能基
を導入する反応は知られている。Ｊ．Ｐ．Ｋｅｎｎｅｄ
ｙらはリビングカチオン重合によって合成される塩素基
を末端に有するポリイソブチレンをまず合成し、次いで
tＢｕＯＫを用いて末端の脱塩酸反応をおこなうこと
によりイソプロペニル基末端基に誘導したり、あるいは
四塩化チタン存在下でアリルトリメチルシランを反応
させることでアリル基末端のポリイソブチレンを合成し
た後に、ＢＨ3または９−ＢＢＮといったヒドリド−ボ
ラン試薬と過酸化水素を用いることによって定量的に末
端に水酸基を導入する方法を開示している（例えばB. I
van, J.P. Kennedy, and V. S. C. Chang, J. Polym. S
ci., Polym. Chem, Ed., 1980, 18, 3177およびB. Iva
n,and J. P. Kennedy, Polym. Mater. Sci. Eng., 198
8, 58, 866など）。さらにＪ．Ｐ．Ｋｅｎｎｅｄｙら
は、水酸基末端ポリイソブチレンとイソシアネート基を
複数有する化合物との反応によって得られたウレタン樹
脂が高耐候性を示すことも報告している。しかしなが
ら、この方法はリビングカチオン重合によって得られた
塩素末端のポリイソブチレンをオレフィン末端に誘導し
た後に、水酸基に変換する必要がある。 さらに、用い
る原料が極めて特殊であり、この方法は工業的スケール
で飽和炭化水素系ポリオールを製造するには適していな
い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明はヒド
リド−ボラン試薬のような特殊で高価な試薬を用いるこ
となく、カチオン重合によって得られる飽和炭化水素系
重合体のハロゲン末端から一段反応で合成可能な、脱保
護によって容易に水酸基を与える保護された水酸基を末
端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体とその
製法を提供することを課題とする。
リド−ボラン試薬のような特殊で高価な試薬を用いるこ
となく、カチオン重合によって得られる飽和炭化水素系
重合体のハロゲン末端から一段反応で合成可能な、脱保
護によって容易に水酸基を与える保護された水酸基を末
端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体とその
製法を提供することを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、炭素−炭素単
結合を形成するカチオン重合によって得られるハロゲン
末端炭化水素系重合体と、保護された水酸基および炭素
−炭素二重結合を有する化合物との反応により得られ
る、保護された水酸基を末端に有する重合体主鎖が飽和
な炭化水素系重合体およびその製造方法に関する。さら
には得られた保護された水酸基を末端に有する重合体主
鎖が飽和な炭化水素系重合体を脱保護する事によって得
られる水酸基を末端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水
素系重合体に関する。
結合を形成するカチオン重合によって得られるハロゲン
末端炭化水素系重合体と、保護された水酸基および炭素
−炭素二重結合を有する化合物との反応により得られ
る、保護された水酸基を末端に有する重合体主鎖が飽和
な炭化水素系重合体およびその製造方法に関する。さら
には得られた保護された水酸基を末端に有する重合体主
鎖が飽和な炭化水素系重合体を脱保護する事によって得
られる水酸基を末端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水
素系重合体に関する。
【０００７】
【発明の実施形態】重合開始剤を用いるリビングカチオ
ン重合（イニファー法）によって得られるハロゲン基末
端のテレケリックなポリイソブチレンに他の基質を反応
させることにより、末端を修飾する反応に関しては多く
の報告がなされている。ポリイソブチレン末端の塩素−
炭素間にオレフィンを挿入する方法として、例えば塩化
メチレン／ヘキサンの混合溶剤系、−８０℃〜−３０℃
においてルイス酸を触媒として用いることで、共役およ
び非共役のジエンをポリマー末端に導入する系が知られ
ている（例えばＵＳ５２１２２４８、特開平４−２８８
３０９等）。ブタジエンなどの共役ジエンを反応させた
系では高い反応性が期待されるハロゲン化アリル末端と
なり、更なる脱保護等で末端水酸基への変換も期待され
る。しかしながら、この方法ではハロゲン末端ポリイソ
ブチレンから１ステップで水酸基末端に変換することは
出来ない。そこで、検討を重ね、本発明をなすに至っ
た。
ン重合（イニファー法）によって得られるハロゲン基末
端のテレケリックなポリイソブチレンに他の基質を反応
させることにより、末端を修飾する反応に関しては多く
の報告がなされている。ポリイソブチレン末端の塩素−
炭素間にオレフィンを挿入する方法として、例えば塩化
メチレン／ヘキサンの混合溶剤系、−８０℃〜−３０℃
においてルイス酸を触媒として用いることで、共役およ
び非共役のジエンをポリマー末端に導入する系が知られ
ている（例えばＵＳ５２１２２４８、特開平４−２８８
３０９等）。ブタジエンなどの共役ジエンを反応させた
系では高い反応性が期待されるハロゲン化アリル末端と
なり、更なる脱保護等で末端水酸基への変換も期待され
る。しかしながら、この方法ではハロゲン末端ポリイソ
ブチレンから１ステップで水酸基末端に変換することは
出来ない。そこで、検討を重ね、本発明をなすに至っ
た。
【０００８】本発明における重合体主鎖が飽和な炭化水
素系重合体とは、炭素−炭素単結合を形成するカチオン
重合によって得られた主鎖中にはＣ−Ｃ二重結合を有さ
ない（すなわち飽和な）炭化水素系重合体を意味する
が、主鎖にぶら下がったグラフト基にはＣ−Ｃ二重結合
を有していてもよい。また、カチオン重合の際に用いる
重合開始剤中にはＣ−Ｃ二重結合を有していても構わな
い。
素系重合体とは、炭素−炭素単結合を形成するカチオン
重合によって得られた主鎖中にはＣ−Ｃ二重結合を有さ
ない（すなわち飽和な）炭化水素系重合体を意味する
が、主鎖にぶら下がったグラフト基にはＣ−Ｃ二重結合
を有していてもよい。また、カチオン重合の際に用いる
重合開始剤中にはＣ−Ｃ二重結合を有していても構わな
い。
【０００９】保護された水酸基を末端に有する飽和炭化
水素系重合体の構造は、カチオン重合によって得られる
ハロゲン末端炭化水素系重合体が式（１）： Ｒ1（Ａ−Ｘ）a （１） （式中、Ｒ1は単環または複数の芳香環を含む１価から
４価までの炭化水素基、Ｘは塩素基または臭素基、ａは
１から４の整数。Ａは一種又は二種以上のカチオン重合
性単量体の重合体で、ａが２以上の時は同じでも異なっ
ていてもよい。）で表され、保護された水酸基および炭
素−炭素二重結合を有する化合物が式（２）： ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ2）−Ｂ−ＯＧ （２） （式中、Ｒ2は水素または炭素数１から１８の飽和炭化
水素基を、Ｂは炭素数１から３０の２価の炭化水素基
を、Ｇは水酸基の保護基を表す。）で表されるものであ
ることが好ましい。
水素系重合体の構造は、カチオン重合によって得られる
ハロゲン末端炭化水素系重合体が式（１）： Ｒ1（Ａ−Ｘ）a （１） （式中、Ｒ1は単環または複数の芳香環を含む１価から
４価までの炭化水素基、Ｘは塩素基または臭素基、ａは
１から４の整数。Ａは一種又は二種以上のカチオン重合
性単量体の重合体で、ａが２以上の時は同じでも異なっ
ていてもよい。）で表され、保護された水酸基および炭
素−炭素二重結合を有する化合物が式（２）： ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ2）−Ｂ−ＯＧ （２） （式中、Ｒ2は水素または炭素数１から１８の飽和炭化
水素基を、Ｂは炭素数１から３０の２価の炭化水素基
を、Ｇは水酸基の保護基を表す。）で表されるものであ
ることが好ましい。
【００１０】なお式（２）中のＢは、炭素数１から３０
の２価の炭化水素基であって、０〜５個の炭素−炭素二
重結合〔ただしＣＨ2＝Ｃ（Ｒ2）−基（Ｒ2は上記と同
じ）を有するものを除く〕及び／又は０〜３個の芳香環
を有することが好ましい。また、式（２）中のＢは、０
〜３個の−ＣＨ＝ＣＨ−で表される２価の基を有するこ
とがさらに好ましい。
の２価の炭化水素基であって、０〜５個の炭素−炭素二
重結合〔ただしＣＨ2＝Ｃ（Ｒ2）−基（Ｒ2は上記と同
じ）を有するものを除く〕及び／又は０〜３個の芳香環
を有することが好ましい。また、式（２）中のＢは、０
〜３個の−ＣＨ＝ＣＨ−で表される２価の基を有するこ
とがさらに好ましい。
【００１１】また前記式（２）の化合物としては、式
（３）： ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ2）−（ＣＨ2）b―｛−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ2）c｝n−ＯＧ （３ ） （式中、Ｒ2は水素または炭素数１から１８の飽和また
は不飽和の１価の炭化水素基を表し、ｂ及びｃは１から
３０の整数であって同一であっても異なっていても良
く、ｎは０から５の整数を、Ｇは水酸基の保護基を表
す。）で表されるものであることがより好ましい。
（３）： ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ2）−（ＣＨ2）b―｛−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ2）c｝n−ＯＧ （３ ） （式中、Ｒ2は水素または炭素数１から１８の飽和また
は不飽和の１価の炭化水素基を表し、ｂ及びｃは１から
３０の整数であって同一であっても異なっていても良
く、ｎは０から５の整数を、Ｇは水酸基の保護基を表
す。）で表されるものであることがより好ましい。
【００１２】この方法によって得られる保護した水酸基
を末端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体は
脱保護によって容易に水酸基を末端に有する重合体主鎖
が飽和な炭化水素系重合体に変換することが可能であ
る。
を末端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体は
脱保護によって容易に水酸基を末端に有する重合体主鎖
が飽和な炭化水素系重合体に変換することが可能であ
る。
【００１３】前記式（１）におけるカチオン重合性のモ
ノマーには特に制限はないが、好ましいモノマーとして
は、例えばイソブチレン、インデン、ピネン、スチレ
ン、メトキシスチレン、クロルスチレン等を挙げること
ができる。
ノマーには特に制限はないが、好ましいモノマーとして
は、例えばイソブチレン、インデン、ピネン、スチレ
ン、メトキシスチレン、クロルスチレン等を挙げること
ができる。
【００１４】また本発明の重合体を硬化性組成物の原料
とする場合には、架橋前には液状であり、架橋後にはゴ
ム状の硬化物を与え得るイソブチレン系重合体を製造す
るのが好ましい。
とする場合には、架橋前には液状であり、架橋後にはゴ
ム状の硬化物を与え得るイソブチレン系重合体を製造す
るのが好ましい。
【００１５】イソブチレン系重合体は、単量体単位のす
べてがイソブチレン単位から形成されていてもよいし、
イソブチレンと共重合体を有する単量体単位をイソブチ
レン系重合体中の好ましくは５０％以下（重量％、以下
同じ）、さらに好ましくは３０％以下、とくに好ましく
は１０％以下の範囲で含有してもよい。
べてがイソブチレン単位から形成されていてもよいし、
イソブチレンと共重合体を有する単量体単位をイソブチ
レン系重合体中の好ましくは５０％以下（重量％、以下
同じ）、さらに好ましくは３０％以下、とくに好ましく
は１０％以下の範囲で含有してもよい。
【００１６】このような単量体成分としては、たとえ
ば、炭素数４〜１２のオレフィン、ビニルエーテル、芳
香族ビニル化合物、ビニルシラン類、アリルシラン類な
どがあげられる。このような共重合体成分としては、た
とえば１ーブテン、２ーブテン、２ーメチルー１ーブテ
ン、３ーメチルー１ーブテン、ペンテン、４ーメチルー
１ーペンテン、ヘキセン、ビニルシクロヘキセン、メチ
ルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチル
ビニルエーテル、スチレン、αーメチルスチレン、ジメ
チルスチレン、モノクロロスチレン、ジクロロスチレ
ン、βーピネン、インデン、ビニルトリクロロシラン、
ビニルメチルジクロロシラン、ビニルジメチルクロロシ
ラン、ビニルジメチルメトキシシラン、ビニルトリメチ
ルシラン、ジビニルジクロロシラン、ジビニルジメトキ
シシラン、ジビニルジメチルシラン、１，３−ジビニル
ー１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、トリビ
ニルメチルシラン、テトラビニルシラン、アリルトリク
ロロシラン、アリルメチルジクロロシラン、アリルジメ
チルクロロシラン、アリルジメチルメトキシシラン、ア
リルトリメチルシラン、ジアリルジクロロシラン、ジア
リルジメトキシシラン、ジアリルジメチルシラン、γー
メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ
ーメタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラ
ンなどがあげられる。
ば、炭素数４〜１２のオレフィン、ビニルエーテル、芳
香族ビニル化合物、ビニルシラン類、アリルシラン類な
どがあげられる。このような共重合体成分としては、た
とえば１ーブテン、２ーブテン、２ーメチルー１ーブテ
ン、３ーメチルー１ーブテン、ペンテン、４ーメチルー
１ーペンテン、ヘキセン、ビニルシクロヘキセン、メチ
ルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチル
ビニルエーテル、スチレン、αーメチルスチレン、ジメ
チルスチレン、モノクロロスチレン、ジクロロスチレ
ン、βーピネン、インデン、ビニルトリクロロシラン、
ビニルメチルジクロロシラン、ビニルジメチルクロロシ
ラン、ビニルジメチルメトキシシラン、ビニルトリメチ
ルシラン、ジビニルジクロロシラン、ジビニルジメトキ
シシラン、ジビニルジメチルシラン、１，３−ジビニル
ー１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、トリビ
ニルメチルシラン、テトラビニルシラン、アリルトリク
ロロシラン、アリルメチルジクロロシラン、アリルジメ
チルクロロシラン、アリルジメチルメトキシシラン、ア
リルトリメチルシラン、ジアリルジクロロシラン、ジア
リルジメトキシシラン、ジアリルジメチルシラン、γー
メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ
ーメタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラ
ンなどがあげられる。
【００１７】さらに、架橋反応によって架橋性高分子化
合物を得る際に充分な強度、耐候性、ゲル分率等を達成
するためには、前記式（１）の重合体のａが２または３
の塩素基末端ポリイソブチレンである飽和炭化水素系重
合体が好ましい。
合物を得る際に充分な強度、耐候性、ゲル分率等を達成
するためには、前記式（１）の重合体のａが２または３
の塩素基末端ポリイソブチレンである飽和炭化水素系重
合体が好ましい。
【００１８】保護した水酸基および炭素−炭素二重結合
を含む化合物の保護基は脱保護によって水酸基を与える
ものであれば特に限定されるものではないが、通常、炭
素数０〜５４の無機基又は有機基である。また、温和な
条件下で脱保護が行える好ましい保護基として、下記の
ものを挙げることができる。
を含む化合物の保護基は脱保護によって水酸基を与える
ものであれば特に限定されるものではないが、通常、炭
素数０〜５４の無機基又は有機基である。また、温和な
条件下で脱保護が行える好ましい保護基として、下記の
ものを挙げることができる。
【００１９】
【化２】 （式中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は水素、または炭素数１から１
８の飽和または不飽和の炭化水素基を表し、Ｒを複数含
む基においては同一であっても異なっていてもよい。Ｘ
はＣｌ、Ｂｒ、Ｉから選ばれる官能基である。Ｍ1はＬ
ｉ、Ｎａ、Ｋから選ばれる１価の金属、Ｍ2はＭｇ、Ｃ
ａ、Ｓｒ、Ｂａから選ばれる２価の金属、Ｍ3はＢ、Ａ
ｌ、Ｇａから選ばれる３価の金属、Ｍ4はＴｉ、Ｚｒ、
Ｈｆ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂから選ばれる４価の金属
である。） 保護基としては、入手性や、脱保護後の重合体と保護基
成分の分離のしやすさなどから、アルキル基、アシル
基、ＲＣ（Ｏ）−基（ただしＲは炭素数１〜１０の飽和
炭化水素基）、シリル基、金属アルコキシドが好まし
く、メチル基、エチル基、ｎ-及びｉ-プロピル基、ｎ
-、ｉ-およびｔ-ブチル基、ホルミル基、アセチル基、
プロピオニル基、ブチリル基、ベンゾイル基、トリメチ
ルシリル基、トリフェニルシリル基がさらに好ましく、
これらの保護基が０〜５４個の炭素原子を有するもので
あることが特に好ましい。
８の飽和または不飽和の炭化水素基を表し、Ｒを複数含
む基においては同一であっても異なっていてもよい。Ｘ
はＣｌ、Ｂｒ、Ｉから選ばれる官能基である。Ｍ1はＬ
ｉ、Ｎａ、Ｋから選ばれる１価の金属、Ｍ2はＭｇ、Ｃ
ａ、Ｓｒ、Ｂａから選ばれる２価の金属、Ｍ3はＢ、Ａ
ｌ、Ｇａから選ばれる３価の金属、Ｍ4はＴｉ、Ｚｒ、
Ｈｆ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂから選ばれる４価の金属
である。） 保護基としては、入手性や、脱保護後の重合体と保護基
成分の分離のしやすさなどから、アルキル基、アシル
基、ＲＣ（Ｏ）−基（ただしＲは炭素数１〜１０の飽和
炭化水素基）、シリル基、金属アルコキシドが好まし
く、メチル基、エチル基、ｎ-及びｉ-プロピル基、ｎ
-、ｉ-およびｔ-ブチル基、ホルミル基、アセチル基、
プロピオニル基、ブチリル基、ベンゾイル基、トリメチ
ルシリル基、トリフェニルシリル基がさらに好ましく、
これらの保護基が０〜５４個の炭素原子を有するもので
あることが特に好ましい。
【００２０】ハロゲン末端炭化水素系重合体に反応させ
る基質である、前記式（２）で表される化合物として
は、１置換あるいは１，１’−２置換の末端に保護した
水酸基を有するオレフィンであれば特に制限されるもの
ではないが、反応性の高さから、前記式（２）において
Ｇを水素としたときに、アリルアルコール、メタリルア
ルコール、３−ブテン−１−オール、３−メチル−３−
ブテン−１−オール、４−ペンテン−１−オール、５−
ヘキセン−１−オール、６−ヘプテン−１−オール、７
−オクテン−１−オール、８−ノネン−１−オール、９
−デセン−１−オールおよび１０−ウンデセン−１−オ
ール、２,５−ヘキサジエノール、２,６−ヘプタジエノ
ール、３,６−ヘプタジエノール、２,７-オクタジエノ
ール、３,７-オクタジエノール、４,７-オクタジエノー
ル、２,８-ノナジエノール、３,８-ノナジエノール、
４,８-ノナジエノール、５,８-ノナジエノール、２,９-
デカジエノール、３,９-デカジエノール、４,９-デカジ
エノール、５,９-デカジエノールまたは６,９-デカジエ
ノールから選ばれる化合物が好ましい。
る基質である、前記式（２）で表される化合物として
は、１置換あるいは１，１’−２置換の末端に保護した
水酸基を有するオレフィンであれば特に制限されるもの
ではないが、反応性の高さから、前記式（２）において
Ｇを水素としたときに、アリルアルコール、メタリルア
ルコール、３−ブテン−１−オール、３−メチル−３−
ブテン−１−オール、４−ペンテン−１−オール、５−
ヘキセン−１−オール、６−ヘプテン−１−オール、７
−オクテン−１−オール、８−ノネン−１−オール、９
−デセン−１−オールおよび１０−ウンデセン−１−オ
ール、２,５−ヘキサジエノール、２,６−ヘプタジエノ
ール、３,６−ヘプタジエノール、２,７-オクタジエノ
ール、３,７-オクタジエノール、４,７-オクタジエノー
ル、２,８-ノナジエノール、３,８-ノナジエノール、
４,８-ノナジエノール、５,８-ノナジエノール、２,９-
デカジエノール、３,９-デカジエノール、４,９-デカジ
エノール、５,９-デカジエノールまたは６,９-デカジエ
ノールから選ばれる化合物が好ましい。
【００２１】前記式（１）のカチオン重合によって得ら
れるハロゲン末端炭化水素系重合体に前記式（２）で表
される保護した水酸基および素−炭素二重結合を含む化
合物を反応させる際に、触媒としてルイス酸を用いるこ
とが可能である。この場合ルイス酸であれば特に限定さ
れるものではないが、ＴｉＣｌ4、ＡｌＣｌ3、ＢＣ
ｌ 3、ＳｎＣｌ4が反応活性が高く、選択性が良好である
点から好ましい。
れるハロゲン末端炭化水素系重合体に前記式（２）で表
される保護した水酸基および素−炭素二重結合を含む化
合物を反応させる際に、触媒としてルイス酸を用いるこ
とが可能である。この場合ルイス酸であれば特に限定さ
れるものではないが、ＴｉＣｌ4、ＡｌＣｌ3、ＢＣ
ｌ 3、ＳｎＣｌ4が反応活性が高く、選択性が良好である
点から好ましい。
【００２２】本発明において、反応溶剤としてハロゲン
化炭化水素、芳香族炭化水素、及び脂肪族炭化水素から
任意に選ばれる単独又は混合溶剤を用いることが可能で
あるが、ポリマーの重合条件下での溶解性や反応性から
ハロゲン化炭化水素として塩化メチレン、クロロホル
ム、１，１−ジクロルエタン、１，２−ジクロルエタ
ン、ｎ−プロピルクロライド、ｎ−ブチルクロライドの
なかから選ばれる１種以上の成分であることが好まし
い。同様の理由で、芳香族炭化水素はトルエンが好まし
く、脂肪族炭化水素としてはペンタン、ｎ−ヘキサン、
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロ
ヘキサンのなかから選ばれる１種以上の成分が好まし
い。
化炭化水素、芳香族炭化水素、及び脂肪族炭化水素から
任意に選ばれる単独又は混合溶剤を用いることが可能で
あるが、ポリマーの重合条件下での溶解性や反応性から
ハロゲン化炭化水素として塩化メチレン、クロロホル
ム、１，１−ジクロルエタン、１，２−ジクロルエタ
ン、ｎ−プロピルクロライド、ｎ−ブチルクロライドの
なかから選ばれる１種以上の成分であることが好まし
い。同様の理由で、芳香族炭化水素はトルエンが好まし
く、脂肪族炭化水素としてはペンタン、ｎ−ヘキサン、
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロ
ヘキサンのなかから選ばれる１種以上の成分が好まし
い。
【００２３】環境への悪影響が心配されるハロゲン化炭
化水素を用いない反応溶剤として、例えばトルエン、エ
チルシクロヘキサン、あるいはこれらの混合溶剤を用い
ることで、保護された水酸基を末端に有する飽和炭化水
素系重合体の製造が容易に達成できる。
化水素を用いない反応溶剤として、例えばトルエン、エ
チルシクロヘキサン、あるいはこれらの混合溶剤を用い
ることで、保護された水酸基を末端に有する飽和炭化水
素系重合体の製造が容易に達成できる。
【００２４】脱保護反応は、保護基を水酸基に誘導する
反応であれば特に制限されるものではないが、好ましい
反応としては加水分解反応、熱分解反応などがあげられ
る。
反応であれば特に制限されるものではないが、好ましい
反応としては加水分解反応、熱分解反応などがあげられ
る。
【００２５】加水分解反応は溶剤系、無溶剤系のどちら
でも行うことが可能である。溶剤系の反応に用いる溶剤
は特に限定されるものではないが、保護された水酸基を
末端に有する飽和炭化水素系重合体を製造する溶剤を用
いることが好ましい。加水分解を行う条件としては酸
性、塩基性条件のどちらでも可能であるが、加水分解反
応の効率から塩基性水溶液を用いて加水分解反応を行う
ことが好ましい。
でも行うことが可能である。溶剤系の反応に用いる溶剤
は特に限定されるものではないが、保護された水酸基を
末端に有する飽和炭化水素系重合体を製造する溶剤を用
いることが好ましい。加水分解を行う条件としては酸
性、塩基性条件のどちらでも可能であるが、加水分解反
応の効率から塩基性水溶液を用いて加水分解反応を行う
ことが好ましい。
【００２６】塩基条件下での加水分解に用いる試薬とし
ては、通常の加水分解反応に用いる有機または無機の塩
基化合物であれば特に制限されるものではないが、取り
扱いの容易さなどから水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネ
シウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウ
ム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酢酸ナトリウ
ム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、酢酸カルシウム、酢
酸マグネシウム、ｔ-ブトキシカリウム、ｔ-ブトキシナ
トリウム、カリウムメトキシド、ナトリウムメトキシド
などが特に好ましい。
ては、通常の加水分解反応に用いる有機または無機の塩
基化合物であれば特に制限されるものではないが、取り
扱いの容易さなどから水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネ
シウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウ
ム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酢酸ナトリウ
ム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、酢酸カルシウム、酢
酸マグネシウム、ｔ-ブトキシカリウム、ｔ-ブトキシナ
トリウム、カリウムメトキシド、ナトリウムメトキシド
などが特に好ましい。
【００２７】加水分解反応では、触媒の添加を行うこと
によって、効率的に反応を進行させることが可能であ
る。このような触媒としては有機および無機の触媒のい
ずれでも反応が可能であるが、反応の容易さから有機塩
が好ましく、特に4級アンモニウム塩が好ましい。代表
的なアンモニウム塩としては、塩化トリエチルベンジル
アンモニウム、塩化テトラメチルアンモニウム、臭化ト
リエチルベンジルアンモニウム、塩化トリオクチルメチ
ルアンモニウム、塩化トリブチルベンジルアンモニウ
ム、塩化トリメチルベンジルアンモニウム、塩化Ｎ−ラ
ウリルピリジニウム、水酸化テトラ−ｎ−ブチルアンモ
ニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化トリ
メチルベンジルアンモニウム、臭化トリメチルフェニル
アンモニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、臭化テ
トラエチルアンモニウム。臭化テトラ−ｎ−ブチルアン
モニウム、テトラブチルアンモニウムハイドロゲンサル
フェート、Ｎ−ベンジルピコリニウムクロライド、ヨウ
化テトラメチルアンモニウム、ヨウかテトラ-ｎ-ブチル
アンモニウム、Ｎ−ラウリル−４−ピコリニウムクロラ
イド、Ｎ−ラウリルピコリニウムクロライドなどが挙げ
られる。
によって、効率的に反応を進行させることが可能であ
る。このような触媒としては有機および無機の触媒のい
ずれでも反応が可能であるが、反応の容易さから有機塩
が好ましく、特に4級アンモニウム塩が好ましい。代表
的なアンモニウム塩としては、塩化トリエチルベンジル
アンモニウム、塩化テトラメチルアンモニウム、臭化ト
リエチルベンジルアンモニウム、塩化トリオクチルメチ
ルアンモニウム、塩化トリブチルベンジルアンモニウ
ム、塩化トリメチルベンジルアンモニウム、塩化Ｎ−ラ
ウリルピリジニウム、水酸化テトラ−ｎ−ブチルアンモ
ニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化トリ
メチルベンジルアンモニウム、臭化トリメチルフェニル
アンモニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、臭化テ
トラエチルアンモニウム。臭化テトラ−ｎ−ブチルアン
モニウム、テトラブチルアンモニウムハイドロゲンサル
フェート、Ｎ−ベンジルピコリニウムクロライド、ヨウ
化テトラメチルアンモニウム、ヨウかテトラ-ｎ-ブチル
アンモニウム、Ｎ−ラウリル−４−ピコリニウムクロラ
イド、Ｎ−ラウリルピコリニウムクロライドなどが挙げ
られる。
【００２８】本発明にかかる保護された水酸基を末端に
有する飽和炭化水素系重合体の製造は、例えば以下のよ
うにして行われる。すなわち、式（１）で示されるハロ
ゲン基を末端に有する重合体に１〜４当量の式（２）で
表される保護した水酸基を末端に有するオレフィン化合
物を反応溶剤としてクロロホルム、塩化メチレン、１，
１−ジクロルエタン、１，２−ジクロルエタン、ｎ−プ
ロピルクロライド、ｎ−ブチルクロライド、トルエン、
ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシク
ロヘキサン、エチルシクロヘキサンのなかから選ばれる
１種以上の成分からなる溶剤に溶解する。これに、ピリ
ジン、２−メチルピリジン、３−メチルピリジン、４−
メチルピリジン、２，６−ジ−ｔ−ブチルピリジン等の
エレクトロンドナー共存下、−１００℃〜−３０℃の温
度範囲でＴｉＣｌ4、ＡｌＣｌ3、ＢＣｌ3、ＳｎＣｌ4等
のルイス酸触媒を添加し、３０分〜５時間反応させるこ
とで、目的とする水酸基を末端に有する飽和炭化水素系
重合体が得られる。
有する飽和炭化水素系重合体の製造は、例えば以下のよ
うにして行われる。すなわち、式（１）で示されるハロ
ゲン基を末端に有する重合体に１〜４当量の式（２）で
表される保護した水酸基を末端に有するオレフィン化合
物を反応溶剤としてクロロホルム、塩化メチレン、１，
１−ジクロルエタン、１，２−ジクロルエタン、ｎ−プ
ロピルクロライド、ｎ−ブチルクロライド、トルエン、
ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシク
ロヘキサン、エチルシクロヘキサンのなかから選ばれる
１種以上の成分からなる溶剤に溶解する。これに、ピリ
ジン、２−メチルピリジン、３−メチルピリジン、４−
メチルピリジン、２，６−ジ−ｔ−ブチルピリジン等の
エレクトロンドナー共存下、−１００℃〜−３０℃の温
度範囲でＴｉＣｌ4、ＡｌＣｌ3、ＢＣｌ3、ＳｎＣｌ4等
のルイス酸触媒を添加し、３０分〜５時間反応させるこ
とで、目的とする水酸基を末端に有する飽和炭化水素系
重合体が得られる。
【００２９】ここで、本発明に到達した過程について若
干説明する。
干説明する。
【００３０】ルイス酸と水酸基を持つ化合物は反応する
ことによってハロゲン化水素を与えることが知られてい
る。水酸基末端のオレフィン化合物をルイス酸と接触さ
せるとハロゲン化水素が生成し、さらにオレフィンへの
ハロゲン化水素の付加反応が進行することが検討の結果
明らかになった。
ことによってハロゲン化水素を与えることが知られてい
る。水酸基末端のオレフィン化合物をルイス酸と接触さ
せるとハロゲン化水素が生成し、さらにオレフィンへの
ハロゲン化水素の付加反応が進行することが検討の結果
明らかになった。
【００３１】そこで、オレフィン基質の末端を脱保護反
応によって容易に水酸基に誘導することが可能な基で保
護することにより、ＨＣｌが発生する副反応を抑えた。
応によって容易に水酸基に誘導することが可能な基で保
護することにより、ＨＣｌが発生する副反応を抑えた。
【００３２】すなわち水酸基を持つオレフィン化合物の
水酸基の水素原子を以下の基
水酸基の水素原子を以下の基
【００３３】
【化３】 （式中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は水素、または炭素数１から１
８の飽和または不飽和の炭化水素基を表し、Ｒを複数含
む基においては同一であっても異なっていてもよい。Ｘ
はＣｌ、Ｂｒ、Ｉから選ばれる官能基である。Ｍ1はＬ
ｉ、Ｎａ、Ｋから選ばれる１価の金属、Ｍ2はＭｇ、Ｃ
ａ、Ｓｒ、Ｂａから選ばれる２価の金属、Ｍ3はＢ、Ａ
ｌ、Ｇａから選ばれる３価の金属、Ｍ4はＴｉ、Ｚｒ、
Ｈｆ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂのなかから選ばれる４価
の金属である。）に変換することで、オレフィン基質の
ハロゲン末端炭化水素系重合体への付加反応における副
反応を抑制した。
８の飽和または不飽和の炭化水素基を表し、Ｒを複数含
む基においては同一であっても異なっていてもよい。Ｘ
はＣｌ、Ｂｒ、Ｉから選ばれる官能基である。Ｍ1はＬ
ｉ、Ｎａ、Ｋから選ばれる１価の金属、Ｍ2はＭｇ、Ｃ
ａ、Ｓｒ、Ｂａから選ばれる２価の金属、Ｍ3はＢ、Ａ
ｌ、Ｇａから選ばれる３価の金属、Ｍ4はＴｉ、Ｚｒ、
Ｈｆ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂのなかから選ばれる４価
の金属である。）に変換することで、オレフィン基質の
ハロゲン末端炭化水素系重合体への付加反応における副
反応を抑制した。
【００３４】水酸基の保護基によっては、ルイス酸に配
位するものもある。基質の触媒への配位は反応活性を低
下させることから、付加反応の際にはオレフィン化合物
に対して当量以上のルイス酸を用いることが好ましく、
特に好ましくは１〜２０当量である。
位するものもある。基質の触媒への配位は反応活性を低
下させることから、付加反応の際にはオレフィン化合物
に対して当量以上のルイス酸を用いることが好ましく、
特に好ましくは１〜２０当量である。
【００３５】本発明において用いるルイス酸は、イニフ
ァー法によるリビングカチオン重合に用いることが可能
である。まず、イニファー法によりハロゲン基を末端に
有する重合体を得てから、単離等の処理をすること無し
に、保護した水酸基を末端に有するオレフィン化合物お
よび必要に応じてルイス酸、エレクトロンドナー等を加
えることにより、保護した水酸基を末端に有する重合体
を１ポットで得ることが可能である。
ァー法によるリビングカチオン重合に用いることが可能
である。まず、イニファー法によりハロゲン基を末端に
有する重合体を得てから、単離等の処理をすること無し
に、保護した水酸基を末端に有するオレフィン化合物お
よび必要に応じてルイス酸、エレクトロンドナー等を加
えることにより、保護した水酸基を末端に有する重合体
を１ポットで得ることが可能である。
【００３６】式（１）におけるＲ1は重合開始剤の残基
であり、イニファー法によるリビングカチオン重合に用
いることが出来る１から４官能の開始剤の残基であれば
特に制限されるものではない。開始剤の官能基数は２又
は３であることが好ましい。このうち、以下に示したベ
ンジル位に置換基を有する化合物は、重合時の開始剤効
率が高いので好ましい。
であり、イニファー法によるリビングカチオン重合に用
いることが出来る１から４官能の開始剤の残基であれば
特に制限されるものではない。開始剤の官能基数は２又
は３であることが好ましい。このうち、以下に示したベ
ンジル位に置換基を有する化合物は、重合時の開始剤効
率が高いので好ましい。
【００３７】
【化４】 （式中、Ｙは塩素基、臭素基、メトキシ基、アセチル基
を表す。） 重合反応の溶剤は特に制限されるものではないが、重合
反応の後、１ポットでオレフィン化合物を製造すること
も可能となることから、末端に保護された水酸基を導入
する反応の溶剤と同じであることが好ましい。重合反応
と末端への水酸基の導入反応に共通する反応溶剤として
ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、及び脂肪族炭化
水素から任意に選ばれる単独又は混合溶剤を用いること
が可能であるが、ポリマーの重合条件下での溶解性や反
応性からハロゲン化炭化水素として塩化メチレン、クロ
ロホルム、１，１−ジクロルエタン、１，２−ジクロル
エタン、ｎ−プロピルクロライド、ｎ−ブチルクロライ
ドのなかから選ばれる１種以上の成分であることが好ま
しい。同様の理由で、芳香族炭化水素がトルエンが好ま
しく、脂肪族炭化水素としてはペンタン、ｎ−ヘキサ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシ
クロヘキサンのなかから選ばれる１種以上の成分が好ま
しい。
を表す。） 重合反応の溶剤は特に制限されるものではないが、重合
反応の後、１ポットでオレフィン化合物を製造すること
も可能となることから、末端に保護された水酸基を導入
する反応の溶剤と同じであることが好ましい。重合反応
と末端への水酸基の導入反応に共通する反応溶剤として
ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、及び脂肪族炭化
水素から任意に選ばれる単独又は混合溶剤を用いること
が可能であるが、ポリマーの重合条件下での溶解性や反
応性からハロゲン化炭化水素として塩化メチレン、クロ
ロホルム、１，１−ジクロルエタン、１，２−ジクロル
エタン、ｎ−プロピルクロライド、ｎ−ブチルクロライ
ドのなかから選ばれる１種以上の成分であることが好ま
しい。同様の理由で、芳香族炭化水素がトルエンが好ま
しく、脂肪族炭化水素としてはペンタン、ｎ−ヘキサ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシ
クロヘキサンのなかから選ばれる１種以上の成分が好ま
しい。
【００３８】近年、環境問題上、非ハロゲン化が重要な
技術となっているが、本系に於いてもトルエンとエチル
シクロヘキサンの溶剤系はリビングカチオン重合で、狭
い分子量分布でポリマーを得ることが可能であり、この
条件下で保護された水酸基を有するオレフィン化合物の
付加反応も速やかに進行する。重合性、重合体の低温で
の溶解度の観点から、溶剤の混合比率としてはトルエ
ン：エチルシクロヘキサン＝６：４〜９：１（重量比）
が好ましい。
技術となっているが、本系に於いてもトルエンとエチル
シクロヘキサンの溶剤系はリビングカチオン重合で、狭
い分子量分布でポリマーを得ることが可能であり、この
条件下で保護された水酸基を有するオレフィン化合物の
付加反応も速やかに進行する。重合性、重合体の低温で
の溶解度の観点から、溶剤の混合比率としてはトルエ
ン：エチルシクロヘキサン＝６：４〜９：１（重量比）
が好ましい。
【００３９】このようにして得られた保護された水酸基
を末端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体は
加水分解反応によって容易に水酸基を末端に有する重合
体主鎖が飽和な炭化水素系重合体へと変換可能である。
を末端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体は
加水分解反応によって容易に水酸基を末端に有する重合
体主鎖が飽和な炭化水素系重合体へと変換可能である。
【００４０】式（２）又は式（３）で表される化合物中
の保護基Ｇが炭素数２以上のアルキル基である系では熱
分解反応が有効であり、通常５０から２５０℃の条件
下、加熱する事によって脱保護反応が進行する。この反
応に際しては必要に応じて触媒を添加することで反応を
より容易に進行させることが可能である。また、脱保護
により水酸基を生成する反応としては、加水分解反応が
有効である。加水分解反応は、通常酸性あるいは塩基性
条件下で反応する。この際に溶剤を用いずに反応を行う
ことも可能であるが、有機溶剤に重合体を溶解して反応
を行うことが好ましい。反応は、通常の加水分解反応を
行う温度であれば行うことが可能であり、塩の存在及び
高圧下での反応により−７０℃から２００℃での反応が
可能である。ハンドリング性（すなわち取り扱いの容易
さ）及び反応性が良好である点から、０℃から１２０℃
での反応が好ましく、５０℃から１１０℃での反応がさ
らに好ましい。塩基条件下でのの加水分解反応では、塩
基濃度によって反応性が変化する。反応性が良好でハン
ドリングしやすい点から、塩基濃度としては１０-7〜１
０2モル／Ｌが好ましく、１０-6〜１０1モル／Ｌがさら
に好ましい。触媒の添加量は特に制限されるものではな
いが、反応速度および触媒除去の容易さから、加水分解
基質に対して０．０００１〜１０倍モルが好ましく、
０．０１〜１倍モルであることがさらに好ましい。
の保護基Ｇが炭素数２以上のアルキル基である系では熱
分解反応が有効であり、通常５０から２５０℃の条件
下、加熱する事によって脱保護反応が進行する。この反
応に際しては必要に応じて触媒を添加することで反応を
より容易に進行させることが可能である。また、脱保護
により水酸基を生成する反応としては、加水分解反応が
有効である。加水分解反応は、通常酸性あるいは塩基性
条件下で反応する。この際に溶剤を用いずに反応を行う
ことも可能であるが、有機溶剤に重合体を溶解して反応
を行うことが好ましい。反応は、通常の加水分解反応を
行う温度であれば行うことが可能であり、塩の存在及び
高圧下での反応により−７０℃から２００℃での反応が
可能である。ハンドリング性（すなわち取り扱いの容易
さ）及び反応性が良好である点から、０℃から１２０℃
での反応が好ましく、５０℃から１１０℃での反応がさ
らに好ましい。塩基条件下でのの加水分解反応では、塩
基濃度によって反応性が変化する。反応性が良好でハン
ドリングしやすい点から、塩基濃度としては１０-7〜１
０2モル／Ｌが好ましく、１０-6〜１０1モル／Ｌがさら
に好ましい。触媒の添加量は特に制限されるものではな
いが、反応速度および触媒除去の容易さから、加水分解
基質に対して０．０００１〜１０倍モルが好ましく、
０．０１〜１倍モルであることがさらに好ましい。
【００４１】
【実施例】次に実施例を挙げて、本発明をより一層明ら
かにするが、実施例により本発明は何ら限定されるもの
ではない。 （実施例１）５００ｍｌのセパラブルフラスコに三方コ
ック、熱電対、および真空用シール付き撹拌機をつけて
窒素置換を行った。これにモレキュラーシーブス３Ａに
よって脱水したトルエン１７５ｍｌ、エチルシクロヘキ
サン２１．７ｍｌを加え、さらに１，４−ビス（１−ク
ロル−１−メチルエチル）ベンゼン（１．６３ｇ，７．
０４ｍｍｏｌ）、２−メチルピリジン（７７．４ｍｇ，
０．８３ｍｍｏｌ）を加えて−７０℃に冷却した。冷却
後、イソブチレンモノマー（３５．５ｍｌ，５９８ｍｍ
ｏｌ）を導入し、さらに、この温度で四塩化チタン
（０．９８ｍｌ，８．９３ｍｍｏｌ）を添加し重合を開
始した。この際に約１５℃昇温した。約４０分で重合は
終了した（これに伴い反応系の発熱は観察されなくなっ
た）。重合終了後に１０−アセトキシ−１−デセン
（２．８０ｇ，１４．１ｍｍｏｌ）および四塩化チタン
（５．７ ｍｌ，５１．７ｍｍｏｌ）を添加した。５時
間反応の後に、８０℃に加熱したイオン交換水３００ｍ
ｌに反応混合物を導入し、さらに、１Ｌの分液ロートに
移液して振盪した。水層を除去した後、３００ｍｌのイ
オン交換水で３回水洗した後に、有機層を単離し、これ
に１ Ｌのアセトンを加えてポリマーを再沈殿させ、低
分子化合物を除去した。沈殿物をさらにアセトン１００
ｍｌで２回洗浄し、さらにヘキサン５０ｍｌに溶解し
た。溶液を３００ｍｌのなす型フラスコに移液し、オイ
ルバスによる加熱条件下（１８０℃）、減圧（最終１Ｔ
ｏｒｒ以下）によって溶媒留去を行い、目的とする保護
した水酸基を末端に有するポリイソブチレンを得た。
かにするが、実施例により本発明は何ら限定されるもの
ではない。 （実施例１）５００ｍｌのセパラブルフラスコに三方コ
ック、熱電対、および真空用シール付き撹拌機をつけて
窒素置換を行った。これにモレキュラーシーブス３Ａに
よって脱水したトルエン１７５ｍｌ、エチルシクロヘキ
サン２１．７ｍｌを加え、さらに１，４−ビス（１−ク
ロル−１−メチルエチル）ベンゼン（１．６３ｇ，７．
０４ｍｍｏｌ）、２−メチルピリジン（７７．４ｍｇ，
０．８３ｍｍｏｌ）を加えて−７０℃に冷却した。冷却
後、イソブチレンモノマー（３５．５ｍｌ，５９８ｍｍ
ｏｌ）を導入し、さらに、この温度で四塩化チタン
（０．９８ｍｌ，８．９３ｍｍｏｌ）を添加し重合を開
始した。この際に約１５℃昇温した。約４０分で重合は
終了した（これに伴い反応系の発熱は観察されなくなっ
た）。重合終了後に１０−アセトキシ−１−デセン
（２．８０ｇ，１４．１ｍｍｏｌ）および四塩化チタン
（５．７ ｍｌ，５１．７ｍｍｏｌ）を添加した。５時
間反応の後に、８０℃に加熱したイオン交換水３００ｍ
ｌに反応混合物を導入し、さらに、１Ｌの分液ロートに
移液して振盪した。水層を除去した後、３００ｍｌのイ
オン交換水で３回水洗した後に、有機層を単離し、これ
に１ Ｌのアセトンを加えてポリマーを再沈殿させ、低
分子化合物を除去した。沈殿物をさらにアセトン１００
ｍｌで２回洗浄し、さらにヘキサン５０ｍｌに溶解し
た。溶液を３００ｍｌのなす型フラスコに移液し、オイ
ルバスによる加熱条件下（１８０℃）、減圧（最終１Ｔ
ｏｒｒ以下）によって溶媒留去を行い、目的とする保護
した水酸基を末端に有するポリイソブチレンを得た。
【００４２】得られたポリイソブチレンの官能化率の分
析はＮＭＲを用いて行った。 （ＮＭＲ）Ｖａｌｉａｎ社製 Ｇｅｍｉｎｉ−３００、
測定溶剤；四塩化炭素／重アセトン＝４／１混合溶剤、
定量方法；開始剤残基のシグナル（７．２ｐｐｍ）を基
準に末端のアセチル基に隣接するメチレンのシグナル
（４．００ｐｐｍ）を比較して定量化した。Ｆｎ（ＣＨ
2ＯＭｅ）は重合体末端への官能基導入量であり、定量
的に導入した時には今回用いた開始剤では２．０とな
る。
析はＮＭＲを用いて行った。 （ＮＭＲ）Ｖａｌｉａｎ社製 Ｇｅｍｉｎｉ−３００、
測定溶剤；四塩化炭素／重アセトン＝４／１混合溶剤、
定量方法；開始剤残基のシグナル（７．２ｐｐｍ）を基
準に末端のアセチル基に隣接するメチレンのシグナル
（４．００ｐｐｍ）を比較して定量化した。Ｆｎ（ＣＨ
2ＯＭｅ）は重合体末端への官能基導入量であり、定量
的に導入した時には今回用いた開始剤では２．０とな
る。
【００４３】実施例１で得られたポリマーの水酸基導入
量は以下の通り；Ｆｎ（ＣＨ2ＯＭｅ）＝１．４８。 （実施例２）１０−アセトキシ−１−デセン添加時の四
塩化チタン添加量を２．１ｍｌ（１９．２ｍｍｏｌ）と
した以外は実施例１と同様に行った。得られたポリマー
の官能基導入量は以下の通り；Ｆｎ（ＣＨ2ＯＭｅ）＝
０．７８。 （実施例３）１０−アセトキシ−１−デセンの量を４．
１９ｇ（２１．２ｍｍｏｌ）とした以外は実施例１と同
様に行った。得られたポリマーの官能基導入量は以下の
通り；Ｆｎ（ＣＨ2ＯＭｅ）＝１．６２。 （実施例４）１０−アセトキシ−１−デセン添加時の四
塩化チタン添加量を１１．４ ｍｌ（１０３．４ｍｍｏ
ｌ）とした以外は実施例１と同様に行った。得られたポ
リマーの官能基導入量は以下の通り；Ｆｎ（ＣＨ2ＯＭ
ｅ）＝１．４３。 （実施例５）１０−アセトキシ−１−デセン量を５．６
０ｇ（２８．２ｍｍｏｌ），同化合物添加時の四塩化チ
タン添加量を１１．４ｍｌ（１０３．４ｍｍｏｌ）とし
た以外は実施例１と同様に行った。得られたポリマーの
官能基導入量は以下の通り；Ｆｎ（ＣＨ2ＯＭｅ）＝
１．９６。 （実施例６）５０００ｍｌのセパラブルフラスコに三方
コック、熱電対、および真空用シール付き撹拌機をつけ
て窒素置換を行った。これにモレキュラーシーブス３Ａ
によって脱水したトルエン１４８４ｍｌ、エチルシクロ
ヘキサン１８４ｍｌを加え、さらに１，４−ビス（１−
クロル−１−メチルエチル）ベンゼン（１３．８７ｇ，
６０．０ｍｍｏｌ）、２−メチルピリジン（６５７．９
ｍｇ，７．０６ｍｍｏｌ）を加えて−７０℃に冷却し
た。冷却後、イソブチレンモノマー（２９９ｍｌ，３．
５８ｍｏｌ）を導入し、さらに、この温度で四塩化チタ
ン（８．３３ｍｌ、７６．０ｍｍｏｌ）を添加し重合を
開始した。この際に約１５℃昇温した。約６０分で重合
は終了した（これに伴い反応系の発熱は観察されなくな
った）。重合終了後に４−アセトキシ−２−メチル−１
−ブテン（３０．８ｇ，２４０ｍｍｏｌ）および四塩化
チタン（４４．４ ｍｌ，４０６ｍｍｏｌ）を添加し
た。５時間反応の後に、８０℃に加熱したイオン交換水
１．５Ｌを反応混合物を導入し、２０分間攪拌を行っ
た。静置の後に水層を除去し、１Ｌの４Ｎ水酸化ナトリ
ウム水溶液及び臭化テトラブチルアンモニウム１５．０
ｇを添加し、１００℃にて１２時間攪拌を行った。反応
終了後、アルカリ水溶液を除去し、１Ｌのイオン交換水
で３回水洗した後に、有機層を単離した。これに１０Ｌ
のアセトンを加えてポリマーを再沈殿させ、低分子化合
物を除去した。沈殿物をさらにアセトン１Ｌで２回洗浄
し、さらにヘキサン５００ｍｌに溶解した。溶液を１Ｌ
のなす型フラスコに移液し、オイルバスによる加熱条件
下（１８０℃）、減圧（最終１Ｔｏｒｒ以下）によって
溶媒留去を行い、目的とする水酸基を末端に有するポリ
イソブチレンを得た。得られたポリイソブチレンの官能
化率の分析はＮＭＲを用いて行った。実施例６で得られ
たポリマーの水酸基導入量は以下の通り；Ｆｎ（ＣＨ2
ＯＨ）＝１．６６（分析方法は実施例１と同様である。
なお、末端水酸基に隣接するメチレンのシグナルは３．
５５ｐｐｍに観察される）。 （実施例７）添加するアルケニル化合物を１０−アセト
キシ−１−デセンから酢酸オクタジエニル（４．７４
ｇ、２８．２ｍｍｏｌ）に変更した以外は実施例３と同
様に反応を行った。得られたポリマーの官能基導入量は
以下の通り；Ｆｎ（ＣＨ2ＯＭｅ）＝１．７０（分析方
法は実施例１と同様である。なお、アセトキシ基に隣接
するメチレンのシグナルは４．２０ｐｐｍに観察され
る）。 (実施例８)実施例６において用いる試薬を量を以下のよ
うに変更して、同様に反応を行った。トルエン５９２ｍ
ｌ、エチルシクロヘキサン７３．６ｍｌ、１，４−ビス
（１−クロル−１−メチルエチル）ベンゼン（５．５６
ｇ、２４．０ｍｍｏｌ）、２−メチルピリジン（２６４
ｍｇ、２．８３ｍｍｏｌ）、イソブチレンモノマー（１
２０ｍｌ，１．４４ｍｏｌ） 重合反応時添加の塩化チタン（２．５２ｍｌ、２３．０
ｍｍｏｌ）。アルケニル付加反応時添加の酢酸オクタジ
エニル（３２．４ｇ，１９３ｍｍｏｌ）及び四塩化チタ
ン（３９．８ｍｌ、３８６ｍｍｏｌ）。加水分解反応時
添加の２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１Lおよび臭化テト
ラブチルアンモニウム１０．０ｇ。得られたポリマーの
水酸基導入量は以下の通り；Ｆｎ（ＣＨ2ＯＨ）＝１．
９０（分析方法は実施例１と同様である。なお、末端水
酸基に隣接するメチレンのシグナルは４．００ｐｐｍに
観察される）。 （比較例１）アルケニルアルコールとルイス酸の反応に
よるオレフィンへのハロゲン化水素の付加反応の観察 ２００ｍｌの３口フラスコに三方コック、熱電対、およ
び真空用シール付き撹拌機をつけて窒素置換を行った。
これにモレキュラーシーブス３Ａによって脱水したトル
エン３５ｍｌ、エチルシクロヘキサン４．３ｍｌを加
え、さらに２−メチルピリジン（１５．５ｍｇ，０．１
７ｍｍｏｌ）を加えて−７０℃に冷却した。冷却後、９
−デセン−１−オール（０．８７ｇ，５．６ｍｍｏｌ）
および四塩化チタン（１．３ｍｌ，１１．８ｍｍｏｌ）
を添加した。２時間毎にサンプリングを行い（最終６時
間）、サンプル中の四塩化チタンを純水にて失活した。
水層を除去した後、1Ｈ−ＮＭＲによって分析を行っ
た。測定溶剤；重クロロホルム、定量方法；末端の水酸
基に隣接するメチレンのシグナル（３．５５ｐｐｍ、３
重線、２Ｈ）を基準にして新たに生成したオレフィンへ
の塩化水素付加物のシグナル（４．０５ｐｐｍ、６重
線、１Ｈ）のエリアを比較し定量化した。９−デセン−
１−オールの塩化水素付加化合物の生成量は以下のよう
に時間とともに増加していた。
量は以下の通り；Ｆｎ（ＣＨ2ＯＭｅ）＝１．４８。 （実施例２）１０−アセトキシ−１−デセン添加時の四
塩化チタン添加量を２．１ｍｌ（１９．２ｍｍｏｌ）と
した以外は実施例１と同様に行った。得られたポリマー
の官能基導入量は以下の通り；Ｆｎ（ＣＨ2ＯＭｅ）＝
０．７８。 （実施例３）１０−アセトキシ−１−デセンの量を４．
１９ｇ（２１．２ｍｍｏｌ）とした以外は実施例１と同
様に行った。得られたポリマーの官能基導入量は以下の
通り；Ｆｎ（ＣＨ2ＯＭｅ）＝１．６２。 （実施例４）１０−アセトキシ−１−デセン添加時の四
塩化チタン添加量を１１．４ ｍｌ（１０３．４ｍｍｏ
ｌ）とした以外は実施例１と同様に行った。得られたポ
リマーの官能基導入量は以下の通り；Ｆｎ（ＣＨ2ＯＭ
ｅ）＝１．４３。 （実施例５）１０−アセトキシ−１−デセン量を５．６
０ｇ（２８．２ｍｍｏｌ），同化合物添加時の四塩化チ
タン添加量を１１．４ｍｌ（１０３．４ｍｍｏｌ）とし
た以外は実施例１と同様に行った。得られたポリマーの
官能基導入量は以下の通り；Ｆｎ（ＣＨ2ＯＭｅ）＝
１．９６。 （実施例６）５０００ｍｌのセパラブルフラスコに三方
コック、熱電対、および真空用シール付き撹拌機をつけ
て窒素置換を行った。これにモレキュラーシーブス３Ａ
によって脱水したトルエン１４８４ｍｌ、エチルシクロ
ヘキサン１８４ｍｌを加え、さらに１，４−ビス（１−
クロル−１−メチルエチル）ベンゼン（１３．８７ｇ，
６０．０ｍｍｏｌ）、２−メチルピリジン（６５７．９
ｍｇ，７．０６ｍｍｏｌ）を加えて−７０℃に冷却し
た。冷却後、イソブチレンモノマー（２９９ｍｌ，３．
５８ｍｏｌ）を導入し、さらに、この温度で四塩化チタ
ン（８．３３ｍｌ、７６．０ｍｍｏｌ）を添加し重合を
開始した。この際に約１５℃昇温した。約６０分で重合
は終了した（これに伴い反応系の発熱は観察されなくな
った）。重合終了後に４−アセトキシ−２−メチル−１
−ブテン（３０．８ｇ，２４０ｍｍｏｌ）および四塩化
チタン（４４．４ ｍｌ，４０６ｍｍｏｌ）を添加し
た。５時間反応の後に、８０℃に加熱したイオン交換水
１．５Ｌを反応混合物を導入し、２０分間攪拌を行っ
た。静置の後に水層を除去し、１Ｌの４Ｎ水酸化ナトリ
ウム水溶液及び臭化テトラブチルアンモニウム１５．０
ｇを添加し、１００℃にて１２時間攪拌を行った。反応
終了後、アルカリ水溶液を除去し、１Ｌのイオン交換水
で３回水洗した後に、有機層を単離した。これに１０Ｌ
のアセトンを加えてポリマーを再沈殿させ、低分子化合
物を除去した。沈殿物をさらにアセトン１Ｌで２回洗浄
し、さらにヘキサン５００ｍｌに溶解した。溶液を１Ｌ
のなす型フラスコに移液し、オイルバスによる加熱条件
下（１８０℃）、減圧（最終１Ｔｏｒｒ以下）によって
溶媒留去を行い、目的とする水酸基を末端に有するポリ
イソブチレンを得た。得られたポリイソブチレンの官能
化率の分析はＮＭＲを用いて行った。実施例６で得られ
たポリマーの水酸基導入量は以下の通り；Ｆｎ（ＣＨ2
ＯＨ）＝１．６６（分析方法は実施例１と同様である。
なお、末端水酸基に隣接するメチレンのシグナルは３．
５５ｐｐｍに観察される）。 （実施例７）添加するアルケニル化合物を１０−アセト
キシ−１−デセンから酢酸オクタジエニル（４．７４
ｇ、２８．２ｍｍｏｌ）に変更した以外は実施例３と同
様に反応を行った。得られたポリマーの官能基導入量は
以下の通り；Ｆｎ（ＣＨ2ＯＭｅ）＝１．７０（分析方
法は実施例１と同様である。なお、アセトキシ基に隣接
するメチレンのシグナルは４．２０ｐｐｍに観察され
る）。 (実施例８)実施例６において用いる試薬を量を以下のよ
うに変更して、同様に反応を行った。トルエン５９２ｍ
ｌ、エチルシクロヘキサン７３．６ｍｌ、１，４−ビス
（１−クロル−１−メチルエチル）ベンゼン（５．５６
ｇ、２４．０ｍｍｏｌ）、２−メチルピリジン（２６４
ｍｇ、２．８３ｍｍｏｌ）、イソブチレンモノマー（１
２０ｍｌ，１．４４ｍｏｌ） 重合反応時添加の塩化チタン（２．５２ｍｌ、２３．０
ｍｍｏｌ）。アルケニル付加反応時添加の酢酸オクタジ
エニル（３２．４ｇ，１９３ｍｍｏｌ）及び四塩化チタ
ン（３９．８ｍｌ、３８６ｍｍｏｌ）。加水分解反応時
添加の２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１Lおよび臭化テト
ラブチルアンモニウム１０．０ｇ。得られたポリマーの
水酸基導入量は以下の通り；Ｆｎ（ＣＨ2ＯＨ）＝１．
９０（分析方法は実施例１と同様である。なお、末端水
酸基に隣接するメチレンのシグナルは４．００ｐｐｍに
観察される）。 （比較例１）アルケニルアルコールとルイス酸の反応に
よるオレフィンへのハロゲン化水素の付加反応の観察 ２００ｍｌの３口フラスコに三方コック、熱電対、およ
び真空用シール付き撹拌機をつけて窒素置換を行った。
これにモレキュラーシーブス３Ａによって脱水したトル
エン３５ｍｌ、エチルシクロヘキサン４．３ｍｌを加
え、さらに２−メチルピリジン（１５．５ｍｇ，０．１
７ｍｍｏｌ）を加えて−７０℃に冷却した。冷却後、９
−デセン−１−オール（０．８７ｇ，５．６ｍｍｏｌ）
および四塩化チタン（１．３ｍｌ，１１．８ｍｍｏｌ）
を添加した。２時間毎にサンプリングを行い（最終６時
間）、サンプル中の四塩化チタンを純水にて失活した。
水層を除去した後、1Ｈ−ＮＭＲによって分析を行っ
た。測定溶剤；重クロロホルム、定量方法；末端の水酸
基に隣接するメチレンのシグナル（３．５５ｐｐｍ、３
重線、２Ｈ）を基準にして新たに生成したオレフィンへ
の塩化水素付加物のシグナル（４．０５ｐｐｍ、６重
線、１Ｈ）のエリアを比較し定量化した。９−デセン−
１−オールの塩化水素付加化合物の生成量は以下のよう
に時間とともに増加していた。
【００４４】
【表１】 （比較例２）水酸基末端アルケニル化合物の重合基末端
への付加反応 実施例１において１０−アセチル−１−デセンを添加す
る代わりに９−デセン−１−オール（２．２０ｇ、１
４．１ｍｍｏｌ）に変更した以外は実施例１と同様に行
った。
への付加反応 実施例１において１０−アセチル−１−デセンを添加す
る代わりに９−デセン−１−オール（２．２０ｇ、１
４．１ｍｍｏｌ）に変更した以外は実施例１と同様に行
った。
【００４５】得られたポリイソブチレンの官能化率の分
析はＮＭＲを用いて行った。測定溶剤；四塩化炭素／重
アセトン＝４／１混合溶剤、定量方法；開始剤残基のシ
グナル（７．２ｐｐｍ）を基準に末端の水酸基に隣接す
るメチレンのシグナル（３．４５ｐｐｍ）を比較して定
量化した。Ｆｎ（ＣＨ2ＯＨ）は重合体末端への官能基
導入量であり、定量的に導入した時には今回用いた開始
剤では２．０となる。
析はＮＭＲを用いて行った。測定溶剤；四塩化炭素／重
アセトン＝４／１混合溶剤、定量方法；開始剤残基のシ
グナル（７．２ｐｐｍ）を基準に末端の水酸基に隣接す
るメチレンのシグナル（３．４５ｐｐｍ）を比較して定
量化した。Ｆｎ（ＣＨ2ＯＨ）は重合体末端への官能基
導入量であり、定量的に導入した時には今回用いた開始
剤では２．０となる。
【００４６】得られたポリマーの官能基導入量は以下の
通り；Ｆｎ（ＣＨ2ＯＨ）＝１．２１。
通り；Ｆｎ（ＣＨ2ＯＨ）＝１．２１。
【００４７】
【発明の効果】本発明によって得られる重合体は末端に
脱保護によって容易に水酸基に変換することが可能な官
能基を有する新規な飽和炭化水素系重合体であり、重合
終了後、溶媒の交換、触媒の除去等の特別な処理するこ
となく、１ポットで水酸基を効率的に導入することが可
能である。
脱保護によって容易に水酸基に変換することが可能な官
能基を有する新規な飽和炭化水素系重合体であり、重合
終了後、溶媒の交換、触媒の除去等の特別な処理するこ
となく、１ポットで水酸基を効率的に導入することが可
能である。
Claims (21)
- 【請求項１】炭素−炭素単結合を形成するカチオン重合
によって得られるハロゲン末端炭化水素系重合体と、保
護された水酸基および炭素−炭素二重結合を有する化合
物との反応により得られる、保護された水酸基を末端に
有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体。 - 【請求項２】請求項１記載の保護された水酸基を末端に
有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体を脱保護す
る事によって得られる、水酸基を末端に有する重合体主
鎖が飽和な炭化水素系重合体。 - 【請求項３】カチオン重合によって得られるハロゲン末
端炭化水素系重合体が式（１）： Ｒ1（Ａ−Ｘ）a （１） （式中、Ｒ1は単環または複数の芳香環を含む１価から
４価までの炭化水素基、Ｘは塩素基または臭素基、ａは
１から４の整数。Ａは一種又は二種以上のカチオン重合
性単量体の重合体で、ａが２以上の時は同じでも異なっ
ていてもよい。）で表され、保護された水酸基および炭
素−炭素二重結合を有する化合物が式（２）： ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ2）−Ｂ−ＯＧ （２） （式中、Ｒ2は水素または炭素数１から１８の飽和炭化
水素基を、Ｂは炭素数１から３０の２価の炭化水素基
を、Ｇは水酸基の保護基を表す。）で表される請求項１
記載の保護された水酸基を末端に有する重合体主鎖が飽
和な炭化水素系重合体。 - 【請求項４】請求項３記載の保護された水酸基を末端に
有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体を脱保護す
る事によって得られる、水酸基を末端に有する重合体主
鎖が飽和な炭化水素系重合体。 - 【請求項５】保護された水酸基および炭素−炭素二重結
合を有する化合物が式（３）： ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ2）−（ＣＨ2）b−｛−ＣＨ＝ＣＨ−（Ｃ
Ｈ2）c｝n−ＯＧ（３） （式中、Ｒ2は水素または炭素数１から１８の飽和また
は不飽和の１価の炭化水素基を表し、ｂ及びｃは１から
３０の整数であって同一であっても異なっていても良
く、ｎは０から５の整数を、Ｇは水酸基の保護基を表
す。）で表される請求項３記載の保護された水酸基を末
端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体。 - 【請求項６】請求項５記載の保護された水酸基を末端に
有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体を脱保護す
る事によって得られる、水酸基を末端に有する重合体主
鎖が飽和な炭化水素系重合体。 - 【請求項７】前記式（１）のカチオン重合によって得ら
れる炭化水素系重合体がイソブチレン系重合体である請
求項３または５記載の保護された水酸基を末端に有する
重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体。 - 【請求項８】請求項７記載の保護された水酸基を末端に
有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体を脱保護す
る事によって得られる、水酸基を末端に有する重合体主
鎖が飽和な炭化水素系重合体。 - 【請求項９】前記式（１）のａが２または３で、Ａがポ
リイソブチレンで、Ｘが塩素である請求項３または５ま
たは７記載の保護された水酸基を末端に有する重合体主
鎖が飽和な炭化水素系重合体。 - 【請求項１０】請求項９記載の保護された水酸基を末端
に有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体を脱保護
する事によって得られる、水酸基を末端に有する重合体
主鎖が飽和な炭化水素系重合体。 - 【請求項１１】前記式（２）のＧが 【化１】 （式中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は水素、または炭素数１から１
８の飽和または不飽和の炭化水素基を表し、Ｒを複数含
む基においては同一であっても異なっていてもよい。Ｘ
はＣｌ、Ｂｒ、Ｉから選ばれる官能基である。Ｍ1はＬ
ｉ、Ｎａ、Ｋから選ばれる１価の金属、Ｍ2はＭｇ、Ｃ
ａ、Ｓｒ、Ｂａから選ばれる２価の金属、Ｍ3はＢ、Ａ
ｌ、Ｇａから選ばれる３価の金属、Ｍ4はＴｉ、Ｚｒ、
Ｈｆ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂから選ばれる４価の金属
である。）で表される請求項３または５または７または
９記載の保護された水酸基を末端に有する重合体主鎖が
飽和な炭化水素系重合体。 - 【請求項１２】請求項１１記載の保護された水酸基を末
端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体を脱保
護する事によって得られる水酸基を末端に有する重合体
主鎖が飽和な炭化水素系重合体。 - 【請求項１３】前記式（２）で表される化合物が、アリ
ルアルコール、メタリルアルコール、３−ブテン−１−
オール、３−メチル−３−ブテン−１−オール、４−ペ
ンテン−１−オール、５−ヘキセン−１−オール、６−
ヘプテン−１−オール、７−オクテン−１−オール、８
−ノネン−１−オール、９−デセン−１−オール、１０
−ウンデセン−１−オール、２,５−ヘキサジエノー
ル、２,６−ヘプタジエノール、３,６−ヘプタジエノー
ル、２,７-オクタジエノール、３,７-オクタジエノー
ル、４,７-オクタジエノール、２,８-ノナジエノール、
３,８-ノナジエノール、４,８-ノナジエノール、５,８-
ノナジエノール、２,９-デカジエノール、３,９-デカジ
エノール、４,９-デカジエノール、５,９-デカジエノー
ルおよび６,９-デカジエノールからなる群より選ばれる
化合物の水酸基（ＯＨ基）をＯＧ基とした化合物群から
選ばれる請求項３、５、７、９及び１１記載の保護され
た水酸基を末端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系
重合体。 - 【請求項１４】請求項１３記載の保護された水酸基を末
端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体を脱保
護する事によって得られる水酸基を末端に有する重合体
主鎖が飽和な炭化水素系重合体。 - 【請求項１５】炭素−炭素単結合を形成するカチオン重
合によって得られるハロゲン末端炭化水素系重合体と保
護された水酸基および炭素−炭素二重結合を含む化合物
との反応の際に、触媒としてルイス酸を用いる請求項
１、３、５、７、９、１１及び１３記載の保護された水
酸基を末端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合
体の製造法。 - 【請求項１６】触媒がＴｉＣｌ4、ＡｌＣｌ3、ＢＣ
ｌ3、ＳｎＣｌ4からなる群より選ばれる１種以上のルイ
ス酸である請求項１５記載の保護された水酸基を末端に
有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体の製造法。 - 【請求項１７】反応溶剤が、ハロゲン化炭化水素、芳香
族炭化水素、及び脂肪族炭化水素からなる群より選ばれ
る１種の溶剤又は２種以上の溶剤からなることを特徴と
する、請求項１５または１６記載の保護された水酸基を
末端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体の製
造法。 - 【請求項１８】ハロゲン化炭化水素がクロロホルム、塩
化メチレン、１，１−ジクロルエタン、１，２−ジクロ
ルエタン、ｎ−プロピルクロライド、ｎ−ブチルクロラ
イドからなる群より選ばれる１種以上の物質であること
を特徴とする、請求項１７記載の保護された水酸基を末
端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体の製造
法。 - 【請求項１９】芳香族炭化水素がトルエンである請求項
１７、１８記載の保護された水酸基を末端に有する重合
体主鎖が飽和な炭化水素系重合体の製造法。 - 【請求項２０】脂肪族炭化水素がペンタン、ｎ−ヘキサ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシ
クロヘキサンからなる群より選ばれる１種以上の物質で
あることを特徴とする、請求項１７、１８、１９記載の
保護された水酸基を末端に有する重合体主鎖が飽和な炭
化水素系重合体の製造法。 - 【請求項２１】反応溶剤としてトルエンおよびエチルシ
クロヘキサンの混合溶剤を用いる請求項１７記載の保護
された水酸基を末端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水
素系重合体の製造法。
Priority Applications (1)
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