JP2000010040A - 走査光学装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】光源が回転体の非走査面に対向している間に光
源からの光の照射を停止することなく非走査面における
反射光が所定の露光範囲に配光されることを確実に防止
できるようにする。 【構成】回転鏡１の周面に平面状の走査面１ａと部分円
弧状の非走査面１ｂとを４つずつ交互に形成した。４つ
の非走査面１ｂのそれぞれを、回転鏡１の回転軸を中心
とする単一の円弧の一部によって構成した。回転鏡１の
回転中に半導体レーザ２からのレーザ光の照射位置が非
走査面１ｂにおいて変化した場合にも、レーザ光の照射
位置における法線方向は一定であり、非走査面１ｂにお
けるレーザ光の反射方向も変化しない。非走査面１ｂに
おける反射方向は、レーザ光２ａの照射方向を挟んで走
査面１ａにおける反射方向と反対側に位置し、非走査面
１ｂにおける反射光が感光体ドラム５の表面を露光する
ことがない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、電子写真法による画
像形成を行う画像形成装置等の光学装置であって、光源
の光を所定の露光範囲に偏向して反射する回転鏡を備え
た走査光学装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】複写機やプリンタ等の電子写真法による
画像形成装置では、感光体の表面を光源の光によって露
光する光学装置が用いられる。この光学装置は、シリア
ルデータである画像データにより変調した光源の光によ
って感光体の表面を露光走査するものであり、一般に、
周面に走査面を形成した回転鏡を備え、光源の光を周面
に照射した状態で回転鏡を回転させることにより、回転
鏡の走査面に対する光源光の相対的な入射角を偏向して
走査面における光源の光の反射方向を偏向し、光源の光
によって感光体の所定の露光範囲内を偏向して走査し、
感光体の表面に静電潜像を形成する。

【０００３】また、感光体の表面に対する光源の光によ
る露光走査は、光源の光の走査方向に直交する方向に移
動する感光体の表面に対して繰り返し実行されるため、
回転鏡の周面には複数の平面状の走査面が形成されてお
り、各走査面は円形の回転鏡の基体の周面に切削加工に
よって形成される。

【０００４】したがって、回転鏡の周面には複数の平面
状の走査面のそれぞれの間の境目部分に稜線が形成され
るが、稜線を挟む２つの走査面を切削加工によって形成
すると、稜線を直線状に尖らせることが困難で、この部
分に照射された光源の光の反射方向にばらつきを生じ、
稜線を挟む２つの走査面が光源の光を感光体方向に反射
するものであるため、稜線部分で反射した光源の光の一
部が感光体の表面の露光範囲に達する場合があり、感光
体の表面が適正な画像光と異なる光によって露光されて
画像形成状態が劣化する問題がある。

【０００５】そこで、特公平７−２７１２４号公報に
は、回転鏡の周面に互いに対向する２つの平面状の走査
面、及び、２つの走査面を連結する２つの円弧状の非走
査面を形成し、光源が非走査面に対向する間において光
源の駆動を停止するようにした構成が開示されている。

【０００６】この構成により、回転鏡の走査面を介して
感光体の表面に画像光のみを正確に偏向して走査させる
ことができ、画像形成状態を良好に維持することができ
るとされている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特公平
７−２７１２４号公報に開示された構成では、光源が回
転鏡の非走査面に対向する間において光源からの光の照
射を停止するようにしているため、光源の駆動制御が煩
雑化する問題がある。また、光源からは専ら画像光のみ
が回転鏡に照射されることになり、回転鏡における反射
光を光源の光量等の検出に用いることができない問題が
ある。

【０００８】この発明の目的は、回転体の周面に形成す
る走査面及び非走査面の形状を考慮することにより、走
査面における反射光のみが所定の露光範囲に配光される
ようにし、非走査面における反射光が所定の露光範囲に
配光されることを確実に防止し、光源が回転体の非走査
面に対向している間において光源からの光の照射を停止
する必要をなくし、光源の駆動制御を簡略化することが
できるとともに、非走査面における反射光を用いて光源
の光量等を検出することができる走査光学装置を提供す
ることにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載した発明
は、光源から照射された光の反射光により所定の露光範
囲を偏向して走査する走査面を有する回転鏡を備えた走
査光学装置において、前記回転鏡が、複数の走査面のそ
れぞれの間に光源から照射された光を所定の露光範囲外
の１方向に反射する非走査面を設けたことを特徴とす
る。

【００１０】請求項１に記載した発明においては、光源
から照射された光の回転体の非走査面における反射光は
所定の露光範囲外の１方向に配光される。したがって、
所定の露光範囲には光源から照射された光の回転鏡の走
査面における反射光のみが配光され、回転鏡の走査面以
外における反射光によって所定の露光範囲が露光される
ことがない。

【００１１】請求項２に記載した発明は、前記非走査面
が、回転鏡の回転軸を中心とする部分円弧によって構成
されたことを特徴とする。

【００１２】請求項２に記載した発明においては、回転
鏡の非走査面の形状が、回転鏡の回転軸を中心とする円
弧の一部を呈する。したがって、光源の光の非走査面に
おける反射光は、回転鏡が回転する間において常に所定
の露光範囲外の１方向に配光される。

【００１３】請求項３に記載した発明は、前記非走査面
における反射光路上に光検出手段又は光量検出手段を含
む光量減衰部材を設けたことを特徴とする。

【００１４】請求項３に記載した発明においては、光源
の光の非走査面における反射光が、光検出手段又は光量
検出手段等である光量減衰部材に配光される。したがっ
て、非走査面における反射光の光量が減衰され、装置内
の他の部分において再度反射して所定の露光範囲を露光
することがない。また、光量検出部材を光検出手段又は
光量検出手段とすることにより、光量減衰部材を回転鏡
の回転タイミングの検出、又は、光源の光量の検出に用
いることができる。

【００１５】請求項４に記載した発明は、前記非走査面
における光源の光の反射方向が、回転鏡の回転軸方向に
おいて所定の露光範囲外に位置することを特徴とする。

【００１６】請求項４に記載した発明においては、光源
の光の非走査面における反射光が、所定の露光範囲を含
む平面外に配光される。したがって、走査面における反
射光以外の光が所定の露光範囲に配光されることがな
い。

【００１７】請求項５に記載した発明は、前記非走査面
における光源の光の反射方向が、回転鏡の回転平面にお
いて光源の光の照射方向を挟んで所定の露光範囲及び回
転鏡の回転軸の反対側に位置することを特徴とする。

【００１８】請求項５に記載した発明においては、回転
鏡に対する光源の光の照射方向を基準として、一方に非
走査面における反射光の配光方向が位置し、他方に指定
の露光範囲及び回転鏡の回転軸が位置する。したがっ
て、光源の光の非走査面における反射光が所定の露光範
囲に配光されることが確実に防止される。

【００１９】

【発明の実施の形態】図１は、この発明の実施形態に係
る走査光学装置の構成を示す図である。この実施形態に
係る走査光学装置１０は、電子写真方式の画像形成プロ
セスを実行する画像形成装置に備えられ、画像形成プロ
セスの露光工程において感光体ドラム５の表面を画像光
によって露光走査し、感光体ドラム５の表面に静電潜像
を形成する。このため、走査光学装置１０は、回転鏡
１、半導体レーザ２、光検出手段であるビームディテク
タ３及びｆθレンズ４ａ〜４ｃを、感光体ドラム５に対
する相対的な位置関係を固定した状態に配置して備えて
いる。

【００２０】回転鏡１は、周面に平面状の走査面１ａ及
び円弧状の非走査面１ｂを４つずつ交互に形成したもの
であり、画像形成プロセスの露光工程時に矢印Ａ方向に
一定の速度で回転する。半導体レーザ２は、図外の駆動
制御部から出力される駆動信号に基づいてレーザ光を照
射する。駆動制御部は、画像データに基づいて作成した
駆動信号を出力する。したがって、半導体レーザ２が照
射するレーザ光は、画像データを変調した画像光であ
る。ビームディテクタ３は、半導体レーザ２から照射さ
れたレーザ光の非走査面１ｂにおける反射光路上に位置
し、少なくとも非走査面１ｂにおける反射光の有無を表
す検出信号を出力する。この検出信号は駆動制御部に入
力され、半導体レーザ２に対する駆動信号の出力タイミ
ングの決定に用いられる。ｆθレンズ４ａ〜４ｃは、半
導体レーザ２から照射されたレーザ光の走査面１ａにお
ける反射方向を、感光体ドラム５の回転軸に直交する方
向に偏向する。

【００２１】画像形成プロセスの露光工程時に、半導体
レーザ２が回転鏡１の走査面１ａに対向している状態
で、回転鏡１が矢印Ａ方向に回転すると、半導体レーザ
２に対する走査面１ａの対向角度が変化して走査面１ａ
に対するレーザ光の入射角が変化するとともに、感光体
ドラム５の表面に対する走査面１ａの対向角度が変化す
る。このように、回転鏡１の矢印Ａ方向の回転によって
走査面１ａに対するレーザ光の相対的な入射角、及び、
感光体ドラム５の表面に対する走査面１ａの対向角度が
変化することにより、走査面１ａにおけるレーザ光の反
射方向が変化し、ｆθレンズ４ｃから照射されるレーザ
光が感光体ドラム５の表面の軸方向の所定範囲内を矢印
Ｃ方向に走査する。

【００２２】回転鏡１の周面に形成された４つの走査面
１ａのそれぞれの長さは、各走査面１ａにおける反射光
が感光体ドラム５の軸方向の両端部近傍を除く所定の画
像形成範囲に照射される長さにされており、回転鏡１は
感光体ドラム５の表面が矢印Ｂ方向に４ライン分回転す
る間に１回転する。また、駆動制御部は、半導体レーザ
２が各走査面１ａに対向している間に１ライン分の画像
データに対応する駆動信号を半導体レーザ２に出力す
る。したがって、回転鏡１が１回転する間に、感光体ド
ラム４の表面には４ライン分の静電潜像が形成される。

【００２３】図２は、上記走査光学装置に用いられる回
転鏡の形状を示す平面図である。上述のように、回転鏡
１は、周面に平面状の走査面１ａ及び円弧状の非走査面
１ｂを４つずつ交互に形成したものである。回転鏡１の
周面において、４つの走査面１ａは互いに９０度の回転
角で配置されている。各走査面１ａは、一端において直
接に１つの非走査面１ｂに連続しており、他端において
平面状の切欠面１ｃを介して他の非走査面１ｂに連続し
ている。切欠面１ｃは、走査面１ａと９０度の挟み角を
なすように形成されており、半導体レーザ２からのレー
ザ光の照射を受けることはない。

【００２４】回転鏡１における走査面１ａ及び切欠面１
ｃの長さは、半導体レーザ２から照射されたレーザ光の
走査面１ａにおける反射光の感光体ドラム５の表面の軸
方向における画像形成範囲の長さ、並びに、回転鏡１の
回転平面における回転鏡１、半導体レーザ２及び感光体
ドラム５の相対的な位置関係を考慮して決定することが
できる。

【００２５】即ち、回転鏡１が回転することによって走
査面１ａにおける半導体レーザ２からのレーザ光の照射
位置及び入射角が変化し、これにともなって感光体ドラ
ム５に対する走査面１ａにおけるレーザ光の反射角が変
化することにより、走査面１ａにおける反射光によって
感光体ドラム５の表面を軸方向に走査する。したがっ
て、走査面１ａの長さは、少なくとも走査面１ａの反射
光によって感光体ドラム５の表面の軸方向における画像
形成範囲の全域を走査できる長さよりも長くする必要が
ある。また、切欠面１ｃの長さを変えることにより、半
導体レーザ２及び感光体ドラム５に対する走査面１ａの
対向角度が変化する。したがって、半導体レーザ２から
照射されたレーザ光を走査面１ａにおいて反射させ、こ
の反射光を感光体ドラム５に配光するためには、感光体
回転鏡１の回転平面における回転鏡１、半導体レーザ２
及び感光体ドラム５の相対的な位置関係に応じて切欠面
１ｃの長さを変える必要がある。

【００２６】一方、回転鏡１の周面において、４つの非
走査面１ｂは、いずれも回転鏡１の回転軸を中心とする
単一の円弧の一部によって構成されている。したがっ
て、半導体レーザ２から照射されたレーザ光の非走査面
１ｂにおける反射方向は、回転鏡１の回転位置に拘らず
常に一定である。即ち、非走査面１ｂが回転鏡１の回転
軸を中心とする部分円弧によって構成されていることか
ら、回転鏡１が回転することによって半導体レーザ２か
らのレーザ光の照射位置が非走査面１ｂにおいて変化し
た場合にも、レーザ光の照射位置における法線方向は常
に一定であり、非走査面１ｂにおけるレーザ光の反射方
向は１方向に定まる。これは、回転鏡１の周面に形成さ
れた４つの非走査面１ｂのいずれにおいても同様であ
る。また、４つの非走査面１ｂの形状が単一の円弧の一
部によって構成されていることから、４つの非走査面１
ｂのそれぞれにおけるレーザ光の反射方向は互いに一致
する。この非走査面１ｂにおけるレーザ光の反射光路上
にビームディテクタ３が配置されている。

【００２７】なお、回転鏡１の周面における走査面１ａ
及び切欠面１ｃの長さを変えると回転鏡１の周面の形状
が変化し、回転鏡１の回転時における空気抵抗が増減変
化する。回転鏡１の回転時における空気抵抗の変化によ
って回転鏡１の風切り音が増減変化するため、走査面１
ａ及び切欠面１ｃの長さの決定においては、回転鏡１の
回転時における空気抵抗が最も小さくなるようにし、走
査光学装置１０の動作時における騒音の軽減を図るべき
である。

【００２８】さらに、図３（Ａ）及び（Ｂ）に示すよう
に、非走査面１ｂにおけるレーザ光の反射方向は、半導
体レーザ２から回転鏡１に対するレーザ光２ａの入射方
向を挟んで、回転鏡１の回転軸、及び、走査面１ａにお
けるレーザ光の反射方向と反対側に位置する。即ち、ビ
ームディテクタ３の配置位置は、回転鏡１に対するレー
ザ光２ａの入射方向を基準として、回転鏡１の回転軸及
び感光体ドラム５と反対側に位置している。

【００２９】したがって、非走査面１ｂにおいて反射し
たレーザ光が、感光体ドラム５の表面に配光されること
はなく、感光体ドラム５の表面が走査面１ａにおいて反
射した画像光以外の光によって露光されることによる画
像形成状態の劣化を生じることがない。

【００３０】図４は、この発明の別の実施形態に係る走
査光学装置の構成を示す図である。この実施形態に係る
走査光学装置１１は、図１に示した構成におけるビーム
ディテクタ３に代えて光量検出センサ６を備えたもので
あり、その他の構成は図１に示した構成と同様である。
光量検出センサ６は、回転鏡１の走査面１ａにおける半
導体レーザ２から照射されたレーザ光の反射光を受光
し、受光量に応じた検出信号を出力する。光量検出セン
サ６の検出信号は、半導体レーザ２に駆動信号を出力す
る駆動制御部に入力される。

【００３１】図５は、上記走査光学装置の駆動制御部に
おける処理手順を示すフローチャートである。図４に示
した走査光学装置１１の駆動制御部は、画像形成装置の
制御部から画像形成プロセスの露光工程の開始命令が入
力されると（ｓ１）、半導体レーザ２をオンするととも
に（ｓ２）、回転鏡１が少なくとも１回転する間におい
て光量検出センサ６の検出信号を読み取り（ｓ３）、光
量検出センサ６がレーザ光を受光しているか否かを判別
する（ｓ４）。光量検出センサ６から出力された検出信
号の内容がレーザ光の反射光を受光していない状態を表
す場合には、駆動制御部は、画像形成装置の制御部に対
してエラー信号を出力する（ｓ５）。

【００３２】光量検出センサ６から出力された検出信号
の内容がレーザ光の反射光を受光している状態を表す場
合には、駆動制御部は、検出信号の内容がレーザ光の反
射光の受光量として適正な値を示すものであるか否かを
判別する（ｓ６）。検出信号の内容がレーザ光の反射光
の受光量として適正な値を示していない場合には、駆動
制御部は、検出信号の内容がレーザ光の反射光の受光量
として適正な値になるまで半導体レーザ２の駆動電圧を
調整する（ｓ７→ｓ６）。

【００３３】次いで、駆動制御部は、光量検出センサ６
の検出信号に基づいて、画像データに基づく駆動信号を
半導体レーザ２に出力して感光体ドラム５の表面の露光
工程を開始する（ｓ８）。即ち、回転鏡１が回転してい
る状態では、回転鏡１の周面に形成された非走査面１ｂ
が半導体レーザ２に対向している間においてのみ、半導
体レーザ２から照射されたレーザ光の反射光が光量検出
センサ６に配光され、回転鏡１の周面における走査面１
ａが半導体レーザ２に対向している間には、半導体レー
ザ２から照射されたレーザ光の反射光は光量検出センサ
６に配光されない。したがって、半導体レーザ２がレー
ザ光を照射しており、かつ、回転鏡１が回転している間
において、光量検出センサ６にはレーザ光の反射光が間
欠的に配光される。

【００３４】より詳細には、回転鏡１が１回転する間に
おいて光量検出センサ６はレーザ光の反射光を受光して
いる状態と受光していない状態とを４回繰り返し、光量
検出センサ６の検出信号は受光レベルと非受光レベルと
が４回ずつ交互に現れるパルス波形を呈する。回転鏡１
の周面において４つの走査面１ａが等間隔に形成されて
いることから、光量検出センサ６の検出信号における非
受光レベルから受光レベルへの立ち上がりのタイミング
から一定時間を経過した時に、４つの走査面１ａのいず
れかにおいて感光体ドラム５の表面の軸方向における走
査開始位置にレーザ光の反射光を配光すべき位置が半導
体レーザ２に対向する。

【００３５】そこで、光量検出センサ６の検出信号の立
ち上がりのタイミングから一定時間を経過した時に、駆
動制御部から半導体レーザ２に対して画像データに基づ
く駆動信号を出力することにより、感光体ドラム５の表
面の画像形成範囲を画像光によって１ラインずつ露光走
査することができる。

【００３６】また、光量検出センサ６の検出信号によ
り、半導体レーザ２からの画像光の照射を開始するタイ
ミングを決定するとともに、半導体レーザ２から照射さ
れるレーザ光の光量を検出するようにしているため、画
像光の照射開始タイミングを決定するための基準信号、
及び、レーザ光の光量の検出信号を単一のセンサから出
力することができ、部品点数を削減することができる。

【００３７】なお、光量検出センサ６は、ビームディテ
クタ３と同様に回転鏡１の非走査面１ｂにおける反射光
を吸収するため、非走査面１ｂにおける反射光が光量検
出センサ６において再度反射することがなく、感光体ド
ラム５の表面が走査面１ａにおける反射光以外の光によ
って露光されることを確実に防止できる。

【００３８】また、ビームディテクタ３又は光量検出セ
ンサ６を走査面１ａにおけるレーザ光の反射範囲内に配
置するとともに、非走査面１ｂにおけるレーザ光の反射
光路上に別の光吸収体又は光拡散板を配置し、走査面１
ａにおけるレーザ光の反射光量を減衰するようにしても
よい。

【００３９】図６は、この発明のさらに別の実施形態に
係る走査光学装置に用いられる回転鏡の要部の形状を示
す図である。この実施形態に係る走査光学装置の回転鏡
１の走査面１ａは、図６（Ａ）に示すように垂直面によ
って構成されている。一方、非走査面１ｂは、図６
（Ｂ）に示すように傾斜面によって構成されている。こ
れら走査面１ａ及び非走査面１ｂに対して、半導体レー
ザ２からレーザ光２ａが水平方向に照射される。

【００４０】したがって、走査面１ａにおいてレーザ光
２ａは水平方向に反射するのに対して、非走査面１ｂに
おいてレーザ光２ａは水平面から所定角度だけ傾斜した
方向に反射する。即ち、非走査面１ｂにおけるレーザ光
２ａの反射光は、走査面１ａにおけるレーザ光２ａの反
射光が配光される平面内に配光されない。走査面１ａに
おけるレーザ光２ａの反射光は、感光体ドラム５の表面
を露光するものであるため、走査面１ａにおけるレーザ
光２ａの反射光が配光される平面内に感光体ドラム５の
回転軸が存在する。したがって、非走査面１ｂにおける
レーザ光２ａの反射光が感光体ドラム５の表面に配光さ
れることがなく、画像光である走査面１ａにおけるレー
ザ光の反射光以外の光によって感光体ドラム５の表面が
露光されることがない。これによって、感光体ドラム５
には画像光のみに基づく静電潜像が形成され、画像光以
外の光の露光による画像形成状態の劣化を生じることが
ない。

【００４１】以上、本願発明の走査光学装置を画像形成
装置に適用した場合を例にあげて説明したが、光源の光
によって所定範囲を露光走査する他の装置においても、
この発明を同様に実施することができる。

【００４２】

【発明の効果】請求項１に記載した発明によれば、光源
から照射された光の回転体の非走査面における反射光を
所定の露光範囲外の１方向に配光することにより、所定
の露光範囲に光源から照射された光の回転鏡の走査面に
おける反射光のみを配光するようにし、回転鏡の走査面
以外における反射光によって所定の露光範囲が露光され
ることを防止して、露光状態を適正にすることができ
る。

【００４３】請求項２に記載した発明によれば、回転鏡
の非走査面の形状を、回転鏡の回転軸を中心とする円弧
の一部としたことにより、光源の光の非走査面における
反射光を、回転鏡が回転する間において常に所定の露光
範囲外の１方向に配光することができ、回転鏡の走査面
以外における反射光によって所定の露光範囲が露光され
ることを防止して、露光状態を適正にすることができ
る。

【００４４】請求項３に記載した発明によれば、光源の
光の非走査面における反射光を、光検出手段又は光量検
出手段等である光量減衰部材に配光することにより、非
走査面における反射光の光量を減衰することができ、装
置内の他の部分において再度反射して所定の露光範囲を
露光しないようにして回転鏡の走査面以外における反射
光によって所定の露光範囲が露光されることを防止し
て、露光状態を適正にすることができる。また、光量検
出部材を光検出手段又は光量検出手段とすることによ
り、光量減衰部材を回転鏡の回転タイミングの検出、又
は、光源の光量の検出に用いることができる。

【００４５】請求項４に記載した発明によれば、光源の
光の非走査面における反射光を、所定の露光範囲を含む
平面外に配光することにより、走査面における反射光以
外の光が所定の露光範囲に配光されることを確実に防止
することができ、所定の露光範囲の露光状態をより適正
にすることができる。

【００４６】請求項５に記載した発明によれば、回転鏡
に対する光源の光の照射方向を基準として、一方に非走
査面における反射光の配光方向を配置し、他方に指定の
露光範囲及び回転鏡の回転軸を配置したことにより、光
源の光の非走査面における反射光が所定の露光範囲に配
光されることを確実に防止することができ、所定の露光
範囲の露光状態をより適正にすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施形態に係る走査光学装置の構成
を示す図である。

【図２】上記走査光学装置に用いられる回転鏡の形状を
示す平面図である。

【図３】上記回転鏡の走査面及び非走査面におけるレー
ザ光の反射方向、回転鏡の回転軸、並びに、レーザ光の
照射方向との相対的な位置関係を示す図である。

【図４】この発明の別の実施形態に係る走査光学装置の
構成を示す図である。

【図５】同走査光学装置の駆動制御部における処理手順
を示すフローチャートである。

【図６】この発明のさらに別の実施形態に係る走査光学
装置に用いられる回転鏡の要部の形状を示す図である。

【符号の説明】

１−回転鏡 １ａ−走査面 １ｂ−非走査面 ２−半導体レーザ ３−ビームディテクタ ４ａ〜４ｃ−ｆθレンズ ５−感光体ドラム ６−光量検出センサ １０，１１−走査光学装置

フロントページの続き (72)発明者 岡田 知彦 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 Ｆターム(参考） 2C362 AA53 BA05 BA83 BA89 BB30 DA28 2H045 AA05 CB42 CB63 5C072 AA03 BA02 HA02 HA09 HA13 HB04 HB08 JA07

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光源から照射された光の反射光により所定
   の露光範囲を偏向して走査する走査面を有する回転鏡を
   備えた走査光学装置において、 前記回転鏡が、複数の走査面のそれぞれの間に光源から
   照射された光を所定の露光範囲外の１方向に反射する非
   走査面を設けたことを特徴とする走査光学装置。
2. 【請求項２】前記非走査面が、回転鏡の回転軸を中心と
   する部分円弧によって構成された請求項１に記載の走査
   光学装置。
3. 【請求項３】前記非走査面における反射光路上に光検出
   手段又は光量検出手段を含む光量減衰部材を設けた請求
   項１又は２に記載の走査光学装置。
4. 【請求項４】前記非走査面における光源の光の反射方向
   が、回転鏡の回転軸方向において所定の露光範囲外に位
   置する請求項１、２又は３に記載の走査光学装置。
5. 【請求項５】前記非走査面における光源の光の反射方向
   が、回転鏡の回転平面において光源の光の照射方向を挟
   んで所定の露光範囲及び回転鏡の回転軸の反対側に位置
   する請求項１乃至４のいずれかに記載の走査光学装置。