JP2000007610A - ラセミカルボン酸の製造法 - Google Patents
ラセミカルボン酸の製造法Info
- Publication number
- JP2000007610A JP2000007610A JP17137698A JP17137698A JP2000007610A JP 2000007610 A JP2000007610 A JP 2000007610A JP 17137698 A JP17137698 A JP 17137698A JP 17137698 A JP17137698 A JP 17137698A JP 2000007610 A JP2000007610 A JP 2000007610A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carboxylic acid
- optically active
- base
- chloride
- active carboxylic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】簡便な操作で光学活性カルボン酸からラセミカ
ルボン酸の製造法を提供する。 【解決手段】光学活性カルボン酸に少量のスルホニルク
ロリド或いはカルボニルクロリド、及び塩基を混合・加
熱することにより、ラセミカルボン酸を製造する。
ルボン酸の製造法を提供する。 【解決手段】光学活性カルボン酸に少量のスルホニルク
ロリド或いはカルボニルクロリド、及び塩基を混合・加
熱することにより、ラセミカルボン酸を製造する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学活性カルボン
酸からラセミカルボン酸を製造する方法である。
酸からラセミカルボン酸を製造する方法である。
【０００２】特に、医薬や農薬原料として工業的に有用
な光学活性カルボン酸を製造する方法として光学分割法
が知られているが、目的の光学活性カルボン酸を製造し
た残りの光学異性体であるもう一方の光学活性カルボン
酸をリサイクル使用する為に、光学活性カルボン酸から
ラセミカルボン酸を製造する方法である。
な光学活性カルボン酸を製造する方法として光学分割法
が知られているが、目的の光学活性カルボン酸を製造し
た残りの光学異性体であるもう一方の光学活性カルボン
酸をリサイクル使用する為に、光学活性カルボン酸から
ラセミカルボン酸を製造する方法である。
【０００３】
【従来の技術】光学活性カルボン酸からラセミカルボン
酸を製造する方法として、水酸化ナトリウム等の強塩基
共存下で加熱する方法（特公昭５５−４９０５９号公
報）や、エステル化してからアルカリ金属アルコラート
と溶媒の存在下で反応させる方法（特公昭３９−１５９
７７号公報）が知られている。
酸を製造する方法として、水酸化ナトリウム等の強塩基
共存下で加熱する方法（特公昭５５−４９０５９号公
報）や、エステル化してからアルカリ金属アルコラート
と溶媒の存在下で反応させる方法（特公昭３９−１５９
７７号公報）が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前者は
高温や長時間の反応が必要なため、熱に不安定なカルボ
ン酸の場合には回収率が悪く、適用できない。後者は多
くの反応工程を要すること、またエステル中にカルボン
酸が残ると、アルカリ金属アルコラートを分解する為に
ラセミ化が進行しないので、エステル化を１００％にす
るか、或いはアルカリ金属使用量を多くする必要があ
る。更に、カルボン酸が残留していると、このカルボン
酸はラセミ化されないのでラセミ化率が低くなる等、工
業的に実施するには種々の問題がある。即ち、本発明は
簡便な操作で光学活性カルボン酸からラセミカルボン酸
を製造する方法を提供する事にある。
高温や長時間の反応が必要なため、熱に不安定なカルボ
ン酸の場合には回収率が悪く、適用できない。後者は多
くの反応工程を要すること、またエステル中にカルボン
酸が残ると、アルカリ金属アルコラートを分解する為に
ラセミ化が進行しないので、エステル化を１００％にす
るか、或いはアルカリ金属使用量を多くする必要があ
る。更に、カルボン酸が残留していると、このカルボン
酸はラセミ化されないのでラセミ化率が低くなる等、工
業的に実施するには種々の問題がある。即ち、本発明は
簡便な操作で光学活性カルボン酸からラセミカルボン酸
を製造する方法を提供する事にある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは光学活性カ
ルボン酸からラセミカルボン酸を製造する方法について
鋭意検討した結果、本発明に到達した。即ち、光学活性
カルボン酸と一般式（１）
ルボン酸からラセミカルボン酸を製造する方法について
鋭意検討した結果、本発明に到達した。即ち、光学活性
カルボン酸と一般式（１）
【化４】 （ここで、Ｒ1は無置換、或いは炭素数１から１２のア
ルキル基、炭素数１から５のアルコキシル基、ハロゲン
で置換された炭素数１から１２のアルキル基、炭素鎖が
１から６のアラルキル基、フェニル基を示す。）で表さ
れるスルホニルクロリド、または一般式（２）
ルキル基、炭素数１から５のアルコキシル基、ハロゲン
で置換された炭素数１から１２のアルキル基、炭素鎖が
１から６のアラルキル基、フェニル基を示す。）で表さ
れるスルホニルクロリド、または一般式（２）
【化５】 （ここで、Ｒ1は無置換、或いは炭素数１から１２のア
ルキル基、炭素数１から５のアルコキシル基、ハロゲン
で置換された炭素数１から１２のアルキル基、炭素鎖が
１から６のアラルキル基、フェニル基を示す。）で表さ
れるカルボニルクロリドを混合し、塩基の存在下で加熱
することにより達成できることを見出し、本発明を完成
させた。
ルキル基、炭素数１から５のアルコキシル基、ハロゲン
で置換された炭素数１から１２のアルキル基、炭素鎖が
１から６のアラルキル基、フェニル基を示す。）で表さ
れるカルボニルクロリドを混合し、塩基の存在下で加熱
することにより達成できることを見出し、本発明を完成
させた。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明でのラセミカルボン酸と
は、原料に使用した光学活性カルボン酸より光学純度が
低いものを意味する。本発明の原料として使用する光学
活性カルボン酸は、不斉炭素に水素とカルボキシル基が
結合している光学活性カルボン酸であれば何れでも使用
できる。例えば２ーメチル酪酸や２ーメチルシクロヘキ
サンカルボン酸、２ーメチル−４−クロロヘキサンカル
ボン酸酸等のアルキルカルボン酸、テトラヒドロフラン
ー２ーカルボン酸、テトラヒドロピラン−２−カルボン
酸等の複素環式カルボン酸、２ーフェニルヘキサン酸、
２−（４ークロロフェニル）プロピオン酸、２ーフェニ
ルプロピオン酸、２−（４ーメチルフェニル）プロピオ
ン酸等のアラルキルカルボン酸が使用できる。但し、ス
ルホニルクロリドやカルボニルクロリドと反応する置換
基、例えばアミノ基等を持つ場合には、予め置換基を化
学修飾して反応性をなくせば使用することが出来る。例
えば２−（４ーアミノフェニル）プロピオン酸は予め無
水酢酸と反応させて２ー（４ーアセチルアミノフェニ
ル）プロピオン酸に変換すれば、前記ラセミ化原料とし
て使用することが出来る。
は、原料に使用した光学活性カルボン酸より光学純度が
低いものを意味する。本発明の原料として使用する光学
活性カルボン酸は、不斉炭素に水素とカルボキシル基が
結合している光学活性カルボン酸であれば何れでも使用
できる。例えば２ーメチル酪酸や２ーメチルシクロヘキ
サンカルボン酸、２ーメチル−４−クロロヘキサンカル
ボン酸酸等のアルキルカルボン酸、テトラヒドロフラン
ー２ーカルボン酸、テトラヒドロピラン−２−カルボン
酸等の複素環式カルボン酸、２ーフェニルヘキサン酸、
２−（４ークロロフェニル）プロピオン酸、２ーフェニ
ルプロピオン酸、２−（４ーメチルフェニル）プロピオ
ン酸等のアラルキルカルボン酸が使用できる。但し、ス
ルホニルクロリドやカルボニルクロリドと反応する置換
基、例えばアミノ基等を持つ場合には、予め置換基を化
学修飾して反応性をなくせば使用することが出来る。例
えば２−（４ーアミノフェニル）プロピオン酸は予め無
水酢酸と反応させて２ー（４ーアセチルアミノフェニ
ル）プロピオン酸に変換すれば、前記ラセミ化原料とし
て使用することが出来る。
【０００７】もう一方の原料である一般式（１）のスル
ホニルクロリドは、例えばメタンスルホニルクロリド等
のアルキルスルホニルクロリド、ベンジルスルホニルク
ロリド等のアラルキルスルホニルクロリド、或いはベン
ゼンスルホニルクロリドやパラトルエンスルホニルクロ
リド等のアリルスルホニルクロリド等が使用できる。
ホニルクロリドは、例えばメタンスルホニルクロリド等
のアルキルスルホニルクロリド、ベンジルスルホニルク
ロリド等のアラルキルスルホニルクロリド、或いはベン
ゼンスルホニルクロリドやパラトルエンスルホニルクロ
リド等のアリルスルホニルクロリド等が使用できる。
【０００８】また、一般式（２）のカルボニルクロリド
は、例えばアセチルクロリド、クロロプロピオニルクロ
リド等のアルキルカルボニルクロリド類、ベンジルカル
ボニルクロリド、メトキシベンジルクロリド等のアラル
キルカルボニルクロリド類、ベンゾイルクロリド、クロ
ロベンゾイルクロリド等のアリルカルボニルクロリド類
が使用できる。
は、例えばアセチルクロリド、クロロプロピオニルクロ
リド等のアルキルカルボニルクロリド類、ベンジルカル
ボニルクロリド、メトキシベンジルクロリド等のアラル
キルカルボニルクロリド類、ベンゾイルクロリド、クロ
ロベンゾイルクロリド等のアリルカルボニルクロリド類
が使用できる。
【０００９】使用量は光学活性カルボン酸に対して０．
０１〜１．２当量が好ましく、さらに好ましくは０．０
５〜０．４当量である。この範囲であれば、ラセミ化率
や薬品コストの面から好ましい結果となる。
０１〜１．２当量が好ましく、さらに好ましくは０．０
５〜０．４当量である。この範囲であれば、ラセミ化率
や薬品コストの面から好ましい結果となる。
【００１０】ここで、共存させる塩基は、光学活性カル
ボン酸と反応しない塩基、光学活性カルボン酸と水を副
生して光学活性カルボン酸の中和塩を生成しない塩基が
好ましい。例えば、トリエチルアミン等のアルキル３級
アミンやジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）等のスル
ホニルクロリドやカルボニルクロリドと反応しない脂環
式アミンが使用できる。また、スルホン酸、或いはカル
ボン酸のアルカリ金属、或いはアルカリ土類金属塩が使
用できる。例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、プ
ロピオン酸カルシウム、安息香酸ナトリウム等が使用で
きる。延期の使用量は添加するスルホニルクロリドやカ
ルボニルクロリドに対して２当量以上が好ましく、さら
に好ましくは３．０〜５．０当量である。この範囲であ
れば、適度な反応時間でラセミ化を遂行する事ができ、
更に薬品コストや後処理も効果的に実施できる。
ボン酸と反応しない塩基、光学活性カルボン酸と水を副
生して光学活性カルボン酸の中和塩を生成しない塩基が
好ましい。例えば、トリエチルアミン等のアルキル３級
アミンやジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）等のスル
ホニルクロリドやカルボニルクロリドと反応しない脂環
式アミンが使用できる。また、スルホン酸、或いはカル
ボン酸のアルカリ金属、或いはアルカリ土類金属塩が使
用できる。例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、プ
ロピオン酸カルシウム、安息香酸ナトリウム等が使用で
きる。延期の使用量は添加するスルホニルクロリドやカ
ルボニルクロリドに対して２当量以上が好ましく、さら
に好ましくは３．０〜５．０当量である。この範囲であ
れば、適度な反応時間でラセミ化を遂行する事ができ、
更に薬品コストや後処理も効果的に実施できる。
【００１１】反応形態は、光学活性カルボン酸とスルホ
ニルクロリド或いはカルボニルクロリド、及び塩基を一
挙に加えてから加熱しても良いし、光学活性カルボン酸
とスルホニルクロリド、或いはカルボニルクロリドを予
め混合・加熱処理した後に、塩基を添加して反応させて
もよい。ここで、光学活性カルボン酸やスルホニルクロ
リド、或いはカルボニルクロリドと反応しない有機溶媒
を共存させることもできる。光学活性カルボン酸の種類
にもよるが、例えばトルエン等の芳香族炭化水素、シク
ロヘキサン等の脂肪族炭化水素、アセトン等のケトン、
アセトニトリル等のニトリル、クロロベンゼン等の芳香
族ハロゲン化物、ジクロロメタン等の脂肪族ハロゲン化
物等が使用できる。
ニルクロリド或いはカルボニルクロリド、及び塩基を一
挙に加えてから加熱しても良いし、光学活性カルボン酸
とスルホニルクロリド、或いはカルボニルクロリドを予
め混合・加熱処理した後に、塩基を添加して反応させて
もよい。ここで、光学活性カルボン酸やスルホニルクロ
リド、或いはカルボニルクロリドと反応しない有機溶媒
を共存させることもできる。光学活性カルボン酸の種類
にもよるが、例えばトルエン等の芳香族炭化水素、シク
ロヘキサン等の脂肪族炭化水素、アセトン等のケトン、
アセトニトリル等のニトリル、クロロベンゼン等の芳香
族ハロゲン化物、ジクロロメタン等の脂肪族ハロゲン化
物等が使用できる。
【００１２】反応温度は光学活性カルボン酸やスルホニ
ルクロリド、或いはカルボニルクロリドの種類、スルホ
ニルクロリド、或いはカルボニルクロリドや塩基の添加
量、更に共存させる溶媒の種類にもよるが、通常は室温
〜２００℃、好ましくは５０〜１５０℃である。
ルクロリド、或いはカルボニルクロリドの種類、スルホ
ニルクロリド、或いはカルボニルクロリドや塩基の添加
量、更に共存させる溶媒の種類にもよるが、通常は室温
〜２００℃、好ましくは５０〜１５０℃である。
【００１３】反応時間は実質的に光学活性カルボン酸が
ラセミカルボン酸に変換される時間でよいが、通常は１
〜２０時間になるようスルホニルクロリド、或いはカル
ボニルクロリドや塩基の種類、添加量等で調整する。ま
た、反応は加圧、常圧、減圧の何れでも実施可能であ
る。反応終了後、そのまま単離するか、場合によっては
水を加えて加水分解してから単離する。水を添加する場
合、添加量は使用したスルホニルクロリド、或いはカル
ボニルクロリドの当量以上あればよい。水の添加は反応
終了後に引き続いて行っても良いし、冷却してから添加
しても良いが、好ましくは４０〜８０℃である。加水分
解時間は光学活性カルボン酸やスルホニルクロリド、或
いはカルボニルクロリド、塩基、溶媒の種類や添加量、
加水分解温度にもよるが、通常は０．１〜３時間であ
る。
ラセミカルボン酸に変換される時間でよいが、通常は１
〜２０時間になるようスルホニルクロリド、或いはカル
ボニルクロリドや塩基の種類、添加量等で調整する。ま
た、反応は加圧、常圧、減圧の何れでも実施可能であ
る。反応終了後、そのまま単離するか、場合によっては
水を加えて加水分解してから単離する。水を添加する場
合、添加量は使用したスルホニルクロリド、或いはカル
ボニルクロリドの当量以上あればよい。水の添加は反応
終了後に引き続いて行っても良いし、冷却してから添加
しても良いが、好ましくは４０〜８０℃である。加水分
解時間は光学活性カルボン酸やスルホニルクロリド、或
いはカルボニルクロリド、塩基、溶媒の種類や添加量、
加水分解温度にもよるが、通常は０．１〜３時間であ
る。
【００１４】反応液からラセミカルボン酸を単離するの
は、通常の方法が採用できる。例えば、反応溶液に硫酸
等の酸を添加してラセミカルボン酸を遊離状態にしてか
ら、抽出、或いは晶析でラセミカルボン酸を回収する事
ができる。ここで、添加する酸は硫酸や塩酸等の無機
酸、蟻酸や酢酸等の有機酸が使用できる。添加量は、ラ
セミ化反応で使用した塩基が中和されるに十分な量あれ
ば良い。また、加水分解時に酸と水を同時に添加しても
良い。
は、通常の方法が採用できる。例えば、反応溶液に硫酸
等の酸を添加してラセミカルボン酸を遊離状態にしてか
ら、抽出、或いは晶析でラセミカルボン酸を回収する事
ができる。ここで、添加する酸は硫酸や塩酸等の無機
酸、蟻酸や酢酸等の有機酸が使用できる。添加量は、ラ
セミ化反応で使用した塩基が中和されるに十分な量あれ
ば良い。また、加水分解時に酸と水を同時に添加しても
良い。
【００１５】本発明のラセミカルボン酸の製造法は、ジ
アステレオマー塩分割等の光学分割法による光学活性体
製造法に組み入れることで、より効果的に使用できる。
例えば、ラセミカルボン酸と分割剤を使用してジアステ
レオマー塩分割することで目的の光学活性カルボン酸が
得られる。ここで、経済効率を高めるには回収した光学
異性体を再度原料のラセミカルボン酸としてリサイクル
使用することが必要となるが、本発明はここで回収した
光学異性体を原料のラセミカルボン酸にリサイクルする
方法として効果的に使用することができる
アステレオマー塩分割等の光学分割法による光学活性体
製造法に組み入れることで、より効果的に使用できる。
例えば、ラセミカルボン酸と分割剤を使用してジアステ
レオマー塩分割することで目的の光学活性カルボン酸が
得られる。ここで、経済効率を高めるには回収した光学
異性体を再度原料のラセミカルボン酸としてリサイクル
使用することが必要となるが、本発明はここで回収した
光学異性体を原料のラセミカルボン酸にリサイクルする
方法として効果的に使用することができる
【００１６】
【実施例】以下、詳細は実施例で説明するが、本発明は
これらの実施例に限定されるものではない。尚、ラセミ
化率はＨＰＬＣによる光学純度分析法で求めた。
これらの実施例に限定されるものではない。尚、ラセミ
化率はＨＰＬＣによる光学純度分析法で求めた。
【００１７】
【数１】 また、実施例で使用した光学活性カルボン酸は、市販の
ラセミカルボン酸を光学分割して得たものを使用した。
その他の試薬は、市販の試薬１級グレード品を使用し
た。
ラセミカルボン酸を光学分割して得たものを使用した。
その他の試薬は、市販の試薬１級グレード品を使用し
た。
【００１８】実施例１ 温度計、ジムロートコンデンサー、攪拌器を装着した５
０mlのフラスコに（Ｒ）−テトラヒドロフランー２ーカ
ルボン酸(99.2%ee)１１．６ｇ（０．１モル）、ベンゼ
ンスルホニルクロリド１．８ｇ（１０ミリモル）、及び
トリエチルアミン３．０ｇ（３０ミリモル）を混合し、
１００℃にて１０時間加熱攪拌した。次いで、５規定塩
酸１１ｍｌを添加し、更に３０分間加熱攪拌した。室温
まで冷却してからクロロホルム１００ｍｌで３回抽出し
てテトラヒドロフランー２ーカルボン酸１０．８ｇ得
た。回収率９３％、ラセミ化率９９．５％ 実施例２ 実施例１と同様にして、添加するトリエチルアミンの量
を５．１ｇ（５０ミリモル）に増加してから１００℃で
加熱すると、約２時間でラセミ化率は９９．５％となっ
た。
０mlのフラスコに（Ｒ）−テトラヒドロフランー２ーカ
ルボン酸(99.2%ee)１１．６ｇ（０．１モル）、ベンゼ
ンスルホニルクロリド１．８ｇ（１０ミリモル）、及び
トリエチルアミン３．０ｇ（３０ミリモル）を混合し、
１００℃にて１０時間加熱攪拌した。次いで、５規定塩
酸１１ｍｌを添加し、更に３０分間加熱攪拌した。室温
まで冷却してからクロロホルム１００ｍｌで３回抽出し
てテトラヒドロフランー２ーカルボン酸１０．８ｇ得
た。回収率９３％、ラセミ化率９９．５％ 実施例２ 実施例１と同様にして、添加するトリエチルアミンの量
を５．１ｇ（５０ミリモル）に増加してから１００℃で
加熱すると、約２時間でラセミ化率は９９．５％となっ
た。
【００１９】実施例３ 実施例１と同様に仕込み、更にメチルエチルケトン１０
ｇを溶媒として添加してから１０時間加熱還流した結
果、ラセミ化率は９８．９％であった。
ｇを溶媒として添加してから１０時間加熱還流した結
果、ラセミ化率は９８．９％であった。
【００２０】実施例４ 実施例１と同様の装置に、２ー（４−メチルフェニル）
プロピオン酸（60%ee）１６．４ｇ（０．１モル）、ト
ルエンスルホニルクロリド３．８ｇ（２０ミリモル）、
ＤＢＵ４．５ｇ（３０ミリモル）を仕込み、１２０℃に
て５時間反応させた。ラセミ化率は９９．８％であっ
た。
プロピオン酸（60%ee）１６．４ｇ（０．１モル）、ト
ルエンスルホニルクロリド３．８ｇ（２０ミリモル）、
ＤＢＵ４．５ｇ（３０ミリモル）を仕込み、１２０℃に
て５時間反応させた。ラセミ化率は９９．８％であっ
た。
【００２１】実施例５ 温度計、ジムロートコンデンサー、攪拌器を装着した５
０mlのフラスコに（Ｒ）−テトラヒドロフランー２ーカ
ルボン酸(60.2%ee)１１．６ｇ（０．１モル）、ベンゾ
イルクロリド１．４ｇ（１０ミリモル）、及びトリエチ
ルアミン３．０ｇ（３０ミリモル）を混合し、１００℃
にて１０時間加熱攪拌した。次いで、５規定塩酸７ｍｌ
を添加し、更に３０分間加熱攪拌した。室温まで冷却し
てからクロロホルム１００ｍｌで３回抽出してテトラヒ
ドロフランー２ーカルボン酸１１．０ｇ得た。回収率９
５％、ラセミ化率９９．５％ 実施例６ 実施例５と同様にして、添加するトリエチルアミンを酢
酸ナトリウム４．１ｇ（５０ミリモル）に換え、１５０
℃で加熱すると、約２時間でラセミ化率は９９．５％と
なった。
０mlのフラスコに（Ｒ）−テトラヒドロフランー２ーカ
ルボン酸(60.2%ee)１１．６ｇ（０．１モル）、ベンゾ
イルクロリド１．４ｇ（１０ミリモル）、及びトリエチ
ルアミン３．０ｇ（３０ミリモル）を混合し、１００℃
にて１０時間加熱攪拌した。次いで、５規定塩酸７ｍｌ
を添加し、更に３０分間加熱攪拌した。室温まで冷却し
てからクロロホルム１００ｍｌで３回抽出してテトラヒ
ドロフランー２ーカルボン酸１１．０ｇ得た。回収率９
５％、ラセミ化率９９．５％ 実施例６ 実施例５と同様にして、添加するトリエチルアミンを酢
酸ナトリウム４．１ｇ（５０ミリモル）に換え、１５０
℃で加熱すると、約２時間でラセミ化率は９９．５％と
なった。
【００２２】実施例７ 実施例５と同様にして、ベンゾイルクロリドを酢酸クロ
リド０．９ｇ（１０ミリモル）に換え、１５０℃で加熱
すると、約２時間でラセミ化率は９９．５％となった。
リド０．９ｇ（１０ミリモル）に換え、１５０℃で加熱
すると、約２時間でラセミ化率は９９．５％となった。
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、少量の試薬、簡単な操
作で、光学活性カルボン酸から容易にラセミカルボン酸
を製造することができる。
作で、光学活性カルボン酸から容易にラセミカルボン酸
を製造することができる。
Claims (7)
- 【請求項１】カルボキシル基が不斉炭素と結合している
光学活性カルボン酸と、一般式（１） 【化１】 （ここで、Ｒ1は無置換、或いは炭素数１から１２のア
ルキル基、炭素数１から５のアルコキシル基、ハロゲン
で置換された炭素数１から１２のアルキル基、炭素鎖が
１から６のアラルキル基、フェニル基を示す。）で表さ
れるスルホニルクロリド、または一般式（２） 【化２】 （ここで、Ｒ1は無置換、或いは炭素数１から１２のア
ルキル基、炭素数１から５のアルコキシル基、ハロゲン
で置換された炭素数１から１２のアルキル基、炭素鎖が
１から６のアラルキル基、フェニル基を示す。）で表さ
れるカルボニルクロリドを混合し、塩基の存在下で加熱
することを特徴とするラセミカルボン酸の製造法。 - 【請求項２】塩基が、光学活性カルボン酸と反応しない
塩基であることを特徴とする請求項１記載のラセミカル
ボン酸の製造法。 - 【請求項３】塩基が、光学活性カルボン酸と水を副生し
て光学活性カルボン酸の中和塩を生成しない塩基である
ことを特徴とする請求項１記載のラセミカルボン酸の製
造法。 - 【請求項４】塩基が３級アミンであることを特徴とする
請求項１記載のラセミカルボン酸の製造法。 - 【請求項５】光学活性カルボン酸が、一般式（３） 【化３】 （ここで、Ｒ2、Ｒ3は無置換、或いはアルキル基、アル
コキシル基、ハロゲンで置換されたアルキル基、アラル
キル基、フェニル基で、同一ではない。また、Ｒ2、Ｒ3
は結合して環状化合物や、複素環状化合物を形成しても
良いが、対称ではない。）で示される光学活性カルボン
酸であることを特徴とする請求項１から４のいずれか記
載のラセミカルボン酸の製造法。 - 【請求項６】一般式（１）で示されるスルホニルクロリ
ドまたは一般式（２）のカルボニルクロリドの使用量が
光学活性カルボン酸に対して０．０１当量〜０．９当量
であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか記載の
ラセミカルボン酸の製造法。 - 【請求項７】一般式（１）で示されるスルホニルクロリ
ドまたは一般式（２）のカルボニルクロリドの使用量が
光学活性カルボン酸に対して０．０１当量〜０．４当量
であることを特徴とする請求項６記載のラセミカルボン
酸の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17137698A JP2000007610A (ja) | 1998-06-18 | 1998-06-18 | ラセミカルボン酸の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17137698A JP2000007610A (ja) | 1998-06-18 | 1998-06-18 | ラセミカルボン酸の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000007610A true JP2000007610A (ja) | 2000-01-11 |
Family
ID=15922040
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17137698A Pending JP2000007610A (ja) | 1998-06-18 | 1998-06-18 | ラセミカルボン酸の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000007610A (ja) |
-
1998
- 1998-06-18 JP JP17137698A patent/JP2000007610A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR20050042461A (ko) | 디옥산아세트산 에스테르의 제조 방법 | |
| US20140039219A1 (en) | Method of Making 6-Aminocaproic Acid As Active Pharmaceutical Ingredient | |
| EP0640589A1 (en) | Process for manufacturing compounds containing two or more vinyl sulfone groups | |
| JP2000007610A (ja) | ラセミカルボン酸の製造法 | |
| JP2000016962A (ja) | ラセミカルボン酸の製造法 | |
| JP2001233854A (ja) | Ｎ−ヒドロキシ環状イミドの製造方法 | |
| US20230027871A1 (en) | Method for preparing lifitegrast | |
| JP3333184B2 (ja) | 光学活性を有する（ｓ）−３，４−エポキシ酪酸塩の製造方法 | |
| JPH10330313A (ja) | 安息香酸誘導体の製造方法 | |
| KR101881918B1 (ko) | 아실설폰아마이드 유도체의 새로운 제조방법 | |
| JP4475862B2 (ja) | ヒドロキシラクトンの製造方法 | |
| JP2517836B2 (ja) | ４−クロロイミダゾ―ル−５−カルバルデヒド誘導体の製造法 | |
| JP3669398B2 (ja) | 還元試薬 | |
| KR100348100B1 (ko) | 2-[(2,6-디클로로페닐)아미노]페닐아세톡시아세트산의제조방법 | |
| JP3282338B2 (ja) | ヘリオトロピンの製法 | |
| JPH10218868A (ja) | ５ーメチルテトラゾールの製造方法 | |
| EP0976733A1 (en) | Process for producing 1-chlorocarbonyl-4-piperidinopiperidine or hydrochloride thereof | |
| JPH1192435A (ja) | ベンゼン誘導体およびその製造方法 | |
| JP2014031372A (ja) | 高純度ミチグリニドを調製するための効率的な方法 | |
| JPH09110784A (ja) | フタル酸誘導体の製造方法 | |
| JP2021004232A (ja) | エステル化合物の製造方法 | |
| JP2001089431A (ja) | タートラニル酸類の製造法 | |
| JPH11292865A (ja) | 医薬品の中間体の製造方法 | |
| JPH0977724A (ja) | アミノ酸ターシャリーブチルエステルおよびその塩酸塩の製造法 | |
| CN106278968A (zh) | 一种合成硫代氨基酸衍生物的方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20060901 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20060912 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061113 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070109 |