FI88901C - Fuktvattenkomposition och dess användning i offset-litografiskt tryckf örfarande - Google Patents
Fuktvattenkomposition och dess användning i offset-litografiskt tryckf örfarande Download PDFInfo
- Publication number
- FI88901C FI88901C FI872905A FI872905A FI88901C FI 88901 C FI88901 C FI 88901C FI 872905 A FI872905 A FI 872905A FI 872905 A FI872905 A FI 872905A FI 88901 C FI88901 C FI 88901C
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- water
- hydrotrope
- wetting
- composition according
- surfactant
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/08—Damping; Neutralising or similar differentiation treatments for lithographic printing formes; Gumming or finishing solutions, fountain solutions, correction or deletion fluids, or on-press development
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Table Devices Or Equipment (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Pens And Brushes (AREA)
Claims (15)
1. Fuktvattenkomposition innehällande vatten, ytak-tivt ämne och en hydrotrop, kännetecknad där-av, att hydrotropen är ett sait av en härd syra och en 5 mjuk bas eller en mjuk syra och en härd bas och hydrotropen har valts bland följande: natriumtoluensulfonat, natri-umxylensulfonat, natriumkumensulfonat, ammoniumxylensulfo-nat, tetrabutylammoniumvätesulfat, tetrafenylfosfoniumbro-mid, tetrabutylammoniumbromid, cetyltrimetylammoniumbro- 10 mid, natriumtiocyanat och blandningar av dessa, och den är närvarande i en mängd som är tillräcklig för att förhöja det ytaktlva ämnets löslighet i fuktvattenkompositionen.
2. Komposition enligt patentkrav, 1 kännetecknad därv, att förhällandet hydrotrop:ytaktivt 15 ämne ligger inom intervallet 1:1 - 10:1 viktmässigt, för-delaktigt 4:1 - 6:1 viktmäsigt.
3. Komposition enligt patentkrav 1 eller 2, kännetecknad därv, att addition av hydrotropen min-skar den dynamiska ytspänningen mätt med en ytälder pä 200 20 millisekunder hos den erhällna fuktvattnet, med ätminstone 5 mN/m (5 dyn/cm) dynamisk ytspänning tili mindre än 40 mN/m (40 dyn/cm) och fördelaktigt med med minst 10 mN/m (10 dyn/cm) tili 28 - 35 mN/m (28 - 35 dyn/cm) dynamisk ytspänning.
4. Komposition enligt nägot av de föregäende pa- tentkraven kännetecknad därv, att hydrotropen ej förhöjer HLB-värdet hos fuktvattnet.
5. Komposition enligt nägot av de föregäende pa-tentkraven kännetecknad därav, att hydrotrop- 30 en är en elektrolyt innehällande en oorganisk och en orga-nisk jon.
6. Komposition enligt nägot av de föregäende pa-tentkraven kännetecknad därav, att det ytak-tiva ämnet väljs bland blockpolymerer, alkylfosfat, etoxy- 35 lerade alkoholer, fettsyror, aminer, amider, fettestrar. ie 8 6 9 C'! alkanolamider, glykolestrar, sorbltanfettsyraestrar, etox-ylerade alkylfenoler, etoxylerade acetylenglykoler och blandningar av dessa.
7. Komposition enligt nägot av patentkraven 1-5, 5 kännetecknad därav, att det ytaktiva ämnet är ett nonjoniskt ytaktivt ämne som väljs bland blockpolyme-rer, etoxylerade acetyleniska karbinoler, 3,5-dimetyl-l-hexyn-3-ol och 2,4,7,9-tetrametyl-5-dekyn-4,7-diol.
8. Komposition enligt nägot av de föregäende pa- 10 tentkraven kännetecknad därav, att den dess- utom innehäller ett alkoholersättande medel som företrä-desvis valts bland n-hexoxietanol, etylenglykol, 2-etyl-1,3-hexandiol och blandningar av dessa.
9. Komposition enligt nägot av de föregäende pa- 15 tentkraven kännetecknad därav, att den dess- utom innehäller mindre än 5 % alkohol.
10. Komposition enligt nägot av de föregäende patentkraven kännetecknad därav, att den innehäller ett eller flera tillsatsämnen vilka är valda bland 20 skyddande kolloider (företrädesvis gununi arabicum eller cellulosagummi), en syra och en biocid.
11. Användning av en hydrotrop i ett vattenhaltigt fuktvatten innehällande ytaktivt ämne, för sänkning av den dynamiska ytspänningen, kännetecknad därav, 25 att tili fuktvattnet tillsättes en hydrotrop i en mängd som är effektiv nog att förhöja lösligheten hos det ytaktiva ämnet, och hydrotropen är ett sait av en härd syra och en mjuk bas eller en mjuk syra och en härd bas och hydrotropen har valts bland följande: natriumtoluensulfo-30 nat, natriumxylensulfonat, natriumkumensulfonat, ammonium-xylensulfonat, tetrabutylammoniumvätesulfat, tetrafenyl-fosfoniumbromid, tetrabutylammoniumbromid, cetyltrimetyl-ammoniumbromid, natriumtiocyanat och blandningar av dessa.
12. Användning av en hydrotrop enligt patentkrav 11 35 kännetecknad därav, att det erhällna fuktvatt- 19 88901 net utgörs av en komposition enligt nägot av patentkraven 1 - 10.
13. Offsetlitografiskt tryckförfarande varvid an-vändes planografiska plattor, vilka under processens gäng 5 behandlas med fuktvatten, kännetecknat därav, att fuktvattnet utgörs av ett fuktvatten enligt nägot av patentkraven 1 - 10.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US88112386A | 1986-07-02 | 1986-07-02 | |
| US88112386 | 1986-07-02 |
Publications (4)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FI872905A0 FI872905A0 (fi) | 1987-07-01 |
| FI872905A FI872905A (fi) | 1988-01-03 |
| FI88901B FI88901B (fi) | 1993-04-15 |
| FI88901C true FI88901C (sv) | 1993-07-26 |
Family
ID=25377830
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FI872905A FI88901C (sv) | 1986-07-02 | 1987-07-01 | Fuktvattenkomposition och dess användning i offset-litografiskt tryckf örfarande |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0251621B2 (sv) |
| JP (1) | JPS6325093A (sv) |
| AT (1) | ATE72637T1 (sv) |
| CA (1) | CA1305296C (sv) |
| DE (1) | DE3776730D1 (sv) |
| FI (1) | FI88901C (sv) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3830467A1 (de) * | 1988-09-08 | 1990-03-15 | Hoechst Ag | Feuchtmittel fuer den offsetdruck |
| JP2761596B2 (ja) * | 1989-09-05 | 1998-06-04 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷用湿し水組成物 |
| JP2808133B2 (ja) * | 1989-05-12 | 1998-10-08 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用版面保護剤 |
| JP2673585B2 (ja) * | 1989-08-01 | 1997-11-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷用濃縮湿し水 |
| JP2673586B2 (ja) * | 1989-08-02 | 1997-11-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用湿し水組成物，それに使用する濃縮液及びそれを使用する平版印刷方法 |
| EP0516372B1 (en) * | 1991-05-29 | 1996-04-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Concentrated dampening water composition for lithographic printing |
| DE4220550A1 (de) * | 1991-07-04 | 1993-01-14 | Hostmann Steinberg Gmbh | Feuchtmittelkonzentrat und feuchtmittel und deren verwendung beim offset-druckverfahren |
| CA2071442C (en) * | 1991-07-04 | 1994-09-06 | Fritz Laufs | Damping-solution concentrate and damping solution and use thereof in the offset printing process |
| US7097705B2 (en) * | 2000-09-11 | 2006-08-29 | Air Products And Chemicals, Inc. | Cationic-anionic blends for dynamic surface tension reduction |
| US6488754B2 (en) | 2000-11-29 | 2002-12-03 | Grain Processing Corporation | Lithographic dampening solution and method for dampening a lithographic plate |
| EP3086176A1 (en) * | 2005-02-28 | 2016-10-26 | Fujifilm Corporation | A lithographic printing method |
| JP5272385B2 (ja) * | 2007-11-27 | 2013-08-28 | Ｄｉｃ株式会社 | 平版印刷用湿し水濃縮組成物 |
| JP5288268B2 (ja) * | 2009-03-25 | 2013-09-11 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷用湿し水組成物及びヒートセットオフ輪印刷方法 |
| ES2689544T3 (es) * | 2011-09-23 | 2018-11-14 | Sun Chemical Corporation | Aditivos a las tintas de litografía para eliminar la realimentación de tinta |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3669660A (en) * | 1970-05-21 | 1972-06-13 | Polychrome Corp | Lithographic plate developing composition and process of use thereof |
| CH645996A5 (de) * | 1978-02-06 | 1984-10-31 | Napp Systems Inc | Loesung zur desensibilisierung und gegebenenfalls entwicklung photoempfindlicher diazo-druckplatten. |
| US4213887A (en) * | 1979-07-16 | 1980-07-22 | American Hoechst Corporation | Lithographic plate finisher |
| US4560410A (en) * | 1981-05-18 | 1985-12-24 | Union Carbide Corporation | Fountain solutions suitable for use in lithographic offset printing |
| JPS60147395A (ja) * | 1984-01-12 | 1985-08-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用版面洗浄剤 |
-
1987
- 1987-06-10 CA CA000539338A patent/CA1305296C/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-06-22 DE DE8787305517T patent/DE3776730D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-06-22 AT AT87305517T patent/ATE72637T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-06-22 EP EP87305517A patent/EP0251621B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-01 JP JP62165103A patent/JPS6325093A/ja active Pending
- 1987-07-01 FI FI872905A patent/FI88901C/sv not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ATE72637T1 (de) | 1992-03-15 |
| EP0251621A2 (en) | 1988-01-07 |
| FI872905A (fi) | 1988-01-03 |
| FI88901B (fi) | 1993-04-15 |
| JPS6325093A (ja) | 1988-02-02 |
| CA1305296C (en) | 1992-07-21 |
| EP0251621B1 (en) | 1992-02-19 |
| DE3776730D1 (de) | 1992-03-26 |
| EP0251621B2 (en) | 1996-04-03 |
| EP0251621A3 (en) | 1988-03-09 |
| FI872905A0 (fi) | 1987-07-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| FI88901C (sv) | Fuktvattenkomposition och dess användning i offset-litografiskt tryckf örfarande | |
| US4854969A (en) | Lithographic fountain solutions | |
| US20130280499A1 (en) | Fountain solution and fountain solution concentrates | |
| JPS634993A (ja) | 平版の噴水溶液 | |
| US8065958B2 (en) | Use of polymers comprising amino groups modified by acid groups for producing humidifying agents or humidifying agent concentrates, in addition to humidifying agent circuits for offset printing | |
| US5523194A (en) | Fount solutions for planographic printing processes | |
| DE60209172T2 (de) | Feuchtmittelzusammensetzung für Flachdruckplatte und Flachdruckverfahren | |
| DE19535364A1 (de) | Zusammensetzung für eine lithographische Druck-Anfeuchtungslösung | |
| EP0066176B1 (en) | Fountain solutions suitable for use in lithographic offset printing | |
| CN114889351B (zh) | 一种高性能润版液及其制备方法 | |
| JP2001071658A (ja) | 平版印刷版用湿し水組成物 | |
| JP5163841B2 (ja) | 平版印刷用濃縮湿し水組成物 | |
| CA2041516A1 (en) | Fountain solution for offset printing | |
| US4954173A (en) | Lipophobicating solution for electrophotographic plates for offset printing | |
| AU576748B2 (en) | Lithographic water based fountain solution concentrates | |
| US5308388A (en) | Fountain solution for offset printing | |
| JP2018134784A (ja) | 平版印刷用湿し水組成物およびそれを用いた平版印刷物の製造方法 | |
| US5336302A (en) | Non-alcohol fountain solutions | |
| US4563952A (en) | Lithographic water based fountain solution concentrates | |
| DE60027667T2 (de) | Feuchtwasserkonzentrat für Litho-Druck | |
| US7674327B2 (en) | Flexographic ink compositions | |
| JP2002192853A (ja) | 平版印刷版用湿し水組成物 | |
| JP2931664B2 (ja) | 平版印刷湿し水用添加剤及び湿し水 | |
| JP2003285571A (ja) | 平版印刷版用湿し水組成物 | |
| JPH02258390A (ja) | 平版印刷版用湿し水組成物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| BB | Publication of examined application | ||
| MM | Patent lapsed | ||
| MM | Patent lapsed |
Owner name: SUN CHEMICAL CORPORATION |