FI112862B - Menetelmä saostetun piihapon valmistamiseksi - Google Patents

Menetelmä saostetun piihapon valmistamiseksi Download PDF

Info

Publication number
FI112862B
FI112862B FI943648A FI943648A FI112862B FI 112862 B FI112862 B FI 112862B FI 943648 A FI943648 A FI 943648A FI 943648 A FI943648 A FI 943648A FI 112862 B FI112862 B FI 112862B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
precipitation
surface area
dispersion
precipitated silica
dried
Prior art date
Application number
FI943648A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI943648A (fi
FI943648A0 (fi
Inventor
Heinz Esch
Robert Kuhlmann
Ralf Rausch
Matthias Neumueller
Karin Otto
Original Assignee
Degussa
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE4423493A external-priority patent/DE4423493A1/de
Application filed by Degussa filed Critical Degussa
Publication of FI943648A0 publication Critical patent/FI943648A0/fi
Publication of FI943648A publication Critical patent/FI943648A/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI112862B publication Critical patent/FI112862B/fi

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/187—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
    • C01B33/193—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates of aqueous solutions of silicates
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/19—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing inorganic ingredients
    • A61K8/25—Silicon; Compounds thereof
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
    • A61Q11/00—Preparations for care of the teeth, of the oral cavity or of dentures; Dentifrices, e.g. toothpastes; Mouth rinses
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12—Surface area
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/22—Rheological behaviour as dispersion, e.g. viscosity, sedimentation stability

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Birds (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Cosmetics (AREA)

Description

, 112862
Menetelmä saostetun piihapon valmistamiseksi Tämä keksintö koskee menetelmää saostetun piihapon valmistamiseksi.
5 Synteettisesti valmistetut piihapot ovat jo kauan olleet tärkeä aineosa hampaiden hoitoaineissa. Tunnetaan joukko menetelmiä piihappojen valmistamiseksi, jotka on erityisesti suunniteltu käytettäviksi hammastahnoissa. Näihin menetelmiin liittyy menetelmäteknisiä varjopuolia, 10 jotka eivät ole taloudellisesti eivätkä ekologisestikaan tyydyttäviä.
Niinpä käytetään monissa menetelmissä suuria määriä elektrolyyttejä, jotka on lopuksi poistettava pesemällä lopputuotteilta vaadittavan puhtauden saavuttamiseksi. 15 Tämä merkitsee huomattavaa suolakuormitusta jätevedessä (DE-AS 2 446 038).
Muihin menetelmiin on lisäksi liitetty osavaiheita erityisten saostuspanosten valmistamiseksi tai niihin on sisällytetty lisäksi hydrotermisiä reaktiovaiheita, joihin 20 liittyy useita eristysvaiheita (EP-B 0 317 378).
Julkaisusta DE-B 1 467 019 tunnetaan menetelmä lu-jitussaostetun piihapon valmistamiseksi, jonka pinta-ala on yli 200 m2/g. Tämä saostettu piihappo ei kuitenkaan sovi käytettäväksi hammastahnoissa.
25 Tunnettujen menetelmien toisena varjopuolena on piihapon saostuksessa saavutettava pieni tilavuus/aika-saanto, joka johtuu pakollisesta keskeytysajasta (vanhen-' tamisvaiheesta) tai laimeiden reaktiokomponenttien käy
töstä. Tällä tavoin kiintoainepitoisuudet ovat saostuk-i : 30 sen päätyttyä yleensä vain noin 40 - 60 Si02/1 (EP-B
:0 317 378).
Nyt on yllättäen havaittu, että on mahdollista valmistaa seostettuja piihappoja yksivaiheisen täytemenetel-män avulla siten, että tilavuus/aikasaanto on samalla suu-35 ri ja elektrolyyttilisäys on tarpeeton.
2 112862
Keksinnön kohteena on menetelmä saostetun piihapon valmistamiseksi, jonka BET-pinta-ala on 10 - 130 m2/g, CTAB-pinta-ala 10 - 70 m2/g, keskimääräinen hiukkashalkaisi-ja 5 - 20 μπι, Cu-kuluminen 10-prosenttisessa glyserolidis-5 persiossa 4 - 50 mg ja sakeutumisarvo CMC-liuoksessa (20-prosenttinen dispersio) 300 - 3 500 mPa.s, tunnettu siitä, että veteen, jonka pH on säädetty arvoon 7,0 - 9,9 tai 10,0 - 10,7 vesilasilisäyksellä, lisätään samanaikaisesti alka-lisilikaattia (painomoduuli Si02:alkalioksidi = 2,5 - 10 3,9:1) ja mineraalihappoa, jolloin pH-arvo pidetään lisäyk sen aikana vakiona välillä 7,0 ja 9,9 tai 10,0 ja 10,7, jolloin saostuslämpötila on alussa 50 - 90 °C ja viskositeetti alkaa kasvaa viimeistään, kun saostusajasta on kulunut 2 5 %, ja pH säädetään arvoon alle tai yhtä kuin 6, 15 edullisesti arvoon 3,5, kun piihappopitoisuus on saavuttanut arvon yli 120 g/1 tai yli 150 g/1, edullisesti 160 -240 g/1, jolloin kiintoaine erotetaan suodattamalla, pestään, kuivataan ja jauhetaan.
Suodatuksessa voidaan käyttää kammiopuristimia, 20 nauhasuodattimia tai kalvosuodatuspuristimia.
Kuivauksessa voidaan käyttää kiertoilmakuivaimia, ,· Buttner-kuivaimia, virtauskuivaimia tai vastaavia kuivai- _ / mia.
: ; : Nesteytetty suodatuskakku voidaan kuivata suihku- 2 5 kuivaimessa.
Suodatuskakku voidaan nesteyttämättä kuivata jauha- maila.
Keksinnön mukaisen menetelmän etuna on, että kun .. , kiintoainepitoisuus saostussuspensiossa on suuri, suoda- 3 0 tuskakun vedenpidätyskyky on pieni ja siten kuivaukseen käytettävä energia on vähäinen, voidaan saostetun piihapon : : (ja siten hammastahnan valmistuksessa valmiin tahnan) hio- :·* vuutta säätää laajasti. Hiovuusaste voidaan tällöin säätää halutulla tavalla vaihtelemalla saostussuspension kiinto-;·; 35 ainepitoisuutta, jolloin muutokset saostuksen oheispara- 3 112862 metreissä, kuten lämpötilassa, pH-arvossa tai reaktanttien lisäysnopeudessa, mahdollistavat muita vaihteluja sakeutu-misarvossa, taitekertoimessa jne. Kiintoainepitoisuuden vaihteluista huolimatta nämä pitoisuudet ovat käsiteltävä-5 nä olevassa saostusmenetelmässä erittäin korkkealla tasolla (yli tai yhtä kun 120 g/1, edullisesti yli tai yhtä kuin 160 - 240 g/1).
Keksinnön mukaisen menetelmän avulla valmistettua seostettua piihappoa voidaan käyttää hankaus- tai sakeu-10 tuskomponenttina hammastahnaformulaateissa. Toisena käyt tömahdollisuutena on käyttö kiillotus- tai hioma-aineena. Keksinnön mukaisesti valmistettua seostettua piihappoa voidaan käyttää edullisesti hankauspiihappona hammastahnoissa.
15 Esimerkit
Saatujen seostettujen piihappojen fysikaalis-ke-mialliset ja käyttötekniset arvot ilmenevät taulukosta 1.
Esimerkki 1 30 litran epäsuorasti kuumennettuun saostusastiaan 20 lisättiin sekoittaen 12,8 litraa vettä ja kuumennettiin 85 °C:seen. Ylläpitäen tätä lämpötilaa pH säädettiin ensin arvoon 8,5 lisäämällä hieman vesilasiliuosta (painomoduuli ;> 3,4:1 = 26,8 Si02:ta ja 7,85 % Na20:ta, tiheys 1,352 g/ml).
Sitten lisättiin samanaikaisesti 56,5 ml/min vesilasia 25 (koostumus kuten yllä) ja niin paljon rikkihappoa (50-pro-; senttistä), että pH pysyi vakioarvossa 8,5, ja saostettiin ! i 240 minuuttia. Tämä suspensio hapotettiin sitten rikkiha-V · polla (50-prosenttista) pH-arvoon 3,5. Suspension piihap- popitoisuus oli 171 g/1. Viskositeetin muutos saostuksen * 30 aikana ilmenee taulukosta 1.
;" ; Saatu piihappo eristettiin suspensiosta imusuodat- tamalla ja suodatuskakku pestiin vedellä, kuivattiin 105 -110 °C:ssa ja jauhettiin laboratoriokankimyllyssä.
4 112862
Esimerkki 2
Toimittiin kuten esimerkissä 1 sillä erolla, että ensin panostetun veden pH säädettiin arvoon 10,7 vesilasi-liuoksella ja tämä pH-arvo ylläpidettiin lisäämällä saman-5 aikaisesti vesilasia ja rikkihappoa. Suspension piihappo-pitoisuus oli 173 g/1. Viskositeetin muutos saostuksen aikana ilmenee kuviosta 2.
Esimerkki 3
Toimittiin kuten esimerkissä 2. Suspension piihap-10 popitoisuus kohotettiin kuitenkin arvoon 210 g/1 lisäämällä vesilasin ja rikkihapon määrää. Viskositeetin muutos saostuksen aikana ilmenee kuviosta 3.
Esimerkki 4
Toimittiin kuten esimerkissä 1 sillä erolla, että 15 lisättiin 56,5 ml/min vesilasia ja niin paljon rikkihappoa (50-prosenttista), että pH pysyi vakiona arvossa 7. Saos-tusaika oli 126 minuuttia. Kun pH oli sitten säädetty arvoon 3,5 hapolla, piihappopitoisuudeksi saatiin 125 g/1. Viskositeetin muutos saostuksen aikana ilmenee kuviosta 4. 20 Esimerkki 5
Toimittiin kuten esimerkissä 1 siten, että käytettiin vesilasia, jonka painomoduuli oli 2,5 (20,44 % Si02:ta ja 8,18 % Na20:ta, d = 1,3012 g/ml) ja kohotettiin vesilasin annostus arvoon 107,3 ml/min ja H2S04:n annostus arvoon ; 25 26,33 ml/min ja piihapon pitoisuudeksi suspensiossa tuli näin 160 g/1. Viskositeetin muutos saostuksen aikana ilmenee kuviosta 5.
5 112862
Taulukko 1
Esimerkki____1_2-2--k-5- CTAB-pinta-ala m^/g 32 45 22 55 25 5 BET-pinta-ala m^/g 37 130 115 65 32
Keskim. hiukkaskoko C.C. μιη 12,8 11,7 13,8 12,5 14,1
Cu-kuluminen mg 17 9 4-2 16 50 CMC-sakeutus mPa.s 900 2 100 44-0 3 200 420
Kosteus 2 h, 105 °C % 3,5 3,8 4,0 3,2 3,9
Johtavuus pS/cm 70 40 80 110 100
Hehkutushäviö % 3,0 4,6 4,7 3,2 2,8
Kokonaissaostusaika G min 240 240 24.0 126 240
Viskositeetin nousukohta V min 24 30 23 9 27 15 V:n prosentuaalinen osuus % 10 12,5 9,6 7 11,3 G: stä Tällöin käytettiin seuraavia menetelmiä: Ominaistyppipinta-ala (BET) määritettiin Brun-20 auerin, Emmetin ja Tellerin mukaan laitteella AREA-meter, valmistaja Ströhlein. Määritys tapahtui DIN ISO 5794/1, Annex D:n mukaan. Alkuperäinen menetelmä kuvattiin ensimmäisen kerran aikakauslehdessä "Journal of the American Chemical Society", 60 (1938), s. 309. Kuumennuslämpötila ' ’ 25 oli 160 °C 1 tunti.
: CTAB-pinta-ala määritettiin setyylitrimetyyliammo- . : niumbromidiadsorption avulla pH:ssa 9 [ks. Jay, Janzen ja v ; Kraus, "Rubber Chemistry and Technology" 44 (1971), 1287].
Hiukkasjakauma määritettiin laitteella Coulter ; : 30 Counter, malli TA II, valmistaja Coulter Electronics. Käy- tettiin 100 pm:n kapillaareja.
Hiovuus määritettiin Cu-kulumismenetelmän avulla 10-prosenttisessa glyserolidispersiossa (157 g vedetöntä glyserolia, johon dispergoitiin siipisekoittimella 12 mi-I : 35 nuutin aikana 17 g piihappoa 1 500 kierr./min). Kuluminen 6 112862 mitattiin kohdistamalla 50 000 kaksoispyyhkäisyä aallonharjoilla yllä mainitussa dispersiossa oleviin Cu-levyihin (elektrolyyttikuparia). Cu-kuluminen saadaan erotuspunni-tuksena milligrammoina. Kirjallisuutta: Pfrengle, Fette, 5 Seifen, Anstrichmittel 63 (1961), 445 - 451, ja Reng,
Dany, Parfumerie und Kosmetik 59 (1978), 37 - 45.
Sakeutumisarvo määritettiin pitoisuutena 20 % kar-boksimetyyliselluloosaliuoksessa (50 g PEG 400:aa, 1 kg 87-prosenttista glyserolia, 25 g AKU CMC LZ 855:tä, 925 g 10 vettä). Piihappo lisättiin testiliuokseen, joka oli vanhentunut vähintään yhden vuorokauden, mutta enintään 2 viikkoa, dispergoitiin ja määritettiin viskositeetti (Brookfield RVT, kara 5, 10 kierr./min, arvo luettiin yhden minuutin kuluttua). 25 °C:seen termostoitu seos mitat-15 tiin heti, 0,5 tunnin ja 24 tunnin kuluttua. Viimeksi mainittu on varsinainen mittausarvo.
Tämän lisäksi määritettiin kosteus (2 tuntia, 105 °C, DIN ISO 787, osa 2), johtavuus (4-prosenttinen), hehkutushäviö (2 tuntia 100 °C:ssa DIN 55 921:n mukaan).

Claims (5)

7 112862
1. Menetelmä saostetun piihapon valmistamiseksi, jonka BET-pinta-ala on 10 - 130 m2/g, CTAB-pinta-ala 10 -5 70 m2/g, keskimääräinen hiukkashalkaisija 5-20 μιτι, Cu- kuluminen 10-prosenttisessa glyserolidispersiossa 4 - 50 mg ja sakeutumisarvo CMC-liuoksessa (20-prosenttinen dispersio) 300 - 3 500 mPa-s, tunnettu siitä, että veteen, jonka pH on säädetty arvoon 7,0 - 9,9 tai 10,0 - 10,7 vesi-10 lasilisäyksellä, lisätään samanaikaisesti alkalisilikaattia (painomoduuli Si02:alkalioksidi = 2,5 - 3,9:1) ja mineraa-lihappoa, jolloin pH-arvo pidetään lisäyksen aikana vakiona välillä 7,0 ja 9,9 tai 10,0 ja 10,7, jolloin saostuslämpö-tila on alussa 50 - 90 °C ja viskositeetti alkaa kasvaa 15 viimeistään, kun saostusajasta on kulunut 25 %, ja pH säädetään arvoon alle tai yhtä kuin 6, edullisesti arvoon 3,5, kun piihappopitoisuus saostuksen lopussa on saavuttanut arvon yli 120 g/1 saostus-pH-arvon ollessa 7,0 - 9,9 tai yli 150 g/1, edullisesti yli tai yhtä kuin 160 - 240 g/1 saos-20 tus-pH-arvon ollessa 10,0 - 10,7, jolloin kiintoaine erotetaan suodattamalla, pestään, kuivataan ja jauhetaan.
,· 2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tun- nettu siitä, että suodatuksessa käytetään kairani opurist i -: mia tai kalvosuodatuspuristimia. ·’. 25
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kuivauksessa käytetään kiertoilma-kuivaimia, Buttner-kuivaimia, virtauskuivaimia tai vastaavia kuivaimia.
4. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, 30 tunnettu siitä, että nesteytetty suodatuskakku kuiva- taan suihkukuivaimessa.
: ‘*: 5. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, ;-· tunnettu siitä, että suodatuskakku kuivataan jauhamal- ,;, la. β 112862
FI943648A 1993-08-07 1994-08-05 Menetelmä saostetun piihapon valmistamiseksi FI112862B (fi)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4326576 1993-08-07
DE4326576 1993-08-07
DE4423493A DE4423493A1 (de) 1993-08-07 1994-07-05 Verfahren zur Herstellung einer Fällungskieselsäure
DE4423493 1994-07-05

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI943648A0 FI943648A0 (fi) 1994-08-05
FI943648A FI943648A (fi) 1995-02-08
FI112862B true FI112862B (fi) 2004-01-30

Family

ID=25928419

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI943648A FI112862B (fi) 1993-08-07 1994-08-05 Menetelmä saostetun piihapon valmistamiseksi

Country Status (14)

Country Link
US (1) US5484581A (fi)
EP (1) EP0643015B1 (fi)
JP (1) JP2556667B2 (fi)
AT (1) ATE142986T1 (fi)
AU (1) AU665913B2 (fi)
CA (1) CA2129607C (fi)
DE (1) DE59400684D1 (fi)
DK (1) DK0643015T3 (fi)
ES (1) ES2092850T3 (fi)
FI (1) FI112862B (fi)
GR (1) GR3021417T3 (fi)
MY (1) MY111122A (fi)
NO (1) NO315645B1 (fi)
PH (1) PH30936A (fi)

Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5624652A (en) * 1992-10-28 1997-04-29 Crosfield Limited Silicas
FR2710630B1 (fr) * 1993-09-29 1995-12-29 Rhone Poulenc Chimie Nouvelles silices précipitées, leur procédé de préparation et leur utilisation au renforcement des élastomères.
US6169135B1 (en) 1993-09-29 2001-01-02 Rhone Poulenc Chimie Precipitated silica
PT670813E (pt) 1993-09-29 2003-07-31 Rhodia Chimie Sa Silica precipitada
US6001322A (en) * 1993-09-29 1999-12-14 Rhone-Poulenc Chimie Precipitated silicas
US6977065B1 (en) * 1993-10-07 2005-12-20 Degussa Ag Precipitated silicas
US7071257B2 (en) * 1993-10-07 2006-07-04 Degussa Ag Precipitated silicas
FR2714369B1 (fr) † 1993-12-29 1996-01-26 Rhone Poulenc Chimie Silices abrasives pour compositions dentifrices.
US5846506A (en) * 1994-10-07 1998-12-08 Degussa Aktiengesellschaft Precipitated silicas
IN188702B (fi) * 1995-06-01 2002-10-26 Degussa
GB9601084D0 (en) † 1996-01-19 1996-03-20 Unilever Plc Amorphous silicas and oral compositions
DE19740440A1 (de) 1997-09-15 1999-03-18 Degussa Leicht dispergierbare Fällungskieselsäure
US6441078B1 (en) * 2000-03-08 2002-08-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous powder coat dispersions, process for their preparation and their use
FR2809955B1 (fr) * 2000-06-07 2004-11-26 Rhodia Chimie Sa Utilisation d'une silice de precipitation de haute structure, dense et dispersible comme agent epaississant ou texturant dans les compositions dentifrices
DE10048616A1 (de) * 2000-09-30 2002-04-11 Degussa Dotierte Fällungskieselsäure
DE10062449A1 (de) 2000-12-14 2002-06-20 Degussa Dotierte Fällungskieselsäure
DE10112441A1 (de) * 2001-03-15 2002-09-19 Degussa Kieselsäure durch Fällung mit konstanter Alkalizahl und deren Verwendung
US20030094593A1 (en) * 2001-06-14 2003-05-22 Hellring Stuart D. Silica and a silica-based slurry
US7279119B2 (en) * 2001-06-14 2007-10-09 Ppg Industries Ohio, Inc. Silica and silica-based slurry
GB0130907D0 (en) 2001-12-22 2002-02-13 Ineos Silicas Ltd Amorphous silica
DE10330221A1 (de) 2002-08-03 2004-02-12 Degussa Ag Hochdispersible Fällungskieselsäure
US20040209066A1 (en) * 2003-04-17 2004-10-21 Swisher Robert G. Polishing pad with window for planarization
NO20040167L (no) * 2004-01-14 2005-07-15 Cod Technologies As Prosess for fremstilling av utfelt silika fra olivin
US20060089094A1 (en) * 2004-10-27 2006-04-27 Swisher Robert G Polyurethane urea polishing pad
US20060089095A1 (en) * 2004-10-27 2006-04-27 Swisher Robert G Polyurethane urea polishing pad
US20060089093A1 (en) * 2004-10-27 2006-04-27 Swisher Robert G Polyurethane urea polishing pad
US7745010B2 (en) * 2005-08-26 2010-06-29 Prc Desoto International, Inc. Coating compositions exhibiting corrosion resistance properties, related coated substrates, and methods
DE102005043201A1 (de) 2005-09-09 2007-03-15 Degussa Ag Fällungskieselsäuren mit einer besonderen Porengrößenverteilung
DE102005043202A1 (de) 2005-09-09 2007-03-15 Degussa Ag Fällungskieselsäuren mit besonderer Porengrößenverteilung
CN101426722B (zh) * 2006-03-15 2013-06-05 反应科学公司 制造用于太阳能电池及其它应用的硅的方法
DE102007052269A1 (de) 2007-11-02 2009-05-07 Evonik Degussa Gmbh Fällungskieselsäuren für lagerstabile RTV-1 Siliconkautschukformulierungen ohne Stabilisator
US8551457B2 (en) 2008-11-25 2013-10-08 The Procter & Gamble Company Oral care compositions comprising spherical fused silica
EP2349489B1 (en) * 2008-11-25 2015-11-11 The Procter and Gamble Company Low ph oral care compositions with fused silica and a fluoride source
US8003724B2 (en) 2009-07-07 2011-08-23 The Goodyear Tire & Rubber Company Specialized silica, rubber composition containing specialized silica and products with component thereof
US8440750B2 (en) 2009-07-07 2013-05-14 The Goodyear Tire & Rubber Company Specialized silica, rubber composition containing specialized silica and products with component thereof
US8349940B2 (en) 2010-04-19 2013-01-08 The Goodyear Tire & Rubber Company Rubber composition containing treated silica and products with component thereof
CN104768520B (zh) 2012-11-05 2017-06-13 宝洁公司 热处理的沉淀二氧化硅
DE102015214344A1 (de) 2015-07-29 2017-02-02 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung von Fällungskieselsäuren und Verfahren zur Messung des Schonabriebfaktors
JP2019069929A (ja) * 2017-10-11 2019-05-09 小林製薬株式会社 口腔用組成物

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL128870C (fi) * 1962-03-02
US3928540A (en) * 1971-07-26 1975-12-23 Ppg Industries Inc Process for preparing silica pigment
US3928541A (en) * 1972-09-05 1975-12-23 Huber Corp J M Amorphous precipitated siliceous pigments for cosmetic or dentrifrice use and methods for their production
US3988162A (en) * 1972-09-06 1976-10-26 J. M. Huber Corporation Amorphous precipitated silica products and method for their production
US3977893A (en) * 1973-10-03 1976-08-31 J. M. Huber Corporation Amorphous precipitated siliceous pigments and improved process for producing such pigments
AU497891B2 (en) * 1974-05-22 1979-01-18 J.M. Huber Corp. Siliceous pigments & their production
DE3114493A1 (de) * 1981-04-10 1982-10-28 Degussa Ag, 6000 Frankfurt "faellungskieselsaeuren und verfahren zu ihrer herstellung"
DE3144299A1 (de) * 1981-11-07 1983-05-19 Degussa Ag, 6000 Frankfurt Faellungskieselsaeuren mit hoher struktur und verfahren zu ihrer herstellung
FR2567504B1 (fr) * 1984-07-11 1989-12-29 Rhone Poulenc Chim Base Colloides de silice et silices spheriques et procedes pour leur obtiention
DE3639845A1 (de) * 1986-11-21 1988-06-01 Degussa Faellungskieselsaeuren, verfahren zu ihrer herstellung und verwendung
US4973462A (en) * 1987-05-25 1990-11-27 Kawatetsu Mining Company, Ltd. Process for producing high purity silica
FR2622439B1 (fr) * 1987-11-04 1991-07-12 Rhone Poulenc Chimie Silice pour compositions dentifrices compatible notamment avec la chlorhexidine
FR2622565B1 (fr) * 1987-11-04 1990-11-09 Rhone Poulenc Chimie Silice pour compositions dentifrices compatible notamment avec le zinc
US5286478A (en) * 1987-11-04 1994-02-15 Rhone-Poulenc Chimie Dentifrice-compatible silica particulates
FR2649089B1 (fr) * 1989-07-03 1991-12-13 Rhone Poulenc Chimie Silice a porosite controlee et son procede d'obtention

Also Published As

Publication number Publication date
ES2092850T3 (es) 1996-12-01
FI943648A (fi) 1995-02-08
CA2129607C (en) 1999-03-09
NO942882L (no) 1995-02-08
US5484581A (en) 1996-01-16
MY111122A (en) 1999-08-30
AU665913B2 (en) 1996-01-18
ATE142986T1 (de) 1996-10-15
CA2129607A1 (en) 1995-02-08
DK0643015T3 (da) 1996-12-23
JP2556667B2 (ja) 1996-11-20
DE59400684D1 (de) 1996-10-24
JPH07149514A (ja) 1995-06-13
FI943648A0 (fi) 1994-08-05
EP0643015B1 (de) 1996-09-18
EP0643015A1 (de) 1995-03-15
AU6893294A (en) 1995-05-11
GR3021417T3 (en) 1997-01-31
PH30936A (en) 1997-12-23
NO942882D0 (fi) 1994-08-03
NO315645B1 (no) 2003-10-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI112862B (fi) Menetelmä saostetun piihapon valmistamiseksi
CA1093789A (en) Precipitated siliceous products and methods for their use and production
AU712323B2 (en) Precipitated silica
KR950015028B1 (ko) 비이드 형태의 실리카, 이의 제조방법 및 엘라스토머 보강용 용도
JP5727605B2 (ja) 新規の沈降シリカ製造方法
US6761867B1 (en) Concentrated suspension of precipitation silica, processes for its preparation and uses of this suspension
JPH0331642B2 (fi)
JP3411585B2 (ja) 沈降シリカを基材とする担体に液体を吸収させてなる組成物
US5932191A (en) Abrasive silicas for toothpaste compositions
JPH0346403B2 (fi)
JPS6212171B2 (fi)
JPH02237910A (ja) 特に亜鉛と相容性の歯磨組成物用シリカ
KR100808037B1 (ko) 수분 흡수율이 낮은 고도로 구조화된 실리카, 이의 제조방법 및 용도
FI91387B (fi) Erityisesti metallikationeiden kanssa yhteensopiva piidioksidi hammastahnoihin
JPH054328B2 (fi)
JPS6046915A (ja) 合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩及びその製造方法
KR970005188B1 (ko) 침강 실리카의 제조방법
EP0798266B1 (de) Fällungskieselsäure
KR100503705B1 (ko) 치약조성물에사용될수있는실리카
JPS6025367B2 (ja) ２酸化珪素顔料の製造方法
KR100260328B1 (ko) 침강 실리카의 새로운 제조 방법, 아연-함유의 새로운 침강 실리카, 및 엘라스토머의 보강에 사용되는 그것의 용도
KR790001612B1 (ko) 무정형 침전 실리카의 제조방법
KR800001031B1 (ko) 신규의 이산화 규소의 제조방법
JPS6165812A (ja) 歯磨組成物
TH8741B (th) กรรมวิธีการผลิตซิลิกาชนิดตกตะกอน

Legal Events

Date Code Title Description
MA Patent expired