FI87066C - Saerskilt med zink kompatibel kiseloxid foer tandkraemskompositioner - Google Patents
Saerskilt med zink kompatibel kiseloxid foer tandkraemskompositioner Download PDFInfo
- Publication number
- FI87066C FI87066C FI885080A FI885080A FI87066C FI 87066 C FI87066 C FI 87066C FI 885080 A FI885080 A FI 885080A FI 885080 A FI885080 A FI 885080A FI 87066 C FI87066 C FI 87066C
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- silica
- silica according
- acid
- surface area
- ppm
- Prior art date
Links
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q11/00—Preparations for care of the teeth, of the oral cavity or of dentures; Dentifrices, e.g. toothpastes; Mouth rinses
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/19—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing inorganic ingredients
- A61K8/25—Silicon; Compounds thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/152—Preparation of hydrogels
- C01B33/154—Preparation of hydrogels by acidic treatment of aqueous silicate solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
- C01B33/187—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
- C01B33/193—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates of aqueous solutions of silicates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/19—Oil-absorption capacity, e.g. DBP values
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/90—Other properties not specified above
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Public Health (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Birds (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Cosmetics (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Description
87066
Erikoisesti sinkin kanssa yhteensoveltuva piidioksidi hammas-tahnakoostumuksia varten
Esillä oleva keksintö koskee piidioksidia, jota voidaan käyttää nimenomaan hammastahnakooetumukeissa, sen valmistusmenetelmää samoin kuin tätä piidioksidia sisältäviä hammastahnakooetumuke ia .
On tunnettua, että piidioksidia käytetään yleisesti hammas-tahnakoostumusten valmistuksessa. Se voi palvella siinä lisäksi useita tarkoituksia.
Ensiksikin se toimii hankaavana aineena auttaen mekaanisella vaikutuksellaan hammasplakin poistamista.
Se voi toimia myös sakeuttavana aineena antaen hammastahnalle määrättyjä reologisia ominaisuuksia, samoin kuin optisena aineena antaen sille halutun värin.
Lisäksi on tunnettua, että hammastahnat sisältävät erilaisia aineita nimenomaan karieksen ehkäisyä varten ja hammasplakin muodostumisen tai hammaskiven kiinnittymisen vähentämistä varten. Näistä aineista voidaan erikoisesti mainita sinkki. Myös muita alkuaineita käytetään kuten fluor1 fosfaa11eja, py-rofosfaatteja, polyfosfaatteja, polyfosfonaa11e ja. Hammaetah-nareseptit voivat sisältää myös aromeja, parfyymejä, ym.
Näiden aineiden mukanaolo hammastahnassa aiheuttaa pulmia niiden yhteensoveltumisen suhteen piidioksidin kanssa. Erityisesti absorboivan kykynsä johdosta sillä voi olla taipumuksena reagoida näiden aineiden kanssa siten, että ne eivät enää pysty saamaan aikaan edellä selostettuja terapeuttisia vaikutuksia.
2 87066
Keksinnön kohteena on eiie löytää edellä mainittujen aineiden kanssa ja erityisesti sinkin kanssa yhteensoveltuvia piidioksideja, joita voidaan siis täydellisesti käyttää hammastahnojen reseptissä.
Keksinnön kohteena on vielä menetelmä, jonka avulla voidaan valmistaa tällaisia yhteensoveltuvia piidioksideja.
Nyt on havaittu, että haetut yhteensoveltuvuusommaisuudet ovat riippuvaisia pääasiallisesti käytetyn piidioksidin pinnan kemiallisesta luonteesta. Tällä tavoin on pystytty osoittamaan tietty määrä piidioksidien pinnan olosuhteita, jotta nämä olisivat yhteensoveltuvia.
Tätä tarkoitusta varten keksinnön mukaiselle piidioksidille, jota voidaan käyttää nimenomaan hammastahnakoostumuksissa, on tunnusomaista, että sen pinnan kemialliset ominaisuudet ovat 2 sellaiset, että OH-ryhmien lukumäärä ilmaistuna OH/nm on korkeintaan 15 ja sen varauspiste nolla <PZC> on välillä 3-6,5 ja yhteensoveltuvuus sinkin kanssa ainakin 50 %.
Keksinnön mukaisen piidioksidin valmistusmenetelmä on tyypiltään sellainen, että se sisältää silikaatin reaktion hapon kanssa, jolloin saadaan piidioksidin suspensio tai geeli, piidioksidin erottamisen ja kuivaamisen, ja menetelmä on tunnettu siitä, että piidioksidin erottamisen jälkeen suspensiota suoritetaan saadun paakun ensimmäinen vesipesu, ja sitten toinen pesu tai käsittely happamen liuoksen avulla.
Lopuksi keksintö koskee hammastahnakoostumuksia, jotka ovat tunnetut siitä, että ne sisältävät edellä selostettuja tai edellä mainitun menetelmän avulla valmistettuja piidioksideja.
Keksinnön muut tyypilliset ominaispiirteet ja edut tulevat paremmin ymmärretyiksi seuraavien konkreettisten mutta ei-rajoittavien esimerkkien ja seuraavan esityksen lukemisen avulla.
3 87066
Kuten johdannossa on jo ilmoitettu ovat keksinnön mukaisten piidioksidien pääasialliset tyypilliset ominaisuudet niiden pintakemiassa. Tarkemmin sanottuna on tämän pintakemian eräs huomioon otettava aspekti sen happamuus. Tässä yhteydessä on keksinnön mukaisten piidioksidien eräs tyypillinen ominaisuus pinnan happamien kohtien lukumäärä.
Tämä lukumäärä mitataan OH-ryhmien tai silanolien lukumääränä 2 per nm Käytännössä mittaaminen tapahtuu seuraavalla tavalla.
o
Pinnan OH-kohtien lukumäärä liittyy lämpötilavä1i1lä 190 C -o 900 C vapautuvan veden määrään.
o
Piidioksidinäytteet kuivataan etukäteen 105 C:ssa 2 h ajan.
Painomäärä P piidioksidia asetetaan lämpövaa'aile ja lämpö- u o tila nostetaan 190 C:een 2 h ajaksi; saatu painomäärä olkoon o P^gg. Sen jälkeen piidioksidi nostetaan lämpötilaan 900 C 2 h ajaksi, saatu uusi painomäärä olkoon Pggg.
OH-kohtien lukumäärä lasketaan seuraavan yhtälön avulla:
Nqjj = 66922.2 x (P " ^*900^ ^ 190 A
2 jossa Nqjj on OH-kohtien lukumäärä per pinnan nm , 2 A on kiinteän aineen omainaispinta <BET) m /g.
Esillä olevassa tapauksessa on keksinnön mukaisilla piidioksideilla lukumäärä OH/nm korkeintaan 15. Keksinnön parhaana pidetyn toteutusmuodon mukaan tämä OH:n lukumäärä on korkeintaan 12 ja erikoisesti välillä 3-12.
4 87066
Pinnan pH on myös keksinnön mukaisten piidioksidien tyypillinen ominaispiirre. Se määrätään varauspisteen nolla (PZC) avulla.
Tämä varauspiste nolla (PZC) määrätään piidioksidisuspehsion pH:sta, jossa kiinteän aineen pinnan sähkövaraus on nolla ja huolimatta siitä, mikä on väliaineen ionivoimakkuus. Tämä PZC mittaa pinnan todellisen pH:n, mikäli tämä on vapaa kaikista ioni-tyyppisistä epäpuhtauksista.
Sähkövaraus määrätään potentiometrisesti. Tämän menetelmän periaate perustuu piidioksidin pinnalle absorboituneiden tai desorboituneiden protoneiden kokonaistaseeseen tietyllä pH:11a.
Näistä yhtälöistä, jotka esittävät operaation kokonaistasoon, on helppoa osoittaa, että pinnan sähkövaraus C laskettuna vertailuaineeseen nähden, jonka pinnan varaus on nolla, saadaan yhtälöstä: C = __F_ (H - OH) A. M.
jossa: 2 A esittää kiinteän aineen ominaispintaa m /g, M on kiinteän aineen määrä suspensiossa g, F on Faraday, + H tai OH esittää vastaavasti H tai OH ionien ylimäärän vaihtelua pintaykeikköä kohti kiinteän aineen pinnalla.
PZC:n kokeellinen mittaus tapahtuu seuraavalla tavalla.
Käytetään menetelmää, jonka ovat selostaneet Berube ja de Bruyn <J. Colloid Interface Sc. 1968, 27, 305).
5 87066
Piidioksidi pestään etukäteen deionoidussa vedessä, jolla on korkea ominaisvastus (10 Mega.Ohm.cm); kuivataan ja sen jälkeen poistetaan siitä kaasua.
Valmistetaan sarja liuoksia, joiden pHQ on 8,5 lisäämällä KOH : a tai HNOq:a ja jotka sisältävät indif ferenttiä elektro-3 -5-1 lyyttiä (KNOg) vaihte1evä 1la konsentraatio 1la 10 - 10 moo- 1 ia/1 .
Näihin liuoksiin lisätään määrätty piidioksidin määrä ja annetaan saatujen suspensioiden pH:n stabilisoitua sekoittamal-o la 25 C:8sa ja typpiatmosfäärissä 24 h ajan; olkoon pHQ sen arvo .
Vertailuliuokset ovat päällä kelluvaa osaa, joka on saatu sentrifugoima1la 30 min ajan nopeudella 10 000 kierr./min osaa näistä samoista suspensioista. Näiden päällä kelluvien osien pH olkoon pHQ'.
Sitten säädetään näiden suspensioiden ja vastaavien vertailu-liuosten tunnetun tilavuuden pH arvoon pHQ lisäämällä tarvittava määrä KOH:a ja annetaan näiden suspensioiden ja vertailu-liuosten stabilisoitua 4 h ajan.
Suspensioiden potentiometrinen analyysi suoritetaan lähtemällä pHQ:sta lisäämällä typpihappoa kunnes saadaan pH^ = 2,0.
Menetellään mieluimmin siten, että lisätään happoinkrementti, joka vastaa pH:n muutosta 0,2 pH-yksikköä. Kunkin lisäyksen jälkeen pH stabilisoidaan 1 min ajan.
6 8 7 O 66 vh,Nh ol]ct,on happoekvivaientt in en lukumäärä arvoon pHf pää-eemisekei.
pH0:eta lähtemällä laaditaan termi <Vh.Nh - Voh.Noh> pH-inkrementtien funktiona kaikille auepensioille (ainakin 3 ionivoimakkuutta) ja kaikille vastaaville vertailuliuoksi1- 1 e .
Kullakin pH-arvolla <0,2 yksikön välein) tehdään sitten + erotus H - tai OH -kulutuksen välillä suspensiossa ja vastaavassa vertailuliuokaesea. Tämä menettely uusitaan kaikilla ionivoimakkuuksilla.
Tällä tavoin saadaan termi (H - OH), joka vastaa pinnan protonien kulutusta. Pinnan varaus lasketaan edellä olevan yhtälön avulla.
Sitten laaditaan käyrät pinnan varaus pH:n funktiona kaikille kyseessä oleville ionivoimakkuuksi1le. PZC määrätään käyrien leikkauspisteestä.
Piidioksidin konsentraatio säädetään tämän ominaispinnan funktiona.
Käytetään esimerkiksi 2 %:n suspensioita piidioksideille 50 m /g 3 ionivoimakkuudella <0,1; 0,01 ja 0,001 moolia/1).
Analyysi tehdään 100 ml:sta suspensiota käyttäen 0,1 M ka-1iumhydroks idia.
Keksinnön mukaisilla piidioksideilla on tämän PZC:n oltava välillä 3-6,5.
Keksinnön mukaisten piidioksidien yhteensoveltuvuuden parantamiseksi muiden alkuaineiden suhteen kuin sinkin, eri- 7 87066 tyisesti fluorin suhteen on edullista, että alumiinin pitoisuus on korkeintaan 500 ppm.
Keksinnön mukaisten piidioksidien sisältämän raudan pitoisuus voi olla edullisesti korkeintaan 200 ppm.
Kalsiumin pitoisuus voi edullisimmin olla korkeintaan 500 ppm ja erikoisesti korkeintaan 300 ppm.
Keksinnön mukaisissa piidioksideissa on myös tavallisesti hiilen pitoisuus korkeintaan 500 ppm ja erikoisesti korkeintaan 10 ppm.
Keksinnön mukaisten piidioksidien pH mitattuna normin NFT 45-007 mukaan on tavallisesti korkeintaan 7. Se on erikoisesti välillä 5,5-7 ja erikoisesti 6-7.
Edellä olevien tyypillisten ominaisuuksien ansiosta saadaan piidioksidia, joka on yhteensoveltuvaa ainakin sinkin kanssa. Tämä yhteensoveltuvuus mitattuna jäljessä olevan teetin avulla on ainakin 50 X, erityisemmin ainakin 80 X ja mieluimmin ainakin 90 X. Tapauksesta riippuen keksinnön mukainen piidioksidi voi olla yhteensoveltuvaa lisäksi fluoridien, fosfaattien ja niiden johdannaisten kanssa.
Paitsi edellä esitettyjä pintakemian tyypillisiä ominaispiirteitä, jotka tekevät yhteensoveltuvuudet mahdollisiksi, on keksinnön mukaisilla piidioksideilla myös fysikaalisia ominaispiirteitä, jotka tekevät ne täydellisesti soveltuviksi hammastahnassa käytettäviksi. Nämä rakennetyyppiset ominaispiirteet selostetaan seuraavassa.
Keksinnön mukaisten piidioksidien BET-pinta on tavallisesti 2 2 välillä 40-600 m /g, tavallisimmin välillä 40-350 m /g^ Niiden CTAB-pinta vaihtelee tavallisesti välillä 40-400 m /g, 2 erikoisesti välillä 40-200 m /g.
87066 θ BET-pinta määrätään BRUNAUER-EMMET-TELLERIN menetelmän mukaan, joka on selostettu Journal of the American Chemical Society osassa 60, sivu 309, helmikuu 1938 ja normin NF Xil-622 (3.3) mukaan.
CTAB-pinta on ulkopinta, joka määrätään normin ASTM D3765 mukaan, mutta käyttäen ammonium-heksadekyylitrimetyylibromidin (CTAB) adsorptiota pH-arvolla 9 ja ottaen CTAB:n molekyylin . 2
keskimääräisenä projektoituneena pinta-alana 35 A
Keksinnön mukaiset piidioksidit voivat tietenkin vastata kolmea tavallisesti erotettavaa tyyppiä hammastahna-alalla.
Keksinnön mukaiset piidioksidit voivat siten olla hankaavaa 2 tyyppiä. Niillä on silloin BET-pinta välillä 40-300 m /g. Tässä tapauksessa CTAB-pinta on välillä 40-100 m /g.
Keksinnön mukaiset piidioksidit voivat olla myös sakeuttavaa 2 tyyppiä. Niillä on silloin BET-pinta välillä 120-450 m /g, 2 erikoisesti välillä 120-200 m /g. Niillä voi silloin olla 2 CTAB-jainta välillä 120-400 m /g, erikoisesti välillä 120-; 200 m /g.
Lopuksi kolmannessa tyypissä keksinnön mukaiset piidioksidit voivat olla bifunktionaalisia. Niillä on tällöin BET-pinta 2 välillä 80-200 m /g. CTAB-pinta on tällöin välillä 80-2 200 m /g.
Keksinnön mukaisilla piidioksideilla voi myös olla öljyn ime- 3 miskyky välillä 80-500 cm /100 g määrättynä normin NFT 30-022 mukaan (maaliskuu 1953) käyttäen dibutyy1iftalaattia.
Tarkemmin sanottuna tämä öljyn imemiskyky voi olla välillä 100-140 cm /g hankaaville piidioksideille, 200-400 sakeuttaville piidioksideille ja 100-300 bifunktionaa1 isi1le .
87066 g Tämän lieäkai, silmällä pitäen hammastahnoissa käyttämistä, piidioksidien hiukkasten koko on mieluimmin välillä 1-10 ^um. Tämä hiukkasten keskimääräinen koko on mitattu Counter-Coulte-rin avulla.
Tilavuuspaino vaihtelee tavallisesti välillä 0,01-0,3.
Keksinnön erikoisen toteutusmuodon mukaan piidioksidit ovat seostettuja piidioksideja.
Lopuksi vielä keksinnön mukaisten piidioksidien refraktioin-dekei on välillä 1,440-1,465.
Keksinnön mukaisten piidioksidien valmistusmenetelmä tullaan seuraavassa selostamaan yksityiskohtaisemmin.
Kuten edellä on ilmoitettu, tämä menetelmä on tyyppiä, jossa on silikaatin reaktio hapon kanssa, jolloin syntyy piidioksidin suspensio tai geeli.
On huomattava, että voidaan käyttää mitä tahansa tunnettua menettelytapaa tähän suspensioon tai geeliin pääsemiseksi (hapon lisääminen silikaattialtaan pohjalle, hapon ja silikaatin yhtäaikainen lisääminen joko kokonaan tai osittain vesialtaan tai silikaattisuspensioaltaan pohjalle, jne.), jolloin valinta tapahtuu pääasiallisesti piidioksidin tyypillisten fysikaalisten ominaisuuksien perusteella, joita halutaan saada. Huomattakoon, että voi olla edullista säätää saadun suspension tai geelin pH arvoon korkeintaan 6 ja erikoisesti välille 4-6.
Sen jälkeen suoritetaan piidioksidin erottaminen reaktiovä-liaineesta millä tahansa tunnetulla tavalla, esimerkiksi va-kuumisuodattamalla tai painesuodattamalla.
Tällä tavoin otetaan talteen piidioksidipaakku.
10 87066
Keksinnön mukaisen menetelmän tärkeimmän ominaispiirteen mukaan suoritetaan sitten ensimmäinen paakun peseminen.
Ensimmäinen pesu tapahtuu veden, tavallisesti deionoidun veden avulla.
Sen jälkeen suoritetaan toinen pesu tai käsittely happoliuok-sen avulla.
Tämän toisen pesun tai käsittelyn tarkoituksena on saada piidioksidin valmistuksen lopussa piidioksidia, jonka pH on korkeintaan 7 ja erikoisesti välillä 5,5-7 ja nimenomaan 6-7, samoin kuin PZC välillä 3-6,5.
Tämä happoliuos voi olla esimerkiksi jonkin epäorgaanisen hapon kuten typpihapon liuosta.
Keksinnön toisen toteutusmuodon mukaisesti tämä happoliuos voi olla myös jonkin orgaanisen hapon, nimenomaan kompleksia muodostavan hapon liuosta. Tämä happo voidaan valita ryhmästä karboksyyli-, dikarboksyy1i-, hydroksikarboksyyli- ja amino-karboksyy1ihapot.
Voidaan mainita esimerkkeinä hapot kuten etikkahappo ja komplekseja muodostavista hapoista viinihappo, maleiinihappo, gly-serolihappo, glukonihappo, sitruunahappo, etikkahappo.
Tämä toinen pesu tai käsittely voi tapahtua kaatamalla happo-liuos paakun päälle tai panemalla tämä suspensioon, joka on saatu paakun hajottamisen jälkeen. Tämä pesu tai happokäsit-tely suoritetaan sellaisissa olosuhteissa, että saadaan piidioksidia, jonka lopullinen pH on edellä mainittu, ja suspension tai väliaineen pH:n on oltava ennen kuivaamista välillä 4-6 ja erikoisesti 5-6.
11 87066
Voi olla edullista, ennen kaikkea siinä tapauksessa että käytetään epäorgaanista happoa, suorittaa viimeinen pesu deponoidun veden avulla.
Keksinnön erään erikoismuunnelman mukaisesti suoritetaan hapon ja silikaatin reaktion jälkeen ja juuri ennen piidioksidin erottamista suspension tai geelin kovettaminen. Tämä kovettaminen tapahtuu tavallisesti pH-arvolla korkeintaan 6 ja on esimerkiksi välillä 4-6. On myös mahdollista suorittaa kovettaminen reaktion aikana pH-arvolla 6-8. Nämä kovettamiset suoritetaan mieluimmin kuumassa, esimerkiksi lämpötilavä1i1lä o o 80 C - 100 C ja niiden kesto voi vaihdella viidestätoista minuutista kahteen tuntiin.
Kun piidioksidipaakku on pesty tai käsitelty edellä selostettujen menettelytapojen mukaisesti, se, tai mikäli se on hajotettu, sen suspensio kuivataan millä tahansa tunnetulla tavalla. Kuivaus voi tapahtua erikoisesti sumuttamalla. Mikäli on tarpeen, kuivattu aine voidaan jauhaa halutun raekoon saamiseksi .
Keksintö koskee myös hammastahnakoostumuksia, jotka sisältävät udella olevan tyyppisiä pi idiokn Klo i« tai jotka on saatu menetelmän avulla, jota on juuri tarkasteltu.
Keksinnön mukaisen piidioksidin määrä, joka käytetään hammas-tahnakoostumuksissa, voi vaihdella laajoissa rajoissa ja on tavallisesti välillä 5-35 paino-%.
Keksinnön mukaiset piidioksidit soveltuvat erikoisen hyvin hammastahnakoostumuksiin, jotka sisältävät ainakin yhtä alkuainetta, joka on valittu ryhmästä, johon kuuluvat fluoridit, fosfaatit, sinkki.
Mitä tulee fluoria sisältäviin yhdisteisiin, niiden määrä vastaa mieluimmin fluorin konsentraatiota koostumuksessa, joka 87066 12 on välillä 0,01-1 paino-X ja erikoisesti 0,1-0,5 X. Fluoriyh-disteitä ovat erikoisesti monofluorifosforihapon suolat ja erikoisesti natriumkalium-, litium-, kalsium-, alumiini- ja ammoniumsuolat, ja mono- ja di fluorifosfaatti samoin kuin eri fluoridit, jotka sisältävät fluorin sidotun ionin muodossa, erikoisesti alkalifluoridit kuten natrium-, litium-, kalium-fluoridi, ammoniumfluoridi, stannofluoridi, mangaanifluoridi, zirkoniumfluoridi, alumiinifluoridi samoin kuin näiden fluo-ridien additiotuotteet keskenään tai muiden fluoridien kuten kalium- tai natrium- tai mangaanifluoridin kanssa.
Esillä olevassa keksinnössä voidaan käyttää myös muita fluo-rideja kuten esimerkiksi sinkkifluoridia, germaniumfluoridia, palladiumfluoridia, titaanifluoridia, alkalifluozirkonaatteja, esimerkiksi natrium- tai kaliumfluozirkonaattia, stannofluo-zirkonaattia, natrium- tai kaiiumfluoboraattia tai natrium-tai kaliumfluosulfaattia.
Orgaanisia fluorlyhdisteitä voidaan myös käyttää, mieluimmin niitä, jotka ovat tunnettuja kuten pitkäketjuieten amiinien tai aminohappojen additiotuotteet fluorivedyn, ketyyliamii-nifluoridin, bis-(hydroksietyyli)aminopropyyli-N-hydroksi-etyyli-oktadekyyliamiini-dihydrofluoridin, oktadekyyliamiini-fluoridin ja N,N', N'-tri<polyoksietyleeni>-N-heksadekyy1ipro-py leemdiami ini -dihydr of luoridin kanssa .
Mitä tulee sinkkiin, se on mukana erikoisesti sitraatin tai sulfaatin muodossa.
Alkuaineista, jotka ovat hyödyllisiä anti-plakkiaineina ja tyypiltään polyfosfaatteja tai polyfosfonaatteja, guanidiine-ja, bis-biguanideja, voidaan mainita ne, jotka on esitetty patenteissa US 3 934 002 tai 4 110 083, jotka on liitetty oheen.
8 7 066 13
Hammastahnakooetumukeet voivat lisäksi sisältää sideainetta.
Pääasialliset käytettävät sideaineet valitaan erikoisesti seuraavi sta: selluloosajohdannaiset: metyyliselluloosa, hydroksietyyli-selluloosa, na tr iumkarboksimetyy1isellulooea, liima-aineet: karragenaatit, alginaatit, agar-agar ja geloo-s i t, kumit: arabikumi ja traganttikumi, ksantaanikumi, Karaya-kumi, karboksivinyy1i- ja akryylipolymeerit, polyoksietyleenihartsit.
Paitsi keksinnön mukaisia piidioksideja voivat hammastahna-koostumukset sisältää myös yhtä tai useampaa muuta hankaavaa ja kiillottavaa ainetta, jotka valitaan erikoisesti seuraa-vi s ta: edellä mainittu ka1siumkarbonaatti, magnesiumkarbonaatti, ka 1 s lumiosfaatit, sekä di- että trikä1siumfosfaatit, 1iukenematon natriummetafosfaatti, kaislumpyrofosfaatti, titaanioksidi (valkaiseva aine), silikaatit, alumiinioksidit ja si1ikoaluminaatit, sinkki- ja tinaoksidit, talkki, kaoliini.
Hammastahnakooetumukeet voivat sisältää myös pesuaineita, kostuttavia aineita, aromia antavia aineita, makeuttavia aineita ja väriaineita ja säilyttäviä aineita.
Pääasialliset käytettävät pesuaineet valitaan erityisesti seuraavista: 14 87066 natriumlauryylisulfaatti , natriumlauryy1ieetterieulfaatti ja -lauryy1iaulfoasetaatti, natriumdioktyylisulf osukkinaatti, natriumlauryylisarkoeinaatti , natriumrisino-oleaatti , monoglyseridisulfaatit .
Pääasialliset käytettävät kostuttavat aineet valitaan erikoisesti polyalkoholeista kuten: glyseroli, sorbitoli, tavallisesti 70-prosenttisena vesiliuoksena, propy1eeniglyko1i.
Pääasialliset aromaattiset aineet (parfyymi) valitaan erityisesti seuraavista: anis-, badiani-, minttu-, katajanmarja-, kaneli-, neilikka- ja ruusueeanssit.
Pääasialliset makeuttavat aineet valitaan erityisesti orto-sulfobenteoeimideistä ja syklamaateista.
Pääasialliset käytettävät väriaineet valitaan erityisesti halutun värin mukaan seuraavista: punainen ja ruusunpunainen väri: amarantti, atsorubiini, cach- ou, uusi kokkiini (Ponceau 4R), kokkenilli, erytrosiini, vihreä väri: klorofylli ja klorofylliini, keltainen väri: auringon keltainen (Orange S) ja kinoleiinin keltainen.
Eniten käytetyt pääasialliset säιlytysaineet ovat: parahyd- roksibentsoaatit, formaliini ja aineet, joista vapautuu niitä, heksetidiini, kvaternäärieet ammoniumyhdisteet, heksakloro-feeni, bromofeeni ja heksamediini.
15 87066
Hammastahnakoostumukset sisältävät lopuksi vielä terapeuttisia aineita, joista tärkeimmät valitaan seuraavista: antiseptit ja antibiootit, entsyymit, hivenalkuaineet ja fluoriyhdisteet, jotka on esitetty edellä.
Seuraavassa annetaan konkreettisia, mutta ei-rajoittavia esimerkkejä. Sitä ennen selostetaan testejä piidioksidin yhteensoveltuvuuden mittaamiseksi eri alkuaineiden kanssa.
Yhteensoveltuvuuden mittaaminen fluoridien kansaa 4 g piidioksidia dispergoidaan 16 g:aan 0,3-%:sta natriumfluo- o ridin (NaF) liuosta. Suspensiota sekoitetaan 24 h 37 C:esa. Suspensio sentrifugoidaan nopeudella 20 000 kierr./min 30 min ajan, päällä kelluva osa suodatetaan Millipore 0,2 ^um suodattimena. Näin saatu liuos on koeliuos.
Vertailuliuoksena käytetään samalla tavoin käsiteltyä liuosta, jossa ei ole piidioksidia.
Yhteensoveltuvuus fluoridien kanssa määrätään prosenteissa vapaata fluoridia mittaamalla fluoridille selektiivisen elektrodin kanssa (Orion). Se määrätään alla olevan yhtälön avulla.
F:n konsentraatio koeliuoksessa (ppm)
Yhteensoveltuvuus % =-—— -xlOO
F:n konsentraatio vertailuliuoksessa (ppm)
Yhteensoveltuvuuden mittaaminen sinkin kanssa 4 g piidioksidia dispergoidaan 100 ml:aan 0,06-X:sta ZnSO^.
7 H2O. Saadaan suspensio, jonka pH stabilisoidaan arvoon 7 15 min ajan lisäämällä NaOH:a tai H^SO^rää. Suspensiota sekoi- o tetaan sitten 24 h 37 C:esa, sen jälkeen se sentrifugoidaan 20 000 kierr./min 30 min ajan.
87066 1β ν'·
Millipore 0,2 ^um suodattimen avulla suodatettu päällä kelluva osa muodostaa koeliuoksen.
Vertailuliuos muodostuu noudattamalla samaa ohjetta, mutta ilman piidioksidia.
Näiden kahden liuoksen sisältämän vapaan sinkin konsentraatio määrätään atomiabsorption avulla <214 nm).
Yhteensoveltuvuus määrätään alla olevan yhtälön mukaan:
Zn:n konsentraatio koeliuoksessa <ppm>
Yhteensoveltuvuus %=-----x 100
Zn:n konsentraatio vertailulioksessa < ppm)
Yhteensoveltuvuuden mittaaminen natrium- ia kaiiumpvrofos-faattien kanssa 4 g piidioksidia dispergoidaan 16 g:aan 1,5-X:sta natrium- tai kaiiumpyrofosfaatin suspensiota. Suspensiota sekoitetaan 24 h o 37 C:ssa, sen jälkeen se sentrifugoidaan nopeudella 20 000 kierr./min 30 min ajan.
Päällä kelluva osa suodatetaan Millipore 0,2 ^um suodattimen läpi. 0,2 g liuosta laimennettuna 100 ml:aan vettä asteikolla varustetussa pullossa on koeliuos.
Vertailuliuos muodostuu seuraamalla samaa ohjetta, mutta ilman piidioksidia.
Näiden kahden liuoksen vapaan pyrofosfaatti-ionin <P20? ) konsentraatio määrätään ioni-kromatografisesti (systeemi DIONEX 2000i), joka on varustettu integraattori1la.
17 87066
Yhteensoveltuvuus määrätään kromatogrammeissa saatujen piikki-alueiden suhteena, jotka vastaavat pyrofosfaatin retentioai-koja koeliuoksessa ja vertailuliuoksessa.
koeliuoksen piikkialue
Yhteensoveltuvuus % = 100 x -——— -— vertailuliuoksen piikkialue ggjmerk.kj 1
Reaktoriin, joka on varustettu lämpötilan ja pH-arvon säätely laitteilla ja turbiinisekoitinsysteemi1lä, pannaan 6 1 deionoitua vettä.
Kun sekoittaminen on pantu käyntiin <300 kierr./min) näin o muodostunutta altaan pohjaa kuumennetaan Θ5 C:een.
Kun tämä lämpötila on saavutettu, lisätään samanaikaisesti 8.5 1 natriumsilikaattia, jonka piidioksidin konsentraatio on 120 g/1, suhde Si02/Na20 on 3,5, ja virtaama 0,34 1/min ja 13.5 1 rikkihappoa, jonka konsentraatio on 80 g/1. Hapon virtaama säädetään siten, että pidetään väliaineen pH vakioarvossa 8,0.
Kun lisääminen on jatkunut 40 min, annetaan seoksen kovettua 10 min tällä pH-arvolla ja tässä lämpötilassa.
Pysäytetään silikaatin lisääminen ja jatketaan hapon lisäämistä, kunnes reaktioseoksen pH on stabiloitunut arvoon 4.
Sen jälkeen suoritetaan kovettaminen 15 min ajan tällä pH-arvolla ja lämpötilassa 85 C.
Sitten seos suodatetaan ja kostea suodatuspaakku pestään deionoidun veden avulla.
18 87066
Paakku diepergoidaan sen jälkeen deionoituun veteen, jolloin muodostuu homogeeninen suspensio, jonka sisältämän piidioksidin konsentraatio on 50 g/1. Tämän suspension pH säädetään arvoon 5,8 lisäämällä typpihappoa ja annetaan seoksen stabilisoitua tähän pH-arvoon 15 min kuluessa.
Suspensio suodatetaan.
Sen jälkeen aine kuivataan surmattamalla ja jauhetaan forplex tyyppisellä jauhattimella, jolloin saadaan raekooksi 9 /Um.
Näin saadun piidioksidin tyypilliset fysikaalis-kemialliset ominaisuudet ovat seuraavat: 2 BET-pinta 90 m /g 2 CTAB-pinta 60 m /g 3 öljyn imeytyminen 105 cm /100 g pH 6,8 2 OH-ryhmien lukumäärä/nm 8
Piidioksidin kemialliset analyysit on koottu seuraavaan taulukkoon.
Ionit AI Fe Ca C
ppm 350 110 300 10
Piidioksidin PZC on 4,5.
Jäljempänä olevaan taulukkoon on koottu näin saadun piidioksidin eri yhteensoveltuvuusarvot hammastahnakoostumuksen aineosien kanssa ja mitattu toisaalla selostettujen erilaisten testien avulla:
Aineosat Fluoridi Pyrofosfaatti Sinkki
NaF Na/K ZnSO^
Yhteensoveltuuvus X 90 98 90 19 87066
Vertailuesimerkki 2
Seuraavassa annetaan vertailun vuoksi kaupallisten piidioksidien yhteensoveltuvuuearvojen mittaukset, joita piidioksideja käytetään tavallisesti hammastahnaresepteissä, samoin kuin niiden fysikaa1iskemia11 iset tyypilliset ominaisuudet.
Piidioksidi Pinta Lukumäärä Yhteensopivuus 2 2
Merkki m /g OH/nm Zn F Pyrofosfaatti
Valmistaja CTAB BET
Zeodent 113 50 100 30 0 95 95
Hubert
Tixosil 53 50 250 30 0 60 90
Rhone-Poulenc Z 119 50 60 25 20 95 95
Rhone-Poulenc
Huomattakoon, että tämän taulukon piidioksidien PZC on alle 3. Esimerkki 3 Tämä esimerkki koskee läpikuultamatonta, tahnamaista hammas-tahnareseptiä:
Valmistuskaava on seuraava:
Glyseriini 22,00 CMC 7mFD 1,00
Natriumsakkarinaattl 0,20
Natrium-monofluorifosfaatti 0,76
Natriumfluoridi 0,10
Natrium-lauryy1isulfaatti <30 % vesiliuos) 4,67
Natriumbentsoaatti 0,10
Aromiaine 0,90 20 87066
Titaanidioksidi 1,00
Piidioksidi esimerkistä 1 31,50
ZnS04 . 7 H20 0,48
Tislattu vesi 37,29
Reologinen ja visuaalinen tarkastuslausunto saadusta hammastahnasta osoittaa, että hammastahnan tavalliset ominaisuudet ovat hyvät.
Keksintö ei tietenkään ole mitenkään rajoitettu selostettuihin toteutusmuotoihin, jotka on annettu ainoastaan esimerkkeinä. Erikoisesti se käsittää kaikki esitettyjen valmistustapojen kanssa ekvivalenttiset tekniset keinot samoin kuin niiden yhdistelmät, mikäli niitä on käytetty patenttivaatimusten suojapiirissä.
Claims (24)
1. Piidioksidi, tunnettu siitä, että sen pinnan kemiallinen luonne on sellainen, että OH-ryhmien lukumäärä ilmaistu-na OH/nm on korkeintaan 15 ja että sen varauksen nollapiste, PZC, on välillä 3-6,5 ja yhteensoveltuvuus sinkin kanssa ainakin 50 %.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen piidioksidi, tunnettu 2 siitä, että OH-ryhmien lukumäärä ilmaistuna yksikköinä OH/nm on korkeintaan 12 ja erikoisesti välillä 3-12.
3. Patenttivaatimusten 1 ja 2 mukainen piidioksidi, tunnettu siitä, että sen alumiinipitoisuus on korkeintaan 500 ppm.
4. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen piidioksidi, tunnettu siitä, että sen rautapitoisuus on korkeintaan 200 ppm.
5. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen piidioksidi, tunnettu siitä, että sen kalsiumpitoisuus on korkeintaan 500 ppm, erikoisesti korkeintaan 300 ppm.
6. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen pii-· dioksidi, tunnettu siitä, että sen hiilipitoisuus on korkeintaan 50 ppm ja erikoisesti korkeintaan 10 ppm.
7. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen piidioksidi, tunnettu siitä, että sen pH on korkeintaan 7 ja erikoisesti välillä 5,5-7.
8. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen piidioksidi, tunnettu siitä, että sen BET-pinta on välillä 40-600 mz/g. • 87066
9. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen piidioksidi, tunnettu siitä, että sen CTAB-pinta on välillä 40-400 mVg.
10. Patenttivaatimuksen 8 mukainen piidioksidi, tunnettu siitä, että sen BET-pinta on välillä 40-300 m /g, jolloin se on tyypiltään hankaava.
11. Patenttivaatimusten 9 ja 10 mukainen piidioksidi, tunnettu siitä, että sen CTAB-pinta on välillä 40-100 m2/g.
12. Patenttivaatimuksen 8 mukainen piidioksidi, tunnettu siitä, että sen BET-pinta on välillä 120-450 m2/g, erityisesti 120-200 m2/g, jolloin se on tyypiltään sakeuttava.
13. Patenttivaatimusten 9 ja 12 mukainen piidioksidi, tunnet- 2 tu siitä, että sen CTAB-pinta on välillä 120-400 m /g.
14. Patenttivaatimuksen 8 mukainen piidioksidi, tunnettu siitä, että sen BET-pinta on välillä 80-200 m2/g, jolloin se on tyypiltään bifunktionaalinen.
15. Patenttivaatimusten 9 ja 14 mukainen piidioksidi, tunnettu siitä, että sen CTAB-pinta on välillä 80-200 m2/g.
16. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen piidioksidi, tunnettu siitä, että sen öljyn imemiskyky on vä- . Iillä 80-500 cmVlOO g.
; ; 17. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen pii dioksidi, tunnettu siitä, että sen hiukkasten keskimääräinen koko on välillä 1-10 pm.
18. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen piidioksidi, tunnettu siitä, että kyseessä on saostettu piidioksidi . 87066
19. Menetelmä, jonka avulla voidaan valmistaa jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukaista piidioksidia, joka menetelmä on tyypiltään sellainen, että se käsittää silikaatin reaktion hapon kanssa, jolloin saadaan piidioksidin suspensio tai geeli, piidioksidin erottamisen ja kuivaamisen, tunnettu siitä, että piidoksidin erottamisen jälkeen suspensiosta suoritetaan ensimmäinen saadun suodospaakun vesipesu, sitten toinen pesu tai käsittely happoliuoksen kanssa.
20. Patenttivaatimuksen 19 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että mainittu happoliuos on orgaanisen, nimemomaan kompleksia muodostavan hapon liuos, joka happo on valittu ryhmästä karboksyylihapot, dikarboksyylihapot, aminokarbok-syylihapot, hydroksikarboksyylihapot.
21. Patenttivaatimuksen 20 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että orgaaninen happo valitaan ryhmästä, jonka muodostavat etikka-, glukoni-, viini-, sitruuna-, maleiini- ja glyserolihappo.
21 87066
22. Jonkin patenttivaatimuksen 19-21 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että silikaatin reaktion jälkeen hapon kanssa saadun suspension pH säädetään arvoon korkeintaan 6, erikoisesti välille 4-6.
23. Jonkin patenttivaatimuksen 19-22 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että piidioksidin suspensio tai geeli kovete- ; taan ennen erotusta.
.··.. 24. Hammastahnakoostumus, joka sisältää piidioksidia, sink- kiyhdistettä, mahdollisesti fluoridia ja/tai fosfaattia sekä mahdollisesti side-, hankaus-, pesu-, kostutus-, aromi-, väri- ja/tai säilytysainetta, tunnettu siitä, että koostumus sisältää 5-35 paino-% piidioksidia, jonka pinnan kemiallinen luonne on sellainen, että OH-ryhmien lukumäärä ilmaistuna yksikköinä OH/nm7 on korkeintaan 15 ja että sen varauksen nollapiste (PZC) on välillä 3-6,5 ja yhteensoveltuvuus sin- . . kin kanssa ainakin 50 %. 2" 87066
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8715276A FR2622565B1 (fr) | 1987-11-04 | 1987-11-04 | Silice pour compositions dentifrices compatible notamment avec le zinc |
| FR8715276 | 1987-11-04 |
Publications (4)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FI885080A0 FI885080A0 (fi) | 1988-11-03 |
| FI885080A FI885080A (fi) | 1989-05-05 |
| FI87066B FI87066B (fi) | 1992-08-14 |
| FI87066C true FI87066C (fi) | 1992-11-25 |
Family
ID=9356469
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FI885080A FI87066C (fi) | 1987-11-04 | 1988-11-03 | Saerskilt med zink kompatibel kiseloxid foer tandkraemskompositioner |
Country Status (25)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5744114A (fi) |
| EP (1) | EP0317378B2 (fi) |
| JP (1) | JPH01239016A (fi) |
| KR (1) | KR930004549B1 (fi) |
| CN (1) | CN1014316B (fi) |
| AT (1) | ATE74111T1 (fi) |
| AU (1) | AU625989B2 (fi) |
| BR (1) | BR8805830A (fi) |
| CA (1) | CA1340778C (fi) |
| DE (1) | DE3869561D1 (fi) |
| DK (1) | DK612488A (fi) |
| ES (1) | ES2036704T5 (fi) |
| FI (1) | FI87066C (fi) |
| FR (1) | FR2622565B1 (fi) |
| GR (2) | GR3004224T3 (fi) |
| HK (1) | HK13493A (fi) |
| IE (1) | IE60651B1 (fi) |
| IL (1) | IL88283A (fi) |
| MA (1) | MA21425A1 (fi) |
| MY (1) | MY103926A (fi) |
| NZ (1) | NZ226817A (fi) |
| PT (1) | PT88932B (fi) |
| SG (1) | SG110792G (fi) |
| TN (1) | TNSN88115A1 (fi) |
| ZA (1) | ZA888237B (fi) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1993023007A1 (en) * | 1992-05-19 | 1993-11-25 | W.R. Grace & Co.-Conn. | Oral care compositions containing silica based materials with improved compatibility |
| ATE142986T1 (de) * | 1993-08-07 | 1996-10-15 | Degussa | Verfahren zur herstellung einer fällungskieselsäure |
| US20090196929A1 (en) * | 2008-02-01 | 2009-08-06 | J.M. Huber Corporation | Silica Wetcake Treatment Method |
| US20100047742A1 (en) * | 2008-08-25 | 2010-02-25 | Pitcock Jr William Henry | Tubule-blocking silica materials for dentifrices |
| CA2744386C (en) * | 2008-11-25 | 2013-10-01 | The Procter & Gamble Company | Improved cleaning oral care compositions |
| US8551457B2 (en) | 2008-11-25 | 2013-10-08 | The Procter & Gamble Company | Oral care compositions comprising spherical fused silica |
| US20100189663A1 (en) * | 2009-01-24 | 2010-07-29 | Gallis Karl W | Mouth rinse compositions including chemically modified silica or silicate materials for sustained delivery to tooth surfaces |
| US20110206749A1 (en) * | 2010-02-19 | 2011-08-25 | J.M. Huber Corporation | Silica materials for reducing oral malador |
| US20110236444A1 (en) * | 2010-03-25 | 2011-09-29 | Darsillo Michael S | Antimicrobial Silica Composites |
| US20110293541A1 (en) | 2010-05-25 | 2011-12-01 | John Christian Haught | Oral Care Compositions And Methods Of Making Oral Care Compositions Comprising Silica From Plant Materials |
| RU2608129C2 (ru) | 2012-11-05 | 2017-01-13 | Дзе Проктер Энд Гэмбл Компани | Термически обработанная осажденная двуокись кремния |
| CN105980309B (zh) * | 2014-02-14 | 2018-09-18 | 罗地亚经营管理公司 | 制备沉淀二氧化硅的方法、沉淀二氧化硅及其用途，特别是用于增强聚合物 |
| FR3017609B1 (fr) * | 2014-02-14 | 2016-03-18 | Rhodia Operations | Nouveau procede de preparation de silices precipitees, nouvelles silices precipitees et leurs utilisations, notamment pour le renforcement de polymeres |
| DE102015214344A1 (de) | 2015-07-29 | 2017-02-02 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Fällungskieselsäuren und Verfahren zur Messung des Schonabriebfaktors |
| EP3436155B1 (en) * | 2016-03-31 | 2021-10-13 | Unilever Global IP Limited | Toothpaste composition |
| BR122024001403A2 (pt) * | 2018-06-19 | 2024-02-27 | Rhodia Operations | Sílica para composições para cuidado oral |
| CN115385347B (zh) * | 2022-09-05 | 2023-03-14 | 金三江(肇庆)硅材料股份有限公司 | 一种可调节孔径的沉淀型二氧化硅及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3070426A (en) * | 1959-08-11 | 1962-12-25 | Grace W R & Co | Process for preparing low surface area silica |
| US3794712A (en) * | 1971-10-26 | 1974-02-26 | Nat Petro Chem | Preparation of silica gels |
| US3800031A (en) * | 1972-04-06 | 1974-03-26 | Grace W R & Co | Process for preparing silica hydrogel |
| US3803046A (en) * | 1972-06-28 | 1974-04-09 | Grace W R & Co | Process for preparing silica organogel |
| US4216113A (en) * | 1973-01-18 | 1980-08-05 | W. R. Grace & Co. | Process for preparing thickening grade of silica and process of using same |
| US4049781A (en) * | 1973-11-02 | 1977-09-20 | W. R. Grace & Co. | Method of preparing loosely aggregated 200-500 millimicron silica |
| GB1580672A (en) * | 1977-03-23 | 1980-12-03 | Mittex Anstalt | Manufacture of silica gel |
| US4303641A (en) * | 1978-05-24 | 1981-12-01 | W. R. Grace & Co. | Hydrous silica gel containing dentifrice |
| US4272509A (en) * | 1978-09-19 | 1981-06-09 | J. M. Huber Corporation | Precipitated silicon dioxide cleaning agent and dentifrice composition |
| JPS60204613A (ja) * | 1984-03-30 | 1985-10-16 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 高純度シリカゲルの製造方法 |
| JPS6256319A (ja) * | 1985-09-03 | 1987-03-12 | Nippon Chem Ind Co Ltd:The | 高純度シリカの製造法 |
| JPH0643246B2 (ja) * | 1985-10-08 | 1994-06-08 | 川鉄鉱業株式会社 | シリカの高純度化方法 |
| GB8529796D0 (en) * | 1985-12-03 | 1986-01-08 | Unilever Plc | Precipitated silicas |
| GB8604985D0 (en) * | 1986-02-28 | 1986-04-09 | Unilever Plc | Precipitated silicas |
| US4973462A (en) * | 1987-05-25 | 1990-11-27 | Kawatetsu Mining Company, Ltd. | Process for producing high purity silica |
-
1987
- 1987-11-04 FR FR8715276A patent/FR2622565B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-10-21 EP EP88402653A patent/EP0317378B2/fr not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-21 AT AT88402653T patent/ATE74111T1/de not_active IP Right Cessation
- 1988-10-21 ES ES88402653T patent/ES2036704T5/es not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-21 DE DE8888402653T patent/DE3869561D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-11-02 AU AU24594/88A patent/AU625989B2/en not_active Ceased
- 1988-11-02 MY MYPI88001249A patent/MY103926A/en unknown
- 1988-11-02 NZ NZ226817A patent/NZ226817A/xx unknown
- 1988-11-03 IE IE332588A patent/IE60651B1/en not_active IP Right Cessation
- 1988-11-03 MA MA21667A patent/MA21425A1/fr unknown
- 1988-11-03 CN CN88108841A patent/CN1014316B/zh not_active Expired
- 1988-11-03 CA CA000582107A patent/CA1340778C/fr not_active Expired - Fee Related
- 1988-11-03 DK DK612488A patent/DK612488A/da not_active Application Discontinuation
- 1988-11-03 TN TNTNSN88115A patent/TNSN88115A1/fr unknown
- 1988-11-03 ZA ZA888237A patent/ZA888237B/xx unknown
- 1988-11-03 IL IL88283A patent/IL88283A/xx not_active IP Right Cessation
- 1988-11-03 FI FI885080A patent/FI87066C/fi not_active IP Right Cessation
- 1988-11-04 KR KR1019880014525A patent/KR930004549B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1988-11-04 BR BR888805830A patent/BR8805830A/pt not_active IP Right Cessation
- 1988-11-04 JP JP63277544A patent/JPH01239016A/ja active Granted
- 1988-11-13 PT PT88932A patent/PT88932B/pt not_active IP Right Cessation
-
1992
- 1992-04-01 GR GR920400594T patent/GR3004224T3/el unknown
- 1992-10-22 SG SG1107/92A patent/SG110792G/en unknown
-
1993
- 1993-02-18 HK HK134/93A patent/HK13493A/xx not_active IP Right Cessation
-
1995
- 1995-10-31 GR GR950403029T patent/GR3017923T3/el unknown
-
1996
- 1996-07-16 US US08/682,332 patent/US5744114A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| FI87066C (fi) | Saerskilt med zink kompatibel kiseloxid foer tandkraemskompositioner | |
| FI91387B (fi) | Erityisesti metallikationeiden kanssa yhteensopiva piidioksidi hammastahnoihin | |
| EP0308165B1 (en) | Silicas | |
| EP0236070B1 (en) | Silicas | |
| US5286478A (en) | Dentifrice-compatible silica particulates | |
| CA1093789A (en) | Precipitated siliceous products and methods for their use and production | |
| CA1049228A (en) | Amorphous precipitated siliceous pigments and methods for their production | |
| EP0227334B1 (en) | Precipitated silicas | |
| AU621117B2 (en) | Silica and method of preparing same for use in toothpaste compositions | |
| FI89899B (fi) | Speciellt med klorhexidin kompatibel kiseldioxid foer anvaendning i tandkraemskompositioner | |
| US5614177A (en) | Dentifrice-compatible silica particulates | |
| KR920008564B1 (ko) | 유기 아미노 화합물과 혼화성이 있는 치약조성물용 실리카 | |
| KR790001612B1 (ko) | 무정형 침전 실리카의 제조방법 | |
| JPH0764549B2 (ja) | 特に有機アミノ化合物と相容しうる歯磨き組成物用シリカ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM | Patent lapsed |
Owner name: RHONE-POULENC CHIMIE |