JPH07149514A - 沈降シリカの製造方法 - Google Patents

沈降シリカの製造方法

Info

Publication number
JPH07149514A
JPH07149514A JP6184672A JP18467294A JPH07149514A JP H07149514 A JPH07149514 A JP H07149514A JP 6184672 A JP6184672 A JP 6184672A JP 18467294 A JP18467294 A JP 18467294A JP H07149514 A JPH07149514 A JP H07149514A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
precipitated silica
silica
value
surface area
alkali metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP6184672A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2556667B2 (ja
Inventor
Heinz Esch
エッシュ ハインツ
Robert Kuhlmann
クールマン ローベルト
Mattias Neumueller
ノイミュラー マティアス
Karin Otto
オットー カーリン
Ralf Dr Rausch
ラウシュ ラルフ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Evonik Operations GmbH
Original Assignee
Degussa GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE4423493A external-priority patent/DE4423493A1/de
Application filed by Degussa GmbH filed Critical Degussa GmbH
Publication of JPH07149514A publication Critical patent/JPH07149514A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2556667B2 publication Critical patent/JP2556667B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/187—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
    • C01B33/193—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates of aqueous solutions of silicates
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/19—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing inorganic ingredients
    • A61K8/25—Silicon; Compounds thereof
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
    • A61Q11/00—Preparations for care of the teeth, of the oral cavity or of dentures; Dentifrices, e.g. toothpastes; Mouth rinses
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12—Surface area
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/22—Rheological behaviour as dispersion, e.g. viscosity, sedimentation stability

Abstract

(57)【要約】 【目的】 改良された沈降シリカの製造方法を提供す
る。 【構成】 該方法は、水ガラスを添加してｐＨ値を調整
した水槽に、ｐＨ値を７．０〜９．９又は１０．０〜１
０．７に常時維持しながら、アルカリ金属珪酸塩及び鉱
酸を同時に加える、その際、初期沈降温度が５０℃〜９
０℃であり、粘度上昇が遅くとも沈降時間の２５％後に
開始し、１２０ｇ／ｌより大のシリカ含量に到達した後
でｐＨ値を６以下に調整し、固体を濾別し、洗浄し、乾
燥し、次いで粉砕することよりなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、沈降シリカの製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】合成により製造されたシリカは、長年
来、歯科衛生用品として重要である。練り歯磨きに使用
するために特別に製造されるシリカの一連の製造方法は
公知である。これらの方法は、経済的にも生態学的にも
満足できない操作技術的な欠点を有する。
【０００３】一連の方法では、目的生成物の要求される
純度を達成するために、引続き再度洗浄しなければなら
ない大量の電解質が使用される。このことにより、排水
中に著しい塩負荷が生じる（ドイツ国特許出願公告第２
４４６０３８号明細書）。
【０００４】その他の方法では、特別な沈降槽を準備す
るために付加的な部分工程が組込まれているか又は複数
の単離工程を有する付加的な熱水反応工程が組込まれて
いる（ヨーロッパ特許第０３１７３７８号明細書）。
【０００５】ドイツ国特許出願公告第１４６７０１９号
明細書から、２００ｍ2／ｇより大きい表面積を有する
補強剤沈降シリカの製造方法が公知である。該沈降シリ
カは練り歯磨きの使用には適していない。
【０００６】公知の方法のもう１つの欠点は、シリカを
沈降させる際に停止期間（老化工程）を必ず導入するこ
とによる、又は希釈した反応成分を使用することによる
低い空時収率である。このことにより、常法では沈降終
了時にＳｉＯ2約４０〜６０ｇ／リットルの固体含有物
が得られるにすぎない（ヨーロッパ特許第０３１７３７
８号明細書）。
【０００７】
【発明の構成】驚異的にも、一工程の沈降処理により沈
降シリカを同時に高い空時収率で、かつ電解質を添加せ
ずに製造することが可能であることを見出した。
【０００８】本発明の対象は、水ガラスを添加すること
によりｐＨ値が７．０〜９．９ないしは１０．０〜１
０．７に調整された水槽に、ｐＨ値を７．０〜９．９な
いしは１０．０〜１０．７に常時維持しながら、アルカ
リ金属珪酸塩（重量比、ＳｉＯ 2：アルカリ金属酸化物
＝２．５〜３．９：１）と鉱酸を同時に加える、その
際、初期沈降温度が５０℃〜９０℃であり、粘度上昇が
遅くとも沈降時間の２５％後に開始し、１２０ｇ／ｌよ
り大又は１５０ｇ／ｌより大、有利には１６０ｇ／ｈ〜
２４０ｇ／ｌのシリカ含量に到達した後で、ｐＨ値を６
以下、有利には３．５に調整し、固体を濾別し、洗浄
し、乾燥し、次いで粉砕することを特徴とする、ＢＥＴ
−表面積１０〜１３０ｍ2／ｇを有し、ＣＴＡＢ−表面
積１０〜７０ｍ2／ｇ、平均粒径５〜２０μｍ、１０％
のグリセリン分散液中のＣｕ−磨耗量４〜５０ｍｇ及び
ＣＭＣ溶液（２０％の分散液）中の増粘特性３００〜３
５００ｍＰａ・ｓを有する沈降シリカの製造方法であ
る。
【０００９】濾過のためにチャンバープレス、バンドフ
ィルター又は膜フィルタープレスを使用することができ
る。
【００１０】乾燥のために空気循環乾燥器、ビュットナ
ー乾燥器（Buettnertrockner）、フロー乾燥器又は同様
の装置を使用することができる。
【００１１】流動フィルターケーキをスプレー乾燥器中
で乾燥することができる。
【００１２】フィルターケーキを流動化せずに粉砕乾燥
することができる。
【００１３】本発明による方法は、沈降懸濁液中の高い
固体含有率、フィルターケーキの僅かな保水性及びその
結果として僅かな乾燥エネルギーを使用することで、高
い経済性で沈降シリカの研磨率を、ひいては既製のペー
ストにおける練り歯磨き中での使用で広範囲に調整する
ことができるという点である。その際、研磨度は沈降懸
濁液中の固体含量を意図的に変更することにより調整す
ることができ、その際、これに伴う沈降パラメータ、例
えば温度、ｐＨ値又は反応体の供給速度の変更、その
他、増粘特性、屈折率などに関する変更もまた可能であ
る。固体含量における変更にもかかわらず、該含量は本
発明による沈降処理では基本的に非常に高いレベルに移
動する（１２０ｇ／ｌ以上、有利には１６０ｇ／ｌ〜２
４０ｇ／ｌ）。
【００１４】本発明による方法に基づいて製造した沈降
シリカは、研磨成分又は増粘成分として練り歯磨きを調
製する際に使用することができる。その他の使用可能性
としては、研磨剤又は研摩剤として使用することができ
る。本発明により製造した沈降シリカは研磨性シリカと
して練り歯磨き中で使用できるのが有利である。
【００１５】
【実施例】次に、本発明を以下の実施例につき詳細に説
明する。
【００１６】得られた沈降シリカの物理化学的及び使用
技術的データを表１に示す。
【００１７】例１ 間接的な加熱装置を備えた３０リットルの沈降容器に、
撹拌下で水１２．８リットルを装入し、８５℃に加熱し
た。該温度を維持しながら、まず少量の水ガラス溶液
（重量比３．４：１＝ＳｉＯ2 ２６．８％及びＮａ2Ｏ
７．８５％；密度１．３５２ｇ／ｍｌ）を加えること
によりｐＨ値を８．５に調整した。次いで水ガラス（上
記の組成）５６．５ｍｌ／分及びｐＨ値が常時８．５に
維持される量の硫酸（５０％）を同時に加えることによ
り２４０分間沈降させた。該懸濁液を、引続き硫酸（５
０％）でｐＨ値３．５まで酸性にした。該懸濁液のシリ
カ含量は１７１ｇ／ｌであった。沈降の際の粘度曲線を
図１に示す。
【００１８】得られたシリカをヌッチェを用いて懸濁液
から分離し、フィルターケーキを水で洗浄し、１０５℃
〜１１０℃に乾燥し、次いで実験用ピンミルで粉砕し
た。
【００１９】例２ 例１と同様に実施したが、但し装入した水のｐｈ値を水
ガラス溶液を用いて１０．７の値に調整し、該ｐＨ値を
水ガラスと硫酸を同時に供給しながら維持した。懸濁液
のシリカ含量は１７３ｇ／ｌであった。沈降の際の粘度
曲線を図２に示す。
【００２０】例３ 例２に基づいて処理した。但し、懸濁液中のシリカ含量
を水ガラス量及び硫酸量を増大させることにより２１０
ｇ／ｌに高めた。沈降の際の粘度曲線を図３に示す。
【００２１】例４ 例１に基づいて実施したが、但し、水ガラス５６．５ｍ
ｌ／分の添加速度及び常時ｐＨ値が７に維持される量の
硫酸（５０％）という点で異なって実施した。沈降時間
は１２６分であった。引続きｐＨ値を３．５に調整して
酸性にした後、１２５ｇ／ｌのシリカ含量を測定した。
沈降の際の粘度曲線を図４に示す。
【００２２】例５ 例１に基づいて実施したが、重量比２．５（ＳｉＯ2
２０．４４％及びＮａ2Ｏ ８．１８％、ｄ＝１．３０
１２ｇ／ｍｌ）を有する水ガラスを使用し、水ガラス計
量供給量を１０７．３ｍｌ／分及びＨ2ＳＯ4計量供給量
を２６．３３ｍｌ／分に上昇させることにより懸濁液中
のシリカ含量を１６０ｇ／ｌに調整した。沈降の際の粘
度曲線を図５に示す。
【００２３】
【表１】
【００２４】その際、使用した方法は以下の通りであ
る。
【００２５】比窒素−表面積（ＢＥＴ）の測定を、ブル
ナウアー−エメット−テーラーに基づき Stroehlein 社
の AREA-meter-装置を用いて行った。該測定は、ＤＩＮ
ＩＳＯ５７９４／１添付書類Ｄに基づいて行った。原
法は、“Journal of the _America Chemical Society”
60（1938） p.309 に初めて記載された。加熱温度は、
１時間に１６０℃であった。
【００２６】ＣＴＡＢ−表面積をセチルトリメチルアン
モニウムブロミドの吸着によりｐＨ値９で測定した（Ja
y, Janzen und Kraus 著、“Rubber Chemistry and Tec
hnology”44（1971）1287 参照）。
【００２７】粒子の分散を、Coulter Electronics 社の
Coulter Counter, Modell TA IIを用いて測定した。１
００μｍの毛管を使用した。
【００２８】研磨率の測定を、１０％のグリセリン懸濁
液（グリセリン１５７ｇ、水不含、シリカ１７ｇを翼型
撹拌器を用いて１５０ｒｐｍで１２分間分散させた）中
で、Ｃｕ−磨耗法により行った。該磨耗測定は上記分散
液中でＣｕ−板（電解質−銅）上をナイロンブラシで５
００００回往復運動させることにより行った。差違の比
較検討によりＣｕ−磨耗量ｍｇが得られた。文献：Pfre
ngle,Fette,Seifen,Anstrichmittel 63（1961）445-451
及び Reng,Dany,Parfumuemerie 及び Kosmetik 59（19
78）37-45。
【００２９】増粘特性の測定を、２０％のカルボキシメ
チルセルロース−溶液（ＰＥＧ４００ ５０ｇ、８７％
のグリセリン１ｋｇ、ＡＫＵ ＣＭＣ ＬＺ ８５５
２５ｇ、水９２５ｇ）中で行った。少なくとも１日間、
最長２週間で老化試験溶液にシリカを加え、分散させ、
次いで粘度を測定した（Brookfield RVT、スピンドル
５、１０ｕｐｍ、１分後の値）。０．５時間後及び２４
時間後即座に２５℃で熱安定性混合物の測定を実施し
た。後者のものは本来の測定値である。
【００３０】その他、湿分（１０５℃、２時間、ＤＩＮ
ＩＳＯ７８７ 第２部）、導電率（４％）、灼熱ロス
（１００℃で２時間、ＤＩＮ５５９２１と同様）を測定
した。
【図面の簡単な説明】
【図１】研磨性シリカの例１の粘度曲線を示すブラフで
ある。
【図２】研磨性シリカの例２の粘度曲線を示すブラフで
ある。
【図３】研磨性シリカの例３の粘度曲線を示すブラフで
ある。
【図４】研磨性シリカの例４の粘度曲線を示すブラフで
ある。
【図５】研磨性シリカの例５の粘度曲線を示すブラフで
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マティアス ノイミュラー ドイツ連邦共和国 ハッセルロート リン デンシュトラーセ 18 (72)発明者 カーリン オットー ドイツ連邦共和国 ハーナウ コルニツェ リウスシュトラーセ ４ アー (72)発明者 ラルフ ラウシュ ドイツ連邦共和国 クロイツァウ イン デン ベンデン 18

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ＢＥＴ−表面積１０〜１３０ｍ2／ｇを
    有し、ＣＴＡＢ−表面積１０〜７０ｍ2／ｇ、平均粒径
    ５〜２０μｍ、１０％のグリセリン分散液中のＣｕ−磨
    耗量４〜５０ｍｇ及びＣＭＣ溶液（２０％の分散液）中
    の増粘特性３００〜３５００ｍＰａ・ｓを有する沈降シ
    リカを製造する方法において、水ガラスを添加すること
    によりｐＨ値が７．０〜９．９ないしは１０．０〜１
    ０．７に調整された水槽に、ｐＨ値を７．０〜９．９な
    いしは１０．０〜１０．７に常時維持しながら、アルカ
    リ金属珪酸塩（重量比 ＳｉＯ2：アルカリ金属酸化物
    ＝２．５〜３．９：１）及び鉱酸を同時に加える、その
    際、初期沈降温度が５０℃〜９０℃であり、粘度上昇が
    遅くとも沈降時間の２５％後に開始し、１２０ｇ／ｌよ
    り大又は１５０ｇ／ｌより大のシリカ含量に到達した後
    でｐＨ値を６以下に調整し、固体を濾別し、洗浄し、乾
    燥し、次いで粉砕することを特徴とする、沈降シリカの
    製造方法。
  2. 【請求項２】 濾過のために、チャンバープレス又は膜
    フィルタープレスを使用する、請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】 乾燥のために、空気循環乾燥器、ビュッ
    トナー乾燥器、フロー乾燥器又は同様の装置を使用す
    る、請求項１記載の方法。
  4. 【請求項４】 流動フィルターケーキをスプレー乾燥器
    中で乾燥する、請求項１記載の方法。
  5. 【請求項５】 フィルターケーキを粉砕乾燥する、請求
    項１記載の方法。
JP6184672A 1993-08-07 1994-08-05 沈降シリカの製造方法 Expired - Fee Related JP2556667B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4326576 1993-08-07
DE4326576.6 1994-07-05
DE4423493.7 1994-07-05
DE4423493A DE4423493A1 (de) 1993-08-07 1994-07-05 Verfahren zur Herstellung einer Fällungskieselsäure

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07149514A true JPH07149514A (ja) 1995-06-13
JP2556667B2 JP2556667B2 (ja) 1996-11-20

Family

ID=25928419

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6184672A Expired - Fee Related JP2556667B2 (ja) 1993-08-07 1994-08-05 沈降シリカの製造方法

Country Status (14)

Country Link
US (1) US5484581A (ja)
EP (1) EP0643015B1 (ja)
JP (1) JP2556667B2 (ja)
AT (1) ATE142986T1 (ja)
AU (1) AU665913B2 (ja)
CA (1) CA2129607C (ja)
DE (1) DE59400684D1 (ja)
DK (1) DK0643015T3 (ja)
ES (1) ES2092850T3 (ja)
FI (1) FI112862B (ja)
GR (1) GR3021417T3 (ja)
MY (1) MY111122A (ja)
NO (1) NO315645B1 (ja)
PH (1) PH30936A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019069929A (ja) * 2017-10-11 2019-05-09 小林製薬株式会社 口腔用組成物

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1994010087A1 (en) * 1992-10-28 1994-05-11 Crosfield Limited Silicas
US6169135B1 (en) 1993-09-29 2001-01-02 Rhone Poulenc Chimie Precipitated silica
KR0158071B1 (ko) 1993-09-29 1998-11-16 마르끄 델렌느 침강 실리카
FR2710630B1 (fr) * 1993-09-29 1995-12-29 Rhone Poulenc Chimie Nouvelles silices précipitées, leur procédé de préparation et leur utilisation au renforcement des élastomères.
US6001322A (en) * 1993-09-29 1999-12-14 Rhone-Poulenc Chimie Precipitated silicas
US6977065B1 (en) * 1993-10-07 2005-12-20 Degussa Ag Precipitated silicas
US7071257B2 (en) * 1993-10-07 2006-07-04 Degussa Ag Precipitated silicas
FR2714369B1 (fr) † 1993-12-29 1996-01-26 Rhone Poulenc Chimie Silices abrasives pour compositions dentifrices.
US5846506A (en) * 1994-10-07 1998-12-08 Degussa Aktiengesellschaft Precipitated silicas
IN188702B (ja) * 1995-06-01 2002-10-26 Degussa
GB9601084D0 (en) † 1996-01-19 1996-03-20 Unilever Plc Amorphous silicas and oral compositions
DE19740440A1 (de) 1997-09-15 1999-03-18 Degussa Leicht dispergierbare Fällungskieselsäure
US6441078B1 (en) * 2000-03-08 2002-08-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous powder coat dispersions, process for their preparation and their use
FR2809955B1 (fr) * 2000-06-07 2004-11-26 Rhodia Chimie Sa Utilisation d'une silice de precipitation de haute structure, dense et dispersible comme agent epaississant ou texturant dans les compositions dentifrices
DE10048616A1 (de) * 2000-09-30 2002-04-11 Degussa Dotierte Fällungskieselsäure
DE10062449A1 (de) 2000-12-14 2002-06-20 Degussa Dotierte Fällungskieselsäure
DE10112441A1 (de) * 2001-03-15 2002-09-19 Degussa Kieselsäure durch Fällung mit konstanter Alkalizahl und deren Verwendung
US20030094593A1 (en) * 2001-06-14 2003-05-22 Hellring Stuart D. Silica and a silica-based slurry
US7279119B2 (en) * 2001-06-14 2007-10-09 Ppg Industries Ohio, Inc. Silica and silica-based slurry
GB0130907D0 (en) 2001-12-22 2002-02-13 Ineos Silicas Ltd Amorphous silica
DE10330221A1 (de) 2002-08-03 2004-02-12 Degussa Ag Hochdispersible Fällungskieselsäure
US20040209066A1 (en) * 2003-04-17 2004-10-21 Swisher Robert G. Polishing pad with window for planarization
NO20040167L (no) * 2004-01-14 2005-07-15 Cod Technologies As Prosess for fremstilling av utfelt silika fra olivin
US20060089093A1 (en) * 2004-10-27 2006-04-27 Swisher Robert G Polyurethane urea polishing pad
US20060089095A1 (en) * 2004-10-27 2006-04-27 Swisher Robert G Polyurethane urea polishing pad
US20060089094A1 (en) * 2004-10-27 2006-04-27 Swisher Robert G Polyurethane urea polishing pad
US7745010B2 (en) * 2005-08-26 2010-06-29 Prc Desoto International, Inc. Coating compositions exhibiting corrosion resistance properties, related coated substrates, and methods
DE102005043201A1 (de) 2005-09-09 2007-03-15 Degussa Ag Fällungskieselsäuren mit einer besonderen Porengrößenverteilung
DE102005043202A1 (de) 2005-09-09 2007-03-15 Degussa Ag Fällungskieselsäuren mit besonderer Porengrößenverteilung
US7922989B2 (en) * 2006-03-15 2011-04-12 Amendola Steven C Method for making silicon for solar cells and other applications
DE102007052269A1 (de) 2007-11-02 2009-05-07 Evonik Degussa Gmbh Fällungskieselsäuren für lagerstabile RTV-1 Siliconkautschukformulierungen ohne Stabilisator
MX2011005566A (es) * 2008-11-25 2012-01-25 Procter & Gamble Composiciones para el cuidado bucal que proporcionan una mejor limpieza.
US8551457B2 (en) 2008-11-25 2013-10-08 The Procter & Gamble Company Oral care compositions comprising spherical fused silica
US8003724B2 (en) 2009-07-07 2011-08-23 The Goodyear Tire & Rubber Company Specialized silica, rubber composition containing specialized silica and products with component thereof
US8440750B2 (en) 2009-07-07 2013-05-14 The Goodyear Tire & Rubber Company Specialized silica, rubber composition containing specialized silica and products with component thereof
US8349940B2 (en) 2010-04-19 2013-01-08 The Goodyear Tire & Rubber Company Rubber composition containing treated silica and products with component thereof
AU2013337356B2 (en) 2012-11-05 2016-12-08 The Procter & Gamble Company Heat treated precipitated silica
DE102015214344A1 (de) 2015-07-29 2017-02-02 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung von Fällungskieselsäuren und Verfahren zur Messung des Schonabriebfaktors

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL289590A (ja) * 1962-03-02
US3928540A (en) * 1971-07-26 1975-12-23 Ppg Industries Inc Process for preparing silica pigment
US3928541A (en) * 1972-09-05 1975-12-23 Huber Corp J M Amorphous precipitated siliceous pigments for cosmetic or dentrifrice use and methods for their production
US3988162A (en) * 1972-09-06 1976-10-26 J. M. Huber Corporation Amorphous precipitated silica products and method for their production
US3977893A (en) * 1973-10-03 1976-08-31 J. M. Huber Corporation Amorphous precipitated siliceous pigments and improved process for producing such pigments
AU497891B2 (en) * 1974-05-22 1979-01-18 J.M. Huber Corp. Siliceous pigments & their production
DE3114493A1 (de) * 1981-04-10 1982-10-28 Degussa Ag, 6000 Frankfurt "faellungskieselsaeuren und verfahren zu ihrer herstellung"
DE3144299A1 (de) * 1981-11-07 1983-05-19 Degussa Ag, 6000 Frankfurt Faellungskieselsaeuren mit hoher struktur und verfahren zu ihrer herstellung
FR2567504B1 (fr) * 1984-07-11 1989-12-29 Rhone Poulenc Chim Base Colloides de silice et silices spheriques et procedes pour leur obtiention
DE3639845A1 (de) * 1986-11-21 1988-06-01 Degussa Faellungskieselsaeuren, verfahren zu ihrer herstellung und verwendung
US4973462A (en) * 1987-05-25 1990-11-27 Kawatetsu Mining Company, Ltd. Process for producing high purity silica
FR2622565B1 (fr) * 1987-11-04 1990-11-09 Rhone Poulenc Chimie Silice pour compositions dentifrices compatible notamment avec le zinc
FR2622439B1 (fr) * 1987-11-04 1991-07-12 Rhone Poulenc Chimie Silice pour compositions dentifrices compatible notamment avec la chlorhexidine
US5286478A (en) * 1987-11-04 1994-02-15 Rhone-Poulenc Chimie Dentifrice-compatible silica particulates
FR2649089B1 (fr) * 1989-07-03 1991-12-13 Rhone Poulenc Chimie Silice a porosite controlee et son procede d'obtention

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019069929A (ja) * 2017-10-11 2019-05-09 小林製薬株式会社 口腔用組成物

Also Published As

Publication number Publication date
JP2556667B2 (ja) 1996-11-20
US5484581A (en) 1996-01-16
DE59400684D1 (de) 1996-10-24
FI943648A (fi) 1995-02-08
CA2129607A1 (en) 1995-02-08
MY111122A (en) 1999-08-30
FI943648A0 (fi) 1994-08-05
ES2092850T3 (es) 1996-12-01
DK0643015T3 (da) 1996-12-23
FI112862B (fi) 2004-01-30
CA2129607C (en) 1999-03-09
NO942882L (no) 1995-02-08
AU6893294A (en) 1995-05-11
ATE142986T1 (de) 1996-10-15
GR3021417T3 (en) 1997-01-31
EP0643015B1 (de) 1996-09-18
NO315645B1 (no) 2003-10-06
NO942882D0 (ja) 1994-08-03
PH30936A (en) 1997-12-23
EP0643015A1 (de) 1995-03-15
AU665913B2 (en) 1996-01-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2556667B2 (ja) 沈降シリカの製造方法
KR950015028B1 (ko) 비이드 형태의 실리카, 이의 제조방법 및 엘라스토머 보강용 용도
US4157920A (en) Novel precipitated siliceous products and methods for their use and production
JP5025259B2 (ja) 表面積が低い沈降シリカ生成物、それらを含む歯磨き剤および方法
US4122161A (en) Amorphous precipitate silica compositions
US6652611B1 (en) Method for making abrasive compositions and products thereof
CA1324247C (en) Precipitated silicas, process for producing same and their use
US7438895B2 (en) Precipitated silica materials exhibiting high compatibility with cetylpyridinium chloride
KR101559897B1 (ko) 미세하게 분할된 침강 실리카의 제조방법
US5647903A (en) Microporous high structure precipitated silicas and methods
JPH0331642B2 (ja)
US4336245A (en) Novel precipitated siliceous products and methods for their use and production
JPH06206712A (ja) 歯研磨体として好適な水酸燐灰石の製法
US4260454A (en) Precipitated siliceous products used in paper
US20080160053A1 (en) High electrolyte additions for precipitated silica material production
US4202813A (en) Rubber containing precipitated siliceous products
KR970005188B1 (ko) 침강 실리카의 제조방법
JPS601115A (ja) 透明歯磨用非晶質シリカおよびその製造方法
WO2004073539A2 (en) Precipitated silica product, dentrifices containing same, and processes
KR790001612B1 (ko) 무정형 침전 실리카의 제조방법
JPH0764549B2 (ja) 特に有機アミノ化合物と相容しうる歯磨き組成物用シリカ

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees
S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350