ES2606318T3 - Codificador óptico para determinar la posición de dos partes que son móviles entre sí en dos direcciones de movimiento - Google Patents

Codificador óptico para determinar la posición de dos partes que son móviles entre sí en dos direcciones de movimiento Download PDF

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Abstract

Instalación de medición de la posición para la detección de la posición de dos objetos móviles relativamente entre sí con - una incorporación de medición (10, 3, 30), que comprende una rejilla cruzada bidimensional y que está conectada con uno de los dos objetos así como - tres sistemas de exploración (20.1, 20.2, 20.3) que están conectado con el otro de los dos objetos y que están en disposición no colineal entre sí para la exploración de la incorporación de medición (10, 3, 30), en la que los sistemas de exploración (20.1, 20.2, 20.3) están configurados, respectivamente, de tal forma que es posible, además, una determinación simultánea del valor de la posición a lo largo de al menos una dirección de desplazamiento lateral (X, Y) así como también a lo largo de una dirección de desplazamiento vertical (Z) de los objetos, en la que la al menos una dirección de desplazamiento lateral (X, Y) está orientada paralela y la dirección de desplazamiento vertical (Z) está orientada perpendicularmente al plano con la incorporación de medición (10, 3, 30) y en la que sobre lados de los sistemas de exploración (10, 3, 30) para la determinación de la posición en dirección de desplazamiento lateral (X, Y) y en la dirección de desplazamiento vertical (Z) están previstas, respectivamente, una primera y una segunda trayectorias de los rayos de exploración, en las que se puede generar, respectivamente, a partir de los haces de rayos parciales de interferencia en el lado de salida un grupo de señales desfasadas (SA0°, SA120°, SA240°, SB0°, SB120°, S8240°).

Description

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incorporación de medición de rejilla cruzada sirve como reflector para el interferómetro de la distancia, sería necesario, además, un diseño adecuado -costoso-del mismo con respecto a las diferentes longitudes de ondas empleadas en la exploración de la rejilla cruzada y de la determinación de la distancia interferométrica.
A continuación se explica un primer ejemplo de realización de una instalación de medición de la posición de acuerdo con la invención con la ayuda de las figuras 3 y 4. La figura 3muestra en este caso la trayectoria de los rayos de exploración de este ejemplo de realización en diferentes vistas espaciales.
Un haz de rayos 1 polarizado linealmente, incidente, que procede de una fuente de luz no representada, de un rayo láser colimado se desdobla a través de una rejilla de disociación 2 sobre el lado inferior de una placa de exploración 7 en un +1 y -1 orden de difracción 4, 4'. La constante de la rejilla de disociación 2 es idéntica de la de la incorporación de medición 3. La haz de rayos del +1 orden de difracción 4 de la rejilla de disociación 2 llega sobre la incorporación de medición de reflexión 3 y se disocia allí a través de difracción en un +1 y -1 orden de difracción en dos haces de rayos parciales 5, 6. El haz de rayos parciales 5 en el -1 orden de difracción llega paralelamente al eje óptico Z (es decir, en 0 orden de difracción resultante) de retorno en la dirección de la placa de exploración 7. El haz de rayos parciales 6 desviado en el +1 orden de difracción se propaga en la dirección de un 2º orden de difracción resultante. Ambos haces de rayos parciales 5, 6 llegan sobre estructuras de desviación difractivas 8, 9 sobre el lado inferior de la placa de exploración 7. Estas estructuras de desviación 8, 9 están dimensionadas de tal forma que dirigen los haces de rayos parciales 10, 11 resultantes en el plano-XZ, respectivamente, paralelos a la dirección-Z y se desvían lateralmente en el plano-YZ y enfocan de acuerdo con una lente cilíndrica.
El haz de rayos parciales 5 que aparece en el orden de difracción 0 resultante es reflejado por un espejo 12 sobre el lado superior de la placa de exploración 7 y llega entonces sobre un espejo 13 sobre el lado inferior de la placa de exploración 7. Allí se encuentra entonces el lugar del foco de la estructura de desviación difractiva 8 mencionada o bien de la lente cilíndrica. A continuación se refleja el haz de rayos parciales de nuevo a través del espejo 12 sobre el lado superior de la placa de exploración 7 y llega sobre una segunda estructura de desviación 14 sobre el lado inferior de la placa de exploración 7.
El haz de rayos parciales 6 que incide en el +2 orden de difracción resultante sobre la placa de exploración 7 llega sobre el espejo 12 sobre su lado superior, donde se encuentra también el lugar del foco de la rejilla de desviación continua 9. Después de la reflexión, llega directamente sobre una segunda estructura de desviación 15 sobre el lado inferior de la placa de exploración 7.
Las segundas estructuras de desviación 14, 15 están, respectivamente, con respecto al plano-XZ en simetría de espejo con las primeras estructuras de desviación 8, 9 y, por lo tanto, desvían los haces de rayos parciales incidentes lateralmente de dirección-Y, pero en sentido opuesto a los haces de rayos parciales 5, 6 que originalmente sobre la placa de exploración 5, 6 de retorno a la incorporación de medición 3. Antes que se sean difractados de nuevo por la incorporación de medición 3, atraviesan las placas /4 16, 17, que están orientadas diferentes para los dos haces de rayos parciales 18, 19, de manera que resultan haces de rayos parciales polarizados circulares a la izquierda y a la derecha. En la incorporación de medición 3 se difractan, respectivamente, con el mismo orden de difracción que en la primera incidencia, es decir, en el +1 y -1 orden, respectivamente. A través de esta difracción se conducen los dos haces de rayos parciales 18, 19 como haz de rayos 20 paralelamente de retorno a la placa de exploración 7. Allí atraviesan una rejilla de disociación 21, que disocia los haces de rayos parciales unidos en 3 rayos individuales 22a, 22b, 22c; estos tres rayos individuales 22a, 22b, 22c atraviesan polarizadores 23, 23b, 23c orientados de forma diferente antes de que sean detectados por detectores 24a, 24b, 24c y sean convertidos en señales eléctricas SA0°, SA120°, SA240°. Los tres polarizadores 23a, 23b, 23c están en un retículo angular de 60º, de manera que resultan las señales SA0°, SA120°, SA240° con un desplazamiento de fases de 120º entre sí.
El haz de rayos parciales 6 que aparece en el 2º orden de difracción resultante sobre la placa de exploración debe atravesar entre la placa de exploración 7 y la incorporación de medición 3 trayectos ópticos más largos que el haz de rayos parciales 5 en el orden de difracción 0 resultante. Para compensar estas diferencias de trayectos, están previstos en el plano-YZ diferentes recorridos de los rayos dentro de la placa de exploración 7, a saber, en forma de la reflexión triple descrita anteriormente de uno de los haces de rayos parciales y de la reflexión sencilla del otro haz de rayos parciales. Con un dimensionado adecuado del espesor de las placas de exploración y de las rejillas de desviación 8, 9, 14, 15 se pueden eliminar las diferencias de las longitudes de los recorridos en la distancia nominal
Z0.
El haz de rayos 4' desviado por la primera rejilla de disociación en -1 orden de difracción es disociado con respecto al plano-YZ en simetría de espejo a través de rejillas de desviación 8', 9' dispuestas en simetría de espejo de manera correspondiente sobre la placa de exploración 7 y es reunido de nuevo. A partir de ello resultan las señales SB0°, SB120°, SB240°.
A partir de cada grupo de señales desfasadas SA0°, SA120°, SA240° o bien SB0°, SB120º, SB240º se calcula de manera conocida un valor de posición. A partir de ello resultan los valores de posición primarios 1y 2 mencionados
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Families Citing this family (138)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006041357A1 (de) * 2005-11-09 2007-05-10 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Positionsmesseinrichtung und Verfahren zum Betrieb einer Positionsmesseinrichtung
US7389595B2 (en) 2005-11-09 2008-06-24 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Position-measuring device and method for operating a position-measuring device
US7542863B2 (en) 2005-11-09 2009-06-02 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Position measuring system
US7561280B2 (en) * 2007-03-15 2009-07-14 Agilent Technologies, Inc. Displacement measurement sensor head and system having measurement sub-beams comprising zeroth order and first order diffraction components
US7545507B2 (en) * 2007-03-15 2009-06-09 Agilent Technologies, Inc. Displacement measurement system
DE102007023300A1 (de) * 2007-05-16 2008-11-20 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Positionsmesseinrichtung und Anordnung derselben
DE102008007319A1 (de) * 2008-02-02 2009-08-06 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Optische Positionsmesseinrichtung
DE102008010284A1 (de) 2008-02-21 2009-08-27 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh XY-Tisch mit einer Messanordnung zur Positionsbestimmung
NL1036742A1 (nl) * 2008-04-18 2009-10-20 Asml Netherlands Bv Stage system calibration method, stage system and lithographic apparatus comprising such stage system.
US7924433B2 (en) * 2008-09-08 2011-04-12 Agilent Technologies, Inc. Displacement measurement system and method of use
US8963804B2 (en) * 2008-10-30 2015-02-24 Honeywell International Inc. Method and system for operating a near-to-eye display
DE102008043540A1 (de) * 2008-11-07 2010-05-12 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Optische Positionsmesseinrichtung
NL2005545A (en) 2009-11-17 2011-05-18 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
DE102009054592A1 (de) 2009-12-14 2011-06-16 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Positionsmesseinrichtung
NL2006118A (en) 2010-03-03 2011-09-06 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and method for measuring a position.
EP2553401B1 (en) 2010-03-30 2015-09-02 Zygo Corporation Interferometric encoder systems
DE102010043469A1 (de) 2010-11-05 2012-05-10 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Optische Positionsmesseinrichtung
US8913226B2 (en) * 2010-12-16 2014-12-16 Zygo Corpporation Cyclic error compensation in interferometric encoder systems
WO2012106246A2 (en) 2011-02-01 2012-08-09 Zygo Corporation Interferometric heterodyne optical encoder system
CN103402421B (zh) * 2011-02-04 2016-01-20 海德堡工程有限责任公司 用于连续拍摄不同深度的干涉测量深度断面图像、分析眼睛的方法和装置
DE102011007459B4 (de) * 2011-04-15 2023-05-11 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Optische Längenmesseinrichtung
DE102011076178B4 (de) 2011-05-20 2022-03-31 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Positionsmesseinrichtung
DE102011111900A1 (de) * 2011-08-30 2013-02-28 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Vorrichtung zur interferometrischen Abstandsbestimmung
CN103246172B (zh) 2012-02-10 2016-12-28 约翰内斯﹒海德汉博士有限公司 具有位置测量装置的多个扫描单元的装置
TWI516746B (zh) 2012-04-20 2016-01-11 賽格股份有限公司 在干涉編碼系統中執行非諧循環錯誤補償的方法、裝置及計算機程式產品,以及微影系統
DE102012210309A1 (de) * 2012-06-19 2013-12-19 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Positionsmesseinrichtung
DE102012221566A1 (de) * 2012-11-26 2014-05-28 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Optische Positionsmesseinrichtung
DE102013224381A1 (de) * 2012-12-20 2014-06-26 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Optische Positionsmesseinrichtung
DE102013206693A1 (de) * 2013-04-15 2014-10-16 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Vorrichtung zur interferentiellen Abstandsmessung
CN103322927B (zh) * 2013-06-19 2016-04-20 清华大学 一种三自由度外差光栅干涉仪位移测量系统
DE102013220196A1 (de) 2013-10-07 2015-04-09 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Optische Positionsmesseinrichtung
DE102013220214A1 (de) * 2013-10-07 2015-04-09 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Anordnung zur Positionierung eines Werkzeugs relativ zu einem Werkstück
TWI627379B (zh) * 2013-10-07 2018-06-21 德商強那斯海登翰博士有限公司 光學位置測量裝置
DE102013220190B4 (de) 2013-10-07 2021-08-12 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Messteilung und lichtelektrische Positionsmesseinrichtung mit dieser Messteilung
DE102013226070A1 (de) 2013-12-16 2015-06-18 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Positionsmesssystem und Verfahren zum Betrieb eines Positionsmesssystems
DE102015209117A1 (de) * 2014-06-05 2015-12-10 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Interferentielle Positionsmesseinrichtung und Verfahren zum Betrieb einer interferentiellen Positionsmesseinrichtung
DE102014219188A1 (de) 2014-09-23 2016-03-24 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Verfahren zur Fehlerkorrektur in Positionsmesseinrichtungen
NL2015639A (en) 2014-11-28 2016-09-20 Asml Netherlands Bv Encoder, position measurement system and lithographic apparatus.
DE102015201230A1 (de) * 2015-01-26 2016-07-28 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Positionsmesseinrichtung
KR102552792B1 (ko) 2015-02-23 2023-07-06 가부시키가이샤 니콘 계측 장치, 리소그래피 시스템 및 노광 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
JP6719729B2 (ja) 2015-02-23 2020-07-08 株式会社ニコン 基板処理システム及び基板処理方法、並びにデバイス製造方法
KR102574558B1 (ko) 2015-02-23 2023-09-04 가부시키가이샤 니콘 계측 장치, 리소그래피 시스템 및 노광 장치, 그리고 관리 방법, 중첩 계측 방법 및 디바이스 제조 방법
DE102015203188A1 (de) * 2015-02-23 2016-08-25 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Optische Positionsmesseinrichtung
CN106813578B (zh) * 2015-11-30 2019-02-22 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种二维光栅测量系统
DE102016200847A1 (de) * 2016-01-21 2017-07-27 Dr. Johannes Heidenhain Gesellschaft Mit Beschränkter Haftung Optische Positionsmesseinrichtung
DE102016201088A1 (de) 2016-01-26 2017-07-27 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Verfahren zum Bearbeiten einer Maßverkörperung
DE102016206144A1 (de) 2016-04-13 2017-10-19 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Positionsmessanordnung und Verfahren zum Betrieb einer Positionsmessanordnung
DE102016210434A1 (de) 2016-06-13 2017-12-14 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Optische Positionsmesseinrichtung
DE102017213330A1 (de) * 2017-08-02 2019-02-07 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Abtastplatte für eine optische Positionsmesseinrichtung
DE102017219125A1 (de) 2017-10-25 2019-04-25 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Optische Positionsmesseinrichtung
CN111971622A (zh) 2018-03-29 2020-11-20 Asml荷兰有限公司 位置测量系统、干涉仪系统和光刻装置
WO2019206595A1 (en) 2018-04-25 2019-10-31 Asml Netherlands B.V. Frame assembly, lithographic apparatus and device manufacturing method
NL2022752A (en) 2018-04-25 2019-10-31 Asml Netherlands Bv Pneumatic support device and lithographic apparatus with pneumatic support device.
CN112041748A (zh) 2018-04-25 2020-12-04 Asml荷兰有限公司 管状线性致动器、图案形成装置掩蔽装置和光刻设备
WO2019206548A1 (en) 2018-04-26 2019-10-31 Asml Netherlands B.V. Stage apparatus, lithographic apparatus, control unit and method
EP3385792A3 (en) 2018-04-26 2018-12-26 ASML Netherlands B.V. Stage apparatus for use in a lithographic apparatus
CN112074785A (zh) 2018-05-08 2020-12-11 Asml荷兰有限公司 隔振系统和光刻设备
WO2019233698A1 (en) 2018-06-05 2019-12-12 Asml Netherlands B.V. Assembly comprising a cryostat and layer of superconducting coils and motor system provided with such an assembly
EP3611770A1 (en) 2018-08-16 2020-02-19 ASML Netherlands B.V. Piezoelectric actuator, actuator system, substrate support and lithographic apparatus including the actuator
WO2020035203A1 (en) 2018-08-16 2020-02-20 Asml Netherlands B.V. Apparatus and method for clearing and detecting marks
CN112585539A (zh) 2018-08-23 2021-03-30 Asml荷兰有限公司 用于校准物体装载过程的平台设备和方法
CN112602021A (zh) 2018-08-23 2021-04-02 Asml荷兰有限公司 衬底支撑件、光刻设备、衬底检查设备、器件制造方法
WO2020043401A1 (en) 2018-08-28 2020-03-05 Asml Netherlands B.V. Electromagnetic actuator, position control system and lithographic apparatus
CN113474732A (zh) 2019-02-26 2021-10-01 Asml荷兰有限公司 检查设备、光刻设备、测量方法
WO2020173652A1 (en) 2019-02-28 2020-09-03 Asml Netherlands B.V. Stage system and lithographic apparatus
CN113544587A (zh) 2019-03-01 2021-10-22 Asml荷兰有限公司 物体定位器装置及装置制造方法
CN113631999B (zh) 2019-03-25 2023-05-16 Asml荷兰有限公司 频率拓宽装置和方法
EP3715944A1 (en) 2019-03-25 2020-09-30 ASML Netherlands B.V. Frequency broadening apparatus and method
US11442372B2 (en) 2019-03-27 2022-09-13 Asml Netherlands B.V. Method of measuring an alignment mark or an alignment mark assembly, alignment system, and lithographic tool
EP3719551A1 (en) 2019-04-03 2020-10-07 ASML Netherlands B.V. Optical fiber
WO2020200637A1 (en) 2019-04-03 2020-10-08 Asml Netherlands B.V. Optical fiber
WO2020216555A1 (en) 2019-04-23 2020-10-29 Asml Netherlands B.V. Object table, a stage apparatus, a lithographic apparatus and a method of loading an object onto an object table or stage apparatus
US11860554B2 (en) 2019-05-01 2024-01-02 Asml Netherlands B.V. Object positioner, method for correcting the shape of an object, lithographic apparatus, object inspection apparatus, device manufacturing method
US20220326627A1 (en) 2019-05-20 2022-10-13 Asml Netherlands B.V. Actuator assemblies comprising piezo actuators or electrostrictive actuators
WO2020249339A1 (en) 2019-06-11 2020-12-17 Asml Netherlands B.V. Interferometer system, method of determining a mode hop of a laser source of an interferometer system, method of determining a position of a movable object, and lithographic apparatus
EP3751229A1 (en) 2019-06-11 2020-12-16 ASML Netherlands B.V. Interferometer system, method of determining a mode hop of a laser source of an interferometer system, method of determining a position of a movable object, and lithographic apparatus
WO2020260000A1 (en) 2019-06-27 2020-12-30 Asml Netherlands B.V. Multilayer superconductive article, superconductive coil, actuator, motor, stage apparatus and lithographic apparatus
EP3761116A1 (en) 2019-07-05 2021-01-06 ASML Netherlands B.V. A mirror calibrating method, a position measuring method, a lithographic apparatus and a device manufacturing method
EP3764165A1 (en) 2019-07-12 2021-01-13 ASML Netherlands B.V. Substrate shape measuring device
KR20220024908A (ko) 2019-07-24 2022-03-03 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 방사선 소스
EP3796080A1 (en) 2019-09-18 2021-03-24 ASML Netherlands B.V. Radiation source
JP7425095B2 (ja) 2019-07-29 2024-01-30 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 熱機械アクチュエータ
KR20220025889A (ko) 2019-07-30 2022-03-03 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 마크 측정 시퀀스, 스테이지 장치 및 리소그래피 장치를 결정하는 방법
JP7465334B2 (ja) 2019-08-05 2024-04-10 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. サポート、振動絶縁システム、リソグラフィ装置、オブジェクト測定装置、デバイス製造方法
CN114286967A (zh) 2019-08-23 2022-04-05 Asml荷兰有限公司 控制第一物体相对于第二物体的位置的方法、控制单元、平台装置和光刻装置
WO2021094207A1 (en) 2019-11-12 2021-05-20 Asml Netherlands B.V. Tunable laser device, method to tune a laser beam, interferometer system and lithographic apparatus
TWI721719B (zh) 2019-12-19 2021-03-11 財團法人工業技術研究院 量測裝置
EP3851916A1 (en) 2020-01-17 2021-07-21 ASML Netherlands B.V. Suction clamp, object handler, stage apparatus and lithographic apparatus
EP3859448A1 (en) 2020-01-28 2021-08-04 ASML Netherlands B.V. Positioning device and method to use a positioning device
CN115023655A (zh) 2020-02-06 2022-09-06 Asml荷兰有限公司 使用双平台光刻设备的方法以及光刻设备
DE102020202080A1 (de) 2020-02-19 2021-08-19 Dr. Johannes Heidenhain Gesellschaft Mit Beschränkter Haftung Optische Positionsmesseinrichtung
EP3872444A1 (en) 2020-02-25 2021-09-01 ASML Netherlands B.V. Interferometer system and lithographic apparatus
WO2021213750A1 (en) 2020-04-23 2021-10-28 Asml Netherlands B.V. Method for calibration of an optical measurement system and optical measurement system
US20230208269A1 (en) 2020-05-20 2023-06-29 Asml Netherlands B.V. Magnet assembly, coil assembly, planar motor, positioning device and lithographic apparatus
EP3923075A1 (en) 2020-06-08 2021-12-15 ASML Netherlands B.V. Apparatus for use in a metrology process or lithographic process
WO2022002497A1 (en) 2020-06-29 2022-01-06 Asml Netherlands B.V. A signal parameter determination method, a heterodyne interferometer system, a lithographic apparatus and a device manufacturing method
CN116075779A (zh) 2020-09-16 2023-05-05 Asml荷兰有限公司 基板和衬底组件
EP3971647A1 (en) 2020-09-16 2022-03-23 ASML Netherlands B.V. Base plate and substrate assembly
EP3971648A1 (en) 2020-09-17 2022-03-23 ASML Netherlands B.V. Mark to be projected on an object durign a lithograhpic process and method for designing a mark
CN116368346A (zh) 2020-10-12 2023-06-30 Asml荷兰有限公司 干涉仪系统和光刻设备
NL2029255A (en) 2020-10-16 2022-06-16 Asml Netherlands Bv Object table, stage apparatus, holding method and lithographic apparatus
CN116601453A (zh) 2020-11-24 2023-08-15 Asml荷兰有限公司 定位系统、光刻设备、绝对位置确定方法和器件制造方法
WO2022111940A1 (en) 2020-11-26 2022-06-02 Asml Netherlands B.V. A mirror spot position calibrating method, a lithographic apparatus and a device manufacturing method
EP4278146A1 (en) 2021-01-14 2023-11-22 ASML Netherlands B.V. An interferometer system, positioning system, a lithographic apparatus, a jitter determination method, and a device manufacturing method
US20240053532A1 (en) 2021-01-27 2024-02-15 Asml Netherlands B.V. Hollow-core photonic crystal fiber
EP4036619A1 (en) 2021-01-27 2022-08-03 ASML Netherlands B.V. Hollow-core photonic crystal fiber
EP4105696A1 (en) 2021-06-15 2022-12-21 ASML Netherlands B.V. Optical element for generation of broadband radiation
EP4334766A1 (en) 2021-05-03 2024-03-13 ASML Netherlands B.V. Optical element for generation of broadband radiation
WO2022233542A1 (en) 2021-05-06 2022-11-10 Asml Netherlands B.V. Positioning system, lithographic apparatus, driving force attenuation method, and device manufacturing method
EP4116888A1 (en) 2021-07-07 2023-01-11 ASML Netherlands B.V. Computer implemented method for diagnosing a system comprising a plurality of modules
CN117546096A (zh) 2021-07-07 2024-02-09 Asml荷兰有限公司 位置测量系统、定位系统、光刻设备和器件制造方法
EP4116772A1 (en) 2021-07-09 2023-01-11 ASML Netherlands B.V. Electromagnetic motor system, postion control system, stage apparatus, lithographic apparatus, method of determining a motor-dependent commutation model for an electromagnetic motor
EP4134744A1 (en) 2021-08-09 2023-02-15 ASML Netherlands B.V. A sensor positioning method, a positioning system, a lithographic apparatus, a metrology apparatus, and a device manufacturing method
EP4392828A1 (en) 2021-08-24 2024-07-03 ASML Netherlands B.V. An object gripper, a method of holding an object and a lithographic apparatus
EP4402538A1 (en) 2021-09-16 2024-07-24 ASML Netherlands B.V. Thermal conditioning unit, substrate handling device and lithographic apparatus
CN118176462A (zh) 2021-11-03 2024-06-11 Asml荷兰有限公司 光刻设备平台联接件
WO2023148326A1 (en) 2022-02-04 2023-08-10 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus controller system
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WO2023217460A1 (en) 2022-05-09 2023-11-16 Asml Netherlands B.V. Mechatronic system control method, lithographic apparatus control method and lithographic apparatus
EP4300183A1 (en) 2022-06-30 2024-01-03 ASML Netherlands B.V. Apparatus for broadband radiation generation
NL2035465A (en) 2022-08-18 2024-02-27 Asml Netherlands Bv Superconductive magnet assembly, planar motor and lithographic apparatus
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EP4372790A1 (de) 2022-11-18 2024-05-22 Dr. Johannes Heidenhain GmbH Positioniereinrichtung
EP4372463A1 (en) 2022-11-21 2024-05-22 ASML Netherlands B.V. Method and source modul for generating broadband radiation
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WO2024120734A1 (en) 2022-12-06 2024-06-13 Asml Netherlands B.V. Phase generated carrier interrogator and associated phase generated carrier interrogation method
EP4394502A1 (en) 2022-12-27 2024-07-03 ASML Netherlands B.V. Method to generate an acceleration setpoint profile for a movable object, setpoint generator and lithographic apparatus
WO2024153392A1 (en) 2023-01-20 2024-07-25 Asml Netherlands B.V. System and method for producing supercontinuum radiation
EP4407372A1 (en) 2023-01-30 2024-07-31 ASML Netherlands B.V. System and method for producing supercontinuum radiation
WO2024165259A1 (en) 2023-02-08 2024-08-15 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method to calibrate a position measurement system of a lithographic apparatus
WO2024165253A1 (en) 2023-02-09 2024-08-15 Asml Netherlands B.V. Measurement device, method of measurement, and method of manufacturing devices
EP4425259A1 (en) 2023-02-28 2024-09-04 ASML Netherlands B.V. Method of manufacturing an electrostatic object clamp, electrostatic object clamp and semiconductor processing apparatus
WO2024199864A1 (en) 2023-03-30 2024-10-03 Asml Netherlands B.V. Gas mixture for hollow core fiber used in generating broadband radiation
WO2024199902A1 (en) 2023-03-31 2024-10-03 Asml Netherlands B.V. Electromagnetic motor and method of determining a position dependent motor constant for an electromagnetic motor
WO2024208613A1 (en) 2023-04-07 2024-10-10 Asml Netherlands B.V. Internally-cooled actuator coil

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8320629D0 (en) * 1983-07-30 1983-09-01 Pa Consulting Services Displacement measuring apparatus
GB8413955D0 (en) 1984-05-31 1984-07-04 Pa Consulting Services Displacement measuring apparatus
DE4006365A1 (de) 1990-03-01 1991-10-17 Heidenhain Gmbh Dr Johannes Positionsmesseinrichtung
US6351313B1 (en) * 1997-09-29 2002-02-26 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Device for detecting the position of two bodies
EP1019669B1 (de) 1997-09-29 2002-07-24 Dr. Johannes Heidenhain GmbH Vorrichtung zur erfassung der position von zwei körpern
IL141536A (en) * 1998-08-21 2005-07-25 Olivier M Parriaux Device for measuring translation, rotation or velocity via light beam interference
JP4677169B2 (ja) * 2000-09-14 2011-04-27 ドクトル・ヨハネス・ハイデンハイン・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 位置測定装置
DE10147987B9 (de) * 2001-09-28 2006-05-24 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronisches Bauelement
DE10333772A1 (de) * 2002-08-07 2004-02-26 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Interferenzielle Positionsmesseinrichtung
JP4337415B2 (ja) * 2003-06-10 2009-09-30 株式会社ニコン エンコーダ
JP2005147828A (ja) * 2003-11-14 2005-06-09 Mitsutoyo Corp 変位検出装置
JP2005326232A (ja) * 2004-05-13 2005-11-24 Sendai Nikon:Kk 光電式エンコーダ

Also Published As

Publication number Publication date
EP2660566B1 (de) 2016-11-09
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US20070058173A1 (en) 2007-03-15
JP5142502B2 (ja) 2013-02-13
JP2007078687A (ja) 2007-03-29
DE102005043569A1 (de) 2007-03-22
EP1762828A3 (de) 2013-02-27

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