CN113544587A - 物体定位器装置及装置制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种物体定位器装置(1)，包括被配置为将物体定位在定位平面中的平台(10)、底架(BF)、被配置为将底架支撑在支撑表面(RED)上的框架支脚(BFF)，以及平台支撑件(20)。平台支撑件包括平台支撑件主体(22)、在垂直于定位平面的方向上将平台与平台支撑件主体彼此连接的第一连接器(21)，以及被配置为在支撑表面上支撑平台支撑件主体的平台支脚(24)。平台支撑件还包括将平台支撑件主体与底架彼此连接的第二连接器(23)。

Description

物体定位器装置及装置制造方法

相关申请的交叉引用

本申请要求于2019年3月1日提交的EP申请19160192.1的优先权，该申请以其整体通过引用并入本文。

技术领域

本发明涉及一种物体定位器装置、一种平台支撑件、一种光刻设备、一种物体检查设备、一种物体定位器装置的调节方法以及一种装置制造方法。

背景技术

光刻设备是一种构造为将所需图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造。光刻设备可以例如将图案形成装置(例如掩模)的图案(通常也称“设计布局”或“设计”)投影到设置在衬底(例如晶片)上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。物体检查设备例如适用于检查已经施加到物体(例如衬底)上的图案。

随着半导体制造工艺的持续进步，电路元件的尺寸持续减小，同时每个器件的功能元件(诸如晶体管)数目在数十年内稳定地增加，呈现出通常被称为“摩尔定律”的趋势。为了与摩尔定律保持一致，半导体工业正在追求能够生产更小特征的技术。为了在衬底上投影图案，光刻设备可以使用电磁辐射。该辐射的波长决定了在衬底上形成图案的特征的最小尺寸。目前使用的典型波长是365nm(i-线)、248nm、193nm和13.5nm。与使用例如波长为193nm的辐射的光刻设备相比，使用波长在4nm-20nm范围内，例如6.7nm或13.5nm的极紫外(EUV)辐射的光刻设备可以用于在衬底上形成更小的特征。

在光刻工艺中，最重要的是投影到衬底上的图案必须高度准确。此外，高生产率也是期望的。高生产率涉及例如衬底支撑件、图案形成装置支撑件、平衡质量块和/或其它通常较重的物体的高加速度。

这些高加速度趋向于导致显著的力，以及随之而来的例如物体定位器装置底架的变形和振动。这是不期望的，因为许多部件(包括例如传感器、晶片装卸器和/或掩模版装卸器)都附接至底架。这样，例如衬底支撑件的高加速度也以负面方式影响其它部件的性能。

在高生产率处，底架上相关的不期望的负载源可以在物体定位器装置的平台中找到。该平台例如包括物体支撑台和平衡质量块，物体支撑台和平衡质量块在定位器平面中相对于彼此移动。平台被设计为使得定位平面中或平行于定位平面的力尽可能地彼此平衡。物体支撑台的重心和平衡质量块的重心在垂直于定位器平面的方向上彼此偏移。施加在物体支撑台上的驱动力和施加在平衡质量块上的反作用力通常不在各重心处施加或产生。在垂直于定位平面的方向上，物体支撑台上的驱动力和平衡质量块上的驱动力之间也存在偏移。这些偏移共同使得这些驱动力生成扭矩。

该扭矩对于底架和附接至底架的部件的变形和动态行为具有不利影响。

发明内容

本发明旨在提供一种能够在保持良好定位准确度的同时实现高生产率的物体定位器装置。

根据本发明的一个实施例，提供了一种物体定位器装置，包括：

-平台，被配置为将物体定位在定位平面中，

-底架，

-框架支脚，被配置为在支撑表面上支撑底架，

-平台支撑件，包括：

-平台支撑件主体，

-第一连接器，在垂直于定位平面的方向上将平台与平台支撑件主体彼此连接，

-平台支脚，被配置为在支撑表面上支撑平台支撑件主体，其中平台支撑件还包括第二连接器，第二连接器将平台支撑件主体与底架彼此连接。

根据本发明，已经发现通过在平台支撑件上支撑平台、进而在支撑表面支撑平台支撑件，使得由平台或平台部件的移动、特别是快速移动导致的框架变形和振动减少。

在到达底架之前，由平台生成的力和/或扭矩被引导通过支撑表面。与底架相比，例如作为基座或坚固(例如加强)地板的支撑表面一般是坚固且刚性的。加上相对柔性的底架支脚，这使得高生产率下由平台产生的力和/或扭矩对底架的影响减小。

已经表明该实施例在减小由例如平台中的物体支撑台和平衡质量块各自的驱动力偏移而产生的扭矩对底架(包括附接至底架的部件)的影响方面特别有效。而第二连接器则提高了平台支撑件主体的稳定性。

此外，在根据本发明的这种布置中，例如为了维护而移除平台以及例如在维护之后安装平台，可以经由底架下方的路径实现。因此，如果需要，平台可以在底架下方移动。这有利于拆卸平台、安装平台和更换平台。

在一个实施例中，框架支脚在垂直于定位平面的方向上具有框架支脚刚度，并且平台支脚在垂直于定位平面的方向上具有平台支脚刚度。平台支脚刚度等于或大于框架支脚刚度。

这进一步改善了底架及安装在底架上的部件的动态行为。

在根据本发明的衬底支撑件的实施例中，平台支撑件还包括第二连接器，在垂直于定位平面的方向上，第二连接器将平台支撑件主体与底架彼此连接。在该实施例中，第二连接器在垂直于定位平面的方向上具有刚度，该刚度低于垂直于定位平面方向上的平台支脚刚度。

在该实施例中，第二连接器对平台支撑件主体添加稳定性，同时不损害或至少不显著损害底架的动态行为。由于第二连接器的刚度相对较低，增加了或多或少恒定的预张力。

在根据本发明的衬底支撑件的实施例中，平台支撑件还包括第二连接器，第二连接器在垂直于定位平面的方向上将平台支撑件主体与底架彼此连接。在该实施例中，第二连接器在垂直于定位平面的方向上具有刚度，该刚度低于垂直于定位平面方向上的框架支脚刚度。

在该实施例中，第二连接器对平台支撑件主体添加稳定性，同时不损害或至少不显著损害底架的动态行为。

在根据本发明的衬底支撑件的实施例中，平台支撑件还包括第二连接器，其在垂直于定位平面的方向上将平台支撑件主体与底架彼此连接。在该实施例中，第二连接器在垂直于定位平面的方向上具有刚度，并且在平行于定位平面的方向上具有刚度，其中，平行于定位平面的方向上的刚度高于垂直于定位平面的方向上的刚度。

在该实施例中，第二连接器提高了平台支撑件主体的稳定性，同时不损害或至少不显著损害底架的动态行为。

在根据本发明的衬底支撑件的实施例中，平台支撑件还包括第二连接器，第二连接器在垂直于定位平面的方向上将平台支撑件主体与底架彼此连接。在该实施例中，第二连接器包括柔顺元件和预张紧器，其中，柔顺元件在垂直于定位平面的方向上的刚度高于预张紧器在垂直于定位平面的方向上的刚度，并且其中，预张紧器承载底架的部分重量。

在物体定位器装置的一些设计中，该实施例对于平台的稳定性具有积极影响。

在根据本发明的衬底支撑件的实施例中，第一连接器是或包括振动隔离器和/或气垫式避震器和/或空气轴承。

该实施例提供了本发明的实际实施方式。

在根据本发明的衬底支撑件的实施例中，物体定位器装置包括至少三个框架支脚和至少两个平台支撑件。

该实施例提供了本发明的实际实施方式。

在根据本发明的衬底支撑件的实施例中，平台被配置为在x方向和垂直于x方向的y方向上定位物体，x方向和y方向二者均在定位平面中延伸，并且物体定位器装置包括至少两个平台支撑件，至少两个平台支撑件被布置在平台支撑平面中，平台支撑平面垂直于定位平面并且平行于x方向或y方向延伸。

该实施例特别适合于减小由于例如平台中的物体支撑台和平衡质量块相应的驱动力偏移而产生的扭矩对底架的影响。此外，在该实施例中，还可以减小例如由于在垂直于定位平面的方向上平移或围绕定位平面中的一个或多个轴线旋转而引起的平台的加速度对底架和安装在底架上的部件的影响。

在根据本发明的衬底支撑件的实施例中，平台被配置为在x方向和垂直于x方向的y方向上定位物体，x方向和y方向均在定位平面中延伸，并且底架在y方向上的长度大于x方向上的长度，并且物体定位器装置包括至少两个平台支撑件，至少两个平台支撑件被布置在平台支撑平面中，平台支撑平面垂直于定位平面且平行于x方向延伸。

该实施例特别适合于减小由于例如平台中的物体支撑台和平衡质量块相应的驱动力偏移而产生的围绕y方向的扭矩对底架的影响。此外，在该实施例中，还可以减小例如由于在垂直于定位平面的z方向上平移或围绕x轴线旋转而引起的平台的加速度对底架和安装在底架上的部件的影响。

在根据本发明的衬底支撑件的实施例中，其中平台支脚被布置为邻近框架支脚，例如其中，在平行于定位平面的方向上，平台支脚与框架支脚之间的距离为60厘米或更小。

该实施例提供了本发明的实际实施方式。

在根据本发明的衬底支撑件的实施例中，底架包括柔顺侧和刚性侧，其中，柔顺侧与刚性侧相对布置，并且其中，平台支脚被布置在底架的柔顺侧。

该实施例特别适合于减小由于例如平台中的物体支撑台和平衡质量块相应的驱动力偏移而产生的扭矩对底架的影响。此外，在该实施例中，还可以减小例如由于在垂直于定位平面的方向上平移或围绕定位平面中的一个或多个轴线旋转而引起的平台的加速度对底架和安装在底架上的部件的影响。

在根据本发明的衬底支撑件的实施例中，平台包括物体支撑台和平衡质量块，物体支撑台和平衡质量块能够在定位平面中或平行于定位平面相对于彼此移动。

该实施例提供了本发明的实际实施方式。

根据本发明的一个实施例，提供了一种平台支撑件，包括：

-平台支撑件主体，

-第一连接器，连接至平台支撑件主体并且能够连接至平台，平台被配置为定位物体，第一连接器被配置为在第一方向上在平台支撑件主体与平台之间提供连接，

-第二连接器，第二连接器连接至平台支撑件主体并且能够连接至底架，第二连接器被配置为在平台支撑件主体与底架之间提供连接，

-平台支脚，平台支脚被配置为在支撑表面上支撑平台支撑件主体，平台支脚在第一方向上具有平台支脚刚度，

其中，第二连接器在第一方向上具有的刚度低于第一方向上的框架支脚刚度。

该实施例允许更新现有设备，例如物体定位器装置、光刻设备和/或物体检查设备，以改善现有设备的动态行为。

在根据本发明的平台支撑件的实施例中，第一方向是垂直于定位平面的方向，平台被配置为在定位平面中定位物体。可选地，第一方向是竖直方向。

在本发明的另一实施例中，提供了一种光刻设备，其包括根据本发明的物体定位器装置。

在本发明的另一实施例中，提供了一种光刻设备，其包括根据本发明的平台支撑件。

在根据本发明的光刻设备的实施例中，光刻设备包括投影系统和物体定位器装置，物体定位器装置用于相对于投影系统定位衬底，并且物体定位器装置是根据本发明的物体定位器装置。

在本发明的另一实施例中，提供了一种物体检查设备，其包括根据本发明的物体定位器装置。

根据本发明的一个实施例，提供了一种物体定位器装置的调节方法，该方法包括以下步骤：

-将根据本发明的平台支撑件的平台支脚布置在支撑表面上

-将根据本发明的平台支撑件的第二连接器连接至物体定位器装置的底架，从而在平台支撑件主体与底架之间提供连接，

-将根据本发明的平台支撑件的第一连接器连接至物体定位器装置的平台，从而在垂直于定位平面的方向上提供平台支撑件主体与平台之间的连接，平台被配置为将物体定位在定位平面中。

该实施例允许更新现有设备，例如物体定位器装置、光刻设备和/或物体检查设备，以改善现有设备的动态行为。

在根据本发明的物体定位器装置的更新方法的一个实施例中，平台支脚被布置为邻近物体定位器装置的框架支脚。

该实施例提供了本发明的实际实施方式。

根据本发明的一个实施例，提供了一种物体定位器装置的调节方法，该方法包括以下步骤：

-将物体定位器装置的平台支撑部分与底架分离，

-将平台支脚布置在支撑表面上，平台支脚在垂直于定位平面的方向上具有平台支脚刚度，平台支脚连接至平台支撑件主体，

-将第一连接器连接至平台支撑件主体，第一连接器提供平台支撑件主体与物体定位器装置的平台之间的连接，平台被配置为将物体定位在定位平面中，支撑件主体与平台之间的连接是垂直于定位平面的方向上的连接，

-将第二连接器连接至物体定位器装置的平台支撑件主体和底架，从而提供平台支撑件主体与底架之间的连接，第二连接器在垂直于定位平面的方向上的刚度低于垂直于定位平面的方向上的框架支脚刚度。

该实施例允许更新现有设备，例如物体定位器装置、光刻设备和/或物体检查设备，以改善现有设备的动态行为。

在本发明的另一实施例中，提供了一种装置制造方法，包括：将图案从图案形成装置转印到衬底上，包括使用根据本发明的光刻设备的步骤。

附图说明

下面将结合附图，仅以举例方式阐述本发明的实施例。在示意性附图中：

-图1描绘了光刻设备的示意性概览图；

-图2描绘了图1的光刻设备的部分细节图；

-图3示意性地描绘了位置控制系统；

-图4示意性地示出现有技术中已知的物体定位器装置，

-图5示意性地示出根据本发明的物体定位器装置的实施例，

-图6示意性地示出第二连接器的另一实施例，

-图7示意性地示出底架的实施例，

-图8示意性地示出根据本发明的平台支撑件的实施例。

具体实施方式

在本文件中，术语“辐射”和“光束”旨在包含所有类型的电磁辐射，包括紫外辐射(例如波长为365、248、193、157或126nm)和EUV(极紫外辐射，例如波长在约5-100nm的范围内)。

本文中使用的术语“掩模版”、“掩模”或“图案形成装置”可以广义地解释为表示能够用于赋予入射的辐射束与待在衬底的目标部分上形成的图案对应的图案化横截面的一般图案形成装置。术语“光阀”也可以用于该上下文中。除经典掩模外(透射或反射、二进制、相移、混合等)，其它此类图案形成装置的示例包括可编程反射镜阵列和可编程FCD阵列。

图1示意性地描绘了光刻设备LA。光刻设备LA包括照明系统、掩模支撑件、衬底支撑件和投影系统。照明系统(也称“照明器”)IL被配置为调节辐射束B(例如UV辐射、DUV辐射或EUV辐射)，掩模支撑件(例如掩模台)MT被构造为支撑图案形成装置(例如掩模)MA并且连接至第一定位器PM，第一定位器PM被配置为根据特定参数准确地定位图案形成装置MA，衬底支撑件(例如晶片台)WT被构造为保持衬底(例如抗蚀剂涂覆晶片)W并且连接至第二定位器PW，第二定位器PW被配置为根据特定参数准确地定位衬底支撑件，以及投影系统(例如折射投影透镜系统)PS被配置为将图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影在衬底W的目标部分C(例如包括一个或多个裸片)上。

在操作中，照明系统IL例如经由光束输送系统BD接收来自辐射源SO的辐射束。照明系统IL可以包括各种类型的光学部件，诸如折射部件、反射部件、磁性部件、电磁部件、静电部件和/或其它类型的光学部件或其任意组合，用于引导、成形、和/或控制辐射。照射器IL可以用于调节辐射束B，使其在图案形成装置MA的平面处的横截面中具有期望的空间和角度强度分布。

本文使用的术语“投影系统”PS应该广义地解释为包括各种类型的投影系统，包括折射型、反射型、反射折射型、变形性、磁性、电磁型和/或静电型光学系统或其任意组合，如对于所使用的曝光辐射所适合的，和/或对于诸如使用浸没液或使用真空之类的其它因素所适合的。本文使用的术语“投影透镜”可以被认为与更一般的术语“投影系统”PS同义。

光刻设备LA可以是下述类型的设备：衬底的至少部分可以由具有折射率相对较高的液体(例如水)覆盖，以填充投影系统PS与衬底W之间的空间——这也被称为浸没式光刻。浸没技术的更多信息在US6952253中给出，该专利通过引用并入本文。

光刻设备LA也可以是具有两个或更多个衬底支撑件WT(也称“双平台”)的类型。在这种“多平台”机器中，可以并行地使用衬底支撑件WT，并且/或可以在位于一个衬底支撑件WT上的衬底W上执行随后对衬底W进行曝光的准备步骤，同时另一衬底支撑件WT上的另一衬底W被使用对另一衬底W上的图案进行曝光。

除了衬底支撑件WT外，光刻设备LA还可以包括测量平台。测量平台被布置为保持传感器和/或清洁装置。传感器可以被布置为测量投影系统PS的属性或辐射束B的属性。测量平台可以保持多个传感器。清洁装置可以布置为清洁光刻设备的一部分，例如投影系统PS的一部分或提供浸没液体的系统的一部分。当衬底支撑件WT远离投影系统PS时，测量平台可以在投影系统PS下方移动。

在操作中，辐射束B入射到保持在掩模支撑件MT上的图案形成装置(例如掩模)MA上，并且辐射束B通过图案形成装置MA上存在的图案(设计布局)被图案化。穿过图案形成装置MA之后，辐射束B通过投影系统PS，投影系统PS将辐射束聚焦在衬底W的目标部分C上。借助于第二定位器PW和位置测量系统IF，可以准确地移动衬底支撑件WT，例如以便将辐射束B路径中的不同目标部分C定位在聚焦并且对准的位置。类似地，第一定位器PM和可能的另一位置传感器(图1中未明确示出)可以用于相对于辐射束B的路径准确地定位图案形成装置MA。可以利用掩模对准标记M1、M2以及衬底对准标记P1、P2来对准图案形成装置MA和衬底W。尽管所示的衬底对准标记P1、P2占据了专用目标部分，但其也可以位于目标部分之间的空间内。当衬底对准标记P1、P2位于目标部分C之间时，被称为划线对准标记。

为了阐明本发明，使用笛卡尔坐标系。笛卡尔坐标系具有三个轴线，即x轴线、y轴线和z轴线。三个轴线中的每个轴线均与另外两个轴线正交。围绕x轴线的旋转被称为Rx旋转。围绕y轴线的旋转被称为Ry旋转。围绕z轴线的旋转被称为Rz旋转。x轴线和y轴线定义水平面，而z轴线在竖直方向上。笛卡尔坐标系不限制本发明，而仅用于说明。替代地，可以使用诸如圆柱坐标系的另一坐标系来阐明本发明。笛卡尔坐标系可以具有不同取向，例如，使z轴线具有沿水平面的分量。

图2示出图1的光刻设备LA更详细的部分细节图。光刻设备LA可以设置有底架BF、平衡质量块BM、量测架MF和振动隔离系统IS。量测架MF支撑投影系统PS。另外，量测架MF可以支撑位置测量系统PMS的一部分。经由振动隔离系统IS，量测架MF由底架BF支撑。振动隔离系统IS被布置为防止或减少振动从底架BF传播至量测架MF。

第二定位器PW被布置为通过在衬底支撑件WT与平衡质量块BM之间提供驱动力来使衬底支撑件WT加速。驱动力使衬底支撑件WT在期望方向上加速。由于动量守恒，同等大小的驱动力也施加到平衡质量块BM上，但方向与期望方向相反。典型地，平衡质量块BM的质量明显大于第二定位器PW的移动部分和衬底支撑件WT的质量。在衬底支撑件的移动平面中或平行于衬底支撑件WT的移动平面的平面中，衬底支撑件WT与平衡质量块BM的驱动力大致彼此补偿。衬底支撑件WT的重心和平衡质量块BM的重心在垂直于衬底支撑件WT的移动平面的方向上彼此偏移。施加在衬底支撑件WT上的驱动力和施加在平衡质量块BM上的反作用力通常不施加或产生在其各自的重心上。在垂直于衬底支撑件WT的移动平面的方向上，在衬底支撑件WT上的驱动力与平衡质量块BM上的驱动力之间也存在偏移。这些偏移共同使得这些驱动力生成扭矩T。

在一个实施例中，第二定位器PW由平衡质量块BM支撑。例如，其中第二定位器PW包括平面电机，用于使衬底支撑件WT悬浮在平衡质量块BM上方。在另一实施例中，第二定位器PW由底架BF支撑。例如，其中第二定位器PW包括线性马达，并且其中第二定位器PW包括轴承，如气体轴承，用于使衬底支撑件WT悬浮在底架BF上方。

在一个实施例中，底架BF布置在支撑表面PED(例如基座)上。支撑表面PED一般是坚固并且刚性的，从而为光刻设备提供稳定的安装表面。通过一个或多个框架支脚BFF在支撑表面上支撑底架BS。

位置测量系统PMS可以包括适合于确定衬底支撑件WT的位置的任何类型的传感器。位置测量系统PMS可以包括适合于确定掩模支撑件MT的位置的任何类型的传感器。传感器可以是光学传感器，诸如干涉仪或编码器。位置测量系统PMS可以包括干涉仪和编码器的组合系统。传感器可以是另一类型的传感器，诸如磁传感器、电容传感器或电感传感器。位置测量系统PMS可以确定相对于参考的位置，例如相对于量测架MF或投影系统PS的位置。位置测量系统PMS可以通过测量位置或测量位置的时间导数，诸如速度或加速度，来确定衬底台WT和/或掩模支撑件MT的位置。

位置测量系统PMS可以包括编码器系统。一种编码器系统从例如2006年9月7日提交的美国专利申请US2007/0058173A1中是已知的，该申请通过引用并入于此。编码器系统包括编码器头、光栅和传感器。编码器系统可以接收初级辐射束和二次辐射束。初级辐射束和二次辐射束二者均源自同一辐射束，即原始辐射束。通过利用光栅衍射原始辐射束，生成初级辐射束和二次辐射束中的至少一个辐射束。如果通过利用光栅衍射原始辐射束来生成初级辐射束和二次辐射束两者，则初级辐射束需要具有与二次辐射束不同的衍射级。不同的衍射级是例如+1级、-1级、+2级和-2级。编码器系统将初级辐射束和二次辐射束光学地组合为组合辐射束。编码器头中的传感器确定组合辐射束的相位或相位差。传感器基于相位或相位差生成信号。该信号表示编码器头相对于光栅的位置。编码器头和光栅中的一者可以布置在衬底结构WT上。编码器头和光栅中的另一个可以布置在量测架MF或底架BF上。例如，多个编码器头布置在量测架MF上，而光栅布置在衬底支撑件WT的顶表面上。在另一示例中，光栅布置在衬底支撑件WT的底表面上，并且编码器头布置在衬底支撑件WT下方。

位置测量系统PMS可以包括干涉仪系统。一种干涉仪系统例如从1998年7月13日提交的美国专利US6,020,964中是已知的，该专利通过引用并入于此。干涉仪系统可以包括分束器、反射镜、参考反射镜和传感器。辐射束被分束器分成参考光束和测量光束。测量光束传播至反射镜，然后由反射镜反射回分束器。参考光束传播至参考反射镜，然后由参考反射镜反射回分束器。在分束器处，测量光束和参考光束被组合为组合辐射束。组合辐射束入射到传感器上。传感器确定组合辐射束的相位或频率。传感器基于该相位或频率生成信号。该信号表示反射镜的位移。在一个实施例中，反射镜连接至衬底支撑件WT。参考反射镜可以连接至量测架MF。在一个实施例中，测量光束和参考光束通过附加光学部件而非分束器组合为组合辐射束。

第一定位器PM可以包括长行程模块和短行程模块。短行程模块被布置为在小移动范围内使掩模支撑件MT相对于长行程模块以高准确度移动。长行程模块被布置为在大移动范围内使短行程模块相对于投影系统PS以相对低的准确度移动。利用长行程模块与短行程模块的组合，第一定位器PM能够在大移动范围内使掩模支撑件MT相对于投影系统PS以高准确度移动。类似地，第二定位器PW可以包括长行程模块和短行程模块。短行程模块被布置为在小移动范围内使衬底支撑件WT相对于长行程模块以高准确度移动。长行程模块被布置为在大移动范围内使短行程模块相对于投影系统PS以相对低的准确度移动。利用长行程模块与短行程模块的组合，第二定位器PW能够在大移动范围内使衬底支撑件WT相对于投影系统PS以高准确度移动。

第一定位器PM和第二定位器PW各组设置有致动器，以分别移动掩模支撑件MT和衬底支撑件WT。致动器可以是线性致动器，以沿单个轴线(例如y轴线)提供驱动力。可以应用多个线性致动器以提供沿多个轴线的驱动力。致动器可以是平面致动器，以提供沿多个轴线的驱动力。例如，平面致动器可以被布置为以6个自由度移动衬底支撑件WT。致动器可以是电磁致动器，包括至少一个线圈和至少一个磁体。致动器被布置为通过向至少一个线圈施加电流，来使至少一个线圈相对于至少一个磁体移动。致动器可以是移动磁体型致动器，其具有耦接至衬底支撑件WT的、并且相应地耦接至掩模支撑件MT的至少一个磁体。致动器可以是移动线圈型致动器，其具有耦接至衬底支撑件WT的、并且相应地耦接至掩模支撑件MT的至少一个线圈。致动器可以是动圈致动器、磁阻致动器、洛伦兹致动器或压电致动器，或者任何其它合适的致动器。

光刻设备LA包括如图3中示意性地描绘的位置控制系统PCS。位置控制系统PCS包括设定点生成器SP、前馈控制器FF和反馈控制器FB。位置控制系统PCS向致动器ACT提供驱动信号。致动器ACT可以是第一定位器PM的致动器或第二定位器PW的致动器。致动器ACT驱动设备P，设备P可以包括衬底支撑件WT或掩模支撑件MT。设备P的输出是位置量，诸如位置或速度或加速度。位置量利用位置测量系统PMS进行测量。位置测量系统PMS生成信号，该信号是表示设备P的位置量的位置信号。设定点生成器SP生成信号，该信号是表示设备P的期望位置量的参考信号。例如，参考信号表示衬底支撑件WT的期望轨迹。参考信号与位置信号之间的差异形成反馈控制器FB的输入。基于该输入，反馈控制器FB提供用于致动器ACT的驱动信号的至少部分。参考信号可以形成前馈控制器FF的输入。基于该输入，前馈控制器FF提供用于致动器ACT的驱动信号的至少部分。前馈FF可以利用设备P动态特性的相关信息，诸如质量、刚度、共振模式和本征频率。

图4示出现有技术中已知的物体定位器装置1。

物体定位器装置1包括平台10和底架BF。平台包括物体支撑台WT和平衡质量块BM。物体支撑台WT被配置为用于定位物体，例如衬底。衬底例如可以是晶片。物体支撑台例如是衬底支撑件或晶片台。物体支撑台WT能够在定位平面中移动。如果物体是衬底，则物体支撑台WT能够在衬底的平面中移动，例如在x-y平面和/或水平面中移动。在这种情况下，衬底的平面是定位平面。可以提供第二定位器PW(图4中未示出，但与图2类似)，用于定位物体支撑台WT。可选地，平台包括两个物体支撑台WT。

第二定位器PW可以包括长行程模块和短行程模块。短行程模块被布置为在小移动范围内使物体支撑台WT相对于长行程模块以高准确度移动。长行程模块被布置为在大移动范围内使短行程模块在定位平面中或平行于定位平面以相对低的准确度移动。利用长行程模块与短行程模块的组合，第二定位器PW能够使衬底支撑件WT在定位平面中或平行于定位平面以高准确度移动。

平台10还包括平衡质量块BM。平衡质量块在与物体支撑台WT的移动方向相对的方向上移动。

平台10通过第一连接器21安装在底架BF上。第一连接器21是或包括例如气垫式避震器、空气轴承和/或振动隔离器。底架BF安装在支撑表面PED上。底架BF由框架支脚BFF支撑，框架支脚BFF布置在支撑表面PED与底架BF之间。第一连接器21在平台支撑部SSP处接合底架BF。

物体支撑台WT具有重心WT-COG。平衡质量块具有重心BM-COG。如图4所示，物体支撑台WT的重心WT-COG和平衡质量块BM的重心BM-COG在垂直于定位平面的方向上彼此偏移。施加在物体支撑台WT上的驱动力和施加在平衡质量块BM上的反作用力通常不施加或生成在其各自的重心上。例如，物体支撑台WT上的驱动力施加在物体支撑台WT的重心与下边缘之间，或者甚至施加在物体支撑台WT的下边缘处。平衡质量块BM上的驱动力例如施加在平衡质量块BM的重心与上边缘之间，或者甚至施加在平衡质量块BM的上边缘处。因此，在垂直于定位平面的方向上，物体支撑台WT上的驱动力和平衡质量块BM上的驱动力之间也存在偏移。这些偏移共同使得这些驱动力生成扭矩T。

扭矩T经由第一连接器21直接传递至底架BF。扭矩T激励底架BF，这对底架BF及附接至底架的部件的动态行为具有负面影响。

图4的物体定位器装置1可以用于例如光刻设备或物体检查设备。在这些类型的设备中，设备的若干其它重要部件安装在底架上，诸如传感器、晶片装卸器和/或掩模版装卸器。底架BF的变形和振动可能会对这些部件的性能和/或寿命产生负面影响。

图5示示出根据本发明的物体定位器装置1的实施例。

物体定位器装置1包括平台10和底架BF。平台包括物体支撑台WT和平衡质量块BM。物体支撑台WT被配置为用于定位物体，例如衬底。衬底例如可以是晶片。物体支撑台例如是衬底支撑件或晶片台。物体支撑台WT能够在定位平面中移动。如果物体是衬底，则物体支撑台WT能够在衬底的平面中移动，例如在x-y平面和/或水平面中移动。在这种情况下，衬底的平面是定位平面。可以提供第二定位器PW(图5中未示出，但与图2类似)，用于定位物体支撑台WT。

可选地，第二定位器PW包括长行程模块和短行程模块。短行程模块被布置为在小移动范围内使物体支撑台WT相对于长行程模块以高准确度移动。长行程模块被布置为在大移动范围内使短行程模块在定位平面中或平行于定位平面以相对低的准确度移动。利用长行程模块与短行程模块的组合，第二定位器PW能够使衬底支撑件WT在定位平面中或平行于定位平面以高准确度移动。

平台10还包括平衡质量块BM。平衡质量块能够在与物体支撑台WT的移动方向相对方向移动，特别是在平行于定位平面的平面中移动。

底架BF安装在支撑表面PED上，支撑表面PED例如是基座或工厂地板，例如加强的工厂地板。如果使用基座，则基座可以布置在工厂地板上。底架BF由框架支脚BFF支撑，框架支脚BFF布置在支撑表面PED与底架BF之间。例如，可以设置一个、两个、三个、四个或六个框架支脚BFF。框架支脚被配置为将底架BF支撑在支撑表面PED上。每个框架支脚BFF在垂直于定位平面的方向上具有框架支脚刚度。在图5的实施例中，该方向是z方向。z方向例如是竖直方向。

在图5的实施例中，物体定位器装置1还设置有两个平台支撑件20。任何其它数目的平台支撑件20都是可能的。

每个平台支撑件20包括平台支撑件主体22、第一连接器21和平台支脚24。可选地，还提供第二连接器23。

在垂直于定位平面的方向上，第一连接器21将平台10与平台支撑件主体22彼此连接，在图5的实施例中，该方向是z方向。例如，第一连接器21可以具有两个相对端部，一个端部连接至平台10的平衡质量块BM，另一端部连接至平台支撑件主体22。例如，第一连接器21是或包括振动隔离器和/或气垫式避震器和/或空气轴承。可选地，第一连接器21还在平行于定位平面的平面中的至少一个方向上连接平台10与平台支撑件主体22。

平台支脚24被配置为将平台支撑件主体22支撑在支撑表面PED上。平台支脚24在垂直于定位平面的方向上具有平台支脚刚度。该方向例如是z方向，例如竖直方向。可选地，平台支脚刚度等于或高于框架支脚刚度。平台支脚刚度的方向与框架支脚刚度的方向相同。可选地，平台支脚24可以设置有阻尼材料，诸如粘弹性阻尼材料。在一个实施例中，通过使用例如冷却流体，将阻尼材料的温度保持在恒定温度，例如20℃。这是有利的，因为如果阻尼材料的温度改变，阻尼材料的刚度特性可能也会改变。在一个实施例中，阻尼材料以下述方式施加：在剪切应力下加载。这是有利的，因为在这种条件下，阻尼材料可以提供改善的阻尼特性。

例如，平台支脚刚度比框架支脚刚度高3至10倍。在一个实施例中，平台支脚刚度比框架支脚刚度高4至7倍。可选地，平台支脚刚度比框架支脚刚度高5至6倍。例如，平台支脚刚度在0.6×10⁹N/m至1.5×10⁹N/m之间。例如，框架支脚刚度在0.8×10⁸N/m至5×10⁸N/m之间。

在图5的实施例中，在到达底架BF之前，由平台10产生的力和/或扭矩被引导通过支撑表面PED。与底架BF相比，例如作为基座或坚固(例如加强)地板的支撑表面PED一般是坚固并且刚性的。使得在高生产率时由平台10生成的力和/或扭矩对底架BF的影响减小。已经示出该实施例在减小由于物体支撑台WT和平衡质量块BM上相应的驱动力偏移而生成的扭矩对底架的影响方面特别有效，其中驱动力施加在定位平面中或平行于定位平面施加。此外，还可以减小其它方向上的力和/或扭矩对底架和/或安装在底架上的部件的任何不利影响。

在图5的实施例中，平台支撑件主体20还包括第二连接器23。例如在垂直于定位平面的方向上，即本实施例中的z方向上，第二连接器23将平台支撑件主体22与底架BF彼此连接。z方向例如是竖直方向。可选地，第二连接器23在垂直于定位平面的方向(例如z方向，例如竖直方向)上具有刚度，该刚度低于垂直于定位平面的方向(例如z方向，例如竖直方向)上的平台支脚刚度。第二连接器23的这种刚度是与平台支脚刚度在同一方向上的刚度。可选地，第二连接器23可以设置有阻尼，例如粘弹性阻尼。备选地或额外地，在平行于定位平面的方向上，第二连接器23将平台支撑件主体22和底架BF彼此连接。

在图5的实施例中，第二连接器23在垂直于定位平面的方向上的刚度可选地低于垂直于定位平面的方向上的框架支脚刚度。

在图5的实施例中，第二连接器23可选地在垂直于定位平面的方向上具有刚度，并且在平行于定位平面的方向上具有刚度。可选地，平行于定位平面的方向上的刚度高于垂直于定位平面的方向上的刚度。

例如，第二连接器23在垂直于定位平面的方向上的刚度在0.8×10⁷N/m至5×10⁷N/m之间。

图6示出第二连接器23的另一实施例。在该实施例中，第二连接器23包括柔顺元件25和预张紧器26。柔顺元件25在垂直于定位平面的方向上的刚度高于预张紧器26在垂直于定位平面的方向上的刚度。预张紧器26在垂直于定位平面的方向(例如z方向，z方向例如是竖直方向)上被预加载偏压力。这改善了平台10的稳定性。预加载例如可以通过使预张紧器26承载底架BF的部分重量实现。

柔顺元件25在垂直于定位平面的方向上的刚度高于预张紧器26在垂直于定位平面的方向上的刚度，使得预张紧器26不主导平台支撑件的动态行为。

图7示出底架BF的实施例。为了清楚起见，未示出平台10。在该实施例中，定位平面是x-y平面。

在该实施例中，物体定位器装置包括至少三个框架支脚和至少两个平台支撑件。更具体地，在该实施例中，设置有四个框架支脚BFF和三个平台支撑件20。

在图7的实施例中，底架BF包括柔顺侧BFC和刚性侧BFR。柔顺侧BFC与刚性侧BFR相对布置。柔顺侧BFC有时也称为“片簧侧”。例如，为了避免在底架BF中形成张力，柔顺侧BFC例如在y方向上具有比刚性侧BFR更低的刚度。

在图7的实施例中，平台被配置为在x方向和垂直于x方向的y方向上定位物体(例如衬底，例如晶片)。x方向和y方向二者均在定位平面中延伸。这种设置使得通过物体支撑台WT和平衡质量块BM相应的重心在z方向上的偏移而生成扭矩。这些生成的扭矩围绕x轴线和y轴线被引导。

在图7的实施例中，物体定位器装置包括至少两个平台支撑件20，平台支撑件20被布置在平台支撑平面中，平台支撑平面垂直于定位平面并且平行于x方向或y方向任一者延伸。特别地，在图7的实施例中，在z-x平面中，两个平台支撑件20被布置在底架BF的柔顺侧BFC。

在图7的实施例中，底架BF在y方向上的长度大于x方向上的长度。通过物体支撑台WT和平衡质量块BM相应的驱动力在z方向上的偏移生成的被引导为围绕y轴线的扭矩是最突出的。在这种情况下，有利的是具有至少两个平台支撑件20，平台支撑件20被布置在平台支撑平面中，平台支撑平面垂直于定位平面并且平行于x方向(即在z-x平面中)延伸。

在图7的实施例中，可选地，在底架BF的刚性侧BFR布置一个或多个附加平台支撑件20。这些附加平台支撑件可选地设计和/或布置为主要抵消在其它方向上的扭矩或力，而非围绕y轴线生成的扭矩。

在图7的实施例中，至少一个平台支脚被布置为邻近框架支撑件。例如，在平行于定位平面的方向上，平台支脚与框架支脚之间的距离为60厘米或更小，例如20至45厘米。

图8示出根据本发明的平台支撑件20的实施例。平台支撑件包括平台支撑件主体22、第一连接器21、第二连接器23和平台支脚24。

第一连接器21连接至平台支撑件主体22，并且能够连接至平台，平台被配置为定位物体。第一连接器21被配置为在第一方向(例如z方向，例如竖直方向)上在平台支撑件主体22与平台之间提供连接。第一连接器21是或包括例如振动隔离器和/或气垫式避震器和/或空气轴承。

第二连接器23连接至平台支撑件主体22，并且能够连接至底架。第二连接器23被配置为例如在第一方向上在平台支撑件主体22与底架之间提供连接。第一方向例如是z方向，例如竖直方向。备选地或额外地，第二连接器23被配置为在平行于定位平面的方向上提供在平台支撑件主体22与底架BF之间的连接。

平台支脚24被配置为在支撑表面上支撑平台支撑件主体22。平台支脚24在第一方向上具有平台支脚刚度。

第二连接器23在第一方向上的刚度低于框架支脚在第一方向上的刚度。可选地，第二连接器23和/或平台支脚24可以设置有阻尼材料，诸如粘弹性阻尼材料。在一个实施例中，通过使用例如冷却流体，阻尼材料的温度被保持在恒定温度，例如20℃。这是有利的，因为如果阻尼材料的温度改变，阻尼材料的刚度特性可能也会改变。在一个实施例中，阻尼材料以下述方式施加：在剪切应力下加载。这是有利的，因为在这种条件下，阻尼材料可以提供改善的阻尼特性。

根据本发明的平台支撑件20，例如图8所示的平台支撑件，可以用于更新和/或升级现有设备，例如现有光刻设备、现有物体检查设备或现有物体定位器装置。当平台支撑件20用于此目的时，其例如布置为邻近被更新和/或升级设备的现有框架支脚。

平台支撑件20可以例如用于调节物体定位器装置。这可以例如通过以下步骤进行：

-将平台支撑件20的平台支脚24布置在支撑表面上，

-将平台支撑件20的第二连接器23连接至物体定位器装置的底架，从而例如在垂直于定位平面的方向上和/或平行于定位平面的方向上提供平台支撑件主体22与底架之间的连接，

-将平台支撑件20的第一连接器21连接至物体定位器装置的平台，平台被配置为将物体定位在定位平面中，从而在垂直于定位平面的方向上提供平台支撑件主体22与平台之间的连接。

例如，平台支脚被布置为邻近物体定位器装置的框架支脚。

在另一实施例中，平台支撑件20可以使用以下步骤来被用于调节物体定位器：

-将平台支撑部分SSP与物体定位器装置的底架BF分离，

-将平台支脚24布置在支撑表面PED上，平台支脚24在垂直于定位平面的方向上具有平台支脚刚度，平台支脚24连接至平台支撑件主体22，

-将第一连接器21连接至平台支撑件主体22，第一连接器21提供平台支撑件主体22与物体定位器装置的平台10之间的连接，平台10被配置为将物体定位在定位平面中，支撑件主体22与平台10之间的连接是垂直于定位平面的方向上的连接，

-将第二连接器23连接至物体定位器装置的平台支撑件主体22和底架BF，从而例如在垂直于定位平面和/或平行于定位平面的方向上提供平台支撑件主体22与底架BF之间的连接，第二连接器23在垂直于定位平面的方向上的刚度低于在垂直于定位平面的方向上的框架支脚刚度。

例如，平台支撑部分SSP可以通过切割与底架BF分离，例如激光切割或水射流切割。平台支撑件主体22，例如图8所示的平台支撑件20的平台支撑件主体22，代替了底架BF的平台支撑部分SSP。

例如，提供平台10与平台支撑件主体22之间连接的第一连接器21是调节后的设备中已经存在的第一连接器，或者替代地，可以是用于调节设备的平台支撑件20中的第一连接器。

尽管在本文中具体参考了在IC制造中使用光刻设备，但应当理解的是，本文描述的光刻设备也可以具有其它应用。可能的其它应用包括集成光学系统制造、磁畴存储器的引导和检测图案制造、平板显示器制造、液晶显示器(LCD)制造、薄膜磁头制造等。

尽管在本文中具体参考了光刻设备上下文中的本发明实施例，本发明实施例也可以用于其它设备。本发明实施例可以形成掩模检查设备、量测设备或测量或处理诸如晶片(或其它衬底)或掩模(或其它图案形成装置)的物体的任何设备的一部分。这些设备可以统称为光刻工具。这些光刻工具可以利用真空条件或环境(非真空)条件。

尽管上文中已经具体参考了本发明实施例在光学光刻上下文中的使用，但应当理解的是，在上下文允许的情况下，本发明不限于光学光刻，而是可以用于例如压印光刻的其它应用。在上下文允许的情况下，本发明实施例可以在硬件、固件、软件或其任何组合中实现。本发明实施例也可以实现为存储在机器可读介质上的指令，并且可以由一个或多个处理器读取和执行。机器可读介质可以包括用于以机器(例如计算设备)可读形式存储或传输信息的任何机制。例如，机器可读介质可以包括只读存储器(ROM)；随机存取存储器(RAM)；磁存储介质；光存储介质；闪存设备；电、光、声或其它形式的传播信号(例如载波、红外信号、数字信号等)等。此外，固件、软件、例程、指令在本文中可以被描述为执行某些动作。

然而，应当理解的是，这样描述仅仅是为了方便，并且这些动作实际上是由计算设备、处理器、控制器或执行固件、软件、例程、指令等的其它设备产生的，并且在执行这些动作时，可以使致动器或其它设备与物理世界交互。

尽管上文中已经描述了本发明的具体实施方式，但应当理解的是，本发明可以以不同于所述方式的方式实施。以上描述旨在是说明性的而非限制性的。因此，在不背离下文阐述的权利要求范围的情况下，可以对所描述的本发明进行修改，这对于本领域技术人员来说是明显的。

Claims (24)

1.一种物体定位器装置，其包括：

-平台，所述平台被配置为将物体定位在定位平面中，

-底架，

-框架支脚，所述框架支脚被配置为在支撑表面上支撑所述底架，

-平台支撑件，所述平台支撑件包括：

-平台支撑件主体，

-第一连接器，所述第一连接器将所述平台与所述平台支撑件主体在垂直于所述定位平面的方向上彼此连接，

-平台支脚，所述平台支脚被配置为在所述支撑表面上支撑所述平台支撑件主体。

-其中，所述平台支撑件还包括第二连接器，所述第二连接器将所述平台支撑件主体与所述底架彼此连接。

2.根据权利要求1所述的物体定位器装置，

其中所述框架支脚具有在垂直于所述定位平面的方向上的框架支脚刚度，并且

所述平台支脚具有在垂直于所述定位平面的方向上的平台支脚刚度，所述平台支脚刚度等于或大于所述框架支脚刚度。

3.根据权利要求1或2所述的物体定位器装置，

其中所述第二连接器具有在垂直于所述定位平面的方向上的刚度，所述刚度低于在垂直于所述定位平面的方向上的所述平台支脚刚度。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的物体定位器装置，

其中所述第二连接器具有在垂直于所述定位平面的方向上的刚度以及在平行于所述定位平面的方向上的刚度，其中，所述第二连接器在平行于所述定位平面的方向上的刚度高于所述第二连接器在垂直于所述定位平面的方向上的刚度。

5.根据前述权利要求中任一项所述的物体定位器装置，

其中所述第一连接器是振动隔离器和/或气垫式避震器和/或空气轴承，或者所述第一连接器包括振动隔离器和/或气垫式避震器和/或空气轴承。

6.根据权利要求1至5中任意一项所述的物体定位器装置，

其中所述第二连接器包括柔顺元件和预张紧器，其中所述柔顺元件在垂直于所述定位平面的方向上的刚度高于所述预张紧器在垂直于所述定位平面的方向上的刚度，并且其中所述预张紧器承载所述底架的部分重量。

7.根据前述权利要求中任一项所述的物体定位器装置，

其中所述物体定位器装置包括至少三个框架支脚和至少两个平台支撑件。

8.根据前述权利要求中任一项所述的物体定位器装置，

其中所述平台被配置为在x方向上以及在垂直于所述x方向的y方向上定位物体，所述x方向和所述y方向二者均在所述定位平面中延伸，以及

其中所述物体定位器装置包括至少两个平台支撑件，所述至少两个平台支撑件被布置在平台支撑平面中，所述平台支撑平面垂直于所述定位平面并且平行于所述x方向或所述y方向中任一者延伸。

9.根据前述权利要求中任一项所述的物体定位器装置，

其中所述平台被配置为在x方向上以及在垂直于所述x方向的y方向上定位物体，所述x方向和所述y方向二者均在所述定位平面中延伸，以及

其中所述底架在所述y方向上比在所述x方向上更长，并且

其中所述物体定位器装置包括至少两个平台支撑件，所述至少两个平台支撑件被布置在平台支撑平面中，所述平台支撑平面垂直于所述定位平面并且平行于所述x方向延伸。

10.根据前述权利要求中任一项所述的物体定位器装置，

其中所述平台支脚被布置为邻近所述框架支脚，例如其中在平行于所述定位平面的方向上，在所述平台支脚与所述框架支脚之间的距离为60厘米或更小。

11.根据前述权利要求中任一项所述的物体定位器装置，

其中所述底架包括柔顺侧和刚性侧，其中所述柔顺侧与所述刚性侧相对布置，并且其中所述平台支脚被布置在所述底架的所述柔顺侧处。

12.根据前述权利要求中任一项所述的物体定位器装置，

其中所述平台包括物体支撑台和平衡质量块，所述物体支撑台和所述平衡质量块能够在所述定位平面中相对于彼此移动、或者能够平行于所述定位平面相对于彼此移动。

13.根据前述权利要求中任一项所述的物体定位器装置，其中所述平台支脚设置有阻尼材料，例如粘弹性阻尼材料。

14.根据权利要求13所述的物体定位器装置，其中所述阻尼材料的温度被保持在恒定温度处。

15.一种平台支撑件，所述平台支撑件包括：

-平台支撑件主体，

-第一连接器，所述第一连接器连接至所述平台支撑件主体并且能够连接至平台，所述平台被配置为定位物体，所述第一连接器被配置为在第一方向上在所述平台支撑件主体与所述平台之间提供连接，

第二连接器，所述第二连接器连接至所述平台支撑件主体并且能够连接至底架，所述第二连接器被配置为在所述平台支撑件主体与所述底架之间提供连接，

-平台支脚，所述平台支脚被配置为在支撑表面上支撑所述平台支撑件主体，所述平台支脚具有在所述第一方向上的平台支脚刚度，

其中，所述第二连接器具有在所述第一方向上的刚度，所述刚度低于在所述第一方向上的所述框架支脚刚度。

16.根据权利要求13所述的平台支撑件，

其中所述第一方向是垂直于定位平面的方向，所述平台被配置为在所述定位平面中定位所述物体，其中所述第一方向可选地是竖直方向。

17.一种光刻设备，

所述光刻设备包括根据权利要求1至14中任一项所述的物体定位器装置。

18.一种光刻设备，

所述光刻设备包括根据权利要求15至16中任一项所述的平台支撑件。

19.一种光刻设备，

所述光刻设备包括投影系统和物体定位器装置，所述物体定位器装置用于相对于所述投影系统定位物体，其中所述物体定位器装置是根据权利要求1至14中任一项所述的物体定位器装置。

20.一种物体检查设备，

所述物体检查设备包括根据权利要求1至14中任一项所述的物体定位器装置。

21.一种用于调节物体定位器装置的方法，

所述方法包括以下步骤：

-将根据权利要求15至16中任一项所述的平台支撑件的平台支脚布置在支撑表面上，

-将根据权利要求15至16中任一项所述的平台支撑件的第二连接器连接至所述物体定位器装置的底架，从而在所述平台支撑件主体与所述底架之间提供连接，

-将根据权利要求15至16中任一项所述的平台支撑件的第一连接器连接至物体定位器装置的平台，所述平台被配置为将物体定位在定位平面中，从而在垂直于所述定位平面的方向上提供在所述平台支撑件主体与所述平台之间的连接。

22.根据权利要求21所述的方法，

其中所述平台支脚被布置为邻近所述物体定位器装置的框架支脚。

23.一种用于调节物体定位器装置的方法，

所述方法包括以下步骤：

-将平台支撑部分与物体定位器装置的底架分离，

-将平台支脚布置在支撑表面上，所述平台支脚具有在垂直于定位平面的方向上的平台支脚刚度，所述平台支脚连接至平台支撑件主体，

-将第一连接器连接至所述平台支撑件主体，所述第一连接器提供在所述平台支撑件主体与所述物体定位器装置的平台之间的连接，所述平台被配置为将物体定位在定位平面中，在所述支撑件主体与所述平台之间的所述连接是在垂直于所述定位平面的方向上的连接，

-将第二连接器连接至所述物体定位器装置的所述平台支撑件主体以及所述底架，从而提供在所述平台支撑件主体与所述底架之间的连接，所述第二连接器具有在垂直于所述定位平面的方向上的刚度，所述刚度低于在垂直于所述定位平面的方向上的所述框架支脚刚度。

24.一种装置制造方法，包括将图案从图案形成装置转印到衬底上，包括使用根据权利要求17至19中任一项所述的光刻设备的步骤。

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