JP6181978B2 - 干渉式間隔測定装置 - Google Patents
干渉式間隔測定装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6181978B2 JP6181978B2 JP2013111986A JP2013111986A JP6181978B2 JP 6181978 B2 JP6181978 B2 JP 6181978B2 JP 2013111986 A JP2013111986 A JP 2013111986A JP 2013111986 A JP2013111986 A JP 2013111986A JP 6181978 B2 JP6181978 B2 JP 6181978B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light beam
- measurement
- deflection
- component
- reflector
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02049—Interferometers characterised by particular mechanical design details
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/026—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness by measuring distance between sensor and object
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
- G01B9/02017—Interferometers characterised by the beam path configuration with multiple interactions between the target object and light beams, e.g. beam reflections occurring from different locations
- G01B9/02018—Multipass interferometers, e.g. double-pass
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
- G01B9/02022—Interferometers characterised by the beam path configuration contacting one object by grazing incidence
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/02056—Passive reduction of errors
- G01B9/02061—Reduction or prevention of effects of tilts or misalignment
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
- G01B2290/30—Grating as beam-splitter
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Transform (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
Description
ΦK=8*√2*π*Ry*Δx*(1/λ0−1/λ) (式1)
ΦK:測定反射体MRがy軸の周りを傾いており、測定光ビームと測定反射体の間の相互作用が四回、α=45°の場合の位相シフト、
Ry:y軸の周りの回転角、
Δx:x方向における入射点A1,A2と傾斜軸の距離、
λ:実際の波長、
λ0:公称波長。
そこに入射するコリメートされた光ビームが、更に、線焦点に集束する作用を受けて、その線焦点は、測定方向に沿って延び、並びに
そこに入射する拡散する光ビームが、更に、コリメートする作用を受ける、
ものと規定できる。
これらの透過型フレネル円柱レンズは、支持部品の互いに対向する側に配置され、
これらの反射体は、それぞれ支持部品の対向する側に配置され、それらの反射する側が、透過型フレネル円柱レンズの方向を向いており、
これらの透過型フレネル円柱レンズは、そこに入射するコリメートされた光ビームを反射体の反射する側に線状に集束させるように構成される。
測定光ビームが、分割格子から測定反射体の方向に進行して、そこの第一の入射位置で、走査ユニット内の第一の偏向部品の方向への一回目の反射を起こし、
次に、この測定光ビームが、第一の偏向部品で、第二の偏向部品の方向への偏向を起こし、
次に、この測定光ビームは、第二の偏向部品で、測定反射体の方向への偏向を起こして、そこの第二の入射位置で、結合部品の方向への二回目の反射を起こし、
この基準光ビームが、分割格子から第一の偏向部品の方向に進行して、そこで、第二の偏向部品の方向への偏向を起こし、
この基準光ビームが、第二の偏向部品で、結合部品の方向への偏向を起こす、
ように、走査ユニット内に配置、構成されるものと規定できる。
k0=2π/λ (式2.1)
分割格子AGの格子ベクトルkGは、次の式で与えられる。
kG=2π/d (式2.2)
測定反射体MRに入射する測定光ビームMのkベクトルのz成分kzは、次の式で与えられる。
kz=2π/d (式3.1)
Δkz=4π/d (式3.2)
Φ1=Δk1*Δz1=4π/d(Δz−Ry*Δx) (式4.1)
Φ2=Δk2*Δz2=4π/d(Δz+Ry*Δx) (式4.2)
Φ1,Φ2:入射位置A1,A2での測定光ビームの位相シフトΦ1,Φ2、
Δk1,Δk2:測定反射体の入射位置A1,A2での測定光ビームのkベクトルのz成分の変化、
Δz1,Δz2:入射位置A1,A2でのz方向における測定反射体の位置の変位、
Δz:z軸に沿ってシフトした場合のz方向における測定反射体の位置の変位、
Ry:点MPを通りy軸に対して平行に延びる傾斜軸の周りの測定反射体の回転角、
Δx:x軸に沿った入射位置A1,A2と測定反射体の傾斜軸の間の間隔。
Φ=Φ1+Φ2=(4π/d)*2Δz=8π/d*Δz (式5)
β:偏向部品又はそのために使用される回折構造の回折角、
α:y軸の周りに傾斜した場合の測定反射体の傾斜角、
δ:結合格子後の測定光ビームMと基準光ビームRの間の角度。
δ=2*N*sinβ*α2 (式6)
N:測定光ビームと測定反射体の相互作用の回数(第一の実施例では、N=2、第二及び第三の実施例では、N=4)。
分割格子111→測定反射体100の入射位置A1→偏向部品113.1a→反射体120→偏向部品113.1b→測定反射体100の入射位置A2→偏向部品123→偏向部品125→測定反射体100の入射位置A3→偏向部品114.1a→反射体121→偏向部品114.1b→測定反射体100の入射位置A4→結合格子115
分割格子111→偏向部品113.2a→反射体120→偏向部品113.2b→偏向部品122→偏向部品124→偏向部品114.2a→反射体121→偏向部品114.2b→結合格子115
この光路の特性とそれに対応する図面から明らかな通り、特に、第二の実施例で測定光ビームMと基準光ビームRの光路内に使用される偏向部品は、第一の実施例の偏向部品と異なる。
分割格子211→測定反射体200の入射位置A1→偏向部品213.1→測定反射体200の入射位置A2→偏向部品223→偏向部品224→測定反射体200の入射位置A3→偏向部品214.1→測定反射体200の入射位置A4→結合格子215
分割格子211→偏向部品213.2→偏向部品222→偏向部品225→偏向部品214.2→結合格子215
10,10’,110,210,310 走査ユニット
11,11’,111,211,311 分割部品(格子)
12A,12B,12A’,12B’,112A,112B,212A,212B,312A,312B 支持部品
13.1,13.2,14.1,14.2,13.1’,13.2’,14.1’,14.2’,113.1a,113.1b,113.2a,113.2b,114.1a,114.1b,114.2a.114.2b,122,123,124,125,213.1,213.2,214.1,214.2,330.1,330.2 偏向部品
15,15’,115,215,315 結合部品(格子)
16,16’,116,216,316 光源
17,17’,117,217,317 コリメータレンズ
18,18’,118,218,318 検出器配列
19 シェード
20 裏面反射体
21 カバーガラス
120,121 反射体
330 支持部品(ガラス板)
340 ガラス板
341.1,341.2 補償部品
342 ガラス板
350 シェード
A1,A2,A1’,A2’,A3,A4 入射点(位置)
G 格子
AG 分割格子
L 線焦点
M 測定光ビーム
MP 実効的な測定点
R 基準光ビーム
S 対称面
SB 光ビーム
x 座標軸(光の入射方向)
y 座標軸(傾斜軸)
z 座標軸(測定方向)
Claims (15)
- 測定反射体と、
光源と、
光源から放出された光ビームを少なくとも一つの測定光ビームと少なくとも一つの基準光ビームに分割して、この測定光ビームが、更なる光路において、少なくとも二回測定反射体に当たるようにする分割部品と、
測定光ビームと基準光ビームが到来したら、それらを重畳させて干渉させるための結合部品と、
干渉した測定光ビームと基準光ビームから測定反射体と本装置の一つ以上の別のコンポーネントの間の測定方向(z)に沿った間隔に関する少なくとも一つの間隔信号を生成することが可能な検出器配列と、
を備えた干渉式間隔測定装置において、
この分割部品が、分割格子(11;111;211)として構成され、この光源(16;116;216)が測定反射体(1;100;200)の表面に対して平行に分割格子(11;111;211)の方向に向けて光ビームを放出し、この分割格子(11;111;211)が、測定反射体(1;100;200)の表面に対して垂直に配置されていることを特徴とする装置。 - 光源(16;116;216)、分割格子(11;111;211)、結合部品及び検出器配列(18;118;218)が、別のコンポーネントと一緒に、少なくとも測定反射体(1;100;200)に対する測定方向(z)に沿った間隔を変更可能な形で配置された走査ユニット(10;110;210)内に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 分割格子(11;111;211)が板形状の支持部品(12A,12B;112A,112B;212A,212B)の上に配置されており、この支持部品(12A,12B;112A,112B;212A,212B)が測定反射体(1;100;200)の表面に対して垂直な方向を向いて配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の装置。
- 分割格子(11;111;211)と結合部品の間の基準光ビーム(R)と測定光ビーム(M)の光路内には、それぞれ少なくとも二つの偏向部品(13.1,13.2,14.1,14.2;113.1a,113.1b,113.2a,113.2b,114.1a,114.1b,114.2a.114.2b;213.1,213.2,214.1,214.2)が配置されており、各偏向部品(13.1,13.2,14.1,14.2;113.1a,113.1b,113.2a,113.2b,114.1a,114.1b,114.2a.114.2b;213.1,213.2,214.1,214.2)が、そこに入射する光ビームに対して、測定方向(z)に沿った偏向作用又は測定方向(z)に沿った偏向作用と測定方向(z)に対して垂直な方向の偏向作用を及ぼすことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 偏向部品(13.1,13.2,14.1,14.2;113.1a,113.1b,113.2a,113.2b,114.1a,114.1b,114.2a.114.2b;213.1,213.2,214.1,214.2)が、
そこに入射するコリメートされた光ビームに対して、更に、線焦点(L)に集束させる作用を及ぼして、この線焦点(L)が測定方向(z)に沿って延びており、並びに
そこに入射する拡散する光ビームに対して、更に、コリメート作用を及ぼす、
ことを特徴とする請求項4に記載の装置。 - 当該の偏向部品が、測定反射体(1;100;200)に対して垂直に設置された支持部品(12A,12B;112A,112B;212A,212B)上に配置された回折構造を有することを特徴とする請求項4に記載の装置。
- 当該の偏向部品(13.1,13.2,14.1,14.2)が反射型フレネル円柱レンズとして構成され、これらの反射型フレネル円柱レンズが、そこに入射する光ビームに対して、集束作用の外に、更に、測定方向(z)に沿った偏向作用を及ぼすことを特徴とする請求項5に記載の装置。
- 当該の偏向部品(13.1,13.2,14.1,14.2)の中の二つが、そこに入射する光ビームに対して、線焦点(L)に集束させる作用を及ぼすことを特徴とする請求項7に記載の装置。
- 偏向部品(113.1a,113.1b,113.2a,113.2b,114.1a,114.1b,114.2a,114.2b)が、それぞれ反射体(120,121)と一緒に二つの支持部品(112A,112B)に配置された透過型フレネル円柱レンズとして構成されており、
これらの透過型フレネル円柱レンズが、支持部品(112A,112B)の互いに対向する側に配置されており、
これらの反射体(120,121)が、それぞれ支持部品(112A,112B)の前記の側と対向する側に配置されるとともに、その反射する側が、透過型フレネル円柱レンズの方向を向いており、並びに
これらの透過型フレネル円柱レンズが、そこに入射するコリメートされた光ビームに対して、反射体(120,121)の反射する側に直線状に集束させる作用を及ぼす、
ことを特徴とする請求項5に記載の装置。 - 当該の偏向部品(213.1,213.2,214.1,214.2)が、二つの支持部品(212A,212B)の互いに対向する側に配置された反射型光軸外フレネル円柱レンズとして構成されていることを特徴とする請求項5に記載の装置。
- 基準光ビーム(R)が、専ら走査ユニット(110,210)内の分割格子(11;111;211)と結合部品の間を進行することを特徴とする請求項2に記載の装置。
- 分割格子(11;111;211)と結合部品の間の測定光ビーム(M)と基準光ビーム(R)の光路が、それぞれ測定反射体(1;100;200)の表面に対して垂直な方向を向いた対称面(S)に対して鏡面対称に延びていることを特徴とする請求項1から11までの少なくとも一つに記載の装置。
- 当該の偏向部品(330.1,330.2)が、分割格子(311)と結合部品を上に配置した外側の二つの板形状の支持部品(312A,312.B)の間に設置された板形状の支持部品(330)の対向する側に配置された透過型フレネル円柱レンズとして構成さていることを特徴とする請求項4に記載の装置。
- 走査ユニット(310)内のコンポーネントは、
測定光ビーム(M)が、分割格子(311)から測定反射体(300)の方向に進行して、そこの第一の入射位置(A1)で走査ユニット(310)内の第一の偏向部品(330.1)の方向への一回目の反射を起こし、
次に、測定光ビーム(M)が、第一の偏向部品(330.1)で第二の偏向部品(330.2)の方向への偏向を起こし、
次に、測定光ビーム(M)が、第二の偏向部品(330.2)で測定反射体(300)の方向への偏向を起こして、そこの第二の入射位置(A2)で結合部品の方向への二回目の反射を起こし、
基準光ビーム(R)が、分割格子(311)から第一の偏向部品(330.1)の方向に進行して、そこで第二の偏向部品(330.2)の方向への偏向を起こし、
基準光ビーム(R)が、第二の偏向部品(330.2)で結合部品の方向への偏向を起こす、
ように配置、構成されていることを特徴とする請求項13に記載の装置。 - 当該の結合部品が、結合格子(15;115;215)として構成されるとともに、測定反射体(1;100;200)の表面に対して垂直に配置されていることを特徴とする請求項1から14までのいずれか一つに記載の装置。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102012210079 | 2012-06-15 | ||
DE102012210079.2 | 2012-06-15 | ||
DE102013203211A DE102013203211A1 (de) | 2012-06-15 | 2013-02-27 | Vorrichtung zur interferentiellen Abstandsmessung |
DE102013203211.0 | 2013-02-27 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014002139A JP2014002139A (ja) | 2014-01-09 |
JP2014002139A5 JP2014002139A5 (ja) | 2016-03-03 |
JP6181978B2 true JP6181978B2 (ja) | 2017-08-16 |
Family
ID=48482975
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013111986A Active JP6181978B2 (ja) | 2012-06-15 | 2013-05-28 | 干渉式間隔測定装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9400168B2 (ja) |
EP (1) | EP2674720B1 (ja) |
JP (1) | JP6181978B2 (ja) |
CN (1) | CN103512505B (ja) |
DE (1) | DE102013203211A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102013206693A1 (de) | 2013-04-15 | 2014-10-16 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Vorrichtung zur interferentiellen Abstandsmessung |
DE102013220214A1 (de) | 2013-10-07 | 2015-04-09 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Anordnung zur Positionierung eines Werkzeugs relativ zu einem Werkstück |
TWI627379B (zh) * | 2013-10-07 | 2018-06-21 | 德商強那斯海登翰博士有限公司 | 光學位置測量裝置 |
DE102013221898A1 (de) | 2013-10-29 | 2015-04-30 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Vorrichtung zur Positionsbestimmung |
JP6322069B2 (ja) * | 2014-07-02 | 2018-05-09 | Dmg森精機株式会社 | 変位検出装置 |
FR3026836B1 (fr) * | 2014-10-03 | 2022-04-22 | Centre Nat Rech Scient | Methode et dispositif optique de telemetrie |
CN105043280B (zh) * | 2015-05-18 | 2018-03-09 | 北京理工大学 | 一种回转中心间距测量方法 |
DE102017115922C5 (de) * | 2017-07-14 | 2023-03-23 | Precitec Gmbh & Co. Kg | Verfahren und Vorrichtung zur Messung und Einstellung eines Abstands zwischen einem Bearbeitungskopf und einem Werkstück sowie dazugehöriges Verfahren zur Regelung |
CN107702657B (zh) * | 2017-10-31 | 2024-03-22 | 北京汽车集团越野车有限公司 | 一种间距测量装置 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2546364B2 (ja) * | 1988-02-16 | 1996-10-23 | キヤノン株式会社 | 位置合わせ装置 |
DE9007809U1 (de) * | 1989-12-23 | 1996-12-05 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Positionsmeßeinrichtung |
ATE105402T1 (de) | 1989-12-23 | 1994-05-15 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Positionsmesseinrichtung. |
US5196902A (en) * | 1991-10-09 | 1993-03-23 | Advanced Fuel Research, Inc. | Two-beam interferometer apparatus and method, and spectrometer utilizing the same |
US5654798A (en) * | 1995-01-19 | 1997-08-05 | Tropel Corporation | Interferometric measurement of surfaces with diffractive optics at grazing incidence |
US5793488A (en) * | 1995-07-31 | 1998-08-11 | Tropel Corporation | Interferometer with compound optics for measuring cylindrical objects at oblique incidence |
DE19602445A1 (de) * | 1996-01-24 | 1997-07-31 | Nanopro Luftlager Produktions | Vorrichtung und Verfahren zum Vermessen von zwei einander gegenüberliegenden Oberflächen eines Körpers |
US6249351B1 (en) * | 1999-06-03 | 2001-06-19 | Zygo Corporation | Grazing incidence interferometer and method |
ATE421716T1 (de) * | 2003-09-15 | 2009-02-15 | Zygo Corp | Oberflächen-triangulation und -profilierung |
EP1816949A1 (en) * | 2004-11-29 | 2007-08-15 | The General Hospital Corporation | Arrangements, devices, endoscopes, catheters and methods for performing optical imaging by simultaneously illuminating and detecting multiple points on a sample |
GB2443662A (en) * | 2006-11-09 | 2008-05-14 | Firecomms Ltd | Laser motion detector |
DE102007016774A1 (de) | 2007-04-04 | 2008-10-09 | Friedrich-Schiller-Universität Jena | Verfahren und Vorrichtung zur interferenziellen Abstandsmessung von Objekten |
JP5553635B2 (ja) * | 2009-10-23 | 2014-07-16 | キヤノン株式会社 | 補償光学装置、撮像装置および補償光学方法、撮像方法 |
JP2011203245A (ja) * | 2010-03-02 | 2011-10-13 | You-Na Tech Corp | 半導体ウェハの表面検査システム及び表面検査方法 |
DE102010003157B4 (de) * | 2010-03-23 | 2019-10-24 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Vorrichtung zur interferentiellen Abstandsmessung |
CN102353327A (zh) * | 2011-06-27 | 2012-02-15 | 中国人民解放军国防科学技术大学 | 双频激光光栅干涉测量方法及测量系统 |
-
2013
- 2013-02-27 DE DE102013203211A patent/DE102013203211A1/de not_active Withdrawn
- 2013-05-28 JP JP2013111986A patent/JP6181978B2/ja active Active
- 2013-05-28 EP EP13169449.9A patent/EP2674720B1/de active Active
- 2013-06-13 US US13/916,753 patent/US9400168B2/en active Active
- 2013-06-17 CN CN201310238005.3A patent/CN103512505B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102013203211A1 (de) | 2013-12-19 |
US9400168B2 (en) | 2016-07-26 |
EP2674720A1 (de) | 2013-12-18 |
CN103512505A (zh) | 2014-01-15 |
CN103512505B (zh) | 2017-05-10 |
EP2674720B1 (de) | 2021-04-14 |
US20130335746A1 (en) | 2013-12-19 |
JP2014002139A (ja) | 2014-01-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6181978B2 (ja) | 干渉式間隔測定装置 | |
JP5142502B2 (ja) | 位置測定装置 | |
JP4677169B2 (ja) | 位置測定装置 | |
CN107462159B (zh) | 位移检测装置 | |
JP5100266B2 (ja) | エンコーダ | |
US9766098B2 (en) | Optical position measuring instrument | |
US9080857B2 (en) | Device for interferential distance measurement | |
JP6329456B2 (ja) | 光学式位置測定装置 | |
JP6322069B2 (ja) | 変位検出装置 | |
KR101959341B1 (ko) | 위치 측정 장치와 복수의 위치 측정 장치를 구비하는 시스템 | |
US9068811B2 (en) | Device for determining distance interferometrically | |
JP6588836B2 (ja) | 光学位置測定装置 | |
US9797704B2 (en) | Interferometer having two transparent plates in parallel for making reference and measurement beams parallel | |
JP5695478B2 (ja) | 光学式変位測定装置 | |
JP7064425B2 (ja) | 光学式エンコーダ | |
US20140185057A1 (en) | Optical Position-Measuring Device | |
JP6289609B2 (ja) | 干渉式間隔測定装置 | |
JP2015087391A (ja) | 位置計測装置 | |
JP6427093B2 (ja) | 光学式位置測定装置 | |
JP2018197659A (ja) | 変位検出装置 | |
JP7042183B2 (ja) | 変位検出装置 | |
JP2016166874A (ja) | 光学式角度測定装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160108 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160108 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161124 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161124 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170120 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170628 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170721 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6181978 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |