ES2601846T3 - Precursor termosensible negativo de plancha de impresión litográfica - Google Patents

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Abstract

Precursor de plancha de impresión litográfica negativa termosensible que incluye - un soporte de aluminio granulado y anodizado, y - un recubrimiento aplicado sobre dicho soporte, conteniendo dicho recubrimiento una capa registradora de imagen que comprende partículas de polímero termoplástico hidrófobo, un aglutinante y un tinte absorbedor de radiación infrarroja, caracterizado porque la superficie granulada y anodizada del soporte tiene un valor CIE 1976 L* de entre 55 y 75.

Description

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en la que A representa un átomo de hidrógeno, un grupo alquilo, aralquilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido, halógeno, -ORc, -SRd, -SO2Re, -NRfRg, -NRh(SO2Ri) o -NRj(CO2Rk), en los que Rc y Rg representan independientemente un grupo arilo opcionalmente sustituido, Rd, Re y Rf representan independientemente un grupo alquilo, aralquilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido, Rh, Rj y Rk representan independientemente un grupo alquilo o arilo opcionalmente sustituido, Ri representa un grupo alquilo o arilo opcionalmente sustituido o -NRi1Ri2 , en el que Ri1 y Ri2 representan un átomo de hidrógeno o un grupo alquilo o arilo opcionalmente sustituido, Y e Y’ representan independientemente -CH-o -N-, R1 y R2 representan independientemente un átomo de hidrógeno, un grupo alquilo o arilo opcionalmente sustituido o representan los átomos necesarios para formar un anillo, Z y Z’ representan independientemente –S-, -CH=CH-o –CReRf-, en los que Re y Rf representan independientemente un grupo alquilo, aralquilo o arilo opcionalmente sustituido, R y R’ representan independientemente un grupo alquilo opcionalmente sustituido, y T y T’ representan independientemente un átomo de hidrógeno, un grupo alquilo o un anillo benzo condensado opcionalmente sustituido.
Preferiblemente, R y R ’ representan grupos alquilo sustituidos aniónicos. Grupos alquilo sustituidos aniónicos preferidos se seleccionan entre:
-M+
*-(CH2)m-X-SO3 ,
*-(CH2)m-X-PO(OH)O-M+, -M+
*-(CH2)m-(CH2)CO2 ,
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en las que m representa 1, 2, 3 ó 4, X representa O, S o -CH2-, M+ representa un un contra-ion para compensar la carga,
* representa la posición de enlace al resto de la molécula.
Cationes monovalentes adecuados son, por ejemplo, -[NRlRmRn]+, en el que Rl, Rm y Rn representan independientemente un átomo de hidrógeno o un grupo alquilo, como por ejemplo un grupo metilo, etilo, propilo o isopropilo.
Preferiblemente, A representa –NRh(SO2Ri), en el que Rh y Ri tienen el mismo significado como se ha definido anteriormente. Preferiblemente, Ri representa un grupo alquilo opcionalmente sustituido.
El tinte absorbedor de luz infrarroja incluye preferiblemente un grupo indenilo. Más preferiblemente, el tinte absorbedor de luz infrarroja representa la estructura I, en la que Y e Y’ son –CH-.
En una realización preferida, el tinte absorbedor de luz infrarroja tiene una estructura según la Fórmula II:
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en la que R y R’, T y T’ tienen el mismo significado como se ha definido anteriormente. En una realización más preferida, el tinte absorbedor de luz infrarroja tiene una estructura según la Fórmula III:
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Los sustituyentes que están opcionalmente presentes en el grupo alquilo, aralquilo, arilo o heteroarilo pueden representarse por un halógeno, tal como un átomo de fluoro, cloro, bromo o iodo, un grupo hidroxilo, un grupo 10 amino, un grupo (di)alquilamino o un grupo alcoxi.
En la presente invención, grupos alquilo adecuados incluyen 1 o más átomos de carbono, tales como, por ejemplo, grupos alquilo C1 a C22, más preferiblemente grupos alquilo C1 a C12 y lo más preferiblemente grupos alquilo C1 a C6. El grupo alquilo puede ser lineal o ramificado, tal como, por ejemplo, un grupo metilo, etilo, propilo (n-propilo, 15 isopropilo), butilo (n-butilo, isobutilo, t-butilo), pentilo, 1,1-dimetilpropilo, 2,2-dimetilpropilo y 2-metilbutilo, o hexilo. Grupos arilo adecuados incluyen, por ejemplo, un grupo fenilo, naftilo, benzilo, tolilo, orto-, meta-o para-xililo, antracenilo o fenantrenilo. Grupos aralquilo adecuados incluyen, por ejemplo, un grupo fenilo o naftilo que incluyen uno, dos, tres o más grupos alquilo C1 a C6. Grupos heteroarilo adecuados son preferiblemente anillos monocíclicos
o polycíclicos aromáticos que comprenden átomos de carbono y uno o más heteroátomos en la estructura cíclica.
20 Preferiblemente, 1 a 4 heteroátomos seleccionados independientemente entre nitrógeno, oxígeno, selenio y azufre y/o combinaciones de los mismos. Entre los ejemplos se incluyen piridilo, pirimidilo, pirazoilo, triazinilo, imidazolilo, (1,2,3,)-y (1,2,4)-triazolilo, tetrazolilo, furilo, tienilo, isoxazolilo, tiazolilo y carbazoilo.
El tinte absorbedor de luz infrarroja lo más preferido tiene la siguiente estructura (Fórmula IV): 25
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revelado fuera de prensa por medio de, por ejemplo, una solución de engomado, en el que se eliminan parcialmente las áreas no expuestas de la capa registradora de imagen, puede combinarse con un revelado en prensa en el que se realiza una eliminación completa de las áreas no expuestas.
El precursor de plancha revelado puede someterse a un post-tratamiento con un agente corrector adecuado o un conservante conocido en la técnica. Para aumentar la resistencia de la plancha de impresión acabada y aumentar así su durabilidad en prensa (tirada), la capa se puede calentar brevemente a temperaturas elevadas (horneado). La plancha puede secarse antes del horneado o se seca durante el propio proceso de horneado. Durante la etapa de horneado, la plancha puede calentarse a una temperatura superior a la temperatura de transición vítrea de las partículas termoplásticas. El periodo de horneado es preferiblemente superior a 15 segundos, más preferiblemente superior a 20 segundos y lo más preferiblemente el periodo de horneado es inferior a 2 minutos. Una temperatura de horneado preferida es superior a los 60 °C, más preferiblemente superior a los 100°C. Por ejemplo, las planchas expuestas y reveladas pueden hornearse a una temperatura de 230°C a 250°C durante alrededor de 30 segundos a 1,5 minutos. El horneado puede realizarse en hornos de aire caliente convencionales o por irradiación con lámparas que emitan en el espectro infrarrojo o ultravioleta. Como resultado de esta etapa de horneado, la resistencia de la plancha de impresión a los limpiadores para planchas, los agentes de corrección y las tintas de impresión curables por UV aumenta. En la presente invención también puede aplicarse un proceso de horneado, tal y como se describe en el documento EP 1 767 349.
La plancha de impresión obtenida de esta manera puede utilizarse para la impresión convencional, denominada impresión offset húmeda, en la cual se suministran a la plancha la tinta y una solución humectante acuosa. Otro método de impresión adecuado utiliza una denominada tinta de líquido único (single fluid ink) sin solución humectante. Las tintas de líquido único adecuadas aparecen descritas en los documentos US 4 045 232, US 4 981 517 y US 6 140 392. En una realización lo más preferida, la tinta de líquido único comprende una fase de tinta, también denominada fase hidrófoba u oleófila, y una fase poliol, tal y como se describe en el documento WO 00/32705.
EJEMPLOS
Si bien la presente invención se describirá en lo sucesivo en relación con las realizaciones preferidas de la misma, se entenderá que no se pretende restringir la invención a esas realizaciones.
Preparación del sustrato litográfico de la presente invención S-01
Se desengrasó una lámina de aluminio de 0,3 mm de espesor sumergiéndola en una solución acuosa que contenía 10 g/l de NaOH a 50°C durante 15 segundos y se enjuagó con agua desmineralizada durante 5 segundos y a continuación con una solución diluida de HCl que tiene una conductividad de 100 mS. A continuación, la lámina se granuló electroquímicamente utilizando una corriente alterna (50 Hz) en una solución acuosa que contenía 10,5 g/l de HCl y 15 g/l de HOAc a una temperatura de 30°C y a una densidad de corriente de 35 A/dm2 y una densidad de carga total de 500 C/dm2. A continuación se enjuagó la lámina de aluminio con agua desmineralizada y se decapó parcialmente mediante grabado con una solución acuosa que contenía 70 g/l de ácido fosfórico a 35°C durante 20 segundos y se enjuagó con agua desmineralizada durante 5 segundos. Seguidamente, la lámina se sometió a oxidación anódica durante 15 segundos en una solución acuosa que contenía 145 g/l de ácido sulfúrico a una temperatura de 45°C y a una densidad de corriente de 20 A/dm2 (densidad de carga de 350 C/dm2), y después se lavó con agua desmineralizada. El post-tratamiento se lleva a cabo (por inmersión) con una solución que contenía 2,0 g/l de PVPA a 70°C. Tras el proceso de inmersión, los soportes se enjuagaron con agua desmineralizada durante 10 segundos y se secaron a 25°C durante 1 hora.
El soporte S-01 resultante se caracteriza por presentar una rugosidad superficial Ra de 0,28-0,35 μm (medida con un Perthometer según las normas ISO 4288 y ISO 3274, geometría de aguja 2/60°y carga de 15 mg) y por tener un peso anódico de alrededor de 4,0 g/m2 y un valor 1976 CIE 1976 L* de 72,5 (medida con un Gretag Macbeth SpectroEye con los siguientes ajustes: D50 (iluminante), 2°observador, sin filtro).
Preparación del sustrato litográfico comparativo S-02
El soporte comparativo se obtuvo aplicando el mismo procedimiento como para el soporte de la presente invención S-01, con la diferencia de que la etapa de granulo electroquímico se llevó a cabo en una solución acuosa que contenía 7,5 g/l de HCl y 15 g/l de HOAc.
El soporte S-02 resultante se caracteriza por presentar una rugosidad superficial Ra de 0,28-0,35 μm (medida con un Perthometer según las normas ISO 4288 y ISO 3274, geometría de aguja 2/60°y carga de 15 mg) y por tener un peso anódico de alrededor de 4,0 g/m2 y un valor 1976 CIE 1976 L* de 76,5 (medida con un Gretag Macbeth SpectroEye con los siguientes ajustes: D50 (iluminante), 2°observador, sin filtro).
Preparación de las partículas termoplásticas LX-01
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(1)
a (3) y (5) a (9): véase la Tabla 2,
(4)
una dispersión acuosa que contiene el 3,0% en peso de IR-03. IR-03 puede prepararse según métodos de síntesis bien conocidos, tales como, por ejemplo, se divulga en el documento EP 2 072 570. IR-03 tiene la siguiente estructura:
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Preparación de los precursores de plancha de impresión PPP-05 y PPP-06
10 El soporte litográfico de la presente invención S-01 se recubrió con las soluciones de recubrimiento CS-03 y CS-04 como se ha descrito anteriormente mediante una cuchilla de recubrimiento en un espesor húmedo de 30 µm. Tras secar sobre una plancha a 35°C durante 5 minutos, se obtuvieron las precursores de plancha de impresión PPP-05 y PPP-06.
15 Exposición y revelado
Los precursores de plancha de impresión PPP-05 a PPP-06 se expusieron y se revelaron como se ha descrito en el Ejemplo 1. Así se obtuvieron las planchas de impresión PP-05 y PP-06. 20 Resultados de impresión y sensibilidad
La impresión y la determinación de la sensibilidad de las planchas de impresión PP-05 y PP-06 se llevaron a cabo de la misma manera como en el Ejemplo 1. En la Tabla 4 se muestran los resultados del prueba de sensibilidad. 25 Tabla 4: resultados de sensibilidad
Plancha de
Tinte absorbedor Valor CIE 1976 L* Sensibilidad
impresión
de luz infrarroja promedio del sustrato* (mJ/cm²)
PP-05, invención
IR-01 72,5 145
PP-06, invención
IR-03 72,5 165
* El valor CIE 1976 L* del soporte se midió mediante un Gretag Macbeth SpectroEye con los siguientes ajustes: D50 30 (iluminante), 2°observador, sin filtro.
Los resultados en la Tabla 4 muestran que las planchas de impresión de la presente invención se caracterizan por tener una excelente sensibilidad, en particular para el recubrimiento que contiene IR-01.
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Claims (1)

  1. imagen1
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