ES2372909T3 - Procedimiento para la producción de partículas de materiales compuestos. - Google Patents
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- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 82
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 71
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 97
- -1 hydrocarbyl radical Chemical class 0.000 claims abstract description 63
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 45
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims abstract description 42
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 41
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 34
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 claims abstract description 20
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims abstract description 20
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 19
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 18
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 150000001253 acrylic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 claims abstract description 10
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 29
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 20
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 17
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 17
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 claims description 16
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 12
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 9
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 7
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 claims description 7
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 7
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- MDFFNEOEWAXZRQ-UHFFFAOYSA-N aminyl Chemical compound [NH2] MDFFNEOEWAXZRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000010985 leather Substances 0.000 claims description 3
- 239000000123 paper Substances 0.000 claims description 3
- 239000004575 stone Substances 0.000 claims description 3
- HXOGQBSDPSMHJK-UHFFFAOYSA-N triethoxy(6-methylheptyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCC(C)C HXOGQBSDPSMHJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UWSYCPWEBZRZNJ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2,4,4-trimethylpentyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)CC(C)(C)C UWSYCPWEBZRZNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002023 wood Substances 0.000 claims description 3
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropylurea Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC(N)=O LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 101100294106 Caenorhabditis elegans nhr-3 gene Proteins 0.000 claims description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 2
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SSXIVBPFGKHWIR-UHFFFAOYSA-N ethyl n-methyl-n-(3-triethoxysilylpropyl)carbamate Chemical compound CCOC(=O)N(C)CCC[Si](OCC)(OCC)OCC SSXIVBPFGKHWIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FVAOXUKXNABTIX-UHFFFAOYSA-N ethyl n-methyl-n-(3-trimethoxysilylpropyl)carbamate Chemical compound CCOC(=O)N(C)CCC[Si](OC)(OC)OC FVAOXUKXNABTIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 claims description 2
- 239000003292 glue Substances 0.000 claims description 2
- INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N n'-(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCN INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- REODOQPOCJZARG-UHFFFAOYSA-N n-[[diethoxy(methyl)silyl]methyl]cyclohexanamine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CNC1CCCCC1 REODOQPOCJZARG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004753 textile Substances 0.000 claims description 2
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 claims description 2
- MKZHZHRXBKRYRP-UHFFFAOYSA-N 3-propyl-3-triethoxysilyloxolane-2,5-dione Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1(CCC)CC(=O)OC1=O MKZHZHRXBKRYRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims 1
- SJJCABYOVIHNPZ-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1CCCCC1 SJJCABYOVIHNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- JWCYDYZLEAQGJJ-UHFFFAOYSA-N dicyclopentyl(dimethoxy)silane Chemical compound C1CCCC1[Si](OC)(OC)C1CCCC1 JWCYDYZLEAQGJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 claims 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 32
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 29
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 27
- 239000011246 composite particle Substances 0.000 description 25
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 13
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 9
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- 241000408529 Libra Species 0.000 description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 7
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 6
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C=C)OCC MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C=C ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N butyric aldehyde Natural products CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006359 acetalization reaction Methods 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 4
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 4
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 3
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 229920005615 natural polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 3
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- NVNRCMRKQVEOMZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropane-1,2-diol Chemical compound CCOC(O)C(C)O NVNRCMRKQVEOMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N Propionic aldehyde Chemical compound CCC=O NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003570 air Substances 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 2
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 2
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 238000004108 freeze drying Methods 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- 239000008241 heterogeneous mixture Substances 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 2
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 2
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 2
- 125000005624 silicic acid group Chemical class 0.000 description 2
- 238000013112 stability test Methods 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- SGCFZHOZKKQIBU-UHFFFAOYSA-N tributoxy(ethenyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)C=C SGCFZHOZKKQIBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UOKUUKOEIMCYAI-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)COC(=O)C(C)=C UOKUUKOEIMCYAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N valeric aldehyde Natural products CCCCC=O HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical class [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGXJDMCMYLEZMJ-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C(C)(C)C HGXJDMCMYLEZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDXCKOANSQIPGX-UHFFFAOYSA-N (acetyloxy-ethenyl-methylsilyl) acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C=C)OC(C)=O IDXCKOANSQIPGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNJOXNMRJUPXJT-UHFFFAOYSA-N 12,12-dimethoxydodecoxy(ethenyl)silane Chemical compound COC(OC)CCCCCCCCCCCO[SiH2]C=C KNJOXNMRJUPXJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- CVZIDTRJINIGGZ-UHFFFAOYSA-N 2-methoxypropan-2-yloxysilane Chemical compound COC(C)(C)O[SiH3] CVZIDTRJINIGGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWXVZIJRYUTYJM-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl-(prop-2-enoylamino)azanium chloride Chemical compound [Cl-].CC(C)C[NH2+]NC(=O)C=C VWXVZIJRYUTYJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXDMUOPCQNLBCZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-triethoxysilylpropyl)oxolane-2,5-dione Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCC1CC(=O)OC1=O GXDMUOPCQNLBCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMZPTAFGSRVFIA-UHFFFAOYSA-N 3-[tris(2-methoxyethoxy)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)CCCOC(=O)C(C)=C DMZPTAFGSRVFIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJIBSEBLLOLBMW-UHFFFAOYSA-N 8,8-dimethoxyoctoxy(ethenyl)silane Chemical compound COC(OC)CCCCCCCO[SiH2]C=C SJIBSEBLLOLBMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000001692 EU approved anti-caking agent Substances 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical group C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- HETCEOQFVDFGSY-UHFFFAOYSA-N Isopropenyl acetate Chemical compound CC(=C)OC(C)=O HETCEOQFVDFGSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- IQYMRQZTDOLQHC-ZQTLJVIJSA-N [(1R,4S)-2-bicyclo[2.2.1]heptanyl] prop-2-enoate Chemical compound C1C[C@H]2C(OC(=O)C=C)C[C@@H]1C2 IQYMRQZTDOLQHC-ZQTLJVIJSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRUNESGBWOQYBK-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(propyl)silyl] 2-(prop-2-enoylamino)acetate Chemical compound CCC[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(=O)CNC(=O)C=C VRUNESGBWOQYBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001926 alkyl arylether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N allene Chemical group C=C=C IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C=C YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTFXLPHXAADAKO-UHFFFAOYSA-N didodecoxy(prop-2-enoxy)silane Chemical compound C(=C)CO[SiH](OCCCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCCCC OTFXLPHXAADAKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMUOYZCDQUNRJS-UHFFFAOYSA-N dioctoxy(prop-2-enoxy)silane Chemical compound C(=C)CO[SiH](OCCCCCCCC)OCCCCCCCC QMUOYZCDQUNRJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004815 dispersion polymer Substances 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylpropanoate Chemical compound CC(C)(C)C(=O)OC=C YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGBZOHMCHDADGY-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-ethylhexanoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OC=C IGBZOHMCHDADGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N ethenyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OC=C GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNBRCHPBPDRPIT-UHFFFAOYSA-N ethenyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)C=C NNBRCHPBPDRPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEWCZPTVOYXPGG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-ethoxy-dimethylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C=C JEWCZPTVOYXPGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MABAWBWRUSBLKQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)C=C MABAWBWRUSBLKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000004872 foam stabilizing agent Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 239000004569 hydrophobicizing agent Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- QNTWKNTYCJHLGD-UHFFFAOYSA-N n'-propylprop-2-enehydrazide Chemical compound CCCNNC(=O)C=C QNTWKNTYCJHLGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUGMHUQFSYYJTB-UHFFFAOYSA-N n-(3-triethoxysilylpropyl)prop-2-enamide Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(=O)C=C JUGMHUQFSYYJTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGHNWFFWGDCAHZ-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)prop-2-enamide Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC(=O)C=C XGHNWFFWGDCAHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLVDOKXZTSRRFU-UHFFFAOYSA-N n-[(methoxy-methyl-propylsilyl)oxymethyl]prop-2-enamide Chemical compound CCC[Si](C)(OC)OCNC(=O)C=C YLVDOKXZTSRRFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQHUUHKPGWUHNS-UHFFFAOYSA-N n-[[dimethoxy(2-methylpropyl)silyl]oxymethyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(C)C[Si](OC)(OC)OCNC(=O)C=C BQHUUHKPGWUHNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCIUBQSNTYGOMF-UHFFFAOYSA-N n-[[dimethoxy(methyl)silyl]oxymethyl]prop-2-enamide Chemical compound CO[Si](C)(OC)OCNC(=O)C=C RCIUBQSNTYGOMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFOBMOZBCGIRDL-UHFFFAOYSA-N n-[[dimethoxy(propyl)silyl]oxymethyl]prop-2-enamide Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCNC(=O)C=C XFOBMOZBCGIRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHAUQKIQFCASKK-UHFFFAOYSA-N n-[[ethyl(dimethoxy)silyl]oxymethyl]prop-2-enamide Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OCNC(=O)C=C FHAUQKIQFCASKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000010399 physical interaction Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000747 poly(lactic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001290 polyvinyl ester Polymers 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 238000011012 sanitization Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- 235000019351 sodium silicates Nutrition 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001285 xanthan gum Polymers 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- C08J3/12—Powdering or granulating
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Abstract
Procedimiento para la producción de partículas de materiales compuestos, caracterizado porque se condensan α) uno o varios compuestos de silicio de la fórmula general (RO)nSiR 1 4-n (1) en la que R significa un radical alquilo o arilo con 1 a 20 átomos de carbono, eventualmente sustituido, o un átomo de hidrógeno, R 1 significa un radical hidrocarbilo eventualmente sustituido o un átomo de hidrógeno, y n adopta un valor de 1 a 4, o ß) uno o varios productos de condensación de los compuestos de silicio de la fórmula (1) en un disolvente o una mezcla de varios disolventes, en presencia de uno o varios polímeros solubles, utilizándose como polímeros solubles unos polímeros de ésteres vinílicos con 6 a 15 % en peso de ácidos carboxílicos etilénicamente insaturados y eventualmente con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados; unos polímeros de ésteres vinílicos con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados; unos polímeros de ésteres de ácidos (met)acrílicos con 6 a 15 % en peso de ácidos carboxílicos etilénicamente insaturados y eventualmente con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados; o unos polímeros de ésteres de ácidos (met)acrílicos con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados, sumándose los datos en % en peso para llegar en cada caso hasta 100 % en peso, realizándose que los polímeros solubles son solubles en el disolvente antes mencionado o en la mezcla antes mencionada de varios disolventes a una temperatura arbitraria situada dentro del intervalo de temperaturas de 1 a 100ºC y a un valor arbitrario del pH situado entre 2 y 12, hasta por lo menos 1 g por litro del disolvente o de la mezcla de disolventes, realizándose que los productos de condensación de los compuestos de silicio α) o los productos de condensación ß) o sus productos de condensación, que se han formado en tal caso, se fijan sobre uno o varios polímeros solubles.
Description
Procedimiento para la producción de partículas de materiales compuestos
Son objeto del presente invento unos procedimientos para la producción de partículas de materiales compuestos constituidos sobre la base de polímeros orgánicos solubles y de compuestos de silicio, los productos obtenibles de acuerdo con los procedimientos al igual que su utilización, por ejemplo, como aditivo, agente aglutinante o agente aglutinante concomitante para diferentes usos.
Las partículas de materiales compuestos contienen dominios orgánicos e inorgánicos, tales como por ejemplo una matriz polimérica orgánica y unas partículas orgánicas fijadas a ésta y tienen usualmente unos diámetros de 4 a
5.000 nm.
En procedimientos habituales para la producción de partículas de materiales compuestos se polimerizan unos monómeros orgánicos mediante una polimerización en emulsión en dispersiones acuosas de partículas inorgánicas, siendo anclados unos dominios orgánicos sobre la superficie de las partículas inorgánicas, tal como se describe por ejemplo en las citas de Dong-Ming Qi, J. of Applied Polym. Sci., 2006, volumen 99, páginas 3425 hasta 3432; Tsutomu Mizutani, J. of Applied Polym. Sci., 2006, volumen 99, páginas 659 hasta 669; Frank Bauer, Macromol. Mater. Eng., 2006291, páginas 493 hasta 498 o a partir del documento de solicitud de patente alemana DE-A 10 2004 010 155, los documentos de patente de los EE.UU. US 3.544.500 y US 4.421.660 o el documento de solicitud de patente internacional WO-A 2006/072464.
La fijación de los dominios orgánicos e inorgánicos de las partículas de materiales compuestos así como la puesta a disposición de partículas estables de materiales compuestos plantean no obstante algunos problemas. En efecto, las partículas inorgánicas o sus sustancias de partida y los monómeros orgánicos o respectivamente las matrices poliméricas orgánicas tienen de modo habitual diferentes polaridades y tienden a separarse entre sí o aglomerarse en cada caso unas con otros/as.
Si aparece una tal aglomeración antes o durante la producción de las partículas de materiales compuestos entonces, por ejemplo, las partículas inorgánicas aglomeradas en el transcurso de la polimerización de los monómeros orgánicos son encapsuladas por la matriz polimérica orgánica, de manera tal que no tiene lugar ninguna fijación uniforme de partículas inorgánicas sobre la matriz polimérica orgánica y por consiguiente, a fin de cuentas, no resulta ninguna partícula de material compuesto uniforme constituida a base de dominios orgánicos e inorgánicos. Las correspondientes mezclas no se presentan en los disolventes en forma de partículas primarias coloidales. Puede suceder incluso que las partículas inorgánicas y la matriz polimérica orgánica se presenten como una mezcla heterogénea unas junto a la otra.
Sin embargo, también en unas partículas de materiales compuestos, que están constituidas uniformemente a base de dominios inorgánicos y orgánicos, puede llegarse a una aglomeración de los dominios inorgánicos o respectivamente orgánicos, lo cual conduce a una insuficiente estabilidad en almacenamiento, en particular de partículas de materiales compuestos que están disueltas, emulsionadas o dispersadas, y se exterioriza por una gelificación o una formación de grumos. En particular en el caso de temperaturas más altas, por ejemplo a partir de 40ºC, aparece una tal aglomeración. Asimismo, las dispersiones acuosas de partículas constituidas exclusivamente por eslabones inorgánicos, tales como por ejemplo sílice coloidal u organopolisiloxanos, tienden a la aglomeración a temperaturas más altas, por ejemplo a 70ºC, o incluso ya a la temperatura ambiente.
Las partículas aglomeradas de materiales compuestos ya no tienen las deseadas propiedades técnicas de uso o incluso son totalmente inutilizables. Con el fin, por ejemplo, de poner a disposición unas dispersiones acuosas estables de partículas de materiales compuestos, se añaden usualmente agentes emulsionantes, coloides protectores o aditivos especiales como estabilizadores, tales como por ejemplo los compuestos de alquil-aminas que contienen grupos hidroxi, que se recomiendan en el documento DE-A 10 2004 010 155.
Una misión del presente fue poner a disposición unos procedimientos para la producción de partículas de materiales compuestos, con los cuales se eviten las desventajas arriba mencionadas, y con los cuales se hagan accesibles en particular unas partículas de materiales compuestos, que sean estables en almacenamiento también en forma de dispersiones, idealmente también sin el empleo de agentes estabilizadores.
El problema planteado por esta misión se resolvió de manera sorprendente con unos procedimientos, en los cuales se condensaban unos compuestos de silicio hidrolizables o que contenían grupos OH en presencia de unos polímeros solubles, siendo fijadas unas partículas inorgánicas sobre los polímeros solubles.
Se conocen unas partículas de materiales compuestos, que se obtienen mediante una copolimerización iniciada por radicales de monómeros orgánicos, etilénicamente insaturados, y de partículas inorgánicas, etilénicamente insaturadas. tales como por ejemplo los siloxanos etilénicamente insaturados que se proponen en el documento de solicitud de patente europea EP-A 1620271.
El documento WO-A 2007/057382 describe unos poli(alcoholes vinílicos) modificados con silanos, que se obtienen mediante una polimerización iniciada por radicales de monómeros etilénicamente insaturados, que contienen silanos, en presencia de poli(alcoholes vinílicos).
A partir del documento DE-A 102007038333 se conocen unas composiciones, que se habían producido por condensación de compuestos de silicio en presencia de poli(alcoholes vinílicos), ocurriendo no obstante que las partículas inorgánicas resultantes en tal caso no eran fijadas sobre poli(alcoholes vinílicos), sino que se presentaban junto a éstos en la composición como una mezcla heterogénea.
El documento EP-A 1243619 divulga unos materiales compuestos que se componen de dominios orgánicos, tales como un poli(ácido acrílico), y de dominios inorgánicos, por ejemplo silicatos de sodio o un ácido silícico coloidal, siendo unidos los dominios orgánicos e inorgánicos mediante interacciones iónicas con cationes de metales divalentes, de manera tal que los materiales compuestos se presentan como conglomerados de los dominios poliméricos en forma de geles.
Son objeto del invento unos procedimientos para la producción de partículas de materiales compuestos, caracterizados porque se condensan a) uno o varios compuestos de silicio de la fórmula general
(RO)nSiR14-n (1) en la que R significa un radical alquilo o arilo con 1 a 20 átomos de carbono, eventualmente sustituido, o un átomo de hidrógeno, R1 significa un radical hidrocarbilo eventualmente sustituido o un átomo de hidrógeno, y n adopta un valor de 1 a 4, o
- �)
- uno o varios productos de condensación de los compuestos de silicio de la fórmula (1) en un disolvente o una mezcla de varios disolventes, en presencia de uno o varios polímeros solubles, utilizándose como polímeros solubles unos polímeros de ésteres vinílicos con 6 a 15 % en peso de ácidos carboxílicos etilénicamente insaturados y eventualmente con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados; unos polímeros de ésteres vinílicos con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados; unos polímeros de ésteres de ácidos (met)acrílicos con 6 a 15 % en peso de ácidos carboxílicos etilénicamente insaturados y eventualmente con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados; o unos polímeros de ésteres de ácidos (met)acrílicos con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados, sumándose los datos en % en peso para llegar en cada caso hasta 100 % en peso, realizándose que los polímeros solubles son solubles en el disolvente antes mencionado o en la mezcla antes mencionada de varios disolventes a una temperatura arbitraria situada dentro del intervalo de temperaturas de 1 a 100ºC y a un valor arbitrario del pH situado entre 2 y 12, hasta por lo menos 1 g por litro del disolvente o de la mezcla de disolventes, realizándose que los productos de condensación de los compuestos de silicio a) o los productos de condensación �)
- o sus productos de condensación, que se han formado en tal caso, se fijan sobre uno o varios polímeros solubles.
En los compuestos de silicio de la fórmula (1) los radicales R preferiblemente no están sustituidos. De manera especialmente preferida, el radical R de la fórmula (1) representa metilo, etilo o propilo, ciclohexilo, fenilo, de manera sumamente preferida metilo o etilo.
De manera preferida, el radical R1 representa un radical alquilo o arilo, de manera especialmente preferida metilo, etilo, propilo, ciclohexilo, isooctilo o fenilo y de manera sumamente preferida metilo o etilo.
De manera preferida el radical R1 representa también un grupo R2X, en que el radical R2 significa un radical alquileno eventualmente sustituido, con 1 a 20 átomos de carbono, preferiblemente con 1 a 6 átomos de carbono, en el que unas unidades de metileno no contiguas entre sí pueden ser reemplazadas por grupos –O-, y X está unido al radical R2 a través de un enlace covalente y representa un radical amino NHR3, un radical epoxi CR4(O)CR5R6, un radical de uretano NR3-C(=O)OR3, un radical de urea NR3-C(=O)NR3R4, un radical de ácido fosfórico P(=O)(OH)2, un radical de anhídrido C(=O)O(O=)CR3 o un radical de ácido carboxílico, significando R3 un átomo de hidrógeno o un radical alquilo, arilo o aminoalquilo eventualmente sustituido, con 1 a 10 átomos de carbono, R4, R5, R6 significan un átomo de hidrógeno o un radical alquilo o arilo eventualmente sustituido, con 1 a 10 átomos de carbono, adoptando los respectivos radicales R2, R3, R4, R5 y R6 sus valores en cada caso independientemente unos de otros y estando unido el grupo R2X a través de un átomo de carbono del radical R2 al átomo de silicio de la fórmula (1).
De manera preferida, los radicales R2 del grupo R2X no están sustituidos. De manera especialmente preferida R2 representa un radical alquileno con 1 a 6 átomos de carbono, de manera sumamente preferida metileno, etileno o propileno.
De manera preferida R3 representa un átomo de hidrógeno, un radical alquilo, arilo o aminoalquilo con 1 a 6 átomos 5 de carbono, de manera especialmente preferida un átomo de hidrógeno, 2-amino-etilo, fenilo, ciclohexilo, metilo, etilo, propilo o butilo.
Los radicales R4, R5 y R6 representan de manera preferida un átomo de hidrógeno.
De manera preferida, n adopta un valor de 2 a 4, de manera especialmente preferida el valor de 3 ó 4.
Los radicales individuales R, R1, R2, R3, R4, R5, R6 o respectivamente X y el valor de n de los compuestos de silicio de la fórmula (1) tienen sus significados en cada caso independientemente unos de otros. En todas las formas de realización de la fórmula (1), el átomo de silicio es en cada caso tetravalente.
Ejemplos de silanos de la fórmula (1) son tetrametoxisilano, tetraetoxisilano, metiltrimetoxisilano, metiltrietoxisilano, dimetildimetoxisilano, dimetildietoxisilano, isooctiltrimetoxisilano, isooctiltrietoxisilano, (ciclohexil)metildimetoxisilano, diciclopentildimetoxisilano o feniltrietoxisilano. Los preferidos silanos de la fórmula (1) son tetrametoxisilano,
15 tetraetoxisilano, metiltrimetoxisilano, metiltrietoxisilano, isooctiltrimetoxisilano, isooctiltrietoxisilano o feniltrietoxisilano. Son especialmente preferidos tetrametoxisilano, tetraetoxisilano, metiltrimetoxisilano o metiltrietoxisilano.
Otros ejemplos de silanos de la fórmula (1) son (3-amino-propil)trietoxisilano, (3-amino-propil)-trimetoxisilano, N-(2amino-etil)(3-amino-propil)trietoxisilano, N-(2-amino-etil)(3-amino-propil)-trimetoxisilano, N-(2-amino-etil) (3-aminopropil)metildimetoxisilano, anhídrido de ácido 3-(trietoxisilil)-propil-succínico, N-ciclohexil-aminometilmetildietoxisilano, N-(3-(trietoxisilil)propil)-metil-uretano, N-(3-(trimetoxisilil)propil)-metil-uretano, N-(3(trietoxisilil)propil)-urea, N-(3-(trimetoxisilil)propil)-urea, (3-glicidoxi-propil)trietoxisilano y (3-glicidoxipropil)trimetoxisilano. Se prefieren también el (3-amino-propil)-trietoxisilano o el (3-glicidoxi-propil)trietoxisilano.
De manera preferida, en el caso de la producción de las partículas de materiales compuestos, se emplea por lo menos un compuesto de silicio de la fórmula (1), en la que n adopta un valor de 1 a 3, es decir en la que el átomo de
25 silicio no está sustituido exclusivamente con grupos alcoxi, ariloxi o hidroxi.
Eventualmente, en el caso de la condensación para la producción de las partículas de materiales compuestos se emplean adicionalmente uno o varios compuestos de silicio etilénicamente insaturados de la fórmula general (2) R7SiR80-2(OR9)1-3, en la que R7 tiene el significado de CH2=CR10-(CH2)0-1 o CH2=CR10CO2(CH2)1-3, R8 tiene el significado de un radical alquilo de C1 a C3, un radical alcoxi de C1 a C3 o un halógeno, preferiblemente Cl o Br, R9 representa un radical alquilo sin ramificar o ramificado, eventualmente sustituido, con 1 a 12 átomos de C, preferiblemente con 1 a 3 átomos de C, o un radical acilo con 2 a 12 átomos de C, pudiendo R9 estar interrumpido eventualmente por un grupo de éter, y R10 representa H o CH3.
35 Unos preferidos compuestos de silicio etilénicamente insaturados de la fórmula (2) son y-acril- o respectivamente ymetacriloxi-propiltri(alcoxi)silanos, a-metacriloximetil-tri(alcoxi)silanos, y-metacriloxi-propil-metildi(alcoxi)silanos; vinilsilanos tales como vinilalquildi(alcoxi)silanos y viniltri(alcoxi)silanos, pudiéndose emplear como grupos alcoxi, por ejemplo, radicales metoxi, etoxi, metoxietileno, etoxietileno, metoxipropilenglicol-éter o respectivamente etoxipropilenglicol-éter. Ejemplos de compuestos de silicio insaturados preferidos de la fórmula (2) son 3-metacriloxipropiltrimetoxisilano, 3-metacriloxi-propilmetildimetoxisilano, viniltrimetoxisilano, vinilmetildimetoxisilano, viniltrietoxisilano, vinilmetildietoxisilano, viniltripropoxisilano, viniltriisopropoxisilano, viniltris-(1-metoxi)isopropoxisilano, viniltributoxisilano, viniltriacetoxisilano, metacriloximetil-trimetoxisilano, 3-metacriloxi-propil-tris(2metoxi-etoxi)silano, viniltriclorsilano, vinilmetildiclorosilano, viniltris-(2-metoxi-etoxi)silano, trisacetoxivinilsilano, alilviniltrimetoxisilano, aliltriacetoxisilano, vinildimetilmetoxisilano, vinildimetiletoxisilano, vinilmetildiacetoxisilano,
45 vinildimetilacetoxisilano, vinilisobutildimetoxisilano, viniltriisopropiloxisilano, viniltributoxisilano, viniltrihexiloxisilano, vinilmetoxidihexoxisilano, viniltrioctiloxisilano, vinildimetoxioctiloxisilano, vinilmetoxidioctiloxisilano, vinilmetoxidilauriloxisilano, vinildimetoxilauriloxisilano así como también vinilsilanos modificados con poli(etilenglicoles).
Como compuestos de silicio etilénicamente insaturados de la fórmula (2) se prefieren especialmente viniltrimetoxisilano, vinilmetildimetoxisilano, viniltrietoxisilano, vinilmetildietoxisilano, viniltris-(1-metoxi)isopropoxisilano, metacriloxipropil-tris(2-metoxi-etoxi)silano, 3-metacriloxi-propil-trimetoxisilano, 3-metacriloxi-propilmetildimetoxisilano y metacriloximetil-trimetoxisilano así como sus mezclas.
Adicionalmente, en el caso de la condensación para la producción de las partículas de materiales compuestos se pueden emplear uno o varios compuestos de silicio etilénicamente insaturados de la fórmula general (3) CH2=CR11CO-NR12-R13-SiR14n-(R15)3-m, en la que n es = de 0 a 4, m es = 0 a 2, R11 es o bien H o un grupo metilo, R12 es H o un grupo alquilo con 1 a 5 átomos de C, R13 es un grupo alquileno con 1 a 5 átomos de C o un grupo orgánico bivalente, en el cual la cadena de carbonos está interrumpida por un átomo de O ó de N, R14 es un grupo alquilo con 1 a 5 átomos de C, R15 es un grupo alcoxi con 1 a 40 átomos de C, los cuales pueden estar sustituidos con otros heterociclos. En unos compuestos de silicio (3), en los cuales se presentan 2 o más grupos R11 o R15, éstos pueden ser idénticos o diferentes.
Ejemplos de compuestos de silicio de la fórmula (3) son: 3-(met)acrilamido-propil-trimetoxisilano, 3-(met)acrilamido-propil-trietoxisilano, 3-(met)acrilamido-propil-tri( �-metoxietoxi)silano, 2-(met)acrilamido-2-metil-propil-trimetoxisilano, 2-(met)acrilamido-2-metil-etil-trimetoxisilano, N-(2(met)acrilamido-etil)-aminopropil-trimetoxisilano, 3-(met)acrilamido-propil-triacetoxisilano, 2-(met)acrilamido-etiltrimetoxisilano, 1-(met)acrilamido-metil-trimetoxisilano, 3-(met)acrilamido-propil-metildimetoxisilano, 3(met)acrilamido-propil-dimetilmetoxisilano, 3-(N-metil-(met)acrilamido)-propil-trimetoxisilano, 3-((met)acrilamidometoxi)-3-hidroxi-propil-trimetoxisilano, 3-((met)acrilamido-metoxi)-propil-trimetoxisilano, cloruro de N,N-dimetil-Ntrimetoxisilil-propil-3-(met)acrilamido-propil-amonio y cloruro de N-N-dimetil-N-trimetoxisililpropil-2-(met)acrilamido-2metil-propil-amonio.
En el caso de los productos de condensación �), empleados en el procedimiento conforme al invento, se trata de manera preferida de unos organopolisiloxanos, que están constituidos a base de unidades de la fórmula general
R1xSi(OR)yO(4-x-y)/2 (4), en la que x es 0, 1, 2 o 3 e y es 0, 1 o 2, con la condición de que la suma x+y ha de ser : 3, los R1 pueden ser iguales o diferentes y pueden adoptar los significados arriba indicados para la fórmula (I), y los R pueden ser iguales o diferentes y pueden adoptar los significados más arriba indicados para la fórmula (I).
Como radicales R o respectivamente R1 son preferidos, especialmente preferidos y sumamente preferidos los mismos radicales que se han expuesto correspondientemente más arriba para la fórmula (1).
El tamaño de partículas de los organopolisiloxanos es de manera preferida de 4 a 900 nm, de manera especialmente preferida de 4 a 40 nm y de manera sumamente preferida de 4 a 30 nm (determinado mediante una microscopía electrónica de transmisión con el aparato Libra 120 de la entidad Zeiss).
Los compuestos de silicio a), los productos de condensación �) así como los compuestos de silicio de las fórmulas
(2) y (3) se designan en lo sucesivo también en común como componentes con silicio.
En el caso de la producción de las partículas de materiales compuestos, la proporción de los componentes con silicio es de manera preferida de 2 a 97 % en peso, de manera especialmente preferida de 20 a 95 % en peso, de manera sumamente preferida de 40 a 65 % en peso, en cada caso referida a la masa seca de la cantidad empleada en total de polímeros solubles y componentes con silicio.
Los compuestos de silicio (a) o los productos de condensación �) se emplean en total, en el caso de la producción de las partículas de materiales compuestos de manera preferida, en 20 a 100 % en peso y de manera especialmente preferida en 60 a 80 % en peso, referido en cada caso a la masa seca de la cantidad empleada en total de componentes con silicio.
Los compuestos de silicio de las fórmulas (2) o respectivamente (3) se emplean en cada caso independientemente unos de otros de manera preferida en 0 a 40 % en peso, referido en cada caso a la masa seca de la cantidad empleada en total de componentes con silicio.
Los componentes con silicio son productos usuales en el comercio o se pueden preparar de acuerdo con métodos habituales. tal como se describen por ejemplo en la obra de Noll, Chemie und Technologie der Silikone (química y tecnología de las siliconas), 2ª edición de 1968, Weinheim, o de Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie (métodos de la química orgánica), tomo E20, editorial Georg Thieme, Stuttgart (1987).
Como disolventes para el procedimiento conforme al invento se pueden emplear agua o un disolvente orgánico, eventualmente en combinación con agua, o una mezcla de disolventes a base de varios disolventes orgánicos, eventualmente en combinación con agua. No es imperativamente necesario un empleo de agua como disolvente o como un componente de la mezcla de disolventes, puesto que el agua residual contenida en los materiales de partida obtenibles comercialmente es suficiente para la realización del procedimiento conforme al invento.
Apropiados disolventes orgánicos son, por ejemplo, alcoholes con 1 a 6 átomos de C, tales como metanol, etanol, npropanol, o i-propanol, cetonas, tales como acetona o metil-etil-cetona, ésteres tales como acetato de metilo, acetato de etilo, acetato de propilo o acetato de butilo. Los disolventes preferidos son agua o i-propanol. Las preferidas mezclas de disolventes contienen agua e i-propanol.
Los polímeros solubles son solubles en el respectivo disolvente conforme al invento o en la respectiva mezcla de disolventes a una temperatura arbitraria situada dentro del intervalo de temperaturas de 1 a 100ºC, de manera preferida de 20 a 60ºC, y a un valor arbitrario del pH comprendido entre 2 y 12, preferiblemente, hasta por lo menos 1 g por litro del disolvente o de la mezcla de disolventes. Las soluciones conformes al invento con un contenido sólido de polímeros solubles de 10 % en peso, tienen un enturbiamiento de preferiblemente <= 600 EBC (de acuerdo con el patrón de formazina según la norma DIN 38404; determinado con el aparato medidor del enturbiamiento modelo TA6FS, /251 de la entidad Metrisa GmbH). En virtud de estas propiedades de solubilidad se reprimen una separación y una conglomeración de los polímeros solubles en el transcurso de la producción de las partículas de materiales compuestos.
Usualmente, los ácidos carboxílicos etilénicamente insaturados y los silanos etilénicamente insaturados (monómeros a)) tienen de 2 a 15 átomos de C.
Ejemplos de los monómeros a) son ácidos mono- y dicarboxílicos etilénicamente insaturados, preferiblemente ácido acrílico, ácido metacrílico, ácido fumárico y ácido maleico, ésteres de ácido fumárico y ácido maleico, silanos etilénicamente insaturados tales como los compuestos de silicio de la fórmula (2) o (3) arriba indicada, por ejemplo acriloxipropiltri(alcoxi)- o metacriloxipropiltri(alcoxi)-silanos, viniltrialcoxisilanos o vinilmetildialcoxisilanos, pudiendo estar contenidos como grupos alcoxi por ejemplo los radicales metoxi-, etoxi- y etoxipropilenglicoléter.
Los monómeros a) especialmente preferidos son ácidos monocarboxílicos etilénicamente insaturados, tales como en particular ácido metacrílico o ácido acrílico, viniltrialcoxisilanos tales como en particular el viniltrietoxisilano.
Unos preferidos ésteres vinílicos (monómeros b)) son acetato de vinilo, propionato de vinilo, butirato de vinilo, 2-etilhexanoato de vinilo, laurato de vinilo, acetato de 1-metil-vinilo, pivalato de vinilo y ésteres vinílicos de ácidos monocarboxílicos ramificados en posición alfa con 5 a 13 átomos de C, por ejemplo VeoVa9R o VeoVa10R (nombres comerciales de la entidad Shell). Es especialmente preferido el acetato de vinilo.
Unos preferidos ésteres de ácido metacrílico o ésteres de ácido acrílico (otros monómeros b)) son ésteres de alcoholes no ramificados o ramificados con 1 a 15 átomos de C tales como acrilato de metilo, metacrilato de metilo, acrilato de etilo, metacrilato de etilo, acrilato de propilo, metacrilato de propilo, acrilato de n-butilo, metacrilato de nbutilo, acrilato de 2-etil-hexilo y acrilato de norbornilo. Se prefieren especialmente acrilato de metilo, metacrilato de metilo, acrilato de n-butilo y acrilato de 2-etil-hexilo.
Los monómeros b) preferidos no comprenden por lo tanto ningún monómero a)
Unos apropiados polímeros solubles son unos polímeros de ésteres vinílicos, en particular acetato de vinilo, con 6 a 15 % en peso de ácidos carboxílicos etilénicamente insaturados, tales como ácido acrílico o ácido metacrílico, y eventualmente con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados, tales como viniltrimetoxisilano, viniltrietoxisilano, vinilmetildimetoxisilano o vinilmetildietoxisilano; unos polímeros de ésteres vinílicos, en particular acetato de vinilo, con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados, tales como viniltrimetoxisilano, viniltrietoxisilano, vinilmetildimetoxisilano, o vinilmetildietoxisilano; sumándose los datos en % en peso en cada caso hasta 100 % en peso.
Unos apropiados polímeros solubles son también unos polímeros de ésteres de ácidos (met)acrílicos, tales como un (met)acrilato de metilo y/o un (met)acrilato de n-butilo con 6 a 15 % en peso de ácidos carboxílicos etilénicamente insaturados, tales como ácido acrílico o ácido metacrílico y eventualmente con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados, tales como viniltrimetoxisilano, viniltrietoxisilano, vinilmetildimetoxisilano o vinilmetildietoxisilano; unos polímeros de ésteres de ácidos (met)acrílicos, tales como un (met)acrilato de metilo y/o un (met)acrilato de n-butilo, con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados tales como viniltrimetoxisilano, viniltrietoxisilano, vinilmetildimetoxisilano, o vinilmetildietoxisilano; sumándose los datos en % en peso en cada caso hasta 100 % en peso.
La elección de los monómeros o respectivamente la elección de las proporciones en peso de los comonómeros se efectúa en tal caso de manera tal que en general resulte una temperatura de transición vítrea Tg de -50ºC a +50ºC, preferiblemente de -30ºC a +40ºC. La temperatura de transición vítrea Tg de los polímeros se puede determinar de una manera conocida mediante una calorimetría de barrido diferencial (DSC, acrónimo de Differential Scanning Calorimetry). La Tg se puede calcular de antemano de modo aproximado también mediante la ecuación de Fox. Según Fox T. G., Bull. Am. Physics Soc. 1, 3, página 123 (1956) se realiza que: 1/Tg = x1/Tg1 + x2/Tg2 + ... + xn/Tgn, representando xn la fracción de masa (en % en peso/100) del monómero n, y siendo Tgn la temperatura de transición vítrea en grados Kelvin del homopolímero del monómero n. Los valores deTg para homopolímeros se exponen en la obra Polymer Handbook, 2ª edición, J. Wiley & Sons, Nueva York (1975).
Los polímeros solubles constituidos sobre la base de los monómeros a) y b) se pueden preparar de acuerdo con procedimientos de polimerización en suspensión, en disolventes, en masa, o de manera preferente en emulsión, conocidos para un experto en la especialidad tal como se describen, por ejemplo en el documento DE-A 102006050336. El procedimiento de polimerización en emulsión se lleva a cabo de manera preferida a un valor del pH comprendido entre 3 y 6.
Adicionalmente a los polímeros solubles constituidos sobre la base de los monómeros a) y b) se pueden emplear en el procedimiento conforme al invento también unos poli(alcoholes vinílicos) parcial o totalmente saponificados, funcionalizados, que son obtenibles por saponificación de aquellos polímeros solubles, cuyas unidades de monómeros b) se derivan exclusiva o parcialmente de ésteres vinílicos. La preparación de los poli(alcoholes vinílicos) parcial o totalmente saponificados, funcionalizados, se efectúa de acuerdo con métodos habituales, por saponificación de los polímeros solubles que contienen unidades de ésteres vinílicos en una solución alcohólica, de una manera análoga a como se describe por ejemplo en el documento DE-A 10140131.
Adicionalmente a los polímeros solubles constituidos sobre la base de los monómeros a) y b) se pueden emplear en el procedimiento conforme al invento también unos poli(alcoholes vinílicos) modificados con silanos, que se obtienen por tratamiento de polímeros de alcohol vinílico con uno o varios compuestos de silicio de las fórmulas (2) o (3) a una temperatura elevada, tal como � 30ºC o de manera preferida de 50ºC a 100ºC. De manera preferida, se emplea de 1 a 25 % en peso de compuestos de silicio de las fórmulas (2) o (3), referido al peso del polímero de alcohol vinílico. Tales poli(alcoholes vinílicos) modificados con silanos y su preparación se describen en el documento WO-A 2007/057382. Los polímeros de alcohol vinílico, empleados para la preparación de los poli(alcoholes vinílicos) modificados con silanos, son obtenibles por saponificación de poli(ésteres vinílicos) constituidos sobre la base de uno o varios de los ésteres vinílicos enumerados dentro de los monómeros b), de manera preferida acetato de vinilo, así como eventualmente de uno o varios otros monómeros b), que son diferentes de los ésteres vinílicos, y eventualmente de uno o varios monómeros a).
Para el tratamiento de los polímeros de alcohol vinílico destinados a la preparación de los poli(alcoholes vinílicos) modificados con silanos se prefieren los mismos compuestos de silicio de las fórmulas (2) o (3), que también se han expuesto más arriba correspondientemente para la reacción de condensación. Los preferidos poli(alcoholes vinílicos) parcial o totalmente saponificados, funcionalizados, se obtienen por ejemplo por tratamiento de polímeros de alcohol vinílico con viniltrimetoxisilano o viniltrietoxisilano.
Los apropiados poli(alcoholes vinílicos) o polímeros de alcohol vinílico parcial o totalmente saponificados, funcionalizados, para la preparación de los poli(alcoholes vinílicos) modificados con silanos tienen un grado de hidrólisis de las unidades de ésteres vinílicos de preferiblemente 50 % en moles a 99,99 % en moles, de manera especialmente preferida de 70 % en moles a 99 % en moles, de manera sumamente preferida de � 96 % en moles. Se designa como totalmente saponificados en tal caso a aquellos polímeros, cuyo grado de hidrólisis es � 96 % en moles. Como polímeros de ésteres vinílicos parcialmente saponificados se han de entender aquellos que tienen un grado de hidrólisis de > 50 % en moles y < 96 % en moles.
Adicionalmente a los polímeros solubles constituidos sobre la base de los monómeros a) y b) se pueden emplear en el procedimiento conforme al invento también poli(vinil-acetales) funcionalizados, que son obtenibles por acetalización parcial o total de los poli(alcoholes vinílicos) parcial o totalmente saponificados, funcionalizados. La preparación de los poli(vinil-acetales) funcionalizados se efectúa de acuerdo con procedimientos habituales, por acetalización de los mencionados poli(alcoholes vinílicos) con aldehídos, tal como se describe, por ejemplo, en el documento DE-A 10140131.
Unos preferidos aldehídos tomados del conjunto de los aldehídos alifáticos con 1 a 15 átomos de C son formaldehído, acetaldehído, propionaldehído y de manera sumamente preferida butiraldehído o una mezcla de butiraldehído y acetaldehído. Como aldehídos aromáticos se pueden utilizar por ejemplo benzaldehído o sus derivados.
El grado de acetalización de los poli(vinil-acetales) funcionalizados se puede ajustar mediante la cantidad empleada de aldehído. Puesto que en ese caso la acetalización transcurre con un grado de conversión casi completo, la cantidad añadida se puede determinar mediante un sencillo cálculo estequiométrico.
Adicionalmente a los polímeros solubles constituidos sobre la base de los monómeros a) y b) se pueden emplear también polímeros naturales o polímeros naturales modificados química o físicamente. Ejemplos de polímeros naturales son celulosas, almidones, xantanos o polilactidas.
En el caso de la producción de las partículas de materiales compuestos, la proporción de los polímeros solubles es de manera preferida de 3 a 98 % en peso, de manera especialmente preferida de 5 a 80 % en peso y de manera sumamente preferida de 35 a 60 % en peso, en cada caso referida a la masa seca de la cantidad empleada en total de polímeros solubles y de componentes con silicio.
En el procedimiento conforme al invento, los componentes con silicio así como los polímeros solubles se pueden emplear en una forma pura o en un disolvente. Los componentes con silicio así como los polímeros solubles se pueden disponer previamente por completo en un disolvente para la condensación. Alternativamente, una parte de los componentes con silicio así como de los polímeros solubles se puede disponer previamente para la condensación, y el residuo remanente de los componentes con silicio y de los polímeros solubles se puede añadir durante la condensación. Si los componentes con silicio se disponen previamente de modo total o parcial y se añaden posteriormente en el tiempo los polímeros solubles, entonces se puede efectuar una condensación previa de los componentes con silicio, antes de que se efectúe una fijación de las partículas formadas en tal caso sobre los polímeros solubles. De manera preferida, los polímeros solubles se disponen previamente en un disolvente o en una mezcla de disolventes y los componentes con silicio se añaden en forma pura total o parcialmente durante la condensación.
La temperatura durante la condensación es de manera preferida de 1 a 100ºC, de manera especialmente de 10 a 80ºC y de manera sumamente preferida de 20 a 60ºC. El período de tiempo de reacción de la condensación es de manera preferida de 4 a 24 horas, de manera especialmente preferida de 5 a 12 horas.
El procedimiento para la producción de las partículas de materiales compuestos se lleva a cabo preferiblemente a unos valores del pH comprendidos entre 2 y 12, de manera especialmente preferida a unos valores del pH comprendidos entre 7 y 12 y de manera sumamente preferida a unos valores del pH comprendidos entre 8 y 10. Para el caso de que se empleen los compuestos de silicio de la fórmula (1), que llevan uno o varios radicales epoxi, la producción de las partículas de materiales compuestos se efectúa de manera preferida a unos valores del pH de 4 a 7.
El valor del pH se puede ajustar de manera conocida mediante ácidos, bases o tampones orgánicos/as o inorgánicos/as, tal como por ejemplo mediante adición de ácido clorhídrico, amoníaco o hidróxidos de metales alcalinos, tales como por ejemplo una solución de hidróxido de sodio (= lejía de sosa). El valor del pH se puede ajustar también mediante los compuestos de silicio de la fórmula (1) y eventualmente mediante los compuestos de silicio de la fórmula (3), siempre y cuando que los mencionados compuestos de silicio lleven un radical amino, de amonio, de ácido carboxílico o de ácido fosfórico. De manera preferida, no se incorpora ningún ion plurivalente, tal como iones de metales cargados múltiplemente, por ejemplo iones de metales alcalino-térreos, en forma de ácidos, bases o tampones, en las partículas de materiales compuestos, puesto que tales iones pueden conducir a una conglomeración de las partículas de materiales compuestos y por consiguiente a una gelificación de las partículas de materiales compuestos.
Los ácidos, las bases y los tampones que se han mencionado se pueden emplear también como un catalizador para la condensación de los compuestos de silicio de la fórmula (1) y eventualmente de las fórmulas (2) y (3).
Durante la condensación se pueden emplear agentes emulsionantes. Si la condensación se lleva a cabo en presencia de agentes emulsionantes, su proporción es preferiblemente de 1 a 5 % en peso, referida al contenido de materiales sólidos. Apropiados agentes emulsionantes son unos agentes emulsionantes tanto aniónicos o catiónicos como también no iónicos, por ejemplo agentes tensioactivos aniónicos, tales como alquil-sulfatos con una longitud de cadena de 8 a 18 átomos de C, alquil- o alquilaril-éter-sulfatos con 8 a 18 átomos de C en el radical hidrófobo y con hasta 40 unidades de óxido de etileno o de propileno, alquil- o alquilaril-sulfonatos con 8 a 18 átomos de C, ésteres y semiésteres del ácido sulfosuccínico con alcoholes o alquil-fenoles monovalentes, o agentes tensioactivos no iónicos tales como alquil-poliglicol-éteres o alquilaril-poliglicol-éteres con 8 a 40 unidades de óxido de etileno. De manera preferida antes de, durante o después de la condensación no se añade ningún agente emulsionante.
Las partículas de materiales compuestos obtenibles de esta manera, se presentan en forma de una suspensión y tienen de manera preferida un contenido de materiales sólidos de 10 a 65 % en peso, de manera especialmente preferida de 10 a 50 % en peso, de manera muy especialmente preferida de 20 a 40 % en peso y de manera sumamente preferida de 25 a 35 % en peso.
Después de haberse terminado la reacción de condensación, los productos secundarios, las sustancias de partida no convertidas químicamente, los disolventes u otras sustancias volátiles se pueden eliminar mediante destilación, de manera preferida bajo presión reducida, y eventualmente conduciendo a través o por encima de ellos unos gases de arrastre tales como aire, nitrógeno o vapor de agua.
Para la producción de las partículas de materiales compuestos en forma de polvos, las dispersiones de las partículas de materiales compuestos se secan, eventualmente mediando adición de coloides protectores como agente auxiliar de desecación. Unos apropiados procedimientos de desecación son por ejemplo la desecación en capa turbulenta, la desecación con rodillos, la desecación por congelación (liofilización) o la desecación por atomización. Unos apropiados agentes auxiliares de desecación son, por ejemplo, los polímeros solubles más arriba mencionados. De manera preferida se emplean ciertos poli(alcoholes vinílicos) como agentes auxiliares de desecación. De manera preferida, las mezclas acuosas se secan por atomización. La desecación por atomización se efectúa en tal caso en las usuales instalaciones de desecación por atomización, efectuándose la atomización mediante boquillas para una sola sustancia, para dos sustancias o para múltiples sustancias, o con un disco rotatorio. La temperatura de salida se escoge en general en el intervalo de 45ºC a 120ºC, de manera preferida de 60ºC a 90ºC.
Al realizar la desecación se ha manifestado como favorable muchas veces un contenido de hasta 1,5 % en peso de un agente antiespumante, referido a los componentes poliméricos. Para la elevación de la capacidad de almacenamiento por mejoramiento de la estabilidad frente al apelmazamiento, en particular en el caso de polvos con una baja temperatura de transición vítrea, el polvo obtenido se puede aprestar con un agente antiapelmazante (agente antiaglomerante), preferiblemente con hasta 30 % en peso, referido al peso total de los componentes polímeros. Ejemplos de agentes antiapelmazantes son el carbonato de Ca o respectivamente Mg, talco, yeso, ácidos silícicos tales como por ejemplo ácidos silícicos altamente dispersos, caolines, metacaolín, caolín calcinado, silicatos con unos tamaños de partículas situados preferiblemente en el intervalo de 10 nm a 100 μm.
La viscosidad de la dispersión que se ha de secar es ajustada a través del contenido de materiales sólidos de tal manera que se obtenga un valor de < 1.500 mPas (viscosidad de Brookfield a 20 revoluciones y 23ºC), de manera preferida < 500 mPas.
Para el mejoramiento de las propiedades técnicas de uso, a las partículas de materiales compuestos se les pueden añadir otros aditivos. Otros componentes de las partículas de materiales compuestos, que están contenidos en formas preferidas de realización, son por ejemplo agentes aglutinantes, pigmentos, materiales de carga tales como por ejemplo zeolitas, agentes estabilizadores de la espuma, agentes de hidrofugación o agentes formadores de poros de aire (= agentes aireantes). De manera preferida, estos aditivos se añaden durante o después de la desecación de la dispersión.
Las partículas de materiales compuestos en forma de polvos, obtenidas de esta manera, se pueden llevar a la forma deseada por subsiguiente molienda y/o redispersamiento en agua, disolventes orgánicos o diluyentes reactivos. Como diluyentes reactivos se adecuan por ejemplo las clases de sustancias y los compuestos etilénicamente insaturadas/os que se exponen más arriba dentro de los monómeros a) o los monómeros b). Unos preferidos diluyentes reactivos son compuestos aromáticos etilénicamente insaturados tales como estireno, (met)acrilatos, tales como dimetacrilato de etilenglicol, o epóxidos.
Un objeto adicional del invento lo constituyen partículas de materiales compuestos obtenibles por condensación de a) uno o varios compuestos de silicio de la fórmula general
(RO)nSiR14-n (1) en la que R significa un radical alquilo, arilo o alcoxialquilo con 1 a 20 átomos de carbono, eventualmente sustituido, o un átomo de hidrógeno, R1 significa un radical hidrocarbilo con 1 a 12 átomos de carbono, eventualmente sustituido, o un átomo de hidrógeno, y n adopta un valor de 2 a 4, o
�) uno o varios productos de condensación de los compuestos de silicio de la fórmula (1) en un disolvente o una mezcla de varios disolventes, en presencia de uno o varios polímeros solubles, utilizándose como polímeros solubles unos polímeros de ésteres vinílicos con 6 a 15 % en peso de ácidos carboxílicos etilénicamente insaturados y eventualmente con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados; unos polímeros de ésteres vinílicos con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados; unos polímeros de ésteres de ácidos (met)acrílicos con 6 a 15 % en peso de ácidos carboxílicos etilénicamente insaturados y eventualmente con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados; o unos polímeros de ésteres de ácidos (met)acrílicos con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados, sumándose los datos en % en peso para llegar en cada caso hasta 100 % en peso, realizándose que los polímeros solubles son solubles en el disolvente antes mencionado o en la mezcla antes mencionada de varios disolventes a una temperatura arbitraria situada dentro del intervalo de temperaturas de 1 a 100ºC y a un valor arbitrario del pH situado entre 2 y 12, hasta por lo menos 1 g por litro del disolvente o de la mezcla de disolventes, realizándose que los productos de condensación de los compuestos de silicio a) o los productos de condensación �)
o sus productos de condensación, que se han formado en tal caso, se fijan sobre uno o varios polímeros solubles.
En particular, los grupos funcionales de las unidades de monómeros a) de los polímeros solubles conducen a una fijación de las partículas inorgánicas. La fijación se basa en tal caso en lo esencial en una interacción química, tal como mediante enlaces covalentes, o en una interacción física, tal como mediante enlaces iónicos o enlaces de puentes de hidrógeno. Las partículas inorgánicas están fijadas en lo esencial en una distribución estadística sobre la cadena polimérica del polímero soluble de la respectiva partícula de material compuesto.
Las partículas de materiales compuestos tienen de manera preferida una viscosidad de 20 a 2.000 mPas (viscosidad de Brookfield a 25ºC en forma de una solución al 25 % en agua).
Las partículas de materiales compuestos en forma de una dispersión acuosa con un contenido sólido de 10 % en peso presentan de manera preferida un enturbiamiento de � 700 EBC, de manera especialmente preferida de � 600 EBC, de manera muy especialmente preferida de � 400 EBC y de manera sumamente preferida de � 200 EBC (determinación de acuerdo con el patrón de formazina según la norma DIN 38404 a la temperatura ambiente con el aparato medidor del enturbiamiento de la entidad Metrisa GmbH): TA6FS/modelo 251).
Los dominios inorgánicos de las partículas de materiales compuestos tienen unos tamaños medios de partículas de 5 nm a 800 nm, de manera especialmente preferida de 5 nm a 50 nm y de manera sumamente preferida de 5 nm a 30 nm (determinado con el microscopio electrónico de transmisión Libra 120 de la entidad Zeiss).
En el transcurso de la condensación conforme al invento se unen con los polímeros solubles o con los compuestos de silicio empleados o con sus productos de condensación de manera preferida � 30%, de manera especialmente preferida � 40 % y de manera sumamente preferida de 70 a 80 % de los enlaces hidrolizables o condensables de los compuestos de silicio de la fórmula (1) y eventualmente de las fórmulas (2) y (3), referido al número total de los enlaces hidrolizables o condensables de los compuestos de silicio mencionados. Los enlaces hidrolizables son en particular los grupos alcoxi RO de la fórmula (1) o los grupos alcoxi OR9 de la fórmula (2). Los enlaces condensables son en particular los grupos OH unidos a átomos de silicio.
Las partículas de materiales compuestos conformes al invento son estables en disolventes orgánicos, diluyentes reactivos o agua o en forma de polvos, también sin la adición de agentes estabilizadores, agentes emulsionantes o coloides protectores.
Las partículas de materiales compuestos son apropiadas como agentes aglutinantes, agentes aglutinantes concomitantes o aditivos para el mejoramiento de las propiedades técnicas de uso de numerosos productos. Mediante el empleo de las partículas de materiales compuestos en agentes de revestimiento o pegamentos se pueden aumentar por ejemplo su termoestabilidad y su resistencia a los arañazos. Los pegamentos que contienen partículas de materiales compuestos muestran además de ello con frecuencia un comportamiento mejorado de fluidez así como un módulo E estable a una temperatura elevada y proporcionan después de la aplicación, por ejemplo, unas películas adhesivas retirables o desprendibles. Con los agentes de revestimiento que contienen partículas de materiales compuestos, los revestimientos pueden ser provistos de un efecto de mateado o deslustrado. Asimismo es ventajoso el empleo de las partículas de materiales compuestos en formulaciones para barnices en polvo, materiales sintéticos y materiales compuestos, por ejemplo para la producción de componentes de materiales sintéticos o materiales compuestos o de materiales de envasado. Las partículas de materiales compuestos son apropiados también para el tratamiento de superficies para materiales sintéticos o naturales, tales como fibras o partículas, tales como por ejemplo preferiblemente piedras, madera, cuero, papel, materiales textiles, materiales sintéticos, tales como láminas de materiales sintéticos. En tal caso las partículas de materiales compuestos actúan por ejemplo como cebadores para el refuerzo de la adhesión, como capa de barrera, para la protección contra la corrosión o repeliendo la suciedad. El efecto repelente de la suciedad se puede aprovechar de una manera ventajosa en usos correspondientes en alfombras o moquetas. Con las partículas de materiales compuestos se pueden producir también revestimientos difícilmente combustibles para madera, materiales sintéticos, cuero y papel. Las piedras pueden ser consolidadas o saneadas. En productos de la industria del envasado se puede producir una barrera contra los gases mediante adición de las partículas de materiales compuestos.
Los siguientes Ejemplos sirven para la explicación detallada del invento y no han de entenderse de ninguna manera como una limitación.
Ejemplos:
Polímero 1: En un reactor con un volumen de 3 litros se dispusieron previamente 839,4 g de agua desionizada, 3,1 g de laurilsulfato de sodio, 0,93 g de peroxodisulfato de potasio en una atmósfera de nitrógeno, y se calentó a 40ºC mediando agitación. A esta temperatura se añadió al reactor una mezcla con la siguiente composición: Viniltrietoxisilano 0,7 gÁcido metacrílico 11,9 g Acrilato de butilo 66,8 g Dodecilmercaptano 1,0 g Metacrilato de metilo 69,0 g
A continuación, la temperatura se elevó a 80ºC y después de haberse alcanzado esta temperatura se añadió dosificadamente la solución del agente iniciador (0,93 g de peroxodisulfato de potasio en 98 g de agua) en el transcurso de 3 horas y al mismo tiempo se añadió al reactor por separado durante 2,5 horas una solución con la siguiente composición. Viniltrietoxisilano: 2,3 gÁcido metacrílico: 37,6 g
5 Acrilato de butilo: 211,5 g
Dodecilmercaptano: 3,3 g
Metacrilato de metilo: 218,5 g
Después del final de las adiciones dosificadas, se agitó durante 2 horas a 80ºC y durante 1 hora a 85ºC.
A continuación, la dispersión de polímero se diluyó con agua y se ajustó el valor de pH a 9 con una solución acuosa
10 de amoníaco (al 12,5 %). Se obtuvo una solución de polímero con un contenido sólido de 20 % en peso. Una solución al 10 % en peso del polímero en agua tenía a la temperatura ambiente un enturbiamiento de < 600 EBC (de acuerdo con el patrón de formazina según la norma DIN 38404; determinado con el aparato de medición del enturbiamiento modelo TA6FS/modelo 251 de la entidad Metrisa GmbH).
Polímero 2:
15 Se preparó de una manera análoga a la del Ejemplo 1, con la diferencia de que no se empleó nada de viniltrietoxisilano. Una solución al 10 % en peso del polímero en agua tenía a la temperatura ambiente un enturbiamiento de < 600 EBC (de acuerdo con el patrón de formazina según la norma DIN 38404; determinado con el aparato de medición del enturbiamiento modelo TA6FS/modelo 251 de la entidad Metrisa Gmbh).
20 Polímero 3: La carga previa se calentó bajo una atmósfera de nitrógeno y mediando agitación (a 100 rpm = revoluciones por minuto) hasta la temperatura de reflujo (75º-80ºC). A los 15 minutos después de haberse alcanzado la temperatura de reflujo, se añadieron 1,5 g de peroxipivalato de terc.-butilo (PPV). A los 45 minutos después de haberse alcanzado la temperatura de reflujo, la Solución 1 y la Solución 2 se añadieron dosificadamente al reactor por
25 separado, cada vez durante 225 minutos.
Carga previa: 707,5 g de i-propanol
71,7 g de acetato de vinilo
0,35 g de viniltrietoxisilano
0,84 g de PPV
Solución 1: 671,6 g de acetato de vinilo
3,35 g de viniltrietoxisilano
Solución 2: 36,4 g de i-propanol
8,4 g de PPV
A los 30 minutos después del final de las adiciones dosificadas, se añadieron 2,0 g de PPV y se agitó a reflujo todavía durante otras dos horas. Después del enfriamiento hasta la temperatura ambiente, se obtuvo una solución de polímero con un contenido sólido de 50 % en peso. Una solución al 10 % en peso del polímero en i-propanol
30 tenía a la temperatura ambiente un enturbiamiento de < 600 EBC (de acuerdo con el patrón de formazina según la norma DIN 38404; determinado con el aparato de medición del enturbiamiento modelo TA6FS/modelo 251 de la entidad Metrisa GmbH).
Polisiloxano 1:
35 Mediando agitación se preparó una mezcla de 500 g de agua y 200 g de tetraetoxisilano a 30ºC y el valor del pH se ajustó a 9 con amoníaco. Después de 2 h había resultado una solución transparente. Se agitó durante otras 8 h a 30ºC. A continuación los componentes volátiles se separaron por destilación a 60ºC bajo presión reducida y la dispersión se enfrió a la temperatura ambiente y se filtró (anchura de mallas 70 micrómetros). La dispersión así obtenida era estable, homogénea y estaba exenta de grumos.
40 Polisiloxano 2:
Mediando agitación se preparó una mezcla de 500 g de agua, 170 g de tetraetoxisilano y 30 g de trimetiletoxisilano a 30ºC y el valor del pH se ajustó a 9 con amoníaco. Después de 2 h había resultado una solución transparente. Se agitó a 30ºC durante otras 8 h. A continuación, los componentes volátiles y una parte de agua se separaron por destilación a 60ºC bajo presión reducida y la dispersión se enfrió a la temperatura ambiente y se filtró (anchura de
45 mallas 70 micrómetros). La dispersión así obtenida era estable, homogénea y estaba exenta de grumos.
Ejemplo 1: En un reactor de doble camisa se dispusieron previamente a la temperatura ambiente mediando agitación 900 g de la solución polimérica acuosa al 20 % del Polímero 1, se añadieron 197 g de agua y el valor del pH se llevó a 9 con amoníaco acuoso (al 12,5 %). Se calentó a 35ºC, y después de haber agitado durante 10 minutos se añadieron 255 g de metiltrietoxisilano y 35 g de trimetiletoxisilano durante 20 minutos. Se agitó durante 4 horas a 35ºC y a continuación durante 2 horas a 60ºC. Finalmente, los componentes volátiles de la mezcla de reacción y una parte del agua se separaron por destilación a una presión de 20 mbar y a una temperatura de 60ºC. Se obtuvo una dispersión estable, homogénea y exenta de grumos de las partículas de material compuesto. Las partículas de material compuesto tenían una viscosidad de 120 mPas (viscosidad de Brookfield a 25ºC en forma de una solución al 25 % en agua). Una dispersión de las partículas de material compuesto con un contenido sólido de 10 % en peso en agua tenía a la temperatura ambiente un enturbiamiento de < 600 EBC (de acuerdo con el patrón de formazina según la norma DIN 38404; determinado con el aparato de medición del enturbiamiento modelo TA6FS/modelo 251 de la entidad Metrisa GmbH). Los dominios inorgánicos de las partículas de material compuesto tenían un tamaño medio de partículas de < 20 nm (determinado con el microscopio electrónico de transmisión Libra 120 de la entidad Zeiss).
Ejemplo 2:
De una manera análoga a la del Ejemplo 1, con la diferencia de que en lugar del metiltrietoxisilano y del trimetiletoxisilano se emplearon 261 g de metiltrietoxisilano y 29 g de (3-amino-propil)trietoxisilano. Se obtuvo una dispersión estable, homogénea y exenta de grumos de las partículas de material compuesto. Las partículas de material compuesto tenían una viscosidad de 190 mPas (viscosidad de Brookfield a 25ºC en forma de una solución al 25 % en agua). Una dispersión de las partículas de material compuesto con un contenido sólido de 10 % en peso en agua tenía a la temperatura ambiente un enturbiamiento de < 600 EBC (de acuerdo con el patrón de formazina según la norma DIN 38404; determinado con el aparato de medición del enturbiamiento modelo TA6FS/modelo 251 de la entidad Metrisa GmbH). Los dominios inorgánicos de las partículas de material compuesto tenían un tamaño medio de partículas de < 20 nm (determinado con el microscopio electrónico de transmisión Libra 120 de la entidad Zeiss).
Ejemplo 3: De una manera análoga a la del Ejemplo 1, con la diferencia de que en lugar del metiltrietoxisilano y del trimetiletoxisilano se emplearon 261 g de metiltrietoxisilano y 29 g de (3-glicidoxi-propil)trietoxisilano. Se obtuvo una dispersión estable, homogénea y exenta de grumos de las partículas de material compuesto. Las partículas de material compuesto tenían una viscosidad de 2.000 mPas (viscosidad de Brookfield a 25ºC en forma de una solución al 30 % en agua). Una dispersión de las partículas de material compuesto con un contenido sólido de 10 % en peso en agua tenía a la temperatura ambiente un enturbiamiento de < 600 EBC (de acuerdo con el patrón de formazina según la norma DIN 38404, determinado con el aparato de medición del enturbiamiento modelo TA6FS/modelo 251 de la entidad Metrisa GmbH). Los dominios inorgánicos de las partículas de material compuesto tenían un tamaño medio de partículas de < 20 nm (determinado con el microscopio electrónico de transmisión Libra 120 de la entidad Zeiss).
Ejemplo 4: De una manera análoga a la del Ejemplo 1, con la diferencia de que en lugar de la solución polimérica acuosa del Polímero 1 se utilizó la solución polimérica acuosa del Polímero 2. Se obtuvo una dispersión estable, homogénea y exenta de grumos de las partículas de material compuesto. Las partículas de material compuesto tenían una viscosidad de 250 mPas (viscosidad de Brookfield a 25ºC en forma de una solución al 30 % en agua). Una dispersión de las partículas de material compuesto con un contenido sólido de 10 % en peso en agua tenía a la temperatura ambiente un enturbiamiento de < 600 EBC (de acuerdo con el patrón de formazina según la norma DIN 38404, determinado con el aparato de medición del enturbiamiento modelo TA6FS/modelo 251 de la entidad Metrisa GmbH). Los dominios inorgánicos de las partículas de material compuesto tenían un tamaño medio de partículas de < 20 nm (determinado con el microscopio electrónico de transmisión Libra 120 de la entidad Zeiss).
Ejemplo 5: En un reactor de doble camisa se dispusieron previamente mediando agitación 400 g de la solución al 50 % del Polímero 3 en i-propanol, se añadieron 400 g de i-propanol y se calentó a 60ºC. Después de haber agitado durante 10 minutos a 60ºC, se añadieron dosificadamente durante 20 minutos 110 g de metiltrietoxisilano y 35 g de ametacrilatomet-trimetoxisilano. Después de haberse terminado la adición dosificada, se agitó a 60ºC durante 14 horas adicionales. A continuación los componentes volátiles y una parte del i-propanol se separaron por destilación a una presión de 20 mbar y a una temperatura de 60ºC. Se obtuvo una dispersión estable, homogénea y exenta de grumos de las partículas de material compuesto. Las partículas de material compuesto tenían una viscosidad de 280 mPas (viscosidad de Brookfield a 25ºC en forma de una solución al 30 % en agua). Los dominios inorgánicos de las partículas de material compuesto tenían un
tamaño medio de partículas de < 30 nm (determinado con el microscopio electrónico de transmisión Libra 120 de la
entidad Zeiss).
Ejemplo comparativo 6:
Ensayo de estabilidad: 50 g de la dispersión del Polisiloxano 1 se mantuvieron a 75ºC durante 15 min y a
continuación se examinaron en cuanto a la aglomeración bajo el microscopio óptico. Se comprobó una fuerte
aglomeración de las partículas.
Ejemplo comparativo 7:
Ensayo de estabilidad: 50 g de la dispersión del Polisiloxano 2 se mantuvieron a 75ºC durante 15 min y a
continuación se examinaron en cuanto a la aglomeración bajo el microscopio óptico. Se comprobó una fuerte
aglomeración de las partículas.
Ejemplo 8:
En un reactor de doble camisa se dispusieron previamente 500 g de una dispersión del Polisiloxano 1 (FG [=
acrónimo de Fest Gewicht = contenido sólido] = 40 % en peso) y 1.500 g de la solución acuosa al 20 % del Polímero
1, el valor del pH se ajustó a 9 con amoníaco y se calentó a 50ºC mediando agitación. Después de 6 horas a 50ºC,
los componentes volátiles y una parte del agua se separaron por destilación a 60ºC bajo presión reducida y la
dispersión se enfrió a la temperatura ambiente y se filtró (anchura de mallas 70 micrómetros).
Se obtuvo una dispersión estable, homogénea y exenta de grumos de las partículas de material compuesto.
Las partículas de material compuesto tenían una viscosidad de 900 mPas (viscosidad de Brookfield a 25ºC en forma
de una solución al 30 % en agua). Los dominios inorgánicos de las partículas de material compuesto tenían un
tamaño medio de partículas de < 20 nm (determinado con el microscopio electrónico de transmisión Libra 120 de la
entidad Zeiss).
Para el examen de la termoestabilidad, 50 g de la dispersión obtenida se mantuvieron a 75ºC durante 30 min y a
continuación se examinaron bajo el microscopio óptico en lo que se refiere a la aglomeración de las partículas de
material compuesto. No apareció ninguna formación de aglomerados.
Ejemplo 9
En un reactor de doble camisa se dispusieron previamente 500 g de una dispersión del Polisiloxano 2 (FG = 40 % en
peso) y 1.500 g de la solución acuosa al 20 % del Polímero 1, el valor del pH se ajustó a 9 con amoníaco y se
calentó a 50ºC mediando agitación. Después de 6 horas a 50ºC los componentes volátiles y una parte del agua se
separaron por destilación a 60ºC bajo presión reducida y la dispersión se enfrió a la temperatura ambiente y se filtró
(anchura de mallas 70 micrómetros).
Se obtuvo una dispersión estable, homogénea y exenta de grumos de las partículas de material compuesto.
Las partículas de material compuesto tenían una viscosidad de 1.200 mPas (viscosidad de Brookfield a 25ºC en
forma de una solución al 30 % en agua). Los dominios inorgánicos de las partículas de material compuesto tenían un
tamaño medio de partículas de < 20 nm (determinado con el microscopio electrónico de transmisión Libra 120 de la
entidad Zeiss).
Para el examen de la termoestabilidad, 50 g de la dispersión obtenida se mantuvieron a 75ºC durante 30 min y a
continuación se examinaron bajo el microscopio óptico en lo que se refiere a la aglomeración de las partículas de
material compuesto. No apareció ninguna formación de aglomerados.
Claims (12)
- REIVINDICACIONES1. Procedimiento para la producción de partículas de materiales compuestos, caracterizado porque se condensan a) uno o varios compuestos de silicio de la fórmula general(RO)nSiR14-n (1) en la que R significa un radical alquilo o arilo con 1 a 20 átomos de carbono, eventualmente sustituido, o un átomo de hidrógeno, R1 significa un radical hidrocarbilo eventualmente sustituido o un átomo de hidrógeno, y n adopta un valor de 1 a 4, o�) uno o varios productos de condensación de los compuestos de silicio de la fórmula (1) en un disolvente o una mezcla de varios disolventes, en presencia de uno o varios polímeros solubles, utilizándose como polímeros solubles unos polímeros de ésteres vinílicos con 6 a 15 % en peso de ácidos carboxílicos etilénicamente insaturados y eventualmente con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados; unos polímeros de ésteres vinílicos con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados; unos polímeros de ésteres de ácidos (met)acrílicos con 6 a 15 % en peso de ácidos carboxílicos etilénicamente insaturados y eventualmente con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados; o unos polímeros de ésteres de ácidos (met)acrílicos con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados, sumándose los datos en % en peso para llegar en cada caso hasta 100 % en peso, realizándose que los polímeros solubles son solubles en el disolvente antes mencionado o en la mezcla antes mencionada de varios disolventes a una temperatura arbitraria situada dentro del intervalo de temperaturas de 1 a 100ºC y a un valor arbitrario del pH situado entre 2 y 12, hasta por lo menos 1 g por litro del disolvente o de la mezcla de disolventes, realizándose que los productos de condensación de los compuestos de silicio a) o los productos de condensación �)o sus productos de condensación, que se han formado en tal caso, se fijan sobre uno o varios polímeros solubles.
-
- 2.
- Procedimiento para la producción de partículas de partículas de materiales compuestos de acuerdo con la reivindicación 1, caracterizado porque como productos de condensación �) se emplean organopolisiloxanos que están constituidos a base de unidades de la fórmula general
R1xSi(OR)yO(4-x-y)/2 (4), en la que x es 0, 1, 2 ó 3 e y es 0, 1 o 2, con la condición de que la suma x+y ha de ser �3, los R1 pueden ser iguales o diferentes y significan un radical hidrocarbilo eventualmente sustituido y los R pueden ser iguales o diferentes y significan un radical alquilo o arilo eventualmente sustituido, con 1 a 20 átomos de carbono, o un átomo de hidrógeno. -
- 3.
- Procedimiento para la producción de partículas de materiales compuestos de acuerdo con la reivindicación 1 ó 2, caracterizado porque el radical R1 representa un grupo R2X, en el que el radical R2 significa un radical alquileno eventualmente sustituido, con 1 a 20 átomos de carbono, de manera preferida con 1 a 6 átomos de carbono, en el que unas unidades de metileno no contiguas entre sí pueden ser reemplazadas por grupos –O-, y X está unido al radical R2 a través de un enlace covalente y representa un radical amino NHR3, un radical epoxi CR4(O)CR5R6, un radical de uretano NR3-C(=O)OR3, un radical de urea NR3-C(=O)NR3R4, un radical de ácido fosfórico P(=O)(OH)2, un radical de anhídrido C(=O)O(O=)CR3 o un radical de ácido carboxílico, significando R3 un átomo de hidrógeno o un radical alquilo, arilo o aminoalquilo eventualmente sustituido, con 1 a 10 átomos de carbono, R4, R5, R6 significan un átomo de hidrógeno o un radical alquilo o arilo eventualmente sustituido, con 1 a 10 átomos de carbono, adoptando los respectivos radicales R2, R3, R4, R5 y R6 sus valores en cada caso independientemente unos de otros, y estando unido el grupo R2X a través de un átomo de carbono del radical R2 al átomo de silicio de la fórmula (1).
-
- 4.
- Procedimiento para la producción de partículas de materiales compuestos de acuerdo con las reivindicaciones 1 hasta 3, caracterizado porque como compuestos de silicio de la fórmula (1) se emplean tetrametoxisilano, tetraetoxisilano, metiltrimetoxisilano, metiltrietoxisilano, dimetildimetoxisilano, dimetildietoxisilano, isooctiltrimetoxisilano, isooctiltrietoxisilano, (ciclohexil)metildimetoxisilano, diciclopentildimetoxisilano, feniltrietoxisilano, (3-amino-propil)trietoxisilano, (3-amino-propil)trimetoxisilano, N-(2-amino-etil)(3-amino-propil)trietoxisilano, N-(2amino-etil)(3-amino-propil)trimetoxisilano, N-(2-amino-etil)(3-amino-propil)metildimetoxisilano, anhídrido de ácido 3(trietoxisilil)propil-succínico, N-ciclohexilaminometilmetildietoxisilano, N-(3-(trietoxisilil)propil)-metiluretano, N-(3(trimetoxisilil)propil)-metiluretano, N-(3-(trietoxisilil)propil)-urea, N-(3-(trimetoxisilil)propil)-urea, (3-glicidoxipropil)trietoxisilano o (3-glicidoxi-propil)trimetoxisilano.
-
- 5.
- Procedimiento para la producción de partículas de materiales compuestos de acuerdo con las reivindicaciones 1 hasta 4, caracterizado porque adicionalmente se emplean uno o varios compuestos de silicio etilénicamente insaturados de la fórmula (2) R7SiR802(OR9)1-3, en la que R7 tiene el significado de CH2=CR10-(CH2)0-1 o CH2=CR10CO2(CH2)1-3, R8 tiene el significado de un radical alquilo de C1 a C3, un radical alcoxi de C1 a C3 o un halógeno, R9 es un radical alquilo con 1 a 12 átomos de carbono, eventualmente sustituido, no ramificado o ramificado, o un radical acilo con 2 a 12 átomos de C, pudiendo R9 estar interrumpido eventualmente por un grupo de éter, y R10 representa H o CH3.
-
- 6.
- Procedimiento para la producción de partículas de materiales compuestos de acuerdo con las reivindicaciones 1 hasta 5, caracterizado porque como disolventes se emplean agua, un disolvente orgánico, un disolvente orgánico en combinación con agua, una mezcla de disolventes a base de varios disolventes orgánicos o una mezcla de disolventes a base de varios disolventes orgánicos en combinación con agua.
-
- 7.
- Procedimiento para la producción de partículas de materiales compuestos de acuerdo con las reivindicaciones 1 hasta 6, caracterizado porque adicionalmente se emplean unos poli(alcoholes vínilicos) modificados con silanos, que son obtenibles por tratamiento de polímeros de alcoholes vinílicos con uno o varios compuestos de silicio etilénicamente insaturados de la fórmula (2) R7SiR80-2(OR9)1-3, en la que R7 tiene el significado de CH2=CR10-(CH2)0-1 o CH2=CR10CO2(CH2)1-3, R8 tiene el significado de un radical alquilo de C1 a C3, un radical alcoxi de C1 a C3 o un halógeno, R9 es un radical alquilo con 1 a 12 átomos de C, eventualmente sustituido, no ramificado o ramificado, o un radical acilo con 2 a 12 átomos de C, pudiendo R9 estar interrumpido eventualmente por un grupo de éter, y R10 representa H o CH3, a una temperatura elevada.
-
- 8.
- Partículas de materiales compuestos obtenibles por condensación de a) uno o varios compuestos de silicio de la fórmula general
(RO)nSiR14-n (1), en la que R significa un radical alquilo, arilo o alcoxialquilo con 1 a 20 átomos de carbono, eventualmente sustituido, o un átomo de hidrógeno, R1 significa un radical hidrocarbilo con 1 a 12 átomos de carbono, eventualmente sustituido, o un átomo de hidrógeno, y n adopta un valor de 2 a 4, o�) uno o varios productos de condensación de los compuestos de silicio de la fórmula (1) en un disolvente o una mezcla de varios disolventes, en presencia de uno o varios polímeros solubles, utilizándose como polímeros solubles unos polímeros de ésteres vinílicos con 6 a 15 % en peso de ácidos carboxílicos etilénicamente insaturados y eventualmente con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados; unos polímeros de ésteres vinílicos con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados; unos polímeros de ésteres de ácidos (met)acrílicos con 6 a 15 % en peso de ácidos carboxílicos etilénicamente insaturados y eventualmente con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados; o unos polímeros de ésteres de ácidos (met)acrílicos con 0,3 a 2 % en peso de silanos etilénicamente insaturados, sumándose los datos en % en peso para llegar en cada caso hasta 100 % en peso, realizándose que los polímeros solubles son solubles en el disolvente antes mencionado o en la mezcla antes mencionada de varios disolventes a una temperatura arbitraria situada dentro del intervalo de temperaturas de 1 a 100ºC y a un valor arbitrario del pH situado entre 2 y 12, hasta por lo menos 1 g por litro del disolvente o de la mezcla de disolventes, realizándose que los productos de condensación de los compuestos de silicio a) o los productos de condensación �)o sus productos de condensación, que se han formado en tal caso, se fijan sobre uno o varios polímeros solubles. -
- 9.
- Utilización de las partículas de materiales compuestos de acuerdo con la reivindicación 8 como agentes aglutinantes, agentes aglutinantes concomitantes o como un aditivo para barnices en polvo, agentes de revestimiento, pegamentos o en formulaciones para materiales sintéticos o materiales compuestos.
-
- 10.
- Utilización de las partículas de materiales compuestos de acuerdo con la reivindicación 8 para el tratamiento superficial de materiales sintéticos o naturales, tales como piedras, madera, cuero, papel, materiales textiles o materiales sintéticos.
-
- 11.
- Utilización de las partículas de materiales compuestos de acuerdo con la reivindicación 8 en la producción de alfombras o moquetas.
-
- 12.
- Utilización de las partículas de materiales compuestos de acuerdo con la reivindicación 8, para la producción de capas de barrera.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102008000584 | 2008-03-10 | ||
DE102008000584A DE102008000584A1 (de) | 2008-03-10 | 2008-03-10 | Verfahren zur Herstellung von Kompositpartikeln |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
ES2372909T3 true ES2372909T3 (es) | 2012-01-27 |
Family
ID=40600164
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
ES09718827T Active ES2372909T3 (es) | 2008-03-10 | 2009-02-26 | Procedimiento para la producción de partículas de materiales compuestos. |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9090795B2 (es) |
EP (1) | EP2265663B1 (es) |
JP (1) | JP5389832B2 (es) |
KR (1) | KR101279765B1 (es) |
CN (1) | CN101970545B (es) |
AT (1) | ATE528337T1 (es) |
BR (1) | BRPI0908937A2 (es) |
DE (1) | DE102008000584A1 (es) |
ES (1) | ES2372909T3 (es) |
PL (1) | PL2265663T3 (es) |
RU (1) | RU2516389C2 (es) |
WO (1) | WO2009112370A1 (es) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008000585A1 (de) * | 2008-03-10 | 2009-09-17 | Wacker Chemie Ag | Binderhaltige kolloidale wässrige Organopolysiloxandispersionen und deren Verwendung |
DE102009046664A1 (de) * | 2009-11-12 | 2011-05-19 | Wacker Chemie Ag | Kompositpartikel mit organischen und anorganischen Domänen |
DE102011004361A1 (de) * | 2011-02-18 | 2012-08-23 | Wacker Chemie Ag | Modifizierte Kompositartikel |
CN103298535B (zh) * | 2011-03-25 | 2015-01-28 | 英派尔科技开发有限公司 | 用于纳米粒子污染物的絮凝剂 |
CN105492521B (zh) * | 2013-03-20 | 2017-11-28 | 卡博特公司 | 复合颗粒及其制备方法 |
DE102013224206A1 (de) * | 2013-11-27 | 2015-05-28 | Wacker Chemie Ag | Oberflächenmodifizierte partikuläre Metalloxide |
JP6655785B2 (ja) * | 2014-04-17 | 2020-02-26 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 樹脂組成物およびその製造方法並びに半導体装置 |
CN104497573B (zh) * | 2014-12-02 | 2017-01-11 | 中国科学院化学研究所 | 硅橡胶组合物 |
RU2610512C2 (ru) * | 2015-07-02 | 2017-02-13 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева" (РХТУ им. Д.И. Менделеева) | Редиспергируемый в воде полимерный порошок |
RU2742774C2 (ru) * | 2016-05-24 | 2021-02-10 | БАСФ Коатингс ГмбХ | Покровное средство и полученные из него покрытия с улучшенной устойчивостью к загрязнению и самоочищающимися свойствами и их применение |
RU2717456C1 (ru) | 2016-08-19 | 2020-03-24 | Ваккер Хеми Аг | Комбинированная теплоизоляционная система |
EP3500537A1 (de) | 2016-08-19 | 2019-06-26 | Wacker Chemie AG | Poröser formkörper in gestalt einer dämmputzschicht oder einer dämmplatte |
CN106801337B (zh) * | 2016-12-25 | 2019-07-02 | 佛山市柏丁达家居用品有限公司 | 一种高纳油污擦拭材料的制备方法 |
US10570327B2 (en) * | 2017-11-15 | 2020-02-25 | The Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. | Organic-inorganic composite particles |
WO2020108734A1 (de) | 2018-11-26 | 2020-06-04 | Wacker Chemie Ag | Kompositpartikel mit organischen und anorganischen domänen |
CN113930147B (zh) * | 2021-11-12 | 2023-03-28 | 上海三棵树防水技术有限公司 | 一种硅烷改性脂肪族环氧树脂防水涂料及其制备方法 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1172513A (en) | 1965-11-11 | 1969-12-03 | Ici Ltd | Polymer Coated Particles |
US4421660A (en) | 1980-12-15 | 1983-12-20 | The Dow Chemical Company | Colloidal size hydrophobic polymers particulate having discrete particles of an inorganic material dispersed therein |
US4997859A (en) * | 1989-04-27 | 1991-03-05 | Mobil Oil Corporation | Latex coating composition of multilayered copolymer particles of vinylidene chloride and acrylic comonomers |
JPH03281679A (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-12 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | コーティング用分散液およびその組成物 |
JP3382939B2 (ja) | 1990-12-28 | 2003-03-04 | 三菱レイヨン株式会社 | 透明性に優れた鋳込み重合物およびその製法 |
JP3281679B2 (ja) | 1993-06-30 | 2002-05-13 | 三洋電機株式会社 | 留守番電話装置 |
US5868966A (en) * | 1995-03-30 | 1999-02-09 | Drexel University | Electroactive inorganic organic hybrid materials |
JPH10330488A (ja) | 1997-05-28 | 1998-12-15 | Fujikura Kasei Co Ltd | シリカ被覆樹脂粒子の製造方法 |
JP2000119587A (ja) * | 1998-10-20 | 2000-04-25 | Clariant Polymer Kk | コーティング組成物 |
EP1243619B1 (en) | 1999-08-13 | 2006-03-29 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Organic domain/inorganic domain hybrid material |
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AU2003236287A1 (en) | 2002-06-27 | 2004-01-19 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Organic/inorganic composite ion-conductive film |
JP2004292555A (ja) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Chuo Rika Kogyo Corp | シリコン−アクリル系複合水分散液及びこれを用いたクリアトップコート用塗料 |
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DE102004010155A1 (de) | 2004-02-27 | 2005-09-15 | Basf Ag | Verfahren zur Verbesserung der Lagerstabilität von Kompositpartikel-Dispersionen |
JP2006152144A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Dainippon Ink & Chem Inc | 有機無機ハイブリッド粒子の水性分散体の製造方法 |
DE102005000918A1 (de) | 2005-01-06 | 2006-07-20 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung wässriger Kompositpartikel-Dispersionen |
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DE102005054913A1 (de) | 2005-11-17 | 2007-05-24 | Wacker Polymer Systems Gmbh & Co. Kg | Silan-modifizierte Polyvinylalkohole |
DE102006050336A1 (de) * | 2006-10-25 | 2008-05-08 | Wacker Polymer Systems Gmbh & Co. Kg | Geminitensid enthaltende Dispersionspulverzusammensetzungen |
DE102007038333A1 (de) * | 2007-08-14 | 2009-02-19 | Wacker Chemie Ag | Silan-modifizierte Additive und Silanmodifizierte Polymerzusammensetzungen |
-
2008
- 2008-03-10 DE DE102008000584A patent/DE102008000584A1/de not_active Withdrawn
-
2009
- 2009-02-26 BR BRPI0908937-3A patent/BRPI0908937A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2009-02-26 ES ES09718827T patent/ES2372909T3/es active Active
- 2009-02-26 PL PL09718827T patent/PL2265663T3/pl unknown
- 2009-02-26 AT AT09718827T patent/ATE528337T1/de active
- 2009-02-26 US US12/921,769 patent/US9090795B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-02-26 EP EP09718827A patent/EP2265663B1/de active Active
- 2009-02-26 CN CN2009801086435A patent/CN101970545B/zh active Active
- 2009-02-26 JP JP2010550127A patent/JP5389832B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-02-26 KR KR1020107021570A patent/KR101279765B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2009-02-26 RU RU2010141340/05A patent/RU2516389C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2009-02-26 WO PCT/EP2009/052249 patent/WO2009112370A1/de active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BRPI0908937A2 (pt) | 2015-07-28 |
RU2010141340A (ru) | 2012-09-20 |
EP2265663A1 (de) | 2010-12-29 |
CN101970545A (zh) | 2011-02-09 |
KR20100126769A (ko) | 2010-12-02 |
WO2009112370A1 (de) | 2009-09-17 |
JP2011516629A (ja) | 2011-05-26 |
RU2516389C2 (ru) | 2014-05-20 |
US9090795B2 (en) | 2015-07-28 |
JP5389832B2 (ja) | 2014-01-15 |
US20110015340A1 (en) | 2011-01-20 |
CN101970545B (zh) | 2013-03-20 |
ATE528337T1 (de) | 2011-10-15 |
KR101279765B1 (ko) | 2013-07-04 |
EP2265663B1 (de) | 2011-10-12 |
PL2265663T3 (pl) | 2012-03-30 |
DE102008000584A1 (de) | 2009-09-17 |
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