ES2369767T3 - Sistema de tratamiento de superficie, procedimiento de tratamiento de superficie y producto producido mediante el procedimiento de tratamiento de superficie. - Google Patents

Sistema de tratamiento de superficie, procedimiento de tratamiento de superficie y producto producido mediante el procedimiento de tratamiento de superficie. Download PDF

Info

Publication number
ES2369767T3
ES2369767T3 ES02793568T ES02793568T ES2369767T3 ES 2369767 T3 ES2369767 T3 ES 2369767T3 ES 02793568 T ES02793568 T ES 02793568T ES 02793568 T ES02793568 T ES 02793568T ES 2369767 T3 ES2369767 T3 ES 2369767T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
heat exchanger
surface treatment
deposition layer
support
loading
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
ES02793568T
Other languages
English (en)
Inventor
Cheon-Soo Cho
Dong-Sik Youn
Hyun-Wook Lee
Samchul Ha
Hyun-Woo Jun
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Electronics Inc
Original Assignee
LG Electronics Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Electronics Inc filed Critical LG Electronics Inc
Application granted granted Critical
Publication of ES2369767T3 publication Critical patent/ES2369767T3/es
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28F—DETAILS OF HEAT-EXCHANGE AND HEAT-TRANSFER APPARATUS, OF GENERAL APPLICATION
    • F28F19/00—Preventing the formation of deposits or corrosion, e.g. by using filters or scrapers
    • F28F19/02—Preventing the formation of deposits or corrosion, e.g. by using filters or scrapers by using coatings, e.g. vitreous or enamel coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/568—Transferring the substrates through a series of coating stations
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28F—DETAILS OF HEAT-EXCHANGE AND HEAT-TRANSFER APPARATUS, OF GENERAL APPLICATION
    • F28F2245/00—Coatings; Surface treatments
    • F28F2245/02—Coatings; Surface treatments hydrophilic
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28F—DETAILS OF HEAT-EXCHANGE AND HEAT-TRANSFER APPARATUS, OF GENERAL APPLICATION
    • F28F2245/00—Coatings; Surface treatments
    • F28F2245/04—Coatings; Surface treatments hydrophobic

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

Un sistema de tratamiento de superficie que comprende: una unidad de transporte para cargar y transportar un intercambiador de calor; y una unidad de tratamiento de superficie para formar una capa de deposición sobre una superficie del intercambiador de calor transportada por la unidad de transporte; en el que el intercambiador de calor comprende: un conducto de refrigerante que tiene un paso de refrigerante; y una pluralidad de aletas de transferencia de calor acopladas al conducto de refrigerante.

Description

Sistema de tratamiento de superficie, procedimiento de tratamiento de superficie y producto producido mediante el procedimiento de tratamiento de superficie
Campo técnico
La presente invención versa acerca de un tratamiento de superficie de un producto, y en particular, acerca de un sistema de tratamiento de superficie, de un procedimiento de tratamiento de superficie y de un producto producido mediante el procedimiento de tratamiento de superficie.
Técnica antecedente
En general, un tratamiento de superficie es hacer que una superficie de un producto fabricado de un material tal como un metal tenga buen aspecto, o mejorar una superficie para que tenga una resistencia al calor, una resistencia a la corrosión, una resistencia a la abrasión, etc., de forma que se pueda mejorar una función del producto según una condición de uso del producto.
Por otra parte, un intercambiador de calor utilizado en un acondicionador de aire, en un refrigerador, en un dispositivo de calefacción, etc. es un dispositivo para transmitir calor de un fluido de temperatura elevada/baja a un fluido de temperatura baja/elevada a través de una pared de transferencia de calor. Un estado de la superficie de la pared de transferencia de calor afecta mucho a la eficacia de intercambio de calor del intercambiador de calor, de forma que se puede variar el flujo del fluido según el estado de la superficie en la pared de transferencia de calor.
Por lo tanto, es necesario mejorar las propiedades de la superficie en la pared de transferencia de calor, de forma que se mejore la eficacia de intercambio de calor, y en consecuencia, se producen aletas que construyen el intercambiador de calor al procesar un material de chapa que tiene una superficie que está tratada para tener hidrofilicidad, hidrofobicidad o una resistencia a la corrosión, etc.
Además, el material de chapa para fabricar las aletas que construyen el intercambiador de calor experimenta un procedimiento de tratamiento de superficie que forma una capa de deposición sobre la superficie del material de chapa utilizando una reacción de vapores químicos o una reacción de deposición física en fase de vapor.
La Figura 1 es una vista en planta que muestra un intercambiador general de calor utilizado en un refrigerador.
Como se muestra en la Figura 1, el intercambiador general de calor utilizado en el refrigerador como un ejemplo del intercambiador 10 de calor comprende un conducto 11 de refrigerante que tiene un paso de refrigerante, un par de miembros 12 de fijación para fijar el conducto 11 de refrigerante, y una pluralidad de aletas 13 instaladas de forma fija en el conducto 11 de refrigerante con algunos intervalos entre las mismas para un intercambio de calor.
El refrigerante en flujo a baja temperatura en el conducto 11 de refrigerante del intercambiador 10 de calor enfría el aire que fluye sobre la superficie del intercambiador 10 de calor, y el aire enfriado mantiene las temperaturas de una cámara de enfriamiento o de una cámara de congelación del refrigerador en la temperatura preseleccionada. En general, se generan gotas de rocío en la superficie del intercambiador 10 de calor al enfriar el aire, y las gotas de rocío en la superficie del intercambiador 10 de calor forman hielo. Entonces, el hielo crece cada vez más para estrechar el paso del aire y para reducir el área de contacto entre el aire y la superficie del intercambiador 10 de calor, y de ese modo, se reduce la eficacia del refrigerador.
Por lo tanto, el intercambiador 10 de calor utiliza una pluralidad de aletas 13 después de procesar materiales de plancha que son tratados para tener hidrofilicidad para evitar que las gotas de rocío permanezcan en la aleta 13 del intercambiador 10 de calor, y de ese modo, se puede mejorar la eficacia del refrigerador.
Sin embargo, durante el procedimiento de fabricación de las aletas para el intercambiador de calor a partir de los materiales de chapa de superficie tratada, se pueden dañar la superficie cortada y la capa de deposición, o, cuando las aletas se están ensamblando, pueden generarse algunas partes que no están tratadas y generarse gotas de rocío en esas partes.
Es decir, al miembro, que tiene una superficie tratada para realizar una buena función cuando es utilizado, puede dañársele la superficie durante el procedimiento de fabricación, tal como una fabricación mediante moldeo o una fabricación de ensamblado para convertirse en un producto, o el miembro puede ser unido con otro miembro cuya superficie no está tratada, y en consecuencia, se reduce el efecto de mejora de la función del producto según el tratamiento de superficie.
Revelación de la invención
Por lo tanto, un objeto de la presente invención es proporcionar un sistema de tratamiento de superficie y un procedimiento de tratamiento de superficie mediante el cual se lleva a cabo un tratamiento de superficie masivo, de manera que se puede formar la capa de deposición en superficies completas de miembros que están incluidos en un producto, al tratar superficies de un producto que incluye uno o más miembros para formar la capa de deposición.
Para conseguir el objeto de la presente invención, se proporciona un sistema de tratamiento de superficie que comprende: una unidad de transporte para cargar y transportar un intercambiador de calor; y una unidad de tratamiento de superficie para formar la capa de deposición sobre una superficie del intercambiador de calor transportada por la unidad de transporte; en el que el intercambiador de calor comprende: un conducto de refrigerante que tiene un paso de refrigerante; y una pluralidad de aletas de transferencia de calor acopladas al conducto de refrigerante.
Además, para conseguir el objeto de la presente invención, se proporciona un procedimiento de tratamiento de superficie que comprende: una etapa de transporte para cargar y transportar un intercambiador de calor; y una etapa de formación de la capa de deposición para formar una capa de deposición sobre una superficie del intercambiador de calor; en el que el intercambiador de calor comprende: un conducto de refrigerante que tiene un paso de refrigerante; y una pluralidad de aletas de transferencia de calor acopladas al conducto de refrigerante.
Breve descripción de los dibujos
La Figura 1 es una vista en planta que muestra un intercambiador general de calor utilizado en un refrigerador;
la Figura 2 es una vista esquemática que muestra una estructura de un sistema de tratamiento de superficie según la presente invención; y
la Figura 3 es una vista que muestra un recorrido de transporte de un soporte en el sistema de tratamiento de superficie de la Figura 2.
Modos para llevar a cabo las realizaciones preferentes
Más adelante, se describirán con detalle un sistema de tratamiento de superficie, un procedimiento de tratamiento de superficie y un producto producido mediante el procedimiento de tratamiento de superficie según la presente invención con referencia a las Figuras adjuntas.
La Figura 2 es una vista breve que muestra una estructura del sistema de tratamiento de superficie según la presente invención.
Como se muestra en la misma, el sistema de tratamiento de superficie según la presente invención comprende: una unidad 100 de transporte para cargar y transportar un objeto procesado de tratamiento de superficie construido por uno o más miembros; y una unidad 200 de tratamiento de superficie que forma una capa de deposición sobre la superficie del objeto de tratamiento de superficie transportado por la unidad 100 de transporte.
La unidad 200 de tratamiento de superficie que forma la capa de deposición sobre la superficie del objeto de tratamiento de superficie comprende una cámara 201 de deposición para formar la capa de deposición sobre la superficie del objeto de tratamiento de superficie.
Un procedimiento para formar la capa de deposición sobre la superficie del objeto transportado de tratamiento de superficie puede estar dividido en un procedimiento que forma la capa de deposición utilizando una reacción de deposición química en fase de vapor (CVD), y un procedimiento que forma la capa de deposición utilizando una reacción de deposición física en fase de vapor (PVD).
El procedimiento que forma la capa de deposición utilizando la CVD forma la capa de deposición utilizando una reacción de polimerización de plasma, y el procedimiento que forma la capa de deposición utilizando la PVD forma la capa de deposición utilizando un procedimiento de deposición catódica, etc.
En la realización de la presente invención, se utiliza el procedimiento que forma la capa de deposición utilizando el procedimiento de polimerización de plasma, que es un tipo de reacción de CVD, pero también se puede utilizar el procedimiento de PVD.
Es decir, la cámara 201 de deposición está herméticamente cerrada por un medio 211 de apertura/cierre de la cámara y una junta tórica durante la reacción, y se mantiene un grado de vacío requerido por la reacción de deposición utilizando una bomba 212. Además, la capa de deposición que tiene una cierta propiedad, tal como hidrofilicidad, hidrofobicidad o una resistencia a la corrosión, etc. está formada sobre la superficie del objeto de tratamiento de superficie utilizando la reacción de polimerización de plasma generada por la inyección de gas de reacción en el interior de la cámara 201 de deposición y al aplicar energía eléctrica a los electrodos (no mostrados) instalados en la cámara 201 de deposición. Además, se puede construir, según se necesite, una pluralidad de cámaras 201 de deposición para distintos tratamientos de superficie.
Además, la unidad 200 de tratamiento de superficie incluye una cámara 202 de procesamiento previo para procesar previamente la superficie del objeto de tratamiento de superficie antes de que se forme la capa de deposición sobre la superficie del objeto de tratamiento de superficie, y puede incluir, además, una cámara 203 de recepción para recibir un soporte 101 sobre el que se monta el objeto de tratamiento de superficie.
Además, la unidad 200 de tratamiento de superficie incluye, además, una cámara 204 de procesamiento posterior para procesar posteriormente la superficie del objeto de tratamiento de superficie sobre la que se ha formado la capa de deposición, y puede incluir, además, una cámara 205 de descarga para descargar el soporte 101 sobre el que está montado el objeto de tratamiento de superficie.
Por otra parte, la cámara 203 de recepción, la cámara 202 de procesamiento previo, la cámara 201 de deposición, la cámara de procesamiento posterior y la cámara 205 de descarga que construyen la unidad de tratamiento de superficie están dispuestas de forma secuencial y son abiertas/cerradas mediante el medio de apertura/cierre de la cámara, respectivamente. Y las cámaras están herméticamente cerradas mediante un medio de cierre hermético, tal como una junta tórica.
La unidad 100 de transporte comprende un soporte 101 para cargar el objeto de tratamiento de superficie, y un dispositivo 102 de transporte para transportar el soporte 101.
El soporte 101 puede ser múltiple, y el soporte 101 transporta el objeto de tratamiento de superficie cargado sobre el mismo a lo largo de un recorrido de transporte de la unidad 100 de transporte de forma secuencial.
El dispositivo 102 de transporte utiliza un dispositivo motriz, tal como un motor y una guía, y mueve el soporte 101 de forma secuencial a lo largo del recorrido de transporte.
La Figura 3 es una vista que muestra el recorrido de transporte del soporte en el sistema de tratamiento de superficie según la presente invención.
Como se muestra en la misma, el recorrido de transporte, sobre el que se mueve el soporte, comprende una sección 103 de carga en la que se carga el objeto de tratamiento de superficie sobre los soportes 101, una sección 104 de tratamiento de superficie situada en la unidad 200 de tratamiento de superficie y conectada a la sección 103 de carga, y una sección 105 de recogida conectada entre la sección 104 de tratamiento de superficie y la sección 103 de carga para recoger el objeto de tratamiento de superficie cargado sobre los soportes 101.
Por otra parte, se describirán como sigue las operaciones del sistema de tratamiento de superficie según la presente invención que tiene la anterior estructura.
Para comenzar, el objeto de tratamiento de superficie en la presente invención es un producto procesado utilizando uno o más miembros, y el procedimiento de procesamiento puede estar dividido en una fabricación de ensamblado, una fabricación de moldeo, o una fabricación mecánica, etc.
Además, el objeto de tratamiento de superficie no es un miembro procesado como un producto después de formar la capa de deposición sobre la superficie del miembro, sino un producto procesado utilizando uno o más miembros.
Además, el objeto de tratamiento de superficie es generalmente un material metálico, y especialmente, un intercambiador de calor utilizado en un refrigerador y en un acondicionador de aire puede ser un ejemplo del objeto de tratamiento de superficie.
Es decir, las aletas que son procesadas para ser utilizadas en el intercambiador de calor, o el intercambiador 10 de calor que comprende un conducto 11 de refrigerante que tiene un paso de refrigerante y una pluralidad de aletas 13 acopladas al conducto de refrigerante pueden ser el objeto de tratamiento de superficie.
Además, la capa de deposición formada sobre el objeto de tratamiento de superficie puede tener diversas propiedades tales como hidrofilicidad, hidrofobicidad, una resistencia a la corrosión, una resistencia al calor, una resistencia a la abrasión, etc. según las condiciones en las que se vaya a utilizar el objeto de tratamiento de superficie.
Se describirán las operaciones del sistema de tratamiento de superficie que tienen la anterior estructura como sigue. El objeto de tratamiento de superficie está cargado en una pluralidad de soportes 101 que se mueven de forma secuencial y continua en la sección 103 de carga. Y se hace que se muevan los soportes 101 de forma continua y secuencial por medio del dispositivo 102 de transporte.
El objeto de tratamiento de superficie cargado sobre los soportes 101 llega a la sección 104 de tratamiento de superficie según el movimiento de los soportes 101, y pasa la cámara 203 de recepción y experimenta el procesamiento previo para formar la capa de deposición en la cámara 202 de procesamiento previo, tal como una limpieza, etc.
Se mueve el objeto de tratamiento de superficie que se procesa previamente en la cámara 202 de procesamiento previo hasta la cámara 201 de deposición mediante el movimiento de los soportes 101, y la capa de deposición se forma sobre la superficie del objeto de tratamiento de superficie por medio de una reacción de deposición que está configurada con antelación, de forma que se puede formar la capa de deposición de propiedades requeridas.
El objeto de tratamiento de superficie sobre el que se forma la capa de deposición se mueve hasta la cámara 204 de procesamiento posterior mediante el movimiento de los soportes 101, y experimenta un procedimiento después de forma la capa de deposición en la cámara 204 de procesamiento posterior, y luego, llega a la sección 105 de recogida según pasa la cámara 205 de descarga.
Las cámaras respectivas están herméticamente cerradas mediante el uso de un medio (no mostrado) de apertura/cierre y de un medio de cierre hermético (no mostrado) después de que los soportes 101 entran, y luego, se abren mediante el uso del medio de apertura/cierre después de que se han completado los procedimientos respectivos, para mover los soportes 101.
El objeto de tratamiento de superficie que alcanza la sección 105 de recogida mediante el movimiento de los soportes 101 es recogido por un dispositivo adicional o un dispositivo de recogida añadido, y de ese modo, se completan los procedimientos de tratamiento de superficie para hacer que las propiedades de la superficie sean adecuadas para la condición de uso.
Además, los soportes 101 que no tienen ningún objeto de tratamiento de superficie son movidos hasta la sección 103 de carga por medio del dispositivo 102 de transporte de nuevo para cargar otro objeto de tratamiento de superficie, y son movidos hacia la sección de tratamiento de superficie de nuevo, y de ese modo, se llevan a cabo continuamente los procedimientos de tratamiento de superficie.
Es decir, se pueden llevar a cabo los tratamientos de superficie masivos de forma continua al repetir los procedimientos anteriores. Además, el sistema de tratamiento de superficie comprende un dispositivo de control para controlar los procedimientos respectivos.
Por otra parte, la presente invención proporciona un procedimiento de tratamiento de superficie para tratar una superficie de un producto fabricado utilizando uno o más miembros. Y el procedimiento de tratamiento de superficie según la presente invención comprende una etapa de transporte para cargar y transportar un producto que está producido al fabricar uno o más miembros, y una etapa de formación de la capa de deposición para formar la capa de deposición sobre una superficie del producto transportado utilizando la reacción de deposición.
El procedimiento de tratamiento de superficie puede comprender, además, una etapa de fabricación para producir el producto al acoplar una pluralidad de miembros antes de la etapa de transporte. La etapa de fabricación es una etapa en la que se fabrica un producto al acoplar una pluralidad de miembros mediante un ensamblado, una fabricación mecánica o moldeo.
La etapa de transporte comprende una etapa de carga para cargar el producto sobre los soportes, y una etapa de transporte de los soportes para transportar los soportes. El recorrido de transporte de los soportes comprende una sección de carga para cargar el producto sobre los soportes, una sección de tratamiento de superficie instalada en la unidad de tratamiento de superficie y conectada a la sección de carga, y una sección de recogida conectada entre la sección de tratamiento de superficie y la sección de carga para recoger el producto cargado sobre los soportes. Se transporta la pluralidad de soportes de forma continua y secuencial.
Además, se puede añadir una etapa de procesamiento previo para procesar previamente la superficie del producto antes que la etapa de formación de la capa de deposición, y se puede añadir una etapa de procesamiento posterior para procesar posteriormente el producto sobre el que se forma la capa de deposición después de la etapa de formación de la capa de deposición.
Según la presente invención, el tratamiento de superficie masivo puede llevarse a cabo de forma que la capa de deposición pueda estar formada sobre todas las superficies de los miembros constituidos por el producto al tratar la superficie del producto constituido por uno o más miembros para formar la capa de deposición de forma continua, y de ese modo, el sistema de tratamiento de superficie según la presente invención puede mejorar la productividad.
Además, se puede evitar el daño de la capa de deposición que puede generarse en el procedimiento de fabricación del producto al tratar la superficie del producto fabricado. Además, el producto puede ser adecuado más fácilmente para las condiciones al tratar toda la superficie del producto.
Especialmente, las ventajas de la presente invención pueden ser identificadas al compararlas con el siguiente ejemplo comparativo.
Ejemplo comparativo
Se utilizó el intercambiador de calor que comprende las aletas y el conducto de refrigerante utilizado en el refrigerador mostrado en la Figura 1 como el objeto de tratamiento de superficie. Las relaciones de las aletas y del conducto de refrigerante para toda el área de transferencia de calor fueron de 85% y 15% en toda el área de transferencia de calor, respectivamente.
Se pulverizó agua al intercambiador de calor dotado de aletas que fue fabricado utilizando el miembro de superficie tratada para tener hidrofilicidad, y al intercambiador de calor que tenía la superficie tratada por medio del sistema de tratamiento de superficie según la presente invención, y luego, se midió la cantidad restante de agua sobre las superficies de los intercambiadores de calor después de que pasaron 5 minutos.
5 Hubo 57g de agua restante en el caso del intercambiador de calor dotado de aletas fabricado utilizando el miembro de superficie tratada, y quedaron 37g de agua restante en el caso del intercambiador de calor que esta tratado para ser hidrófilo mediante el sistema de tratamiento de superficie según la presente invención.
Por lo tanto, el producto que tiene la superficie tratada mediante el sistema de tratamiento de superficie según la presente invención puede ser apropiado para la condición de uso de forma más eficaz que el de la técnica
10 convencional.

Claims (26)

  1. REIVINDICACIONES
    1.
    Un sistema de tratamiento de superficie que comprende: una unidad de transporte para cargar y transportar un intercambiador de calor; y una unidad de tratamiento de superficie para formar una capa de deposición sobre una superficie del
    intercambiador de calor transportada por la unidad de transporte; en el que el intercambiador de calor comprende: un conducto de refrigerante que tiene un paso de refrigerante; y una pluralidad de aletas de transferencia de calor acopladas al conducto de refrigerante.
  2. 2.
    El sistema de la reivindicación 1, en el que la unidad de transporte comprende: un soporte para cargar el intercambiador de calor; y un dispositivo de transporte para transportar el soporte.
  3. 3.
    El sistema de la reivindicación 1, en el que la unidad de transporte comprende, además, un recorrido de transporte para transportar el soporte.
  4. 4.
    El sistema de la reivindicación 3, en el que el recorrido de transporte comprende: una sección de carga para cargar el intercambiador de calor sobre el soporte; una sección de tratamiento de superficie instalada en la unidad de tratamiento de superficie y conectada a
    la sección de carga; y una sección de recogida conectada entre la sección de tratamiento de superficie y la sección de carga para recoger el intercambiador de calor cargado sobre el soporte.
  5. 5.
    El sistema de la reivindicación 2, en el que el soporte está construido para ser múltiple, y transportado de forma continua y secuencial.
  6. 6.
    El sistema de la reivindicación 1, en el que la unidad de tratamiento de superficie comprende una cámara de deposición para formar la capa de deposición sobre la superficie del intercambiador de calor utilizando una reacción de CVD.
  7. 7.
    El sistema de la reivindicación 6, en el que la unidad de tratamiento de superficie incluye, además, una cámara de procesamiento previo para procesar previamente la superficie del intercambiador de calor antes de que se forme la capa de deposición sobre la superficie del intercambiador de calor.
  8. 8.
    El sistema de la reivindicación 7, en el que la cámara de procesamiento previo incluye, además, una cámara de recepción para recibir el soporte sobre el que se encuentra el intercambiador de calor.
  9. 9.
    El sistema de la reivindicación 6, en el que la unidad de tratamiento de superficie comprende, además, una cámara de procesamiento posterior para procesar posteriormente la superficie del intercambiador de calor sobre la que está formada la capa de deposición.
  10. 10.
    El sistema de la reivindicación 9, en el que la cámara de procesamiento posterior incluye, además, una cámara de descarga para descargar el soporte sobre el que está cargado el intercambiador de calor procesado posteriormente.
  11. 11.
    Un procedimiento de tratamiento de calor que comprende: una etapa de transporte para cargar y transportar un intercambiador de calor; y una etapa de formación de la capa de deposición para formar una capa de deposición sobre una superficie
    del intercambiador de calor; en el que el intercambiador de calor comprende: un conducto de refrigerante que tiene un paso de refrigerante; y una pluralidad de aletas de transferencia de calor acopladas al conducto de refrigerante.
  12. 12.
    El procedimiento de la reivindicación 11, en el que la capa de deposición está formada utilizando reacciones de deposición química en fase de vapor (CVD).
  13. 13.
    El procedimiento de la reivindicación 12, en el que la reacción de CVD es una reacción de polimerización de plasma.
  14. 14.
    El procedimiento de la reivindicación 11, en el que la capa de deposición está formada utilizando una reacción de deposición física en fase de vapor (PVD).
  15. 15.
    El procedimiento de cualquiera de las reivindicaciones 11-14, que comprende, además, una etapa de procesamiento para producir el intercambiador de calor al acoplar una pluralidad de miembros antes de la etapa de transporte.
  16. 16.
    El procedimiento de la reivindicación 15, en el que el intercambiador de calor está producido al acoplar la pluralidad de miembros utilizando un procedimiento de ensamblaje.
  17. 17.
    El procedimiento de la reivindicación 15, en el que el intercambiador de calor está procesado mediante un procedimiento mecánico.
  18. 18.
    El procedimiento de la reivindicación 15, en el que el intercambiador de calor está procesado mediante un procedimiento de moldeo.
  19. 19.
    El procedimiento de la reivindicación 15, en el que los miembros son materiales metálicos.
  20. 20.
    El procedimiento de la reivindicación 11, en el que la etapa de formación de la capa de deposición forma la capa de deposición que tiene hidrofilicidad sobre una superficie del intercambiador de calor.
  21. 21.
    El procedimiento de la reivindicación 11, en el que la etapa de formación de la capa de deposición forma la capa de deposición que tiene hidrofobicidad sobre una superficie del intercambiador de calor.
  22. 22.
    El procedimiento de la reivindicación 11, en el que la etapa de formación de la capa de deposición forma la capa de deposición que tiene una resistencia a la corrosión sobre una superficie del intercambiador de calor.
  23. 23.
    El procedimiento de la reivindicación 11, en el que la etapa de transporte comprende: una etapa de carga para cargar el intercambiador de calor sobre un soporte; y una etapa de transporte del soporte para transportar el soporte.
  24. 24.
    El procedimiento de la reivindicación 23, en el que el soporte está construido para ser múltiple, y transportado de forma continua y secuencial.
  25. 25.
    El procedimiento de la reivindicación 11, que comprende, además, una etapa de procesamiento previo para procesar previamente la superficie del intercambiador de calor antes de la etapa de formación de la capa de deposición.
  26. 26.
    El procedimiento de la reivindicación 11, que comprende, además, una etapa de procesamiento posterior para procesar posteriormente la superficie del intercambiador de calor sobre la que se forma la capa de deposición después de la etapa de formación de la capa de deposición.
ES02793568T 2002-03-29 2002-12-30 Sistema de tratamiento de superficie, procedimiento de tratamiento de superficie y producto producido mediante el procedimiento de tratamiento de superficie. Expired - Lifetime ES2369767T3 (es)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020020017509A KR20030078454A (ko) 2002-03-29 2002-03-29 표면처리장치와 그 방법 및 표면처리된 제품
KR2002017509 2002-03-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2369767T3 true ES2369767T3 (es) 2011-12-05

Family

ID=28673040

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES02793568T Expired - Lifetime ES2369767T3 (es) 2002-03-29 2002-12-30 Sistema de tratamiento de superficie, procedimiento de tratamiento de superficie y producto producido mediante el procedimiento de tratamiento de superficie.

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20040244686A1 (es)
EP (1) EP1509634B1 (es)
JP (1) JP2005520050A (es)
KR (1) KR20030078454A (es)
AU (1) AU2002359073B2 (es)
ES (1) ES2369767T3 (es)
MX (1) MXPA04001102A (es)
WO (1) WO2003083164A1 (es)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004013306A1 (de) * 2004-03-17 2005-10-06 Behr Gmbh & Co. Kg Beschichtungsverfahren
KR100725098B1 (ko) * 2005-11-17 2007-06-04 삼성전자주식회사 반도체 제조설비의 유량조절기 오동작 감지장치 및 그 방법
US20100206229A1 (en) * 2008-05-30 2010-08-19 Alta Devices, Inc. Vapor deposition reactor system
US8852696B2 (en) * 2008-05-30 2014-10-07 Alta Devices, Inc. Method for vapor deposition
US20100212591A1 (en) * 2008-05-30 2010-08-26 Alta Devices, Inc. Reactor lid assembly for vapor deposition
CN102084460A (zh) * 2008-05-30 2011-06-01 奥塔装置公司 用于化学气相沉积反应器的方法和设备
US8859042B2 (en) * 2008-05-30 2014-10-14 Alta Devices, Inc. Methods for heating with lamps
US9169554B2 (en) * 2008-05-30 2015-10-27 Alta Devices, Inc. Wafer carrier track
US20100209082A1 (en) * 2008-05-30 2010-08-19 Alta Devices, Inc. Heating lamp system
US9121096B2 (en) * 2008-10-10 2015-09-01 Alta Devices, Inc. Concentric showerhead for vapor deposition
TW201043724A (en) 2009-03-16 2010-12-16 Alta Devices Inc Heating lamp system and methods thereof
US9127364B2 (en) 2009-10-28 2015-09-08 Alta Devices, Inc. Reactor clean
KR101904942B1 (ko) * 2011-12-23 2018-10-08 엘지전자 주식회사 플라즈마 증착장치 및 그 제어방법
EP2689048B1 (en) 2011-03-25 2017-05-03 LG Electronics Inc. Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus
KR101904941B1 (ko) * 2011-12-22 2018-10-08 엘지전자 주식회사 플라즈마 증착장치 및 그 제어방법
JP6003778B2 (ja) * 2013-04-03 2016-10-05 株式会社デンソー 熱交換器の製造方法
US10932323B2 (en) 2015-08-03 2021-02-23 Alta Devices, Inc. Reflector and susceptor assembly for chemical vapor deposition reactor
CN111893462B (zh) * 2020-08-05 2022-09-09 上海理想万里晖薄膜设备有限公司 用于cvd设备的方法及相应的cvd设备

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3642188A (en) * 1970-05-20 1972-02-15 Kaiser Aluminium Chem Corp Workpiece handling and conveyor apparatus
JPS61213221A (ja) * 1985-03-19 1986-09-22 Japan Synthetic Rubber Co Ltd プラズマ重合膜の製法
JPS63109174A (ja) * 1986-10-24 1988-05-13 Hitachi Ltd 枚葉式ｃｖｄ装置
JPH0193129A (ja) * 1987-10-02 1989-04-12 Mitsubishi Electric Corp 化学気相成長装置
US5016562A (en) * 1988-04-27 1991-05-21 Glasstech Solar, Inc. Modular continuous vapor deposition system
JP2948842B2 (ja) * 1989-11-24 1999-09-13 日本真空技術株式会社 インライン型ｃｖｄ装置
JPH0449523A (ja) * 1990-06-18 1992-02-18 Denki Kagaku Kogyo Kk 磁気記録媒体の製造法及びその装置
JPH04356695A (ja) * 1991-02-27 1992-12-10 Komatsu Electron Kk 半導体処理液用熱交換器
US5122391A (en) * 1991-03-13 1992-06-16 Watkins-Johnson Company Method for producing highly conductive and transparent films of tin and fluorine doped indium oxide by APCVD
JPH0799321A (ja) * 1993-05-27 1995-04-11 Sony Corp 薄膜半導体素子の製造方法および製造装置
JPH0853752A (ja) * 1994-08-10 1996-02-27 Idemitsu Material Kk 真空成膜装置およびその減圧方法
JPH08337874A (ja) * 1995-06-13 1996-12-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 基材表面被覆層及びその形成方法並びに熱交換器用フィン及びその製造方法。
JP3390579B2 (ja) * 1995-07-03 2003-03-24 アネルバ株式会社 液晶ディスプレイ用薄膜の作成方法及び作成装置
DE59611403D1 (de) * 1995-10-27 2007-01-25 Applied Materials Gmbh & Co Kg Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats
KR19980015505A (ko) * 1996-08-22 1998-05-25 구자홍 플라즈마에 의한 친수성 방열핀 제작장치 및 방법
JPH10140351A (ja) * 1996-11-05 1998-05-26 Kobe Steel Ltd インライン式真空成膜装置
JPH10200211A (ja) * 1997-01-10 1998-07-31 Sony Corp 化合物半導体層の成長方法および気相成長装置
KR19990047370A (ko) * 1997-12-04 1999-07-05 구자홍 표면의 친수성 또는 소수성이 향상된 냉동, 공조용 금속재료 및 그 향상 방법
KR19990069956A (ko) * 1998-02-16 1999-09-06 구자홍 공기조화기용 열교환기의 냉각핀 표면처리방법 및 장치
JPH11250456A (ja) * 1998-02-28 1999-09-17 Shimadzu Corp 磁気ディスク基板の製造装置
WO2001031082A1 (en) * 1999-10-28 2001-05-03 P1 Diamond, Inc. Improved diamond thermal management components
JP2001280879A (ja) * 2000-01-28 2001-10-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光触媒熱交換器およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005520050A (ja) 2005-07-07
EP1509634B1 (en) 2011-08-24
AU2002359073B2 (en) 2005-07-07
KR20030078454A (ko) 2003-10-08
WO2003083164A1 (en) 2003-10-09
MXPA04001102A (es) 2004-05-20
US20040244686A1 (en) 2004-12-09
AU2002359073A1 (en) 2003-10-13
EP1509634A1 (en) 2005-03-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2369767T3 (es) Sistema de tratamiento de superficie, procedimiento de tratamiento de superficie y producto producido mediante el procedimiento de tratamiento de superficie.
TWI285912B (en) Processing apparatus and method of processing apparatus maintenance
JP6298232B2 (ja) 基板冷却を備えた搬送ロボット
JP4684372B1 (ja) 半導体発光素子基板の製造方法
CN104395498A (zh) 使用快速热处理的原子层沉积
US20110290185A1 (en) Substrate cooling device and substrate treatment system
WO2017129109A1 (zh) 一种平行流换热器及空调器
KR100455430B1 (ko) 열교환기 표면처리장비의 냉각장치 및 그 제조방법
JP6869800B2 (ja) エアクーラ、冷凍システム及びエアクーラの除霜方法
CN111288725B (zh) 冲击式隧道速冻机
US20230130873A1 (en) Apparatus for transporting substrate and system for treating substrate with the apparatus
CN111928600A (zh) 一种高效多级烘干系统
KR100486692B1 (ko) 연속처리가 가능한 열교환기 표면처리장치
KR100455427B1 (ko) 오염이 방지되도록 게이트 밸브가 설치되는 열교환기표면처리장치
KR101473176B1 (ko) 열처리 장치
CN101775581B (zh) 热处理腔
CN221464327U (zh) 扩散炉炉口冷却组件
KR100455426B1 (ko) 열교환기 연속 표면처리장비의 2열처리구조
KR101349319B1 (ko) 반도체 공정을 위한 트랜스퍼챔버
KR100455425B1 (ko) 전원공급이 조절되는 열교환기 표면처리장치
KR100455428B1 (ko) 열교환기 연속표면처리장치의 가스플로우 구조
US20070101733A1 (en) Radiation shield for cryogenic pump for high temperature physical vapor deposition
US20120260856A1 (en) Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus and method for controlling the same
KR101473172B1 (ko) 열처리 장치
JP2013133523A (ja) 成膜装置