JP2001280879A - 光触媒熱交換器およびその製造方法 - Google Patents

光触媒熱交換器およびその製造方法

Info

Publication number
JP2001280879A
JP2001280879A JP2000396670A JP2000396670A JP2001280879A JP 2001280879 A JP2001280879 A JP 2001280879A JP 2000396670 A JP2000396670 A JP 2000396670A JP 2000396670 A JP2000396670 A JP 2000396670A JP 2001280879 A JP2001280879 A JP 2001280879A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat exchanger
titanium oxide
thin film
photocatalytic
oxide thin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000396670A
Other languages
English (en)
Inventor
Akiyuki Fujii
映志 藤井
Atsushi Tomosawa
淳 友澤
Hideo Torii
秀雄 鳥井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2000396670A priority Critical patent/JP2001280879A/ja
Publication of JP2001280879A publication Critical patent/JP2001280879A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F8/00Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying
    • F24F8/20Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying by sterilisation
    • F24F8/22Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying by sterilisation using UV light

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 優れた親水性、抗菌性、脱臭性を有する光触
媒熱交換器とその製造方法を提供する。 【解決手段】 冷媒の通路である金属製パイプ49に、
アルミニウムから成るフィンが取り付けられる構造の光
触媒熱交換器において、上記フィン表面が、酸化チタン
薄膜22のみで被覆されていることを特徴とする光触媒
熱交換器。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はエアコン室内機等の
重要部品である熱交換器および熱交換器の製造方法に関
するものであり、冷房運転時の熱交換器フィン上に結露
した水の効率よい排水と熱交換器フィン上での細菌繁殖
防止、および脱臭作用を同時に実現する光触媒熱交換器
およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】エアコン室内機は、冷房運転時において
熱交換器のフィンに結露した水滴が、そのフィンの表面
を流れ落ちてその下部に配置したトレイに集まり、さら
にドレインから流れだして室外に排出される構造になっ
ている。しかしながら、従来、フィンが作られる材料で
あるアルミニウム材等の金属材表面はやや撥水性を示す
ため、結露した水滴のすべてがトレイに集まらず、一部
の水滴がそのまま冷風にのって、冷房風の吹き出し口か
ら吹き出すという不具合が起こることが多かった。
【0003】そこで、室内環境の快適化から、このよう
な不具合を除く目的で、例えばアルミニウムフィンの表
面全面を陽極酸化して親水性化したり、あるいは陽極酸
化の後、さらに親水剤の塗布により親水性処理をするな
どで、アルミニウムフィンの親水性化を実現していた
(例えば、恩田智彦著,電気学会論文誌A,116巻1
2号,1041−1046ページ,1997年発行)。
【0004】しかし、上述の如く、アルミニウムフィン
に親水性処理をした場合においても、例えば新築家屋で
の冷房運転使用の際に、壁紙や接着合板などの室内建材
や種々の家具類に含まれる有機物系の撥水性ガスが、熱
交換器のアルミニウムフィン表面に吸着し、親水性であ
ったアルミニウムフィン表面がしだいに撥水性を示すよ
うになる。ついには熱交換器のフィンが撥水性に変化し
てしまい、結露した水滴が、従来のように熱交換器の表
面からドレインに流れて室外に排出されずに、アルミニ
ウムフィン表面で水滴化して、そのまま風にのって冷房
風の吹き出し口より室内に吹き出し床を濡らすという問
題があった。また、上述の如く、親水性処理したアルミ
ニウムフィンでは、その表面が有機物を吸着しやすいと
いうことから、細菌が繁殖するといった問題もある。
【0005】これらの問題点を解決する方法として、熱
交換器のアルミニウムフィン表面に酸化チタン微粒子を
含有した被膜をバインダーとともに形成した構成の熱交
換器が提案されている(例えば、特開平10−2209
78号公報参照)。具体的には、図9に示すように、ア
ルミニウムフィンの本体部51の表面に、耐食性被膜5
2と、酸化チタン微粒子53及びバインダー54から成
る被膜55とが順に形成され、酸化チタン微粒子53に
紫外光を照射した際に、酸化チタン微粒子53の表面で
発生する光触媒作用の超親水性および、酸化チタンの表
面で有機物を分解するという抗菌性を利用して、上記課
題を解決せんとするものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ここで、上記熱交換器
が超親水性や抗菌性を示すのは、水分や有機物が紫外線
照射の下で酸化チタンと接触した場合に限定される。し
かしながら、上記熱交換器においては、被膜55は酸化
チタン微粒子53のみならずバインダー54をも含んで
いるため、被膜55の表面に存在する酸化チタンの表面
積が小さくなる。この結果、上記構成の熱交換器では、
酸化チタンが有する光触媒特性を十分利用することがで
きないという課題がある。
【0007】また、酸化チタンは、光触媒作用として臭
気ガスを分解すると言った脱臭性も有しているが、高濃
度の臭気ガスを分解するためには、臭気ガスと酸化チタ
ンとの接触面積を大きくしなくてはならない。ところ
が、上記の如く、被膜55の表面に存在する酸化チタン
の表面積が小さいため、上記構成では十分な脱臭性能が
得られないのが現状である。
【0008】本発明は、このような従来の問題点を解消
するもので、エアコンの冷房運転時の冷房風吹き出し口
からの水滴吹き出し現象および熱交換器のフィン上での
細菌繁殖を防ぎ、かつ優れた脱臭機能も併せ持つエアコ
ン等の光触媒熱交換器およびその製造方法を提供するこ
とを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の光触媒熱交換器は、冷媒の通路である金属
製パイプに、伝導性金属材料から成るフィンが取り付け
られる構造の光触媒熱交換器において、上記フィン表面
が、酸化チタン薄膜のみで被覆されていることを特徴と
する。上記の如く、熱交換器のフィン表面が、バインダ
ーを全く含まず酸化チタン薄膜のみで被覆する構成とす
れば、表面には酸化チタンのみが存在することになり、
水分、有機物、及び臭気ガスと酸化チタンとの接触面積
が格段に大きくなる。したがって、酸化チタンが有する
光触媒特性を十分利用することができるので、親水性、
抗菌性及び脱臭性が飛躍的に向上する。
【0010】また、請求項2の発明は、請求項1記載の
発明において、上記酸化チタン薄膜の表面凹凸が、0.
05μm以上であることを特徴とする。このように、酸
化チタン薄膜の表面凹凸を規制するのは、酸化チタン薄
膜の表面凹凸が0.05μm以上であれば、凹凸が大き
くなることによって、酸化チタンの表面積が大きくなっ
て、親水性、抗菌性及び脱臭性を更に向上させることが
できるからである。
【0011】また、請求項3の発明は、請求項1又は2
記載の発明において、上記酸化チタン薄膜がアナターゼ
型結晶相を主成分とすることを特徴とする。このよう
に、酸化チタン薄膜がアナターゼ型結晶相を主成分とす
ることが望ましいのは、アナターゼ型結晶相以外の結晶
相(ルチル型結晶相、ブルーカイト型結晶相)である
と、酸化、還元反応が円滑に進行しない場合があって、
光触媒特性を十分利用することができないことがあるの
に対して、アナターゼ型結晶相であれば、酸化、還元反
応が円滑に進行し、光触媒特性を十分利用することがで
きるという理由による。
【0012】また、請求項4の発明は、請求項1、2又
は3記載の発明において、上記熱伝導性金属材料から成
るフィンがアルミニウムから成ることを特徴とする。こ
のように、熱伝導性金属材料から成るフィンがアルミニ
ウムから構成されていれば、熱伝導性に優れ、軽量で、
しかも安価であるという利点がある。
【0013】また、請求項5の発明は、請求項1、2、
3又は4記載の発明において、上記酸化チタン薄膜の膜
厚が0.2〜2μmであることを特徴とする。このよう
に酸化チタン薄膜の膜厚を規制するのは、酸化チタン薄
膜の膜厚が0.2μm未満では、酸化チタン薄膜の膜厚
が小さくて、酸化チタンの光触媒特性が低下する一方、
酸化チタン薄膜の膜厚が2μmを超えると、光触媒熱交
換器の熱交換効率が低下したり、酸化チタン薄膜に応力
が溜まって酸化チタン薄膜が剥離し易くなったり、酸化
チタン薄膜の形成に長時間を要するのでコストアップを
招来する等の課題が生じることがあるからである。但
し、フィンの全ての部分で酸化チタン薄膜の膜厚が上記
範囲に入っている必要はなく、紫外線の届く範囲(フィ
ンの高さの約半分程度)で酸化チタン薄膜の膜厚が上記
範囲に入っていれば良い。
【0014】また、請求項6の発明は、請求項1、2、
3、4又は5記載の発明において、上記酸化チタン薄膜
が、柱状構造を有することを特徴とする。また、上記の
目的を達成するために本発明の光触媒熱交換器の製造方
法は、冷媒の通路である金属製パイプに伝導性金属材料
から成るフィンが取り付けられた熱交換器をプラズマ中
に導入する第1ステップと、上記プラズマ中でチタンを
含む化合物の蒸気と酸素とを分解・反応させることによ
り、上記フィン表面上を酸化チタン薄膜のみで被覆する
第2ステップとを有することを特徴とする。このよう
に、プラズマCVD法で酸化チタン薄膜を形成すると、
低温で酸化チタン薄膜を形成することができるので、フ
ィンに対するヒートショックを小さくしつつ、アナター
ゼ型の酸化チタン薄膜を形成することが可能となる。
【0015】さらに、上記の目的を達成するために本発
明の光触媒熱交換器の製造方法は、冷媒の通路である金
属製パイプに伝導性金属材料から成るフィンが取り付け
られた熱交換器に、大気中で、原料ガスであるチタンを
含む化合物の蒸気を、熱交換器のフィン表面に対して平
行に流れるように供給することにより、上記フィン表面
上を酸化チタン薄膜のみで被覆することを特徴とする。
このように、常圧CVD法で酸化チタン薄膜を形成する
と、高速で酸化チタン薄膜を形成することができるの
で、フィンに対するヒートショックを小さくしつつ、ア
ナターゼ型の酸化チタン薄膜を形成することが可能とな
る。また、減圧する必要がないため、非常に簡便な装置
で良いと言ったコスト的なメリットもある。
【0016】また、請求項9の発明は、請求項8記載の
発明において、原料ガスを供給する際に用いる原料ガス
供給手段と、排気の際に用いる排気手段が、熱交換器を
挟んで互いに対峙する側に配置されたことを特徴とす
る。このような構成とすることにより、原料ガスをアル
ミフィン表面に対して平行方向に流しながら酸化チタン
薄膜を形成することができる。従来の常圧CVD法によ
れば、原料ガスは基材表面に対して垂直方向を中心とし
て様々な角度の流れを有していたため、アナターゼ型酸
化チタン薄膜を形成するには、基材を400℃以上に加
熱する必要があった。(例えば、特開平10−1523
96、および、ジャーナル・オブ・マテリアル・サイエ
ンス・レターズ、1990年9巻316〜319ページ
[K. Kamata et al.: Journal of Material Science L
etters9 (1990) 316-319 ]参照)。しかしながら、本
発明のように原料ガスを平行方向に流す構成とすること
により、400℃以下の低温でのアナターゼ型酸化チタ
ン薄膜の形成が可能となる。
【0017】また、請求項10の発明は、請求項7、
8、又は9記載の発明において、上記チタンを含む化合
物が、金属アルコキシド又はβ−ジケトン金属錯体であ
ることを特徴とする。また、請求項11の発明は、請求
項7、8、9又は10記載の発明において、上記熱伝導
性金属材料から成るフィンがアルミニウムから成ること
を特徴とする。このように、フィンがアルミニウムから
構成されていれば、請求項4で記載した内容と同様の利
点がある。
【0018】また、請求項12の発明は、請求項7又は
8記載の発明において、上記酸化チタン薄膜を形成する
際の、アルミニウムフィンの加熱温度が300℃以下で
あることを特徴とする。このような温度に規制するの
は、アルミニウムフィンの加熱温度が300℃を超える
と、アルミニウムフィンが変形する等の問題を生じるか
らである。
【0019】
【発明の実施の形態】本発明の形態を、図1〜図7に基
づいて、以下に説明する。図1は本発明の光触媒熱交換
器を用いたエアコンの室内ユニット内部の側面概略図、
図2は本発明の光触媒熱交換器の斜視図、図3は本発明
の光触媒熱交換器のアルミニウムフィンの断面図、図4
は本発明の光触媒熱交換器の製造に用いるプラズマCV
D装置、図5は本発明の製造方法であるプラズマCVD
装置で酸化チタン薄膜を形成する際の熱交換器周りの斜
視図、図6は本発明の光触媒熱交換器の製造に用いる常
圧CVD装置、図7は本発明の製造方法である常圧CV
D装置で酸化チタン薄膜を形成する際の熱交換器周りの
斜視図である。
【0020】図1に示すように、室内ユニット11内に
は、光触媒熱交換器12と、紫外線ランプ(15W;ピ
ーク波長365nm)13と、送風機14とが設けられ
ている。上記光触媒熱交換器12は、図2に示すよう
に、冷媒の通路である金属製パイプ49にアルミニウム
フィン21が一定間隔を置いて平行に多数取り付けられ
た構造である。また、図3に示すように、上記アルミニ
ウムフィン21は、アルミニウムから成る本体部23の
表面が酸化チタン薄膜22で被覆されている構造であ
る。
【0021】ここで、上記室内ユニット11において、
室内の空気は矢印に示したように、室内ユニット11の
上部から光触媒熱交換器12を通り、さらに送風機14
を通った後、室内ユニット11の下部から室内に吐出さ
れる。また、紫外線ランプ13を点灯させておくことに
より、光触媒熱交換器12のアルミニウムフィン21表
面に形成した酸化チタン薄膜22に接触した室内の空気
に含まれる臭気ガスが、光触媒作用により分解され脱臭
が行われる。更に、酸化チタン薄膜22は、超親水性や
抗菌性も有するため、アルミニウムフィン21表面に水
滴が生成し、そのまま風にのって吹き出し口より室内に
吹き出し床を濡らすという問題や、アルミニウムフィン
21表面に吸着した有機物などにより細菌が繁殖すると
いった問題が発生するのを阻止できる。
【0022】次に、熱交換器35のアルミニウムフィン
21における本体部23表面へ、酸化チタン薄膜22を
形成するためのプラズマCVD装置の構成及びこの装置
によって光触媒熱交換器12を製造する方法について説
明する。先ず、図4のプラズマCVD装置は、反応室3
1と予備加熱室32および排気系33から構成されてい
る。反応室31内には、高周波(13.56MHz)電源38が
接続された電極37と原料ガス供給ノズル39が設けら
れ、予備加熱室32には熱交換器35を加熱するための
赤外線加熱ランプ34・34が設けられている。上記原
料ガス供給ノズル39には、出発原料46であるチタニ
ウムテトライソプロポキシド[Ti(O-i-C3H7)4 ]が溜め
られた気化器40と酸素ボンベ45とが接続され、上記
気化器40には窒素ボンベ44が接続される構造となっ
ている。
【0023】上記プラズマCVD装置を用いて光触媒熱
交換器12を製造するには、搬送機構を有するホルダー
36に固定された熱交換器35を、先ず、予備加熱室3
2で赤外線加熱ランプ34・34により250(℃)に
加熱した後、反応室31に搬送する。この際、原料ガス
供給バルブ41を開けて、気化器40内で所定の温度に
加熱された出発原料46であるチタニウムテトライソプ
ロポキシド[Ti(O-i-C 3H7)4 ]の蒸気を、あらかじめ減
圧にしておいた反応室31内に導入する。この出発原料
46の導入は、上記原料ガス供給バルブ41と共にキャ
リアガス供給バルブ42を開け、窒素キャリアを窒素ボ
ンベ44から気化器40内に導入することにより行われ
る。これと並行して、酸素供給バルブ43も開け、酸素
ボンベ45から酸素も反応室31内に導入する。そして
高周波電源38により、電極37上にプラズマを発生さ
せ、図5に示すように、熱交換器35を搬送させながら
アルミニウムフィン21における本体部23の表面上に
酸化チタン薄膜22を形成し、これにより光触媒熱交換
器12を作製した。尚、上記プラズマCVD法による酸
化チタン薄膜22形成時の条件は、以下の通りである。
【0024】出発原料の気化温度:100(℃) キャリアガス流量:3000(SCCM) 酸素流量:1000(SCCM) rfパワー:500W 真空度:0.1(Torr) 搬送速度:10mm/分
【0025】次に、熱交換器35のアルミニウムフィン
21における本体部23表面へ、酸化チタン薄膜22を
形成するための常圧CVD装置の構成及びこの装置によ
って光触媒熱交換器12を製造する方法について説明す
る。図6の常圧CVD装置は、反応室61と予備加熱室
62および排気系63から構成されている。反応室61
内には原料ガスノズル66が設けられ、予備加熱室62
には熱交換器35を加熱するための赤外線加熱ランプ6
4・64が設けられている。上記原料ガス供給ノズル6
6には、出発原料67であるチタンテロライソプロポキ
シドが入れられた気化器68が接続され、上記気化器6
8には窒素ボンベ71が接続された構造となっている。
【0026】上記常圧CVD装置を用いて光触媒熱交換
器12を製造するには、搬送構造を有するホルダー65
に固定された熱交換器35を、まず予備加熱室62で赤
外線ランプ64・64により、250℃に加熱した後、
反応室61に搬送する。この際、原料ガス供給バルブ6
9を開けて、気化器68で所定温度に加熱された出発原
料67であるチタンテトライソプロポキシドの蒸気を、
反応室61に導入する。この出発原料67の導入は、上
記原料ガス供給バルブ69と共にキャリアガス供給バル
ブ70を開け、窒素キャリアを窒素ボンベ71から気化
器68内に導入することにより行われる。そして、排気
系63より原料ガスを排気することにより、熱交換器の
アルミニウムフィン表面に対して平行方向にガスを流
す。そして、熱交換器35を搬送させながらアルミニウ
ムフィン21における本体部23の表面上に酸化チタン
薄膜22を形成し、これにより光触媒熱交換器12を作
製した。なお、上記常圧CVD法による酸化チタン薄膜
22形成時の条件は、以下の通りである。 出発原料の気化温度:110(℃) キャリアガス流量:10(LSM) 真空度:760(Torr) 搬送速度:50mm/分
【0027】
【実施例】(実施例1)実施例1としては、上記発明の
実施の形態に示すプラズマCVD報により作製した光触
媒熱交換器と同様のものを用いた。このようにして作製
した光触媒熱交換器を、以下、本発明熱交換器A1と称
する。
【0028】(実施例2)実施例2としては、上記発明
の実施の形態に示す常圧CVD報により作製した光触媒
熱交換器と同様のものを用いた。このようにして作製し
た光触媒熱交換器を、以下、本発明熱交換器A2と称す
る。
【0029】(比較例1)比較例1としては、図9に示
した構成の従来の光触媒熱交換器を用いた。具体的な製
造方法としては、アルミニウムフィンの本体部51の表
面上に耐食性被膜52を塗布して形成し、さらにアナタ
ーゼ型結晶構造を有する酸化チタン微粒子53を含有し
たバインダー54を塗布した後(厚み:2μm )、15
0℃で乾燥させる。そして、このようにして作製したア
ルミニウムフィンを金属製パイプに一定間隔を置いて平
行に多数取り付けることにより従来の光触媒熱交換器を
作製した。このようにして作製した光触媒熱交換器を、
以下、比較熱交換器B1と称する。
【0030】(比較例2)比較例2としては、アルミニ
ウムフィンの表面に酸化チタン薄膜を形成しない他は、
上記実施例と同様にして熱交換器を作製した。このよう
にして作製した熱交換器を、以下、比較熱交換器B2と
称する。
【0031】(実験1)上記本発明熱交換器A1および
A2のアルミニウムフィンの一部分を切り出して、膜厚
測定、X線解析、SEM分析を行った。その結果アルミ
ニウムフィン上に形成された酸化チタン薄膜の膜厚は本
発明熱交換器A1が0.9μm、本発明熱交換器A2が
0.5μmでいずれもアナターゼ型結晶構造単相膜であ
った。また酸化チタン薄膜は柱状構造を有しており、表
面凹凸は本発明熱交換器A1が0.1〜0.3μm、本
発明熱交換器A2が0.08〜0.2μmであることが
認められた。
【0032】(実験2)上記本発明熱交換器A1、A
2、及び上記比較熱交換器B1のフィンの一部分を切り
出して〔サイズ(20mm×40mm)〕、各試料を作
製した後、これら試料の水滴の接触角を測定することに
より、親水性の評価を行った。なお、親水性の評価は、
紫外線領域の蛍光灯光源(15W;ピーク波長365n
m)を用いて、照射距離25cmで各試料を10分間照
射した後、一定時間経過ごとに、各試料の平滑な表面の
上部にマイクロシリンダを用いて超純水1マイクロリッ
トル(μl)を滴下し、超純水の接触角を接触角計を用
いて測定するというものである。
【0033】その結果、本発明熱交換器A1におけるフ
ィンの接触角は、経過時間測定開始の直後が0゜であ
り、12時間後が4゜、36時間後でも8゜であり、強
い親水性を示した。また、本発明熱交換器A2における
フィンの接触角は、経過時間測定開始の直後が0゜であ
り、12時間後が5゜、36時間後でも9゜であり、強
い親水性を示した。これらの結果に対し、比較熱交換器
B1におけるフィンの接触角は経過時間測定開始の直後
が2゜であり、12時間後が7゜、36時間後には12
゜であり、親水性に劣ることが認められた。
【0034】(実験3)上記本発明熱交換器A1、A2
及び上記比較熱交換器B1、B2のフィンの一部分を切
り出して〔サイズ(10mm×10mm)〕、各試料を
作製した後、これら試料における抗菌性の評価を行っ
た。具体的な評価方法は、滅菌したガラスシャーレを3
個準備し、それぞれのシャーレにアルコールで十分に洗
浄した各試料を入れて、湿度90%で温度25℃に保持
した恒温糟に入れ、大腸菌を同量(約10万個)ずつ、
上記各試料上に滴下して3時間保持した後、各試料上の
大腸菌の量を測定することによって行った。なお、上記
恒温糟中には、5Wの蛍光灯が設置してあり、シャーレ
中の試料に光が照射されるようになっている。その結
果、比較熱交換器B2では大腸菌数が約8万個まで、比
較熱交換器B1では約1000個までしか減少していな
いのに対して、本発明熱交換器A1の場合は約100個
まで減少し、A2の場合は約200個まで減少している
ことが認められた。
【0035】(実験4)上記本発明熱交換器Aを用いた
エアコンの室内機及び上記比較熱交換器B1を用いたエ
アコンの室内機(共に、図1に示す構造のもの)による
脱臭性能の評価を行った。具体的な評価方法は、両熱交
換器A、B1を用いたエアコンの室内機、それぞれ、高
さ2m、幅4m、奥行4mの大きさで室温28℃の気密
実験室(100ppmの濃度のアセトアルデヒドを充
填)内に設置して、温度を20℃に設定し、湿度を40
%に保持しつつ冷房運転を行い、アセトアルデヒドの光
分解性能を測定することにより行った。なお、通常室外
の出す除湿の結露水のドレインは、実験室の気密を確実
にするために、気密実験室内にもうけたポリタンク内に
ドレインのホースを導いた。
【0036】その結果、比較熱交換器B1を用いたエア
コンの室内機では、約30分後のアセトアルデヒドの濃
度は70ppm、1時間後に30ppmであり、2時間
後になって初めてアセトアルデヒドの濃度はゼロとなっ
て検出されなくなった。これに対して、本発明熱交換器
A1では約30分後のアセトアルデヒドの濃度は40p
pmであり、1時間後にはアセトアルデヒドの濃度はゼ
ロとなり検出されなくなり、また、本発明熱交換器A2
では約30分後のアセトアルデヒドの濃度は50ppm
であり、1時間後にはアセトアルデヒドの濃度はゼロと
なり検出されなくなった。以上の実験2〜4の結果か
ら、本発明の光触媒熱交換器が優れた親水性、抗菌性お
よび脱臭性を有することがわかった。
【0037】(実験5)プラズマCVD装置を用いて光
触媒熱交換器を製造する際に、ホルダーに固定された熱
交換器の搬送速度を、10〜110mm/分と変化させ
る他は、前記発明の実施の形態と同様の条件で酸化チタ
ン薄膜を作製することにより、膜厚の異なる酸化チタン
薄膜を備えた光触媒熱交換器を作り、上記実験4に示す
方法と同様の方法で脱臭性能の評価を行った。また、常
圧CVD装置を用いた場合においても、同様に、ホルダ
ーに固定された熱交換器の搬送速度を、30〜250m
m/分と変化させる他は、前記発明の実施の形態と同様
の条件で酸化チタン薄膜を作製することにより、膜厚の
異なる酸化チタン薄膜を備えた光触媒熱交換器を作り、
上記実験4に示す方法と同様の方法で脱臭性能の評価を
行った。結果を図8に示す。
【0038】図8から明らかなように、プラズマCVD
法、および常圧CVD法のいずれの方法で作製した場合
においても、酸化チタン薄膜の膜厚が0.2μm以上で
あれば、優れた脱臭性能を有する光触媒熱交換器を得ら
れることが分かる。
【0039】(その他の事項) (1)上記実施例においては、酸化チタン薄膜の結晶構
造はアナターゼ型単相であったが、これに限られるもの
ではなく、例えばルチル型の結晶構造を含んでいるもの
であっても同様に優れた効果が得られた。 (2)上記実施例においては、酸化チタン薄膜を形成す
る際のフィンの加熱温度を250℃としたが、これに限
るものではなく、300℃以下であれば同様に優れた結
果が得られた。また、このように300℃以下で酸化チ
タン薄膜を形成すれば、柱状構造を有する酸化チタン薄
膜が得られ易く、500℃では柱状構造を有する酸化チ
タン薄膜が得られないということを実験により確認し
た。
【0040】(3)上記実施例においては、酸化チタン
薄膜の表面凹凸が0.1〜0.3μmであったが、これ
に限られるものではなく0.05μm以上であれば同様
の優れた結果が得られた。 (4)上記実施例においては、チタンを含む化合物にチ
タニウムテトライソプロポキシドを用いたが、これに限
るものではなく、例えば他の金属アルコキシドであるチ
タニウムテトラノルマルブトキシド [Ti(O-n-C2H9)4]、
テトラエチルオルトチタナート [Ti(OC2H5)4] 、テトラ
エチルオルトチタナート [Ti(OC2H5)4] 、テトラノルマ
ルプロピルオルトチタナート [Ti(O-n-C2H5)4]など、ま
たβ−ジケトン金属錯体であるチタニウムジビパロイル
メタン [TiO(C11H19O2)2又はTi( O-i-C3H7)(C11H19O2)
4 ] 、チタニウムアセチルアセトナート [TiO(C5H
7O2)2] であれば同様に優れた結果が得られた。
【0041】(5)上記実施例においては、光触媒熱交
換器の熱伝導性金属材料としてアルミニウムを用いた
が、これに限るものではなく、ステンレス、チタン、ク
ロム、ニッケル、銅等を用いても同様に優れた結果が得
られた。 (6)本発明の光触媒熱交換器は、エアコンに限らず、
冷蔵庫、除湿器、自動車など熱交換器を有するすべての
機器に応用できるものである。
【0042】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の光触媒熱交換器は、熱交換器のフィン表面を酸化チタ
ン薄膜のみで被覆した構成であるため、従来の酸化チタ
ン微粒子をバインダーを用いて被覆した場合と比較し
て、優れた親水性、抗菌性さらには脱臭特性を有すると
いった効果を奏する
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光触媒熱交換器を用いたエアコンの室
内ユニット内部の側面概略図。
【図2】本発明の光触媒熱交換器の斜視図
【図3】本発明の光触媒熱交換器のアルミニウムフィン
の断面図。
【図4】本発明の光触媒熱交換器の製造に用いるプラズ
マCVD装置。
【図5】本発明の製造方法であるプラズマCVD装置で
酸化チタン薄膜を形成する際の熱交換器周りの斜視図。
【図6】本発明の光触媒熱交換器の製造に用いる常圧C
VD装置。
【図7】本発明の製造方法である常圧CVD装置で酸化
チタン薄膜を形成する際の熱交換器周りの斜視図。
【図8】アセトアルデヒド濃度と酸化チタン薄膜の膜厚
との関係を示すグラフ。
【図9】従来の光触媒熱交換器のフィンの断面図。
【符号の説明】
11:エアコンの室内ユニット 12:光触媒熱交換器 13:紫外線ランプ 14:送風機 21:アルミニウムフィン 22:酸化チタン薄膜 23:本体部 31:反応室 32:予備加熱室 33:排気系 34:赤外線加熱ランプ 35:熱交換器 36:搬送機構を有するホルダー 37:電極 38:高周波電源 39:原料ガス供給ノズル 40:気化器 41:原料ガス供給バルブ 42:キャリアガス供給バルブ 43:酸素供給バルブ 44:窒素ボンベ 45:酸素ボンベ 46:出発原料 47:マスフローコントローラー 48:マスフローコントローラー 49:金属製パイプ 61:反応室 62:予備加熱室 63:排気系 64:赤外線加熱ランプ 65:搬送機構を有するホルダー 66:原料ガス供給ノズル 67:出発原料 68:気化器 69:原料ガス供給バルブ 70:キャリアガス供給バルブ 71:窒素ボンベ 72:マスフローコントローラー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鳥井 秀雄 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 4G069 AA08 AA11 BA04A BA04B BA48A CA17 EA07 EC22X EC22Y EE04

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】冷媒の通路である金属製パイプに、伝導性
    金属材料から成るフィンが取り付けられる構造の光触媒
    熱交換器において、上記フィン表面が、酸化チタン薄膜
    のみで被覆されていることを特徴とする光触媒熱交換
    器。
  2. 【請求項2】上記酸化チタン薄膜の表面凹凸が、0.0
    5μm以上である、請求項1記載の光触媒熱交換器。
  3. 【請求項3】上記酸化チタン薄膜がアナターゼ型結晶相
    を主成分とする、請求項1又は2記載の光触媒熱交換
    器。
  4. 【請求項4】上記熱伝導性金属材料から成るフィンがア
    ルミニウムから成る、請求項1、2又は3記載の光触媒
    熱交換器。
  5. 【請求項5】上記酸化チタン薄膜の膜厚が0.2〜2μ
    mである、請求項1、2、3又は4記載の光触媒熱交換
    器。
  6. 【請求項6】上記酸化チタン薄膜が、柱状構造を有す
    る、請求項1、2、3、4又は5記載の光触媒熱交換
    器。
  7. 【請求項7】冷媒の通路である金属製パイプに伝導性金
    属材料から成るフィンが取り付けられた熱交換器をプラ
    ズマ中に導入する第1ステップと、 上記プラズマ中でチタンを含む化合物の蒸気と酸素とを
    分解・反応させることにより、上記フィン表面上を酸化
    チタン薄膜のみで被覆する第2ステップと、 を有することを特徴とする光触媒熱交換器の製造方法。
  8. 【請求項8】冷媒の通路である金属製パイプに伝導性金
    属材料から成るフィンが取り付けられた熱交換器に、原
    料ガスであるチタンを含む化合物の蒸気を、大気中で、
    熱交換器のフィン表面に対して平行に流れるように供給
    することにより、上記フィン表面上を酸化チタン薄膜の
    みで被覆することを特徴とする光触媒熱交換器の製造方
    法。
  9. 【請求項9】原料ガスを供給する際に用いる原料ガス供
    給手段と、排気の際に用いる排気手段とが、熱交換器を
    挟んで互いに対峙する側に配置される、請求項8記載の
    光触媒熱交換器の製造方法。
  10. 【請求項10】上記チタンを含む化合物が、金属アルコ
    キシド又はβ−ジケトン金属錯体である、請求項7、
    8、又は9記載の光触媒熱交換器の製造方法。
  11. 【請求項11】上記熱伝導性金属材料から成るフィンが
    アルミニウムから成る、請求項7、8、9又は10記載
    の光触媒熱交換器の製造方法。
  12. 【請求項12】上記酸化チタン薄膜を形成する際の、ア
    ルミニウムフィンの加熱温度が300℃以下である、請
    求項7、8、9、10又は11記載の光触媒熱交換器の
    製造方法。
JP2000396670A 2000-01-28 2000-12-27 光触媒熱交換器およびその製造方法 Pending JP2001280879A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000396670A JP2001280879A (ja) 2000-01-28 2000-12-27 光触媒熱交換器およびその製造方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000-20886 2000-01-28
JP2000020886 2000-01-28
JP2000396670A JP2001280879A (ja) 2000-01-28 2000-12-27 光触媒熱交換器およびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001280879A true JP2001280879A (ja) 2001-10-10

Family

ID=26584421

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000396670A Pending JP2001280879A (ja) 2000-01-28 2000-12-27 光触媒熱交換器およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001280879A (ja)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005520050A (ja) * 2002-03-29 2005-07-07 エルジー エレクトロニクス インコーポレイティド 表面処理システム及び表面処理方法並びに表面処理された製品
KR100735950B1 (ko) * 2004-04-06 2007-07-06 엘지전자 주식회사 초친수성 금속제품의 제조방법 및 초친수성을 갖는 금속제품
JP2008106974A (ja) * 2006-10-24 2008-05-08 Locus:Kk 熱交換器
KR100836055B1 (ko) * 2006-11-03 2008-06-09 엘지전자 주식회사 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막 및 그 제조방법
KR100892456B1 (ko) * 2007-08-20 2009-04-10 엘지전자 주식회사 내식성 및 초친수성 금속 제품
JP2009127977A (ja) * 2007-11-27 2009-06-11 Toshiba Corp 冷蔵庫
US7790246B2 (en) * 2004-12-30 2010-09-07 Lg Electronics Inc. Ultra hydrophilic Ti-O-C based nano film and fabrication method thereof
WO2014162700A1 (ja) * 2013-04-03 2014-10-09 株式会社デンソー 熱交換器の製造方法および熱交換器
CN110573826A (zh) * 2017-06-06 2019-12-13 松下知识产权经营株式会社 形成有防污覆盖膜的热交换器
CN112378012A (zh) * 2020-11-11 2021-02-19 四川盖亚影院有限公司 一种影院新风系统用负离子发生设备
US20220009806A1 (en) * 2020-07-07 2022-01-13 Hamilton Sundstrand Corporation Water system component
US11746241B2 (en) 2020-01-14 2023-09-05 Hamilton Sundstrand Corporation Antifungal/antibacterial hydrophilic coating

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005520050A (ja) * 2002-03-29 2005-07-07 エルジー エレクトロニクス インコーポレイティド 表面処理システム及び表面処理方法並びに表面処理された製品
KR100735950B1 (ko) * 2004-04-06 2007-07-06 엘지전자 주식회사 초친수성 금속제품의 제조방법 및 초친수성을 갖는 금속제품
KR100746419B1 (ko) * 2004-04-06 2007-08-03 엘지전자 주식회사 금속에의 기능성 박막 코팅장치 및 이를 이용한 기능성박막 코팅방법
KR100783213B1 (ko) * 2004-04-06 2007-12-06 엘지전자 주식회사 초친수성 금속제품의 제조방법 및 초친수성을 갖는 금속제품
US8043710B2 (en) 2004-04-06 2011-10-25 Lg Electronics Inc. Ultra-hydrophilic and antibacterial thin film coated metal product, and it's manufacturing method
US7901786B2 (en) 2004-04-06 2011-03-08 Lg Electronics, Inc. Method for manufacturing ultra-hydrophilic thin film coated metal product, and ultra-hydrophilic thin film coated metal product
EP1761655B1 (en) * 2004-04-06 2009-12-02 LG Electronics, Inc. Method for manufacturing ultra-hydrophilic thin film coated metal product, and ultra-hydrophilic thin film coated metal product
US7790246B2 (en) * 2004-12-30 2010-09-07 Lg Electronics Inc. Ultra hydrophilic Ti-O-C based nano film and fabrication method thereof
JP2008106974A (ja) * 2006-10-24 2008-05-08 Locus:Kk 熱交換器
KR100836055B1 (ko) * 2006-11-03 2008-06-09 엘지전자 주식회사 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막 및 그 제조방법
KR100892456B1 (ko) * 2007-08-20 2009-04-10 엘지전자 주식회사 내식성 및 초친수성 금속 제품
JP2009127977A (ja) * 2007-11-27 2009-06-11 Toshiba Corp 冷蔵庫
WO2014162700A1 (ja) * 2013-04-03 2014-10-09 株式会社デンソー 熱交換器の製造方法および熱交換器
JP2014202390A (ja) * 2013-04-03 2014-10-27 株式会社デンソー 熱交換器の製造方法および熱交換器
CN105051481A (zh) * 2013-04-03 2015-11-11 株式会社电装 热交换器的制造方法及热交换器
US9956654B2 (en) 2013-04-03 2018-05-01 Denso Corporation Method for manufacturing heat exchanger, and heat exchanger
CN110573826A (zh) * 2017-06-06 2019-12-13 松下知识产权经营株式会社 形成有防污覆盖膜的热交换器
US11746241B2 (en) 2020-01-14 2023-09-05 Hamilton Sundstrand Corporation Antifungal/antibacterial hydrophilic coating
US20220009806A1 (en) * 2020-07-07 2022-01-13 Hamilton Sundstrand Corporation Water system component
US11970414B2 (en) * 2020-07-07 2024-04-30 Hamilton Sundstrand Corporation Water system component
CN112378012A (zh) * 2020-11-11 2021-02-19 四川盖亚影院有限公司 一种影院新风系统用负离子发生设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001280879A (ja) 光触媒熱交換器およびその製造方法
US7521133B2 (en) Titanium oxide photocatalyst, process for producing the same and application
JP4823321B2 (ja) 光触媒体の製造装置
US10968508B2 (en) Method of fabricating hydrophilic-hydrophobic transformable composite film
WO1999058451A1 (fr) Sel d'oxyde de titane, film mince et procedes de production de ces derniers
KR101844956B1 (ko) 친수성이 향상된 알루미늄 표면의 제조방법 및 친수성 알루미늄 표면체
Collette et al. Photocatalytic TiO2 thin films synthesized by the post-discharge of an RF atmospheric plasma torch
EP2000208A9 (en) Visible light response-type titanium oxide photocatalyst, method for manufacturing the visible light response-type titanium oxide photocatalyst, and use of the visible light response-type titanium oxide photocatalyst
JPH10305230A (ja) 光触媒とその製造方法および有害物質の分解・除去方法
JP2000096212A (ja) 光触媒膜被覆部材およびその製造方法
Tang et al. Photocatalytic activity and mechanical performance of o and n co-doped tio2 thin films
CN114308050A (zh) 带光催化剂的基材及光催化装置
EP1759034B1 (en) Ultra-hydrophilic and antibacterial thin film coated metal product, and it"s manufacturing method
KR20020088029A (ko) 친수, 탈취 및 항균성 피막을 가지는 열교환기 및 이열교환기의 피막 형성방법
JP2000093807A (ja) 光触媒体及びそれを用いた熱交換器並びに浄化装置
CN110893342A (zh) 光催化剂复合材料、光催化剂复合材料的制造方法及光催化剂装置
JP2002071298A (ja) 光触媒熱交換器
CN108275888A (zh) 水滴模板法结合相分离法制备蜂窝结构TiO2薄膜
JP4521644B2 (ja) 光触媒膜の形成方法
Kawahara et al. A Large-Area Patterned TiO 2/SnO 2 Bilayer Type Photocatalyst Prepared by Gravure Printing
JP2007090338A (ja) アモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜付き光触媒
JPH1076597A (ja) 高機能光触媒フィルム
JP2000126613A (ja) 光触媒体の作製方法
JP2003342722A (ja) スパッタリング装置、及びスパッタリング方法
JP3809101B2 (ja) 空気清浄化ユニット