JP2007090338A - アモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜付き光触媒 - Google Patents
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 115
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 title claims abstract description 73
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 title claims abstract description 68
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 title claims abstract description 65
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 title claims abstract description 64
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 63
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 105
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims abstract description 49
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 4
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 19
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 7
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 50
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 30
- 229910052588 hydroxylapatite Inorganic materials 0.000 description 30
- XYJRXVWERLGGKC-UHFFFAOYSA-D pentacalcium;hydroxide;triphosphate Chemical compound [OH-].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O XYJRXVWERLGGKC-UHFFFAOYSA-D 0.000 description 30
- 239000000463 material Substances 0.000 description 26
- VSIIXMUUUJUKCM-UHFFFAOYSA-D pentacalcium;fluoride;triphosphate Chemical compound [F-].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O VSIIXMUUUJUKCM-UHFFFAOYSA-D 0.000 description 16
- 229910052586 apatite Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000010408 film Substances 0.000 description 14
- RBTBFTRPCNLSDE-UHFFFAOYSA-N 3,7-bis(dimethylamino)phenothiazin-5-ium Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 RBTBFTRPCNLSDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000004332 deodorization Methods 0.000 description 13
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 13
- 230000001877 deodorizing effect Effects 0.000 description 12
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000003915 air pollution Methods 0.000 description 9
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 9
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 5
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 5
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- JDLKFOPOAOFWQN-VIFPVBQESA-N Allicin Natural products C=CCS[S@](=O)CC=C JDLKFOPOAOFWQN-VIFPVBQESA-N 0.000 description 4
- JDLKFOPOAOFWQN-UHFFFAOYSA-N allicin Chemical compound C=CCSS(=O)CC=C JDLKFOPOAOFWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000010081 allicin Nutrition 0.000 description 4
- FUFJGUQYACFECW-UHFFFAOYSA-L calcium hydrogenphosphate Chemical compound [Ca+2].OP([O-])([O-])=O FUFJGUQYACFECW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 235000019739 Dicalciumphosphate Nutrition 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 229910000390 dicalcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 229940038472 dicalcium phosphate Drugs 0.000 description 3
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 3
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 3
- 238000013032 photocatalytic reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 229910000391 tricalcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000019731 tricalcium phosphate Nutrition 0.000 description 3
- 229940078499 tricalcium phosphate Drugs 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- YYRMJZQKEFZXMX-UHFFFAOYSA-L calcium bis(dihydrogenphosphate) Chemical compound [Ca+2].OP(O)([O-])=O.OP(O)([O-])=O YYRMJZQKEFZXMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000011246 composite particle Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 2
- 229910000150 monocalcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019691 monocalcium phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- -1 titanium alkoxide Chemical class 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 244000245420 ail Species 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052589 chlorapatite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000469 dry deposition Methods 0.000 description 1
- PROQIPRRNZUXQM-ZXXIGWHRSA-N estriol Chemical compound OC1=CC=C2[C@H]3CC[C@](C)([C@H]([C@H](O)C4)O)[C@@H]4[C@@H]3CCC2=C1 PROQIPRRNZUXQM-ZXXIGWHRSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 235000004611 garlic Nutrition 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910000392 octacalcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000012890 simulated body fluid Substances 0.000 description 1
- 238000006557 surface reaction Methods 0.000 description 1
- YIGWVOWKHUSYER-UHFFFAOYSA-F tetracalcium;hydrogen phosphate;diphosphate Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].OP([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O YIGWVOWKHUSYER-UHFFFAOYSA-F 0.000 description 1
- GBNXLQPMFAUCOI-UHFFFAOYSA-H tetracalcium;oxygen(2-);diphosphate Chemical compound [O-2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O GBNXLQPMFAUCOI-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
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- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【課題】 光触媒の活性が高くガラス等の透明度を必要とする基材においても透明度が高く、付着強度の高い光触媒リン酸カルシウム薄膜を提供する。
【解決手段】 基材表面上にスパッタリング法を用いて、基材側に二酸化チタン、その表面にアモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜がコーティングされていることを特徴とする光触媒。
【選択図】 図２
【解決手段】 基材表面上にスパッタリング法を用いて、基材側に二酸化チタン、その表面にアモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜がコーティングされていることを特徴とする光触媒。
【選択図】 図２
Description
本発明はリン酸カルシウム薄膜付き光触媒に関し、より詳しくは、所定の基材に、二酸化チタン薄膜をコーティングし、更にその上にアモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜をコーティングした光触媒に関する。
二酸化チタンは、光を照射すると強い酸化還元力（光触媒反応）を生じるため、脱臭、防汚、水の浄化等各種の化学反応を進行させる光触媒として広く用いられている。
また、上記の光触媒反応は、二酸化チタンの表面反応であり、反応が完了するまで処理する有害物質を二酸化チタンに接触させておく必要がある。このため、二酸化チタン単独で使用されるのみならず、有害物質である有機物の吸着特性に優れるアパタイトを二酸化チタン基材に付着させるため、その基材を擬似体液に浸漬し、アパタイトを析出させ、多孔質アパタイト被覆二酸化チタン複合物を得る方法、あるいは、チタン含有リン酸カルシウムを加水分解して二酸化チタン被覆アパタイト結晶を得る方法などが下記特許文献１、２に示されている。
また、共沈法を用いて、アパタイト結晶構造中に金属酸化物をイオン交換により形成する金属修飾アパタイトも、下記特許文献３に示されている。
一方、光触媒は実用的には何らかの構造体を担体（基材）として、その表面に光触媒を結合させた状態に担持させて使用されるのが一般的な方法であり、二酸化チタンの微粒子やアパタイト被覆二酸化チタン微粒子等を有機又は無機のバインダーで固定する方法や、チタンアルコキシド等の二酸化チタンの前駆体からゲル・ゾル法により薄膜を成形する等の湿式による方法や、スパッタリング、蒸着といった乾式による方法が下記特許文献４に示されている。
また、金属又は有機材料からなる基材に二酸化チタンを担持する場合、これらの基材を二酸化チタンで直接被覆すると、二酸化チタンが基材を侵食するチョーキングといわれる現象が生じるため、基材と二酸化チタンとの間にバインダー膜を介在させた積層構造にすることが行われている。そしてまた、また二酸化チタンをバインダー樹脂によって基材に結合させる場合には、二酸化チタンによってバインダー樹脂が分解され劣化・消失が生じるため、バインダー樹脂を増量することが下記特許文献５、６、７に示されている。
特開平１０−２４４１６６号公報
特開２００１−２７０７０９号公報
特開平１１−１４１９３１号公報
特開２００２−３１７２６０号公報
特開２００３−２７５６０１号公報
特開２００５−６８８１７号公報
特開平９−２２５３１９号公報
しかしながら、光触媒性薄膜を成形する技術としての湿式による方法では、そのプロセスの特性より塗布する溶液の性状管理が必要であったり、大きな面積の基材に形成する場合、膜の均一性に欠ける等の製造上の問題がある。またチョーキング対策として積層構造にすることは施工が面倒であるという問題がある。また、バインダー樹脂に二酸化チタンを混合する方法では、バインダー樹脂を増加することは、二酸化チタン粒子の全体の比率を下げ、光触媒の活性を低下させることを意味するため、光触媒の活性と耐久性とを両立させることが困難であるという問題があった。またガラス板等の特に透明度を必要とする基材においては、光透過性が著しく減少するという問題があった。具体的には、多孔質アパタイトや結晶性のアパタイトを被覆した複合体粒子では、もともと透明性が低いため、ガラス面などにコートする場合、透明性を維持するための薄膜化と消臭効果の向上のための高密度化とは相反するものであるから、複合体粒子の密度を上げることは困難であり、加えて有機・無機などのバインダが必要となる。一方乾式である蒸着による方法では、成膜時に基材が高温雰囲気に曝されるために、基材に耐熱上の制約が生じるという問題があった。
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、小さな面積で効率的に、高い消臭・大気汚染・水処理等の効果を有し、付着強度が高く、透明性の確保も可能な光触媒を提供することにある。
上記の課題を解決するための第１の発明は、基材表面上に二酸化チタン薄膜、さらにその表面にアモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜がコーティングされていることを特徴とする光触媒である。
第２の発明は、第１の発明において、上記基材が透明であることを特徴とする光触媒である。
第３の発明は、第１又は第２の発明において、上記アモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜が上記二酸化チタン薄膜表面全体をカバーするように設けられたことを特徴とする光触媒である。
第４の発明は、第１乃至第３のいずれか１の発明において、上記アモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜の表面と上記二酸化チタン薄膜の表面が、上記基材の表面とほぼ同じく平滑に形成されていることを特徴とする光触媒。
第５の発明は、第１乃至第４のいずれか１の発明において、上記二酸化チタンの薄膜が０.１〜１.０μｍの厚さであることを特徴とする光触媒である。
第６の発明は、第１乃至第５のいずれか１の発明において、上記アモルファス緻密リン酸カルシウムの膜厚が０.３〜２.０μｍの厚さでコーティングされていることを特徴とする光触媒である。
第７の発明は、第１乃至第６のいずれか１の発明において、上記アモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜のカルシウム/リン（以下「Ｃａ/Ｐ」という。）のモル比が０.５〜１.０であることを特徴とする光触媒である。
第８の発明は、第１乃至第７のいずれか１の発明において、上記アモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜が、パターン状にコーティングされていることを特徴とする光触媒である。
第９の発明は、第１乃至第８のいずれか１の発明において、上記基材が透明ガラス板であることを特徴とする光触媒である。
第１０の発明は、第１乃至第９のいずれか１の発明において、上記基材が金属又は高分子樹脂であるいることを特徴とする光触媒である。
上記の基材表面への二酸化チタン、アモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜のコーティングは、蒸着やPVD、CVD、スパッタリング、レーザーアブレージョン、ゾルゲル法など、いろいろな方法によって行われる。
第１の発明は、基材表面上に、二酸化チタン薄膜、さらにその表面にアモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜がコーティングされていることを特徴とする光触媒であるから、（１）触媒の活性度が高く、有機物の吸着特性に優れ、脱臭・大気汚染・水処理等の浄化に供し、（２）膜の均一性に富み密着性の高い、品質の安定した薄膜を形成することができ、（３）適用する基材が耐熱上の制約を受けることがなく、（４）さらにバインダーを使用しないので、光透過性の低下が少ないという効果を有する。
第２の発明は、第１の発明において、基材が透明な光触媒であるから、第１の発明の効果において、透明度が高く、採光しながら消臭、抗菌ができるという効果を有する。
第３の発明は、第１又は第２の発明において、アモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜が二酸化チタン薄膜表面全体をカバーするように設けられた光触媒であり、第４の発明は、第１乃至第３のいずれか１の発明において、アモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜の表面と二酸化チタン薄膜の表面が基材の表面とほぼ同じく平滑に形成された光触媒であるから、より品質の安定した薄膜が形成され、それぞれの発明の効果において、脱臭・大気汚染の浄化、水処理等の性能が、より高い光触媒を得ることができる。
第５の発明は、第１乃至第４のいずれか１の発明において、二酸化チタンの薄膜が０.１〜１.０μｍの厚さであるから、二酸化チタンの膜厚が必要充分にして、第１乃至第４のいずれか１の発明の効果において、脱臭、大気汚染の浄化、水処理等の性能が、より高い光触媒を得ることができる。
第６の発明は、第１乃至第５のいずれか１の発明において、アモルファス緻密リン酸カルシウムの膜厚が０.３〜２.０μｍの厚さでコーティングされているから、アモルファス緻密リン酸カルシウムの膜厚が必要充分にして、第１乃至第５のいずれか１の発明の効果において、脱臭、大気汚染の浄化、水処理等の性能が、より高い光触媒を得ることができる。
第７の発明は、第１乃至第６のいずれか１の発明において、上記アモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜のＣａ/Ｐのモル比が０.５〜１.０の光触媒アモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜であるから、第１乃至第６のいずれか１の発明の効果において、ホルムアルデヒドガス、アリシンガスのいずれのガスに対しても吸着性が高く脱臭、大気汚染の浄化、水処理等の性能が高い光触媒を得ることができる。
第８の発明は、第１乃至第７のいずれか１の発明において、アモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜が、パターン状の光触媒であるから、第１乃至第７のいずれか１の発明の効果において、アモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜を厚くして、耐磨耗性等を高めながら、脱臭、大気汚染の浄化、水処理等の性能の高い光触媒を得ることができる。
第９の発明は、第１乃至第８のいずれか１の発明において、基材がガラス板からなる光触媒であるから、第１乃至第８のいずれか１の発明の効果において、光透過性が高いという効果を有する光触媒を得ることができる。
第１０の発明は、第１乃至第９のいずれか１の発明において、基材が金属又は高分子樹脂からなる光触媒であるから、第１乃至第９のいずれか１の発明の効果において、基材である金属又は高分子樹脂の二酸化チタンによるチョーキングが防止されるという効果を有する光触媒を得ることができる。
本発明は、基材表面上にスパッタリング法を用いて、基材側に二酸化チタン薄膜、その表面にアモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜がコーティングされていることを特徴とする光触媒である。
ここで、アモルファス緻密リン酸カルシウムとは、チタン粉末やチタン層の上にアパタイトを析出させる方法で作製された従来のアパタイト層が多孔質で著しく透過性が低いものであるのに対して、組織がアモルファスであることに加えて、非常に緻密であることを指している。
二酸化チタン（TｉO２）は光触媒反応を促進する触媒であるから、膜厚が薄過ぎると触媒反応が遅延するのみならず、膜の非形成部分が生じたり、膜の密着強度の低下が生じる。一方、触媒反応の速度には限界があり、膜厚が厚過ぎる場合には二酸化チタンの無駄に継ながる。
また、リン酸カルシウム（Ｃａ−Ｐ）は有害物質である有機物を吸着し、二酸化チタンの表面で行われる触媒反応が完了するまで、有機物を二酸化チタンに接触させておく機能を有するものであるから、膜厚が薄過ぎるとその吸着性能が低下し、厚過ぎると有機物の透過率が低下し、反って二酸化チタンの触媒反応が遅くなる。
具体的には、上記二酸化チタン薄膜は０.１μｍあれば触媒としての機能が確保される。またアモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜（以下「リン酸カルシウム薄膜」という。）は、パターンを形成しない場合において、０.３μｍ未満又は２.０μｍを超えると効果が低下するので、０.３〜２.０μｍの厚さでコーティングすることが好ましい（後述の図３）。またホルムアルデヒドを消臭する場合には、リン酸カルシウム薄膜におけるＣａ/Ｐのモル比は０.５以上であることが好ましいが、Ｃａ/Ｐのモル比は上記リン酸一カルシウム（ＣＭＰ）が０.５、リン酸二カルシウム（ＣＰＰ）が１.０、リン酸三カルシウム（ＴＣＰ）が１.５、ハイドロキシアパタイト（ＨＡ）が１.６７であるから、ターゲットとして、いずれを使用してもこの要件を満たす。
一方、ニンニク臭で代表される硫黄系ガスのアリシンを消臭する場合には、リン酸カルシウム薄膜におけるＣａ/Ｐのモル比は１.０以下であることが好ましいが、ターゲットとして上記リン酸一カルシウム（Ca/P=0.5）、リン酸二カルシウム（Ca/P=1.0）を使用すればこの要件を満たす。
また、上記リン酸カルシウムは、リン酸一カルシウム、リン酸二カルシウム、リン酸三カルシウム、アパタイト、リン酸四カルシウム、リン酸八カルシウム、アモルファスのいずれでもよく、これらの２種以上の混合物としてもよい。更にスパッタリング法によって得られた二酸化チタン・リン酸カルシウム薄膜複合コーティングの二酸化チタン薄膜は、アモルファスであるが、これを４００から１３００℃で熱処理してアナターゼ、ルチルとしてもよく、これらの２種以上の混合物としてもよい。リン酸カルシウム薄膜はアモルファスであって、原子レベルで緻密に二酸化チタン薄膜の上に堆積し、バインダー樹脂が介在しないため、透明性が高い。
また、上記リン酸カルシウム（アパタイト）は、水酸アパタイト、炭酸アパタイト、フッ素アパタイト、シリカアパタイト、塩素アパタイトのいずれでもよく、これらの２種以上の混合物としてもよい。
また、上記リン酸カルシウム薄膜は、その耐磨耗性を高める等のために膜厚を厚くすると、有機物の透過が阻害されて二酸化チタンの触媒反応が低下するが、リン酸カルシウム薄膜を円形、方形、櫛形等のパターン状にすれば、消臭効果を損なうことがなくなる。
また、基材にガラス板を使用して、脱臭、大気汚染等の浄化の効果に加えて光り透過性を確保したい場合には、リン酸カルシウム薄膜は殆ど光り透過性に影響を及ぼさないので、その膜厚を上述の０.３〜２.０μｍとしても、二酸化チタン薄膜の厚さを０.１〜０.５μｍにすれば、光透過性を損なうことなく、脱臭、大気汚染等の浄化の効果を得ることができる。
なお、上記二酸化チタン、リン酸カルシウム薄膜はスパッタリング工法によるものであるから、基材は、金属、樹脂、ガラス等に適用できるが、二酸化チタンによってチョ−キングを受ける基材の場合には、事前にリン酸カルシウム膜を形成してチョーキング防止の対策を行う必要がある。
なお、前述の通り、上記基材表面への二酸化チタン、リン酸カルシウム薄膜のコーティングは、蒸着やPVD、CVD、スパッタリング、レーザーアブレージョン、ゾルゲル法など、各種の方法によって行われる。
以下実施例により、より詳細に説明する。
図１は実施例（後述の実施例２、３を含む）に係るスパッタリング装置の概念図である。図１において、１００はスパッタリング装置全体を示し、１０１は真空容器、２００は真空容器の上側に配置される基板、３００は基板２００の下側に対向して配置されるターゲットである。
真空容器１０１の１壁面からＡrガスが装填され、他の壁面から真空ポンプによって排気される。ターゲットには高周波電源１０２から高周波電圧が印加される。本実施例１のスパッタリング装置、基材、ターゲットの諸元は下記の通りである。
スパッタリング装置：アネルバ社製ＳＰＦ−２１０ＨＳ
基材：ガラス板
寸法（縦×横×厚さ）：８０ｍｍ×１６ｍｍ×１ｍｍ、
ターゲット：TｉO２/ＨＡ
スパッタリングの手順は、まず真空容器１０１内の所定の位置にターゲットTｉO２をセットし、真空容器１０１内を真空ポンプ１０３により吸引して１×１０−５Ｐaの真空度にした後、この真空度を維持したままＡｒガスを１０ｍｌ/分の量で装填し、Ａrガスの圧力を５.０Ｐａとする。
基材：ガラス板
寸法（縦×横×厚さ）：８０ｍｍ×１６ｍｍ×１ｍｍ、
ターゲット：TｉO２/ＨＡ
スパッタリングの手順は、まず真空容器１０１内の所定の位置にターゲットTｉO２をセットし、真空容器１０１内を真空ポンプ１０３により吸引して１×１０−５Ｐaの真空度にした後、この真空度を維持したままＡｒガスを１０ｍｌ/分の量で装填し、Ａrガスの圧力を５.０Ｐａとする。
続けて、高周波電源１０２により、ターゲットのTｉO２に高周波電圧を掛け、放電電力１００Ｗ、圧力５.０ＰaにてTｉO２薄膜コーティングを行い、所定の厚みの均一な薄膜を形成する。
次に、ターゲットをTｉO２からＨＡに取替え、真空容器１０１内を真空ポンプ１０３により吸引して１×１０−５Ｐaの真空度にした後、この真空度を維持したままＡｒガスを１０ｍｌ/分の量で装填し、Ａrガスの圧力を０.５Ｐａとする。
続けて、高周波電源１０２により、ターゲットであるＨＡに高周波電圧を掛け、放電電力１００Ｗ、圧力０.５Ｐaにてリン酸カルシウム薄膜コーティングを行い、所定の厚みの均一な薄膜を形成し、電気炉内にて５００℃にて加熱処理を行いTｉO２層をアナターゼ構造に結晶化し、Ｘ線回析法にてその結晶構造の確認を行う。
次に、上記の手順で作製した二酸化チタン・リン酸カルシウム薄膜コーテイング（TｉO２―ＨＡ）の消臭性の効果を確認する。
まず、密閉容器（４０ｃc）内に上記薄膜を形成した基材から切り出した寸法８０ｍｍ×１６ｍｍ×１ｍｍの試料を収納し、この容器内にホルムアルデヒドガス（ＨＣＨＯ）を０.５ｍl入れて暗所に１時間放置し、その後、紫外線照射器を使用し、０.５ｍＷの紫外線を連続照射した。これによりホルムアルデヒドガス（ＨＣＨＯ）は、リン酸カルシウム薄膜による吸着及び紫外線照射による光触媒効果により二酸化炭素と水分とに分解されるので、各時間毎に容器内のガスを０.１ｍl取り出し、ガスクロマトグラフィ（日立製 ＧＣ−３９００）を使用して計測する。
表１は本発明の実施例及び比較例に係る消臭効果をデジタルに示したものであり、図２はそれをグラフ表示したものである。
表１において、比較例１は、ＨＡ薄膜のみの１層をコーティングしたものであり、比較例２はTｉO２薄膜のみの１層をコーティングしたもので、１Ｈ後のホルムアルデヒドの残存率がそれぞれ９０％、８６％でいずれも消臭効果は殆ど見られない。
これに対して、実施例１・１〜１・３は、TｉO２薄膜の厚さがいずれも０.５μｍで、ＨＡの膜厚を０.５、１.０、２.０μｍと変化させたものであるが、１Ｈ後のホルムアルデヒドの残存率がそれぞれ０.４、２.０、７.５％で顕著な消臭効果が見られる。
また、図３は本発明の実施例に係るＨＡ薄膜の厚さがホルムアルデヒドの消臭効果に及ぼす影響を示したグラフである。具体的には、本発明の実施例に係るTｉO２薄膜の厚さを０.５μｍに固定し、ホルムアルデヒドが０％になるまでの時間をＨＡ薄膜（パターンなし）の厚さを変化させてグラフ表示したものであり、ＨＡの薄膜の厚さが、０.３〜２.０μｍであれば、ホルムアルデヒドの残存率は３Ｈ以内に０％になることが判る。
実施例１・４、１・５はＨＡ薄膜（パターンなし）の厚さがいずれも０.５μｍで、TｉO２薄膜の厚さそれぞれ０.３、０.１μｍとしたものであるが、１Ｈ後のホルムアルデヒドの残存率は、それぞれ３.６と５６％となっている。図９は本発明の実施例に係るTｉO２薄膜の厚さがホルムアルデヒドの消臭効果に及ぼす影響を示したグラフであり、表１に示した実施例１・１、１・４、１・５の消臭試験結果をもとにプロットしたものであり、ＨＡ薄膜の厚さが０.５μｍのとき、TｉO２薄膜の厚さが０.１μｍあれば１Ｈ後にホルムデヒドは略半減することを示している。
図４は本発明の実施例に係る光触媒の走査型顕微鏡による断面写真であり、光触媒は、ガラス板製の基材上に厚さ０.５μｍのTｉO２薄膜と厚さ０.５μｍのＨＡ薄膜（パターンなし）を順次コーティングさせたものであり、柱状構造を持ったTｉO２薄膜の上に、均一で緻密なHA膜が形成され、TｉO２薄膜層もHA膜層も平滑度が高いことが判る。
図５は本発明の実施例に係る光触媒のＸ線回折による各薄膜のX線回折パターンを示したものであり、(ａ) はガラス板製の基材のみ、（ｂ)はガラス板製の基材上にＨＡ薄膜（パターンなし）のみをコーティングしたもの、（ｃ）はガラス板製の基材上にTｉO２薄膜とＨＡ薄膜（パターンなし）を順次コーティングしたものであるである。
（ａ）では、２θ＝２５°付近にガラスを示すブロードなピークが見られる。（ｂ）では、ガラス板製の基材のピークに加え、２θ＝３０°付近にアモルファスなリン酸カルシウムを示すブロードなピークが存在する。また、(ｃ）では、（ｂ）のピークに加え、２θ＝２５.３°、３７.８°、５３.９°に結晶性のアナターゼ二酸化チタンを示すピークが見られる。このことから、コーティングしたＨＡ薄膜がアモルファスリン酸カルシウム層であることが判かる。
本実施例は、実施例１において、基材の表面に形成されたTｉO２薄膜の表面にＨＡ薄膜を形成するときに、TｉO２薄膜の形成された基材の表面に下記円形パターンの設けられた樹脂製フイルムを被覆し、それ以外の条件は実施例１と同一にしたものである。これにより、ＨＡ薄膜に設けたパターンが光触媒の性能に及ぼす影響を明確にしている。
図６は本発明の実施例に係る光触媒の説明図であり、（ａ）はリン酸カルシウム薄膜（円形パターンのなし）の断面図、（ｂ）はリン酸カルシウム薄膜（円形パターンあり）の断面図、（ｃ）は円形パターンの平面図である。図６において３は基材、２は二酸化チタン（TｉO２）層、１はリン酸カルシウム層を示している。
表１において、実施例２・１、２・２は、TｉO２薄膜の厚さがいずれも０.５μｍで、HA薄膜の厚さもいずれも０.５μｍとし、パターンを円形としその直径をそれぞれ１.３、２.９ｍｍ、被覆率をそれぞれ１７、２６％としたものであるが、１Ｈ後のホルムアルデヒドの残存率がそれぞれ０、０.４％で実施例１と同様に顕著な消臭効果が見られる。
図７は本発明の実施例に係る光触媒のリン酸カルシウムのＣａ/Ｐモル比とガスの吸着性（吸着残存率）の関係を示したグラフであり、表２は各種リン酸カルシウムのＣａ/Ｐのモル比を表示したものである。図７は表２に示された各種リン酸カルシウムの粉末を使用し、吸着試験開始して１Ｈ後のリン酸カルシウムの粉末に吸着されないで残ったガスの残存率を縦軸とし、各種リン酸カルシウムに対応するＣａ/Ｐのモル比を横軸にとってプロットしたものである。なお表２において、ＨＡのＣａ/Ｐのモル比は１.６７となっているが、スパッタリングのコーティング条件を制御することによって３.０程度までとすることができる。ガス残存率の測定は、表２に示す各種リン酸カルシウムの粉末３ｇを容量１３０mlのガラス製ボトルに詰め、ボトル内のガスの残存率をガスクロマトグラフィ（日立製 ＧＣ-３９００）により測定した。ホルムアルデヒドガスの場合にはＣａ/Ｐのモル比が高いほど吸着性が高い。これはＣａ/Ｐのモル比の高いリン酸カルシウムほど、水との親和性が高く、水との親和性の高いホルムアルデヒドガスが吸着され易いと考えられるからである。一方アリシンの場合には、Ｃａ/Ｐのモル比が低いほど吸着性が高い。これはアリシンは硫黄系のガス臭であり、Ｃａ/Ｐのモル比の低いリン酸カルシウムほど、リン原子が多く、硫黄系原子との親和性が高いためと考えられるからである。
図８は本発明の実施例に係る二酸化チタン（TｉO２）薄膜の厚さと透過率との関係を示したグラフである。スパッタリング法によりTｉO２をターゲットとして電力１００Ｗ、圧力５.０Ｐａでコーティングして、異なる膜厚の薄膜を作製し、５００℃×４Ｈで加熱処理し紫外可視近赤外分光光度計（ＵbestＶ-570ＤＳ：日本分光）にて透過率を測定したものである。グラフ中、上側の曲線は可視光線の上限に近い波長７００ｎｍ、下側の曲線は可視光線の下限に近い波長４００ｎｍのTｉO２薄膜の厚さに対する透過率を示したものであり、両曲線ともTｉO２の薄膜の厚さが厚くなると透過率が低下しており、膜厚を０.５μｍ以下にすれば透明性が維持できる。
上記の実施例１、２において、ガスを対象とする光触媒の効果を示したが、本実施例では、液体を対象とする光触媒の効果を示す。
メチレンブルー（1ｍM（Mol））を下記の表３に示す各光触媒層上に滴下し、暗所にて２時間乾燥した後、０.５ｍＷの紫外線を連続照射し、実施例２と同一の紫外可視近赤分光光度計（ＵbestＶ-570ＤＳ：日本分光）にて、紫外線照射前後の５６０nmの波長の透過率変化を測定し、各時間のメチレンブルー残存率を求めた。
図１０は本発明の実施例に係る光触媒の有するメチレンブルーの分解率（残存率）を示したグラフである。図１０において、縦軸のＡＢＳ（Ａｂｓｏｒｂａｎｃｅ）とは各時間における、メチレンブルーを透過した時に吸収された光の吸光度であり、ＡＢＳ０とは、計測開始 (時間０)時のメチレンブルーの吸光度である。そしてＡＢＳ/ＡＢＳ０をもってメチレンブルーの残存率を示している。
実施例３・１の厚さ０.５μｍのTｉO２薄膜と厚さ０.５μｍのHA薄膜をコーティングした光触媒では、メチレンブルーは３時間後４４％まで減少し、比較例３、４、５に係る基材だけのもの、厚さ０.５μｍのHA薄膜のみを基材にコーティングしたもの、厚さ０.５μｍのTｉO２薄膜のみを基材にコーティングしたものとの間には顕著な相違があることが判かる。
図１１は、本発明の実施例に係る光触媒によるメチレンブルーの分解の状況を示した写真であり、図１０で示した実施例と比較例に対応するメチレンブルーの分解の様子を示している。比較例３、４、５に係る基材だけのもの、厚さ０.５μｍのＨＡ薄膜のみを基材にコーティングしたもの、厚さ０.５μｍのTｉO２薄膜のみを基材にコーティングしたものでは、メチレンブルーの濃度変化が見られない。これに対し、実施例３・１の厚さ０.５μｍのTｉO２薄膜と厚さ０.５μｍのHA薄膜を基材に順次コーティングしたものは時間の経過に伴い、特に３時間後より色が薄くなり、視覚的にも、メチレンブルーが早く分解されていることが明白である。
１００・・スパッタリング装置
１０１・・真空容器
１０２・・高周波電源
１０３・・真空ポンプ
２００・・基板
３００・・ターゲット（TｉO２/ＨＡ）
１０１・・真空容器
１０２・・高周波電源
１０３・・真空ポンプ
２００・・基板
３００・・ターゲット（TｉO２/ＨＡ）
Claims (10)
- 基材表面上に二酸化チタン薄膜、さらにその表面にアモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜がコーティングされていることを特徴とする光触媒。
- 上記基材が透明であることを特徴とする請求項１に記載の光触媒。
- 上記アモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜が上記二酸化チタン薄膜表面全体をカバーするように設けられたことを特徴とする請求項１又は２に記載の光触媒。
- 上記アモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜の表面と上記二酸化チタン薄膜の表面が上記基材の表面とほぼ同じく平滑に形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１に記載の光触媒。
- 上記二酸化チタンの薄膜が０.１〜１.０μｍの厚さであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１に記載の光触媒。
- 上記アモルファス緻密リン酸カルシウムの膜厚が０.３〜２.０μｍの厚さでコーティングされていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１に記載の光触媒。
- 上記アモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜のカルシウム/リンのモル比が０.５〜１.０であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１に記載の光触媒。
- 上記アモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜が、パターン状にコーティングされていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１に記載の光触媒。
- 上記基材が透明ガラス板であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１に記載の光触媒。
- 上記基材が金属又は高分子樹脂であるいることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１に記載の光触媒。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
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| JP2006234266A JP5035824B2 (ja) | 2005-09-02 | 2006-08-30 | アモルファスリン酸カルシウム薄膜付き光触媒 |
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| JP (1) | JP5035824B2 (ja) |
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| Date | Code | Title | Description |
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| A621 | Written request for application examination |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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