JP2007075696A - 多孔質光触媒膜 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の多孔質光触媒膜は、アナターゼ型二酸化チタンを70〜100重量%含む多孔質光触媒膜の改良であり、その特徴ある構成は、アナターゼ型二酸化チタンが二酸化チタンに3〜7重量%の炭素を含有した炭素ドープ二酸化チタンであり、0.1〜10μmの範囲内の膜厚に形成され、かつ気孔率が50〜80%であるところにある。本発明の多孔質光触媒膜は、大気開放型化学気相析出法によって成膜することが好ましく、比表面積は100〜1000m2/gの範囲内に規定することが好ましい。また、膜表層に連通する開気孔のうち、孔径1〜1000nmの細孔における細孔表面積が全細孔表面積の50%以上を占めることが好ましい。
【選択図】図1
Description
本発明の目的は、優れた光触媒活性を有し、かつ膜強度を保持し得る多孔質光触媒膜を提供することにある。
請求項1に係る多孔質光触媒膜は、アナターゼ型二酸化チタンとして上記割合の炭素を含有した炭素ドープ二酸化チタンを用いることで、炭素ドープにより光触媒活性に寄与する光吸収帯が紫外領域から可視光領域へと拡がって、光触媒活性の量子効率が増大するものと考えられ、膜厚を0.1〜10μmの範囲内に形成し、かつ気孔率を50〜80%に制御することにより、膜表面に露出する光触媒活性点が多く、十分な光触媒活性が得られる。
請求項3に係る発明は、請求項1に係る発明であって、比表面積が100〜1000m2/gの範囲内である多孔質光触媒膜である。
請求項4に係る発明は、請求項1に係る発明であって、膜表層に連通する開気孔のうち、孔径1〜1000nm(10〜10000Å)の細孔における細孔表面積が全細孔表面積の50%以上を占める多孔質光触媒膜である。
本発明の多孔質光触媒膜は、アナターゼ型二酸化チタンを70〜100重量%含む多孔質光触媒膜の改良である。その特徴ある構成は、アナターゼ型二酸化チタンが二酸化チタンに3〜7重量%の炭素を含有した炭素ドープ二酸化チタンであり、図1に示すように、多孔質光触媒膜12が0.1〜10μmの範囲内の膜厚に形成され、かつ気孔率が50〜80%であるところにある。上記特徴ある構成とした多孔質光触媒膜は、膜表層に多くの開気孔を有する構造をとり、膜表面に露出する光触媒活性点が多いため、十分な光触媒活性が得られる。多孔質光触媒膜中のアナターゼ型二酸化チタンの含有量を70〜100重量%に規定したのは、下限値未満であると十分な光触媒活性が得られないためである。このうち特に好ましいアナターゼ型二酸化チタンの含有量は90〜100重量%である。アナターゼ型二酸化チタンを3〜7重量%の炭素を含有した炭素ドープ二酸化チタンとしたのは、紫外光下のみならず、可視光下における光触媒活性も十分に発揮されるためである。従って、炭素ドープ二酸化チタンを含む多孔質光触媒膜は、内装建材等の室内用途に適応可能である。炭素ドープ二酸化チタンの炭素ドープ量を3〜7重量%に規定したのは、3重量%未満では炭素ドープ量不足で、二酸化チタンの紫外可視吸収スペクトルにおける可視光吸収帯の広がりが不十分となって、満足する可視光下での光触媒活性が得られないためであり、7重量%を越えると炭素ドープ量が過剰で、可視光下での光触媒活性は得られるものの、過剰な炭素ドープによる二酸化チタンの結晶性の低下が著しく、光触媒活性における全体の量子効率等が却って低減してしまう問題が生じるためである。
この大気開放型CVD法によって形成する多孔質光触媒膜の膜厚を上記範囲内に規定したのは下限値未満であると、薄すぎて十分な光触媒活性が得られず、上限値を越えると成膜時間がかかりすぎるため実用的ではないためである。このうち特に好ましい膜厚は1〜5μmである。また、気孔率を上記範囲内に規定したのは下限値未満であると、表面に露出する光触媒活性点が少なくなり十分な光触媒活性が得られず、上限値を越えると膜強度が弱くなり耐久性の面で使用に耐えないためである。このうち特に好ましい気孔率は60〜70%である。
本発明の多孔質光触媒膜は、膜表層に連通する開気孔のうち、孔径1〜1000nmの細孔における細孔表面積が全細孔表面積の50%以上を占めることが好ましい。孔径1nm未満であると、孔径が小さすぎて有機物質等の吸着に寄与することができない。孔径1〜1000nmの細孔は、分解対象となる有機物質等の分子を吸着取込みしやすいサイズであるため、上記細孔の表面積が全細孔表面積の50%以上を占めることで、十分な光触媒活性が得られる。細孔の表面積が全細孔表面積の50%未満であると、光触媒膜への有機分子等の物質の吸着能が不十分であるため、表面の露出する光触媒活性点が少なくなり、十分な光触媒活性が得られない。
図2に示すように、大気開放型CVD装置20は、内部に原料を載せる試料ボード21aが設置可能な原料気化器21と、原料気化ガスを基材11に向かって噴出する噴出ノズル22と、一方が気化器21の側部に接続され他方が噴出ノズル22頂部に接続された配管23と、気化器21で気化した原料気化ガスを配管23を介して噴出ノズル22へと運ぶキャリアガスの流量調節器24と、基材11を保持し、かつ水平方向に可動可能な基材加熱台26とをそれぞれ備える。また、噴出ノズル22の底部には所定幅のスリット22aが設けられる。基材加熱台26の内部にはヒータ26aが設けられ、基材加熱台26に保持した基材11を加熱する。
本発明の多孔質光触媒膜のアナターゼ型二酸化チタンである炭素ドープ二酸化チタンを構成する原料としては、原料を気化させ大気に放出した際に、大気中の酸素或いは水分等と反応して所定量の炭素が含有したアナターゼ型二酸化チタンを形成するものであれば特に限定されない。具体的には、チタンテトライソプロポキシド(Ti(i-C3H7O)4;以下、TTIPという。)、チタンテトライソブトキサイド(Ti(i-C4H9O)4)、チタンテトラエトキサイド(Ti(C2H5O)4)等が挙げられる。このうちTTIPは炭素ドープ二酸化チタンの炭素ドープ量を制御し易い。炭素ドープ二酸化チタンの炭素ドープ量を制御するために、TTIP等のチタン含有原料が70重量%以上の割合で含むように有機溶媒に溶解して溶液原料を調製し、この溶液原料を用いて成膜しても良い。溶液原料に使用する有機溶媒としてはイソプロピルアルコール、ヘキサン、シクロヘキサンが挙げられる。表面に多孔質光触媒膜を形成する基材11としては、原料気化ガスを吹付ける際における加熱に耐えられる材料であればどのような材料でも使用可能である。具体的には金属、金属酸化物、ガラス、陶磁器、セラミックス、プラスチック等が好ましい。キャリアガスとしては、加熱下で使用する原料と反応しない媒体であれば特に限定されない。具体的には、N2ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガス、乾燥空気等が挙げられる。なお、図2において符号27はキャリアガス供給源、符号28は原料気化器21、噴出ノズル22、基材加熱台26等を覆う防護チャンバ、符号29は開閉可能なチャンバ扉、符号31はチャンバ扉29の開閉を担うインターロックスイッチをそれぞれ示す。
このように大気開放型CVD装置により、膜厚を0.1〜10μmの範囲内に形成し、かつ気孔率を50〜80%に制御することで、図1に示すように、基材11表面に形成された多孔質光触媒膜12は、膜表層に多くの開気孔を有する構造となる。このような構造を有することで、膜表面に露出する光触媒活性点が多くなるため、十分な光触媒活性が得られる。
<実施例1>
先ず、原料としてTTIPが85重量%、イソプロピルアルコールが15重量%の割合となるように、TTIPをイソプロピルアルコールに溶解した溶液原料を、基材として30×30×1mmの石英ガラス基板をそれぞれ用意した。次いで、光触媒膜を形成する前の基板重量を、電子天秤(島津製作所社製IBA−200)を用いて測定した。次に、図2に示す大気開放型CVD装置を用いて、基板温度400℃、湿度30%、基板移動速度19mm/分、ノズル−基板距離15mm、キャリアガスとしてN2ガス、キャリアガス流量8L/分の条件で、石英ガラス基板上に炭素を含有した炭素ドープアナターゼ型二酸化チタン多孔質光触媒膜を形成した。
次に、得られた多孔質光触媒膜をX線光電子分光分析装置(X-ray Photoelectron Spectroscopy;XPS)により組成分析した結果、炭素含有率6.5重量%であることが判明した。また得られた多孔質光触媒膜を表面粗さ計(日本真空技術社製Dekktak3030)を用い、スキャン幅1mm、スキャン速度1/12(mm/秒)の条件で膜厚Tを測定した。得られた膜厚Tは5.6μmであった。次に、多孔質光触媒膜を形成した後の基板重量を電子天秤を用いて測定し、膜形成前の基板重量との差から多孔質光触媒膜の重量Mを求めた。
D(g/cm3)=M(mg)/[T(μm)×30×30]×103 ……(1)
次に、二酸化チタンのアナターゼ構造における真密度を3.84g/cm3として、次の計算式(2)から多孔質光触媒膜の気孔率Pを算出した。
P(%)=(1−D(g/cm3)/3.84)×100 ……(2)
上記式(2)より得られた多孔質光触媒膜の気孔率Pは62%であることがわかった。
キャリアガス流量を4L/分とした以外は実施例1と同様にして炭素ドープアナターゼ型二酸化チタン多孔質光触媒膜を得た。得られた多孔質光触媒膜の膜厚Tは1.5μm、気孔率Pは52%であった。
<実施例3>
キャリアガス流量を2L/分とした以外は実施例1と同様にして炭素ドープアナターゼ型二酸化チタン多孔質光触媒膜を得た。得られた多孔質光触媒膜の膜厚Tは0.9μm、気孔率Pは53%であった。
<実施例4>
キャリアガス流量を1L/分とした以外は実施例1と同様にして炭素ドープアナターゼ型二酸化チタン多孔質光触媒膜を得た。得られた多孔質光触媒膜の膜厚Tは0.23μm、気孔率Pは52%であった。
A社品の二酸化チタン光触媒膜を用意した。この二酸化チタン光触媒膜は、有機系のバインダに二酸化チタン粉末を少量分散して得られたスラリーを100×100×1mmの石英ガラス基板上に膜厚が10μmとなるように塗布して得られたものである。
<比較例2>
B社品の二酸化チタン光触媒膜を用意した。この二酸化チタン光触媒膜は、有機系のバインダに二酸化チタン粉末を約0.2重量%分散して得られたスラリーを100×100×1mmの石英ガラス基板上に膜厚が10μmとなるように塗布して得られたものである。
実施例1〜4で得られた多孔質光触媒膜及び比較例1,2の光触媒膜をそれぞれ用い、光触媒性能評価試験法IIa(2001年度版)ガスバックA法(光触媒製品技術協議会)
に準拠した方法により、アセトアルデヒドの分解活性を指標として、光触媒活性を測定した。先ず、コック付きテドラーバックに光触媒膜を有する石英ガラス基板を封入した。次いで、テドラーバック内にアセトアルデヒド濃度20ppmに調整した空気を1L充填した。次に、充填後のテドラーバックを30分間静置した。テドラーバックに空気を充填した直後、30分間静置後におけるテドラーバック中のアセトアルデヒド濃度をガス検知管(ガステック製;92M)にてそれぞれ測定した。続いて紫外線ランプを用いて30分間静置後のテドラーバックに波長350nm程度のUV光を照射した。実施例1〜4では、UV光照射30分後、1時間後、1時間30分後及び2時間後におけるテドラーバック中のアセトアルデヒド濃度をガス検知管によりそれぞれ測定した。また、比較例1及び2では、UV光照射1時間後、2時間後、3時間後、4時間後、5時間後及び6時間後におけるテドラーバック中のアセトアルデヒド濃度をガス検知管によりそれぞれ測定した。
実施例1〜4の多孔質光触媒膜を用いた試験におけるテドラーバック中のアセトアルデヒド残存率とUV光照射時間との関係を図3に、比較例1及び2の光触媒膜を用いた試験におけるテドラーバック中のアセトアルデヒド残存率とUV光照射時間との関係を図4にそれぞれ示す。
12 多孔質光触媒膜
Claims (4)
- アナターゼ型二酸化チタンを70〜100重量%含む多孔質光触媒膜において、
前記アナターゼ型二酸化チタンが二酸化チタンに3〜7重量%の炭素を含有した炭素ドープ二酸化チタンであり、
0.1〜10μmの範囲内の膜厚に形成され、かつ気孔率が50〜80%であることを特徴とする多孔質光触媒膜。 - 大気開放型化学気相析出法によって成膜することを特徴とする請求項1記載の多孔質光触媒膜。
- 比表面積が100〜1000m2/gの範囲内である請求項1記載の多孔質光触媒膜。
- 膜表層に連通する開気孔のうち、孔径1〜1000nmの細孔における細孔表面積が全細孔表面積の50%以上を占める請求項1記載の多孔質光触媒膜。
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JP (1) | JP2007075696A (ja) |
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- 2005-09-13 JP JP2005264595A patent/JP2007075696A/ja active Pending
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