ES2330585T3 - Procedimiento para formar un gel de silicona resistente al fundente. - Google Patents
Procedimiento para formar un gel de silicona resistente al fundente. Download PDFInfo
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Abstract
Un procedimiento para formar un gel de silicona resistente al fundente, que comprende aplicar una composición de gel de silicona curable que comprende: (A) 100 partes en masa de un organopolisiloxano terminado en diorganovinilsiloxi representado por una fórmula general (1) mostrada a continuación y que tiene una viscosidad a 25ºC dentro de un intervalo entre 50 y 50.000 mPa·s: en la que R representa un grupo hidrocarburo monovalente sustituido o sin sustituir que no contiene ningún enlace alifático insaturado y n representa un número entre 50 y 1.000, (B) de 10 a 200 partes en masa de un organopolisiloxano no funcional con una viscosidad a 25ºC dentro de un intervalo entre 20 y 10.000 mPa·s e inferior a la viscosidad a 25ºC del componente (A), (C) un organohidrogenopolisiloxano que contiene una media de tres o más átomos de hidrógeno enlazados a átomos de silicio dentro de cada molécula, en cantidad suficiente para que el número de moles de átomos de hidrógeno enlazados a átomos de silicio dentro de este componente (C) esté dentro de un intervalo entre 0,4 y 3,0 moles por 1 mol de grupos vinilo con enlace atómico de silicio dentro de dicho organopolisiloxano de dicho componente (A), y (D) una cantidad efectiva de un catalizador de reacción de hidrosililación en una ubicación en la que existe fundente para soldadura, y curarla ahí.
Description
Procedimiento para formar un gel de silicona
resistente al fundente.
La presente invención versa acerca de un
procedimiento para mejorar la resistencia de un gel de silicona al
fundente y de una composición de gel de silicona resistente al
fundente usado en tal procedimiento.
Los productos geloideos curados de siliconas
(organopolisiloxanos) (aludidos en lo sucesivo como "geles de
silicona") presentan propiedades de aislamiento eléctrico
excelentes, una excelente estabilidad de las propiedades eléctricas
y una flexibilidad superior. En consecuencia, se usan de forma
generalizada para la encapsulación y el sellado de componentes
eléctricos y electrónicos. En particular, son usados como materiales
de revestimiento para cubrir elementos de circuitos de control,
como los transistores de potencia, los CI y los condensadores,
protegiendo con ello los elementos de averías térmicas y mecánicas.
Existen muchos ejemplos convencionales de composiciones curables de
organopolisiloxanos de adición que pueden usarse para formar estos
geles de silicona. Por ejemplo, es de conocimiento generalizado la
producción de un gel de silicona que usa la reacción de adición
entre un organopolisiloxano que contiene grupos vinilo enlazados a
átomos de silicio, y un organohidrogenopolisiloxano que contiene
átomos de hidrógeno enlazados a átomos de silicio en presencia de un
catalizador basado en el platino (véanse referencias de patentes 1
a 7).
Sin embargo, en años recientes, para prevenir la
contaminación ambiental ha habido una tendencia hacia la
minimización de la limpieza de los sustratos usados para los
componentes eléctricos y electrónicos, como los sustratos de CI. En
consecuencia, las probabilidades de contacto directo entre el
fundente residual para soldadura dejado en la superficie del
sustrato y la composición de silicona curable de adición usada para
sellar el sustrato han aumentado significativamente, lo que ha dado
por resultado problemas causados por el fundente para soldadura,
como la inhibición del curado, la falta de curado en la superficie
de contacto con el sustrato y una reducción de la dureza del
producto curado. Los geles de silicona tienen una densidad de
reticulación sumamente baja y, por lo tanto, son particularmente
propensos a la inhibición del curado causada por el fundente para
soldadura. Las contramedidas tomadas para mejorar esta situación de
la inhibición del curado de las composiciones de geles de silicona
causada por el fundente para soldadura incluyen las técnicas
desveladas en las publicaciones de patente enumeradas más abajo. La
referencia de patente 8 desvela el uso de hexametildisilazano. La
referencia de patente 9 desvela el uso de un silil acetal de
cetena. La referencia de patente 10 desvela el uso de un
organopolisiloxano que comprende una estructura ramificada. La
referencia de patente 11 desvela el uso de un organopolisiloxano en
el que del 5 al 30% mol de los grupos terminales moleculares son
grupos trivinilsililo. Sin embargo, el uso de aditivos introduce
diferentes problemas, incluida la degradación de los aditivos
mediante hidrólisis durante el almacenaje de la composición, y la
volatilización de los aditivos durante el proceso de curado en
caliente. Además, el uso de un organopolisiloxano específico suscita
también problemas en términos de una versatilidad reducida y de
viabilidad económica.
La referencia de patente 12 desvela una
composición de gel de silicona que comprende un organopolisiloxano
en el que una media de 0,15 a 0,35% mol de los grupos orgánicos con
enlace atómico son grupos alquenilo, un organopolisiloxano no
funcional, un organohidrogenopolisiloxano que comprende una media de
2 átomos de hidrógeno con enlace atómico dentro de cada molécula, y
un catalizador de reacción de adición. Un ejemplo 1 en la referencia
de esta patente describe un gel de silicona que comprende un
organopolisiloxano que contiene grupos vinilo de cadena lateral, un
organohidrogenopolisiloxano que contiene grupos SiH en los
terminales moleculares, y organopolisiloxano no funcional. Sin
embargo, el gel de silicona obtenido tras el curado de esta
composición no presenta una resistencia adecuada al fundente para
soldadura.
\vskip1.000000\baselineskip
[Referencia de patente 1] GB 1 373 055 A
[Referencia de patente 2] GB 1 582 081 A
[Referencia de patente 3] GB 2 004 902 A
[Referencia de patente 4] Publicación japonesa
expuesta al público (kokai) Nº Sho 56-143241
[Referencia de patente 5] Publicación japonesa
expuesta al público (kokai) Nº Sho 62-39658
[Referencia de patente 6] Publicación japonesa
expuesta al público (kokai) Nº Sho 63-35655
[Referencia de patente 7] USP 4.771.119
[Referencia de patente 8] Publicación japonesa
expuesta al público (kokai) Nº Sho 62-290754
[Referencia de patente 9] Publicación japonesa
expuesta al público (kokai) Nº Sho 63-165455
[Referencia de patente 10] Publicación japonesa
expuesta al público (kokai) Nº Sho 63-246856
[Referencia de patente 11] EP 0 471 475 A2
[Referencia de patente 12] USP 5.571.853
\vskip1.000000\baselineskip
En consecuencia, un objeto de la presente
invención es proporcionar una composición de un gel de silicona
curable que no sufre pérdida alguna en curabilidad si se aplica en
una ubicación en el que existe fundente para soldadura, y que puede
ser usado de forma efectiva como material protector o material
aislante para un CI o cableado o similares, y también proporcionar
un procedimiento para mejorar la resistencia de un gel de silicona
al fundente mediante el uso de tal composición, y un procedimiento
para formar un gel de silicona resistente al fundente usando tal
composi-
ción.
ción.
Como resultado de intensa investigación que
tenía por objetivo la consecución del objeto anterior, los
inventores de la presente invención descubrieron que un gel de
silicona obtenido tras el curado de una composición descrita más
abajo presentaba excelente resistencia al fundente para soldadura,
y, por lo tanto, fueron capaces de completar la presente
invención.
En otras palabras, un primer aspecto de la
presente invención proporciona un procedimiento para formar un gel
de silicona resistente al fundente que comprende aplicar una
composición de gel de silicona curable que comprende:
- (A)
- 100 partes en masa de un organopolisiloxano terminado en diorganovinilsiloxi representado por una fórmula general (1) mostrada a continuación y que tiene una viscosidad a 25ºC dentro de un intervalo entre 50 y 50.000 mPa\cdots:
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
- [en la que R representa un grupo hidrocarburo monovalente sustituido o sin sustituir que no contiene ningún enlace alifático insaturado y n representa un número entre 50 y 1.000],
- (B)
- de 10 a 200 partes en masa de un organopolisiloxano no funcional con una viscosidad a 25ºC dentro de un intervalo entre 20 y 10.000 mPa\cdots e inferior a la viscosidad a 25ºC del componente (A),
- (C)
- un organohidrogenopolisiloxano que contiene una media de tres o más átomos de hidrógeno enlazados a átomos de silicio dentro de cada molécula, en cantidad suficiente para que el número de moles de átomos de hidrógeno enlazados a átomos de silicio dentro de este componente (C) esté dentro de un intervalo entre 0,4 y 3,0 moles por 1 mol de grupos vinilo con enlace atómico de silicio dentro del componente (A) de organopolisiloxano, y
- (D)
- una cantidad catalítica de un catalizador de reacción de hidrosililación en una ubicación en la que existe fundente para soldadura, y curarla ahí.
\vskip1.000000\baselineskip
La composición de la presente invención es
resistente a la inhibición del curado y es capaz de formar un gel
de silicona con las propiedades deseadas, incluso cuando es aplicado
y cura en una ubicación en la que existe fundente residual para
soldadura. En consecuencia, la composición es útil para la
encapsulación y el sallado de componentes eléctricos y
electrónicos, y es particularmente útil como material de
revestimiento para cubrir elementos de circuitos de control, como
los transistores de potencia, los CI y los condensadores,
protegiendo con ello los elementos de averías térmicas y
mecánicas.
\vskip1.000000\baselineskip
Lo que sigue es una descripción más detallada de
la presente invención.
El organopolisiloxano del componente (A) es un
diorganopolisiloxano de cadena recta representado por la fórmula
general (1) mostrada a continuación, en la que la cadena principal
está formada de unidades repetitivas de diorganosiloxano y ambos
terminales de la cadena molecular están bloqueados con grupos
diorganovinilsiloxi (en esta descripción, la expresión "grupo
organo-" se refiere a grupo hidrocarburo monovalente sustituido
o sin sustituir que no contiene ningún enlace alifático insaturado).
En una composición de gel de silicona curable de la presente
invención, para mejorar la resistencia al fundente, es importante
que el componente (A) que actúa como polímero base sea una
estructura de cadena de siloxano de cadena recta formada de unidades
repetitivas bifuncionales de diorganosiloxano, en la que todas las
unidades de siloxano monofuncional que constituyen los terminales
de la cadena molecular contienen un grupo vinilo enlazado al átomo
terminal de silicio.
En la fórmula general (1), R representa un grupo
hidrocarburo monovalente sustituido o sin sustituir que excluye
grupos de hidrocarburos alifáticos insaturados como los grupos
alquenilo, y los ejemplos específicos incluyen los grupos alquilo
como el grupo metilo, el grupo etilo, el grupo propilo, el grupo
butilo, el grupo pentilo, el grupo hexilo, el grupo ciclohexilo o
el grupo heptilo; los grupos arilo como el grupo fenilo, el grupo
tolilo, el grupo xililo o el grupo naftilo; los grupos aralquilo
como el grupo bencilo o el grupo fenetilo; y los grupos alquilo
halogenados como el grupo clorometilo, el grupo
3-cloropropilo o el grupo
3,3,3-trifluoropropilo. n representa un número
entre 50 y 1.000.
La viscosidad a 25ºC de este organopolisiloxano
está dentro de un intervalo entre 50 y 50.000 mPa\cdots, y está
preferentemente entre 100 y 10.000 mPa\cdots.
El organopolisiloxano no funcional del
componente (B) es, por ejemplo, un organopolisiloxano no funcional
de cadena recta o ramificado, y preferentemente un
organopolisiloxano no funcional de cadena recta, representado por
una fórmula (2) de composición media mostrada a continuación:
(2)R^{1}_{a}SiO_{(4-a)/2}
[en la que R^{1} representa un
grupo hidrocarburo monovalente sustituido o sin sustituir que
excluye grupos de hidrocarburos alifáticos insaturados como los
grupos alquenilo, y a es un número que satisface 0 < a < 3, y
que es preferentemente un número dentro del intervalo entre 1,95 y
2,2, y aún más preferentemente entre 1,98 y 2,05]. La expresión
"no funcional" significa que este organopolisiloxano no
contiene ningún grupo funcional que contribuya a la reacción de
adición entre los grupos alquenilo dentro del componente (A) y los
grupos hidrosililo (grupo SiH) dentro del componente
(B).
\vskip1.000000\baselineskip
Los ejemplos del grupo R^{1} en la fórmula
anterior incluyen los mismos grupos enumerados más arriba en
relación con el grupo R. Los ejemplos específicos de los
organopolisiloxanos no funcionales incluyen los
diorganopolisiloxanos con ambos terminales de la cadena molecular
bloqueados con grupos triorganosiloxi (aquí, la expresión "grupo
organo-" es como se definió más arriba para el componente (A)),
como el dimetilpolisiloxano con ambos terminales bloqueados con
grupos trimetilsiloxi, los copolímeros de dimetilsiloxano y
difenilsiloxano con ambos terminales bloqueados con grupos
trimetilsiloxi, los copolímeros de dimetilsiloxano y
metilfenilsiloxano con ambos terminales bloqueados con grupos
dimetilfenilsiloxi.
El componente (B) actúa como plastificante
dentro de la composición de la presente invención, y la dureza del
producto curado geloideo generado tras el curado de la composición
puede ser regulada ajustando la cantidad del componente (B) en la
mezcla. Según aumenta la cantidad del componente (B) en la mezcla,
disminuye la dureza del producto curado geloideo, produciéndose un
producto más blando. Si la cantidad del componente (B) en la mezcla
es demasiado pequeña, entonces el producto curado geloideo no puede
ser ablandado de forma adecuada, mientras que si la cantidad en la
mezcla es demasiado grande, el componente (B) puede exudarse del
producto curado geloideo.
La viscosidad del componente (B) a 25ºC está
dentro de un intervalo entre 20 y 10.000 mPa\cdots, y está
preferentemente entre 20 y 8.000 mPa\cdots, y aún más entre 50 y
5.000 mPa\cdots. Preferentemente, la viscosidad del componente
(B) es inferior a la del componente (A).
La cantidad del componente (B) en la mezcla está
preferentemente dentro de un intervalo entre 10 y 200 partes en
masa, y aún más preferentemente entre 50 y 100 partes en masa, por
100 partes en masa del componente (A).
El componente (C) es un
organohidrogenopolisiloxano que contiene una media de 3 o más átomos
de hidrógeno enlazados con átomos de silicio (concretamente, grupos
hidrosililo representados por SiH) dentro de cada molécula, y actúa
como agente reticulante dentro de la composición de la presente
invención.
No existen restricciones particulares sobre la
estructura molecular del organohidrogenopolisiloxano del componente
(C), y pueden usarse estructuras de cadena recta, cíclicas, de
cadena ramificada o de red tridimensional (de tipo resina), pero el
organohidrogenopolisiloxano debe contener una media de 3 o más
átomos de hidrógeno enlazados con átomos de silicio (grupos
hidrosililo representados por SiH) dentro de cada molécula, y
preferentemente contiene al menos 3 grupos SiH dentro de cada
molécula. Típicamente, el organohidrogenopolisiloxano contiene una
media de 3 a 200, y preferentemente de 3 a 150, y aún más
preferentemente de 4 a 100 grupos SiH dentro de cada molécula.
Los ejemplos de este organohidrogenopolisiloxano
incluyen compuestos representados por una fórmula (3) de
composición media mostrada a continuación:
(3)R^{2}_{b}H_{c}SiO_{(4-b-C)/2}
En la fórmula (3) anterior, R^{2} representa
un grupo hidrocarburo monovalente sustituido o sin sustituir que no
contiene enlace alifático insaturado alguno, que preferentemente
contiene de 1 a 10 átomos de carbono, y que está enlazado a un
átomo de silicio. Los ejemplos específicos de grupos hidrocarburo
monovalentes sustituidos o sin sustituir de este grupo R^{2}
incluyen grupos alquilo como el grupo metilo, el grupo etilo, el
grupo propilo, el grupo isopropilo, el grupo butilo, el grupo
isobutilo, el grupo tertbutilo, el grupo pentilo, el grupo
neopentilo, el grupo hexilo, el grupo ciclohexilo, el grupo octilo,
el grupo nonilo o el grupo decilo; los grupos arilo como el grupo
fenilo, el grupo tolilo, el grupo xililo o el grupo naftilo; los
grupos aralquilo como el grupo bencilo, el grupo feniletilo o el
grupo fenilpropilo; y los grupos en los que una porción o la
totalidad de los átomos de hidrógeno en un grupo mencionado
anteriormente ha sido sustituida con un átomo del grupo halógeno,
como un átomo de flúor, de bromo o de cloro, como un grupo
clorometilo, un grupo cloropropilo, un grupo bromoetilo o un grupo
trifluoropropilo. El grupo hidrocarburo monovalente sustituido o sin
sustituir de R^{2} es preferentemente un grupo alquilo o un grupo
arilo, y lo más preferente es que sea un grupo metilo o un grupo
fenilo. Además, b es un número positivo dentro de un intervalo de
0,7 a 2,1, c es un número positivo dentro de un intervalo de 0,001
a 1,0, y b+c es un número positivo dentro de un intervalo de 0,8 a
3,0. Además, b está preferentemente dentro de un intervalo de 1,0 a
2,0, c está preferentemente entre 0,01 y 1,0, y b+c está
preferentemente dentro de un intervalo de 1,5 a 2,5.
La media de 3 o más grupos SiH dentro de cada
molécula, que preferentemente incluye al menos 3 grupos SiH dentro
de cada molécula, puede ubicarse en los terminales de la cadena
molecular o en posiciones no terminales dentro de la cadena
molecular, o puede ubicarse también en ambas posiciones. Además, la
estructura molecular de este organohidrogenopolisiloxano puede ser
una cualquiera de entre cadena recta, cíclica, de cadena ramificada
o de red tridimensional, aunque el número de átomos de silicio
dentro de cada molécula (es decir, el grado de polimerización) está
típicamente dentro de un intervalo de 2 a 300, y está
preferentemente entre 3 y 150, y aún más preferentemente entre 4 y
100. El organohidrogenopolisiloxano es típicamente un líquido a
temperatura ambiente (25ºC), con una viscosidad a 25ºC que está
típicamente dentro de un intervalo entre 0,1 y 1.000 mPa\cdots,
preferentemente entre 0,5 y 1.000 mPa\cdots, y aún más
preferentemente entre 5 y 500 mPa\cdots.
Dado que el organohidrogenopolisiloxano del
componente (C) contiene una media global de 3 o más grupos SiH por
molécula, el componente puede incluir también
organohidrogenopolisiloxanos que contienen únicamente 1 o 2 grupos
SiH dentro de cada molécula.
Los ejemplos específicos del
organohidrogenopolisiloxano del componente (C) incluyen el
1,1,3,3-tetrametildisiloxano, el
1,3,5,7-tetrametilciclotetrasiloxano, el
tris(hidrogenodimetilsiloxi)metilsilano, el
tris(hidrogenodimetilsiloxi) fenilsilano, el
metilhidrogenociclopolisiloxano, los copolímeros cíclicos de
metilhidrogenosiloxano y de dimetilsiloxano, el
metilhidrogenopolisiloxano con ambos terminales de cadena molecular
bloqueados con grupos trimetilsiloxi, los copolímeros de
dimetilsiloxano y de metilhidrogenosiloxano con ambos terminales
bloqueados con grupos trimetilsiloxi, el dimetilpolisiloxano con
ambos terminales bloqueados con grupos dimetilhidrogenosiloxi, los
copolímeros de dimetilsiloxano y de metilhidrogenosiloxano con ambos
terminales bloqueados con grupos dimetilhidrogenosiloxi, los
copolímeros de metilhidrogenosiloxano y de difenilsiloxano con ambos
terminales bloqueados con grupos trimetilsiloxi, los copolímeros de
metilhidrogenosiloxano, de difenilsiloxano y de dimetilsiloxano con
ambos terminales bloqueados con grupos trimetilsiloxi, los
copolímeros de metilhidrogenosiloxano, de metilfenilsiloxano y de
dimetilsiloxano con ambos terminales bloqueados con grupos
trimetilsiloxi, los copolímeros de metilhidrogenosiloxano, de
dimetilsiloxano y de difenilsiloxano con ambos terminales bloqueados
con grupos dimetilhidrogenosiloxi, los copolímeros de
metilhidrogenosiloxano, de dimetilsiloxano y de metilfenilsiloxano
con ambos terminales bloqueados con grupos dimetilhidrogenosiloxi,
los copolímeros formados de unidades de
(CH_{3})_{2}HSiO_{1/2}, unidades de
(CH_{3})3SiO_{1/2} y unidades de SiO_{4/2}, los
copolímeros formados de unidades de
(CH_{3})_{2}HSiO_{1/2} y unidades de SiO_{4/2}, y
los copolímeros formados de unidades de
(CH_{3})HSiO_{1/2}, unidades de SiO_{4/2} y unidades
de (C_{6}H_{5})_{3}SiO_{1/2}, al igual que los
compuestos en los que una porción o la totalidad de los grupos
metilo en un compuesto descrito arriba ha sido sustituida o con
otros grupos alquilo como los grupos etilo o los grupos propilo, o
con grupos fenilo o similares.
De estos compuestos, se prefieren los
organohidrogenopolisiloxanos en los que las unidades bifuncionales
de siloxano de la cadena principal son todas unidades de
organohidrogenosiloxano y en las que ambos terminales están
bloqueados con grupos triorganosiloxi (aquí, un "grupo organo-"
es como se definió más arriba para los componentes (A) y (B), es
decir, un grupo hidrocarburo monovalente sustituido o sin sustituir
que no contiene ningún enlace alifático insaturado), como el
metilhidrogenopolisiloxano con ambos terminales bloqueados con
grupos trimetilsiloxi, dado que proporcionan una mejora favorable en
la resistencia al fundente. Concretamente, se prefieren
organohidrogenopolisiloxanos representados por una fórmula
general:
en la que los grupos R^{2} son
como se ha definido más arriba y m es un número medio entre 3 y
198.
La cantidad del componente (C) en la mezcla debe
ser suficiente para que por cada mol de grupos de vinilo enlazados
con átomos de silicio dentro del componente (A), el número de moles
de átomos de hidrógeno enlazados con átomos de silicio dentro del
componente (C) esté dentro de un intervalo de 0,4 a 3,0 moles,
preferentemente de 0,4 a 2,5 moles, y aún más preferentemente de
0,5 a 2,0 moles. Si esta cantidad de átomos de hidrógeno es menor
de 0,4, la composición puede no curar de forma satisfactoria.
Además, si la cantidad de átomos de hidrógeno supera los 3,0 moles,
la resistencia al calor del producto curado puede deteriorarse
significativamente.
No existen restricciones particulares en cuanto
al catalizador de la reacción de hidrosililación del componente
(D), con la condición de que acelere la reacción de adición (la
reacción de hidrosililación) entre la organopolisiloxano que
contiene grupos vinilo del componente (A) y el
organohidrogenopolisiloxano del componente (C). Como componente (D)
pueden usarse catalizadores convencionales de la reacción de
hidrosililación. Los ejemplos específicos de catalizadores
adecuados incluyen el ácido cloroplatínico, el ácido cloroplatínico
modificado con alcohol, los compuestos de coordinación del ácido
cloroplatínico con olefinas, vinilsiloxano o compuestos de
acetileno, el tetraquis(trifenilfosfina)paladio y el
clorotris(trifenilfosfina)rodio. De estos, se
prefieren los compuestos basados en el platino.
La cantidad añadida del componente (D) solo hace
falta que sea suficiente para que sea efectiva como catalizador de
la reacción de hidrosililación, y la cantidad puede ser alterada en
conformidad con la tasa de curado deseada. Calculada como la masa
del elemento metálico catalítico con respecto a la masa combinada de
los componentes (A), (B) y (C), la cantidad de catalizador está
típicamente dentro de un intervalo de 0,1 a 1.000 ppm,
preferentemente de 1 a 500 ppm, y aún más preferentemente de 10 a
100 ppm. Si la cantidad es demasiado grande, la reacción resulta
indeseable desde un punto de vista económico.
Además de los componentes (A) a (D) descritos
más arriba, pueden también añadirse otros componentes opcionales a
la composición de la presente invención según se requiera, con la
condición de que tal adición no perjudicar el objeto de la presente
invención. Por ejemplo, puede usarse cualquiera de los compuestos
agentes retardadores convencionales que exhiba un efecto inhibidor
del curado sobre el catalizador de la reacción de adición. Los
ejemplos específicos de estos compuestos incluyen los compuestos que
contienen fósforo, como la trifenilfosfina, los compuestos que
contienen nitrógeno, como la tributilamina, la
tetrametiletilendiamina y el benzotriazol, al igual que los
compuestos que contienen azufre, los compuestos basados en el
acetileno, los compuestos que contienen 2 o más grupos alquenilo,
los compuestos hidroperoxi y los derivados del ácido maleico. El
grado del efecto de retardo del curado causado por el compuesto del
agente retardador varía considerablemente dependiendo de la
estructura química del agente retardador usado, y, en consecuencia,
la cantidad añadida es preferible ajustarla a la cantidad óptima
para ese agente retardador particular. Generalmente, si la cantidad
añadida es demasiado pequeña, la estabilidad de almacenamiento a
largo plazo de la composición a temperatura ambiente puede ser
deficiente, mientras que si la cantidad añadida es demasiado grande
existe el peligro de que el proceso de curado pueda verse
perjudicado.
Los ejemplos de otros componentes opcionales
incluyen materiales inorgánicos de carga como la sílice cristalina,
materiales huecos de carga, silsesquioxanos, dióxido de titanio
azufrado, óxido de magnesio, óxido de cinc, óxido de hierro,
hidróxido de aluminio, carbonato de magnesio, carbonato de calcio,
carbonato de cinc, mica estratificada, negro de humo, tierra de
diatomeas y fibra de vidrio; y materiales de carga como los
descritos más arriba que han sido sometidos a un tratamiento
superficial con un compuesto organosilícico, como un compuesto
organoalcoxisilano, un compuesto organoclorosilano, un compuesto
organosilazánico, o un compuesto de siloxano de bajo peso
molecular. Además, también pueden añadirse polvos de caucho de
silicona y polvos de resina de silicona.
Adicionalmente, pueden añadirse también como
componentes opcionales aditivos resistentes al calor, pigmentos,
tintes y agentes antimoho y similares.
La composición de la presente invención forma un
gel de silicona tras el curado. En esta descripción, la expresión
"gel de silicona" describe un producto curado con una densidad
de reticulación reducida que comprende un organopolisiloxano como
componente principal, en el que el valor de penetración (o valor de
consistencia) (de cono de 1/4) medido de acuerdo con JIS K2220 está
dentro de un intervalo de 20 a 200, preferentemente de 15 a 200, y
aún más preferentemente de 20 a 150. Esto corresponde a un valor de
dureza del caucho medido de acuerdo con un JIS K6301 de cero, lo
que indica que el gel no presenta dureza de caucho efectiva (y que,
por lo tanto, es blando). En este respecto, el gel de silicona de
la presente invención difiere de lo que se denomina productos
curados de caucho de silicona (elastómeros de tipo caucho).
La composición de la presente invención es
curada y convertida en un gel de silicona o bien dejándola reposar
durante aproximadamente 24 horas a temperatura ambiente
(aproximadamente 25ºC), o calentando a una temperatura de 40 a
150ºC.
La composición de la presente invención puede
ser usada para ser aplicada y curar dentro de emplazamientos donde
existe fundente para soldadura. En otras palabras, aunque la
tendencia hacia la minimización de la limpieza de los sustratos
para los circuitos eléctricos y electrónicos, como los sustratos de
CI, ha aumentado la probabilidad de que exista fundente residual
para soldadura en la superficie de estos sustratos durante los
procesos de montaje de semiconductores, la composición de la
presente invención puede seguir siendo aplicada y curándose dentro
de estos emplazamientos en los que existe fundente para soldadura,
formando con ello un revestimiento que sella, aísla y protege los
componentes subyacentes, además de absorber las vibraciones y los
golpes mecánicos. Cuando se usa de esta manera, la composición de
la presente invención presenta una excelente resistencia al
fundente, no sufre inhibición alguna al curado y es capaz de sellar
y de cubrir el sustrato de manera estable, sin pérdida alguna de
las excelentes propiedades de aislamiento eléctrico, de la excelente
estabilidad de las propiedades eléctricas y con la flexibilidad
superior esperada de un gel de silicona.
En consecuencia, al curar la composición, el
nivel de resistencia al fundente del gel de silicona puede ser
mejorado, y puede formarse un gel de silicona con una excelente
resistencia al fundente.
Los ejemplos de los componentes del fundente
influyen los ácidos de resinas, como el ácido abiético, el ácido
dextropimárico y el ácido levopimárico, al igual que los
hidrocloruros de aminas y similares.
En la descripción siguiente, los valores de
viscosidad se refieren a valores medidos a 25ºC. Además, las
proporciones SiH/SiVi se refieren a proporciones molares.
- (a)
- 100 partes en masa de un dimetrilpolisiloxano con ambos terminales de la cadena molecular bloqueados con grupos dimetilvinilsiloxi, y con una viscosidad de 5.000 mPa\cdots,
- (b)
- 100 partes en masa de un dimetilpolisiloxano con ambos terminales de la cadena molecular bloqueados con grupos trimetilsiloxi, y con una viscosidad de 100 mPa\cdots,
- (c)
- 0,32 partes en masa de un metilhidrogenopolisiloxano con ambos terminales de la cadena molecular bloqueados con grupos trimetilsiloxi, y con una viscosidad de 250 mPa\cdots (cantidad de átomos de átomos de hidrógeno con enlace atómico a silicio = 1,08% en masa; número de esos átomos de hidrógeno dentro de cada molécula: una media de aproximadamente 45) (la proporción molar de los átomos de hidrógeno con enlace atómico a silicio dentro de este componente (c) con respecto a los grupos vinilo con enlace atómico a silicio dentro del componente (a), es decir, SiH/SiVi = 0,57),
- (d)
- 0,1 partes en masa de 1-etinilciclohexanol, y
- (e)
- un complejo de ácido cloroplatínico y diviniltetrametildisiloxano en cantidad suficiente como para proporcionar una masa del metal platino, con respecto a la masa combinada de todos los componentes, de 5 ppm
se mezclaron conjuntamente para preparar una
composición A.
\vskip1.000000\baselineskip
En primer lugar, la composición preparada fue
curada calentando a 120ºC durante 60 minutos, formándose así un
producto de gel transparente. La dureza (valor de penetración) de
este gel se midió usando un penetrómetro prescrito en JIS K2220 (un
cono de escala 1/4).
Subsiguientemente, se preparó un fundente
disolviendo ácido abiético en tolueno para formar una solución al
10%. Se añadió esta solución a la composición preparada en cantidad
suficiente para que la concentración de ácido abiético dentro de la
composición fuera de 300 ppm, se curó la composición calentando a
120ºC durante 60 minutos, y la dureza (valor de penetración) del
producto de gel se midió usando un penetrómetro prescrito en JIS
K2220 (un cono de escala 1/4).
Los resultados se muestran en la Tabla 1.
\vskip1.000000\baselineskip
Con las excepciones de alterar la cantidad del
componente (b) a 50 partes en masa y de alterar la cantidad del
componente (c) a 0,34 partes en masa (SiH/SiVi = 0,62), se preparó
una composición B de la misma manera que en el ejemplo 1.
La resistencia al fundente de la composición
preparada se evaluó de la misma manera que en el ejemplo 1. Los
resultados se muestran en la Tabla 1.
\vskip1.000000\baselineskip
Ejemplo comparativo
1
Con las excepciones de no añadir el componente
(b) y de alterar la cantidad del componente (c) a 0,22 partes en
masa (SiH/SiVi = 0,4), se preparó una composición C de la misma
manera que en el ejemplo 1.
La resistencia al fundente de la composición
preparada se evaluó de la misma manera que en el ejemplo 1. Los
resultados se muestran en la Tabla 1.
\vskip1.000000\baselineskip
Ejemplo comparativo
2
- 100 partes en masa de un dimetrilpolisiloxano con ambos terminales de la cadena molecular bloqueados con grupos trimetilsiloxi, y con una viscosidad de 1.000 mPa\cdots, en las que el 99,6% mol de las unidades de diorganosiloxano que constituyen la cadena principal son unidades de dimetilsiloxano y en las que el 0,4% mol restante son unidades de vinilmetilsiloxano,
- 85 partes en masa de un dimetilpolisiloxano con ambos terminales de la cadena molecular bloqueados con grupos trimetilsiloxi, y con una viscosidad de 1.000 mPa\cdots,
- 4,86 partes en masa de un metilpolisiloxano con átomos de hidrógeno con enlace atómico a silicio en ambos terminales de la cadena molecular y con una viscosidad a 25ºC de 18 mPa\cdots (cantidad de átomos de átomos de hidrógeno con enlace atómico a silicio = 0,13% en masa; número de esos átomos de hidrógeno dentro de cada molécula: una media de 2) (SiH/SiVi = 1,15),
- 0,1 partes en masa de 1-etinilciclohexanol, y
- un complejo de ácido cloroplatínico y diviniltetrametildisiloxano en cantidad suficiente como para proporcionar una masa del metal platino, con respecto a la masa combinada de todos los componentes, de 5 ppm
se mezclaron conjuntamente para preparar una
composición D.
\vskip1.000000\baselineskip
La resistencia al fundente de la composición
preparada se evaluó de la misma manera que en el ejemplo 1. Los
resultados se muestran en la Tabla 1.
\vskip1.000000\baselineskip
Ejemplo comparativo
3
- 100 partes en masa de un dimetrilpolisiloxano con una viscosidad de 800 mPa\cdots, en las que, de las dos unidades siloxi monofuncionales en los terminales de la cadena molecular, una media de 0,58 unidades están bloqueadas con grupos dimetilvinilsiloxi, y, en las que la media restante de 1,42 unidades están bloqueadas con grupos trimetilsiloxi,
- 25 partes en masa de un dimetilpolisiloxano con ambos terminales de la cadena molecular bloqueados con grupos trimetilsiloxi, y con una viscosidad de 1.000 mPa\cdots,
- 0,7 partes en masa de un metilhidrogenopolisiloxano con ambos terminales de la cadena molecular bloqueados con grupos trimetilsiloxi, y con una viscosidad de 100 mPa\cdots (cantidad de átomos de átomos de hidrógeno con enlace atómico a silicio = 0,51% en masa; número de esos átomos de hidrógeno dentro de cada molécula: una media de aproximadamente 16) (la proporción molar de los átomos de hidrógeno con enlace atómico a silicio dentro de este componente con respecto a los grupos vinilo anteriores, es decir, SiH/SiVi = 0,94),
- 0,1 partes en masa de 1-etinilciclohexanol, y
- un complejo de ácido cloroplatínico y diviniltetrametildisiloxano en cantidad suficiente como para proporcionar una masa del metal platino, con respecto a la masa combinada de todos los componentes, de 5 ppm
se mezclaron conjuntamente para preparar una
composición E.
\vskip1.000000\baselineskip
La resistencia al fundente de la composición
preparada se evaluó de la misma manera que en el ejemplo 1. Los
resultados se muestran en la Tabla 1.
Claims (10)
1. Un procedimiento para formar un gel de
silicona resistente al fundente, que comprende aplicar una
composición de gel de silicona curable que comprende:
- (A)
- 100 partes en masa de un organopolisiloxano terminado en diorganovinilsiloxi representado por una fórmula general (1) mostrada a continuación y que tiene una viscosidad a 25ºC dentro de un intervalo entre 50 y 50.000 mPa\cdots:
- en la que R representa un grupo hidrocarburo monovalente sustituido o sin sustituir que no contiene ningún enlace alifático insaturado y n representa un número entre 50 y 1.000,
- (B)
- de 10 a 200 partes en masa de un organopolisiloxano no funcional con una viscosidad a 25ºC dentro de un intervalo entre 20 y 10.000 mPa\cdots e inferior a la viscosidad a 25ºC del componente (A),
- (C)
- un organohidrogenopolisiloxano que contiene una media de tres o más átomos de hidrógeno enlazados a átomos de silicio dentro de cada molécula, en cantidad suficiente para que el número de moles de átomos de hidrógeno enlazados a átomos de silicio dentro de este componente (C) esté dentro de un intervalo entre 0,4 y 3,0 moles por 1 mol de grupos vinilo con enlace atómico de silicio dentro de dicho organopolisiloxano de dicho componente (A), y
- (D)
- una cantidad efectiva de un catalizador de reacción de hidrosililación en una ubicación en la que existe fundente para soldadura, y curarla ahí.
2. Un procedimiento para formar en un sustrato
un revestimiento con gel de silicona, que comprende aplicar la
composición definida en la reivindicación 1 a un sustrato en el cual
existe fundente para soldadura, y curar dicha composición para
formar un revestimiento de gel de silicona en el sustrato.
3. El procedimiento conforme a una cualquiera de
las reivindicaciones precedentes, en el que dicho organopolisiloxano
de dicho componente (B) es un organopolisiloxano no funcional de
cadena recta o ramificada representado por una fórmula (2) de
composición media mostrada a continuación:
(2)R^{1}_{a}SiO_{(4-a)/2}
en la que R^{1} representa un
grupo hidrocarburo monovalente sustituido o sin sustituir que
excluye grupos de hidrocarburos alifáticos insaturados y a es un
número que satisface 0 < a <
3.
4. El procedimiento conforme a una cualquiera de
las reivindicaciones precedentes, en el que dicho
organohidrogenopolisiloxano de dicho componente (C) contiene una
media de 3 a 200 átomos de hidrógeno enlazados con átomos de silicio
dentro de cada molécula.
5. El procedimiento conforme a una cualquiera de
las reivindicaciones precedentes, en el que dicho
organohidrogenopolisiloxano de dicho componente (C) tiene una
viscosidad a 25ºC dentro de un intervalo entre 0,1 y 1.000
mPa\cdots.
6. El procedimiento conforme a la reivindicación
5, en el que dicho organohidrogenopolisiloxano de dicho componente
(C) está representado por la fórmula general mostrada a
continuación:
en la que cada grupo R^{2}
representa un grupo hidrocarburo monovalente sustituido o sin
sustituir que no contiene ningún enlace alifático insaturado, y m
es un número medio entre 3 y
198.
7. Un elemento de circuito de control cubierto
que comprende un elemento de circuito de control en el que existe
fundente residual para soldadura, y un gel de silicona que cubre
dicho elemento del circuito de control, en el que dicho gel de
silicona está formado aplicando y curando una composición de gel de
silicona curable tal como se define en la reivindicación 1.
8. El uso de una composición curable de gel de
silicona, tal como es definida en la reivindicación 1, para la
formación de un gel de silicona que cubre un elemento de circuito de
control en el que existe fundente residual para soldadura.
9. El uso de una composición curable de gel de
silicona, tal como es definida en la reivindicación 1, para la
formación de un gel de silicona en un emplazamiento en el que existe
fundente residual para soldadura.
10. El uso de la reivindicación 9, en la que el
gel de silicona es un material de revestimiento para cubrir un
elemento de circuito de control seleccionado del grupo que consiste
en transistores de potencia, CI y condensadores.
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US5443660A (en) * | 1994-10-24 | 1995-08-22 | Ford Motor Company | Water-based no-clean flux formulation |
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