EP3628870A1 - Pompe à vide primaire de type sèche et procédé de contrôle de l'injection d'un gaz de purge - Google Patents

Pompe à vide primaire de type sèche et procédé de contrôle de l'injection d'un gaz de purge Download PDF

Info

Publication number
EP3628870A1
EP3628870A1 EP19198698.3A EP19198698A EP3628870A1 EP 3628870 A1 EP3628870 A1 EP 3628870A1 EP 19198698 A EP19198698 A EP 19198698A EP 3628870 A1 EP3628870 A1 EP 3628870A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
injection
purge gas
vacuum pump
pumping
pumping stage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
EP19198698.3A
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
EP3628870B1 (fr
Inventor
Serge Brandolin
Eric MANDALLAZ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pfeiffer Vacuum SAS
Original Assignee
Pfeiffer Vacuum SAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Pfeiffer Vacuum SAS filed Critical Pfeiffer Vacuum SAS
Publication of EP3628870A1 publication Critical patent/EP3628870A1/fr
Application granted granted Critical
Publication of EP3628870B1 publication Critical patent/EP3628870B1/fr
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04CROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C25/00Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids
    • F04C25/02Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids for producing high vacuum
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B9/00Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto 
    • B08B9/02Cleaning pipes or tubes or systems of pipes or tubes
    • B08B9/027Cleaning the internal surfaces; Removal of blockages
    • B08B9/032Cleaning the internal surfaces; Removal of blockages by the mechanical action of a moving fluid, e.g. by flushing
    • B08B9/0321Cleaning the internal surfaces; Removal of blockages by the mechanical action of a moving fluid, e.g. by flushing using pressurised, pulsating or purging fluid
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04CROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C23/00Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids
    • F04C23/001Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids of similar working principle
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04CROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C28/00Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids
    • F04C28/02Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids specially adapted for several pumps connected in series or in parallel
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04CROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C28/00Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids
    • F04C28/24Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids characterised by using valves controlling pressure or flow rate, e.g. discharge valves or unloading valves
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04CROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C29/00Component parts, details or accessories of pumps or pumping installations, not provided for in groups F04C18/00 - F04C28/00
    • F04C29/0007Injection of a fluid in the working chamber for sealing, cooling and lubricating
    • F04C29/0014Injection of a fluid in the working chamber for sealing, cooling and lubricating with control systems for the injection of the fluid
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04CROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C29/00Component parts, details or accessories of pumps or pumping installations, not provided for in groups F04C18/00 - F04C28/00
    • F04C29/0092Removing solid or liquid contaminants from the gas under pumping, e.g. by filtering or deposition; Purging; Scrubbing; Cleaning
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04CROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C29/00Component parts, details or accessories of pumps or pumping installations, not provided for in groups F04C18/00 - F04C28/00
    • F04C29/12Arrangements for admission or discharge of the working fluid, e.g. constructional features of the inlet or outlet
    • F04C29/124Arrangements for admission or discharge of the working fluid, e.g. constructional features of the inlet or outlet with inlet and outlet valves specially adapted for rotary or oscillating piston pumps
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04CROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C2210/00Fluid
    • F04C2210/22Fluid gaseous, i.e. compressible
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04CROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C2220/00Application
    • F04C2220/10Vacuum
    • F04C2220/12Dry running
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04CROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C2220/00Application
    • F04C2220/28Application for pulsed fluid flow
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04CROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C2270/00Control; Monitoring or safety arrangements
    • F04C2270/58Valve parameters
    • F04C2270/585Controlled or regulated
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04CROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C2280/00Arrangements for preventing or removing deposits or corrosion
    • F04C2280/02Preventing solid deposits in pumps, e.g. in vacuum pumps with chemical vapour deposition [CVD] processes
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F05INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
    • F05BINDEXING SCHEME RELATING TO WIND, SPRING, WEIGHT, INERTIA OR LIKE MOTORS, TO MACHINES OR ENGINES FOR LIQUIDS COVERED BY SUBCLASSES F03B, F03D AND F03G
    • F05B2210/00Working fluid
    • F05B2210/10Kind or type
    • F05B2210/12Kind or type gaseous, i.e. compressible

Definitions

  • the present invention relates to a primary vacuum pump of the dry type such as the “Roots” or “Claw” or screw type.
  • the present invention also relates to a method for controlling the injection of a purge gas into such a vacuum pump.
  • the dry type primary vacuum pumps have several pumping stages in series in which a gas to be pumped circulates between a suction and a discharge.
  • a gas to be pumped circulates between a suction and a discharge.
  • known primary vacuum pumps there are those with rotary lobes also known under the name “Roots” or those with spout, also known under the name “Claw” or those with screws.
  • These vacuum pumps are called “dry” because in operation, the rotors rotate inside a stator without any mechanical contact between them or with the stator, which allows not to use oil in the pumping stages .
  • Certain primary vacuum pumps are used in processes using chemistries which generate solid by-products, for example in the form of powder, paste or pieces. This is the case, for example, of certain processes for manufacturing semiconductors, photovoltaic screens, flat screens or LEDs. These solid by-products can be sucked in by the vacuum pump and alter its operation, in particular by impeding the rotation of the rotors or even completely preventing it in the worst case.
  • vacuum pumps are protected by installing powder traps at the inlet of the pumps.
  • These traps are for example made up of powder separators which retain the solid compounds by gravity or by centrifugal force.
  • Another method used is to adapt the geometry of the vacuum pump to facilitate the evacuation of solid by-products, for example by increasing the diameter of the transfer channels or by arranging the pumping stages vertically.
  • injecting a purge gas into the vacuum pump participates in the evacuation of solid by-products in addition to diluting the pumped gases.
  • nitrogen or air is generally injected through injection nozzles distributed over the along the vacuum pump, on each pumping stage. This purge gas can participate in the pneumatic transport of solid powders.
  • An object of the present invention is to at least partially resolve an aforementioned drawback of the state of the art.
  • the command to open / close the at least one injection valve makes it possible to pulsate the injection of the purge gas alternating injection phases (or pulses) with phases without injection or with injection of lesser flow.
  • This mode of injection in pulsed flow that is to say by train of pulses, makes it possible to create wave fronts at the time of injection allowing a separation of the solid by-products which is more effective than a continuous purge gas injection.
  • the pulsed flow injection of the purge gas makes it possible to maintain an average value of the flow of purged gas injected of the same order of magnitude as that of a conventional continuous purge gas injection.
  • Controlling the at least one all-or-nothing injection valve makes it possible to produce control slots making it possible to ensure injection by successive pulses with rising edges having steep slopes which are more effective for detaching the by-products. solid.
  • the slope of the rising edge of the purge gas flow on a pulse is for example greater than 100slm / s.
  • the injection member such as a calibrated orifice (also called a nozzle), an injection nozzle or such as a flow controller (or “mass flow”), is configured to limit the flow of gas purge in the pumping stage, for example at a value less than 200 slm (or 338 Pa.m 3 / s).
  • the at least one controllable injection valve is for example a solenoid valve such as electromagnetic or piezoelectric. This valve can be controlled in all or nothing: it is either open or closed.
  • the frequency and duration of the pulses can be adjusted according to the nature of the by-products to be discharged. It is thus possible to space or multiply the number of pulses according to the desired effect.
  • the frequency (opening / closing rhythm), the duration, the duty cycle (opening time / closing time) and the amplitudes of the purge gas pulses can be parameters adjustable by the user by means of an interface. of the control device.
  • the purge gas flow injected by pulses is for example between 10slm (or 17Pa.m 3 / s) and 120slm (or 202Pa.m 3 / s), such as 100slm (or 169Pa.m 3 / s).
  • the pulse frequency is for example between 0.1 Hz and 5 Hz, such as 0.5 Hz, that is to say an opening every two seconds.
  • the duty cycle can be between 1 and 80%. It is for example 50%.
  • the opening time / closing time of the injection valve is for example between 1 and 80%, such as between 40 and 80%.
  • the duration of a purge gas injection pulse is for example of the order of one second and the duration of closing of the injection valve is for example of the order of one second.
  • the injection valve is arranged on a branch of the distributor common to the pumping stages.
  • the injection device comprises an injection valve per pumping stage arranged on a respective branch of the distributor adapted to distribute a purge gas in a respective pumping stage.
  • the invention also relates to a method of controlling the injection of a purge gas into a primary vacuum pump of the dry type as described above, characterized in that the opening of the at least is controlled an injection valve for injecting purge gas by successive pulses into at least one pumping stage.
  • At least two pulse gas pulse durations are different in two pumping stages.
  • a continuous flow of purge gas is also injected into at least one pumping stage by controlling at least one injection valve continuously in opening.
  • the opening of the at least one continuous injection valve is also controlled to inject a continuous purge gas at each pumping stage.
  • the piloting of the injection valves is synchronized in order to offset the injection of the purge gas pulses in at least two pumping stages.
  • the offset of the purge gas pulses is synchronized to open the injection valves in the pumping stages successively in the direction of flow of the gases going from the suction to the discharge of the vacuum pump.
  • the offset of the purge gas pulses is synchronized to open the injection valves in the pumping stages successively in the direction of flow of the gases going from the discharge to the vacuum pump suction. This creates an artificially gaseous wave front moving in the opposite direction of flow of the pumped gases allowing the by-products to be evacuated gradually, starting with the last, then the penultimate and so on, which can to prevent their accumulation between the pumping stages or in a silencer generally arranged after the discharge.
  • a primary vacuum pump is defined as a volumetric vacuum pump which sucks in, transfers and then pumps out a gas to be pumped.
  • a primary vacuum pump is configured to be able to discharge a gas to be pumped at ambient pressure.
  • the figure 1 shows a first embodiment of a primary vacuum pump 1 of the dry type.
  • the vacuum pump 1 comprises at least two pumping stages 2a-2e connected in series between a suction 3 and a discharge 4 and in which a gas to be pumped can circulate (the direction of circulation of the pumped gases is illustrated by the arrows on the figure 1 ).
  • the vacuum pump 1 has five pumping stages 2a, 2b, 2c, 2d, 2e.
  • Each pumping stage 2a-2e has a respective inlet and outlet.
  • the successive pumping stages 2a-2e are connected in series one after the other by respective inter-stage channels connecting the output of the pumping stage which precedes to the entry of the stage which follows.
  • the vacuum pump 1 further comprises two rotors 5 extending in the pumping stages 2a-2e.
  • the rotors 5 have for example lobes of identical profiles angularly offset, for example of the "Roots” type, for example of section in the shape of an "eight" or of a “bean”, or of the "Claw” type or are of the screw type or another similar principle of a volumetric vacuum pump.
  • the rotors 5 are configured to rotate synchronously in the opposite direction to cause a gas to be pumped between the suction 3 and the discharge 4 of the vacuum pump 1. During the rotation, the gas sucked in from the inlet is trapped in the volume generated by the rotors 5 and a stator of the pumping stage 2a-2e, then is driven by the rotors 5 to the next stage.
  • the rotors 5 are rotated by a motor M of the vacuum pump 1.
  • the vacuum pump 1 also comprises an injection device 9 configured to distribute a purge gas, such as a neutral gas, such as air or nitrogen, in at least one pumping stage 2a- 2e and a control device 10 configured to control the injection device 9.
  • a purge gas such as a neutral gas, such as air or nitrogen
  • the injection device 9 includes at least one injection member 12a-12e and at least one controllable injection valve 13.
  • the injection member 12a-12e such as a calibrated orifice (also called a nozzle), an injection nozzle or such as a flow controller (or “mass flow”), is configured to limit the flow rate of the purge gas in the pumping stage 2a-2e, for example at a value less than 200 slm (or 338 Pa.m 3 / s).
  • the at least one controllable injection valve 13 is for example a solenoid valve such as electromagnetic or piezoelectric. This valve can be controlled in all or nothing: it is either open or closed. These valves have the advantage of being simple, compact and inexpensive.
  • the at least one injection valve 13 is interposed between a supply source of purge gas and the at least one injection member 12a-12e.
  • the control device 10 comprises one or more controllers or microcontrollers or processors and a memory for executing sequences of program instructions implementing a method for controlling the injection of a purge gas into the vacuum pump 1 in which controls the at least one injection valve 13 in opening and closing to inject a purge gas by successive pulses P into at least one pumping stage 2a-2e ( Figure 2 ).
  • the command to open / close the at least one injection valve 13 makes it possible to pulsate the injection of the purge gas alternating injection phases (or pulses) with phases without injection or with injection of lesser flow.
  • This mode of injection in pulsed flow that is to say by train of pulses, makes it possible to create wave fronts at the time of injection allowing a separation of the solid by-products which is more effective than a continuous purge gas injection.
  • the pulsed flow injection of the purge gas makes it possible to maintain an average value of the flow of purged gas injected of the same order of magnitude as that of a conventional continuous purge gas injection.
  • the control of the at least one injection valve 13 in all or nothing makes it possible to produce control slots making it possible to ensure injection by successive pulses with rising edges having steep slopes which are more effective for detaching the under- solid products.
  • the slope of the rising edge of the purge gas flow on a pulse is for example greater than 100slm / s.
  • the control device 10 is, for example, on board the vacuum pump 1.
  • the frequency and duration of the pulses can be adjusted according to the nature of the by-products to be discharged. It is thus possible to space or multiply the number of pulses according to the desired effect.
  • the frequency (opening / closing rhythm), the duration, the duty cycle (opening time / closing time) and the amplitudes of the purge gas pulses can be parameters adjustable by the user by means of an interface. control device 10.
  • the purge gas flow injected by pulses is for example between 10slm (or 17Pa.m 3 / s) and 120slm (or 202Pa.m 3 / s), such as 100slm (or 169Pa.m 3 / s).
  • the pulse frequency is for example between 0.1 Hz and 5 Hz, such as 0.5 Hz, that is to say an opening every two seconds.
  • the duty cycle (the opening time / closing time of the injection valve) can be between 1 and 80%, as between 40 and 80%. It is for example 50%.
  • the duration of a purge gas injection pulse is for example of the order of one second and the duration of closing of the injection valve is for example of the order of one second.
  • the injection device 9 comprises a distributor 11 (called a "manifold" in English) configured to distribute a purge gas coming from the power source in each of the pumping stages 2a-2e (the direction of circulation of the gas of purge is illustrated by the arrows on the figure 1 ).
  • a distributor 11 called a "manifold" in English
  • the distributor 11 has a common branch 14 connected to branches 15a, 15b, 15c, 15d, 15e.
  • the branches 15a-15e are adapted to distribute a purge gas in a respective pumping stage 2a-2e.
  • the injection valve 13 is arranged on a branch 14 of the distributor 11 common to the pumping stages 2a-2e.
  • the injection device 9 further comprises an injection member 12a, 12b, 12c, 12d, 12e per pumping stage 2a-2e. They are interposed between the distributor 11 and a respective pumping stage 2a-2e.
  • the opening of the at least one injection valve 13 is controlled to inject purge gas by successive pulses into all of the pumping stages 2a-2e.
  • This embodiment has the advantage of being able to be easily implemented on existing vacuum pumps by simply modifying the control program of the at least one injection valve 13 of the injection device 9.
  • controllable injection valve 13 Since the controllable injection valve 13 is common to all the pumping stages 2a-2e, the purge gas is injected by successive pulses into the pumping stages 2a-2e simultaneously and over similar durations. In addition, between two pulses of purge gas, the flow of purge gas injected is zero since the at least one injection valve 13 can be controlled in all or nothing.
  • injection members 12a-12e produced in the form of flow controllers controllable by the control device 10, it is however possible to provide specific pulse amplitudes on each pumping stage 2a-2e.
  • the distributor 11 may also include at least one additional bypass configured to distribute a purge gas in a bearing of the vacuum pump 1 situated at one end of the rotors 5, for example between the motor M and the pumping stage 2e situated in the side of discharge 4 here attached to engine M.
  • the figure 3 shows a second embodiment.
  • the injection device 9 comprises an injection valve 16a-16e per pumping stage 2a-2e arranged on a respective branch 15a-15e of the distributor 11.
  • the opening of the injection valves 16a-16e is controlled to inject pulses of purge gas into at least one pumping stage 2a-2e.
  • each injection valve 15a-15b independently.
  • the purge gas pulses can be injected into one, several or all of the pumping stages 2a-2e, simultaneously or not.
  • a pulse of purge gas is injected into the so-called low pressure pumping stage 2a situated on the suction side 3 and a continuous purging gas is injected into the other pumping stages 2b-2e.
  • the purge gas pulses can be injected over different or similar durations into the different pumping stages 2a-2e. For example, at least two durations of purge gas pulses are expected to be different in two pumping stages 2a-2e. The pulse frequencies can therefore also be different for each pumping stage 2a-2e.
  • the injection valves 16a-16e of at least two pumping stages 2a-2e are not opened at the same time or the simultaneous opening times are relatively short compared to the total duration of the pulse.
  • the offset of the purge gas pulses is synchronized to open the injection valves 16a-16e in the pumping stages 2a-2e successively in the direction of flow of the gases going from the suction 3 towards the delivery 4 of the vacuum pump 1.
  • the injection valve 16a of the pumping stage 2a called low pressure on the suction side 3 is first opened, then that associated with the second pumping stage 2b and thus continued up to the pumping stage 2e, said to be of high pressure on the discharge side 4.
  • a gaseous wave front moving in the direction of flow of the pumped gases is thus artificially improved, improving the evacuation efficiency of the subs - solid products.
  • the offset of the purge gas pulses is synchronized in order to open the injection valves 16a-16e in the pumping stages 2a-2e successively in the direction of flow of the gases going from the discharge 4 towards the suction 3 of the vacuum pump 1.
  • the regulating valve 16e arranged on the branch 15e connected to the last pumping stage 2e is first opened, then, after its closing, the regulating valve 16d associated with the penultimate pumping stage 2d is open and so on to the first or to the second first pumping stage 2b if a continuous purge gas is injected into the pumping stage 2a called low pressure located on the suction side 3 for example.
  • This wavefront thus makes it possible to evacuate any solid by-products capable of clogging the vacuum pump 1 first in the last pumping stage 2e, then in the penultimate and so on.
  • the by-products can be evacuated gradually, starting with the last pumping stage 2e, which can avoid their successive accumulation between the pumping stages or in a silencer generally arranged after the discharge 4, to avoid in certain cases thus aggravating the risk of clogging.
  • wave fronts can thus be created simultaneously in the vacuum pump 1.
  • the injection valve 16e of the pumping stage 2e said to be discharge, can be opened simultaneously with the injection valve 16a of the pumping stage 2a called low pressure.
  • a new wavefront starts while a previous wavefront is being completed.
  • injection members 12a-12e produced in the form of flow controllers controllable by the control device 10, it is also possible to provide specific pulse amplitudes on each pumping stage 2a-2e.
  • the Figure 4 shows a third embodiment.
  • the vacuum pump 1 includes an additional injection device 17.
  • the additional injection device 17 comprises a distributor 11 for distributing a purge gas in the pumping stages 2a-2e, an injection member 12a-12e per pumping stage 2a-2e interposed between the distributor 11 and a stage of pumping 2a-2e respectively and a continuously controllable injection valve 18 arranged on a branch 14 of the distributor 11 common to the pumping stages 2a-2e.
  • the continuously controllable injection valve 18 is for example a solenoid valve such as electromagnetic or piezoelectric. This valve is for example controllable in all or nothing.
  • the control device 10 is also configured to control the opening of the at least one continuous injection valve 18 for injecting a purge gas continuously into at least one pumping stage 2a-2e.
  • the injection device 9 can comprise only one or a few injection members opening out. in pumping stages 2a-2e joined or not and not to include injection members and injection valves in all pumping stages 2a-2e.
  • the injection device 9 comprises a distributor 11 configured to distribute a gas of purge in the pumping stages 2a-2e, an injection member 12a-12e per pumping stage 2a-2e interposed between the distributor 11 and a respective pumping stage 2a-2e and an injection valve 16a-16th per stage pump 2a-2e arranged on a respective branch 15a-15e of the distributor 11.
  • the opening of the at least one injection valve 16a-16e is controlled to inject pulses of purge gas into at least one pumping stage 2a-2e and the opening of the at least one valve is controlled.
  • continuous injection 18 to inject a continuous purge gas at each pumping stage 2a-2e.
  • the flow of the purge gas injected by successive pulses is for example between 10slm and 120slm, such as 100slm and the flow of the purge gas injected continuously is for example between 10slm and 120slm, such as 50slm (or 84Pa.m 3 / s).
  • the pulse frequency is for example 0.5Hz.
  • the duty cycle is for example 50%.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
  • Applications Or Details Of Rotary Compressors (AREA)
  • Jet Pumps And Other Pumps (AREA)

Abstract

L'invention concerne une pompe à vide (1) primaire de type sèche comportant :- au moins deux étages de pompage (2a-2e) montés en série entre une aspiration (3) et un refoulement (4) de la pompe à vide (1),- deux rotors (5) s'étendant dans les étages de pompage (2a-2e), les rotors (5) étant configurés pour tourner de façon synchronisée en sens inverse pour entrainer un gaz à pomper entre l'aspiration (3) et le refoulement (4),- un dispositif d'injection (9) configuré pour distribuer un gaz de purge dans au moins un étage de pompage (2a-2e), comprenant :∘ au moins un organe d'injection (12a-12e), et∘ au moins une vanne d'injection (13 ; 16a-16e) pilotable en tout ou rien destinée à être interposée entre une source d'alimentation en gaz de purge et le au moins un organe d'injection (12a-12e),caractérisée en ce que la pompe à vide (1) comporte en outre un dispositif de contrôle (10) configuré pour contrôler l'ouverture et la fermeture de la au moins une vanne d'injection (13 ; 16a-16e) pour injecter un gaz de purge par impulsions successives dans au moins un étage de pompage (2a-2e).La présente invention concerne également un procédé de contrôle de l'injection d'un gaz de purge dans une telle pompe à vide.

Description

  • La présente invention concerne une pompe à vide primaire de type sèche telle que de type « Roots » ou « Claw » ou à vis. La présente invention concerne également un procédé de contrôle de l'injection d'un gaz de purge dans une telle pompe à vide.
  • Les pompes à vide primaire de type sèche comportent plusieurs étages de pompage en série dans lesquels circule un gaz à pomper entre une aspiration et un refoulement. On distingue parmi les pompes à vide primaire connues, celles à lobes rotatifs également connues sous le nom « Roots » ou celles à bec, également connues sous le nom « Claw » ou encore celles à vis. Ces pompes à vide sont dites « sèches » car en fonctionnement, les rotors tournent à l'intérieur d'un stator sans aucun contact mécanique entre eux ou avec le stator, ce qui permet de ne pas utiliser d'huile dans les étages de pompage.
  • Certaines pompes à vide primaire sont employées dans des procédés utilisant des chimies génératrices de sous-produits solides par exemple sous forme de poudre, pâte ou morceaux. C'est le cas par exemple de certains procédés de fabrication de semi-conducteurs, d'écrans photovoltaïques, d'écrans plats ou de LED. Ces sous-produits solides peuvent être aspirés par la pompe à vide et altérer son fonctionnement, notamment en gênant la rotation des rotors voire en l'empêchant totalement dans le pire des cas.
  • Pour éviter cela, on connait déjà plusieurs solutions.
  • On protège par exemple les pompes à vide en installant des pièges à poudre à l'entrée des pompes. Ces pièges sont par exemple constitués de séparateurs de poudre qui retiennent les composés solides par gravité ou par force centrifuge.
  • Une autre méthode employée consiste à adapter la géométrie de la pompe à vide pour faciliter l'évacuation des sous-produits solides, par exemple en augmentant le diamètre des canaux de transfert ou en agençant les étages de pompage verticalement.
  • Egalement, injecter un gaz de purge dans la pompe à vide participe à l'évacuation des sous-produits solides en plus de diluer les gaz pompés. Pour cela, de l'azote ou de l'air est généralement injecté à travers des buses d'injection réparties le long de la pompe à vide, à chaque étage de pompage. Ce gaz de purge peut participer au transport pneumatique des poudres solides.
  • Cependant dans certains cas, ces solutions peuvent être insuffisantes car la nature des sous-produits solides peut permettre à ceux-ci d'adhérer fortement aux parois et il est alors plus difficile de les évacuer.
  • Un but de la présente invention est de résoudre au moins partiellement un inconvénient précité de l'état de la technique.
  • A cet effet, l'invention a pour objet une pompe à vide primaire de type sèche comportant :
    • au moins deux étages de pompage montés en série entre une aspiration et un refoulement de la pompe à vide,
    • deux rotors s'étendant dans les étages de pompage, les rotors étant configurés pour tourner de façon synchronisée en sens inverse pour entrainer un gaz à pomper entre l'aspiration et le refoulement,
    • un dispositif d'injection configuré pour distribuer un gaz de purge dans au moins un étage de pompage, comprenant :
      • ∘ au moins un organe d'injection, et
      • ∘ au moins une vanne d'injection pilotable en tout ou rien destinée à être interposée entre une source d'alimentation en gaz de purge et le au moins un organe d'injection,
      caractérisée en ce que la pompe à vide comporte en outre un dispositif de contrôle configuré pour contrôler l'ouverture et la fermeture de la au moins une vanne d'injection pour injecter un gaz de purge par impulsions successives dans au moins un étage de pompage.
  • La commande en ouverture/fermeture de la au moins une vanne d'injection permet de pulser l'injection du gaz de purge alternant des phases d'injection (ou impulsions) avec des phases sans injection ou à injection de moindre flux.
  • Ce mode d'injection en flux pulsé, c'est-à-dire par train d'impulsions, permet de créer des fronts d'onde au moment de l'injection permettant un décollement des sous-produits solides qui est plus efficace qu'une injection de gaz de purge en continu.
  • De plus, l'injection en flux pulsé du gaz de purge permet de pouvoir maintenir une valeur moyenne du flux de gaz de purge injecté du même ordre de grandeur que celle d'une injection classique de gaz de purge en continu.
  • La commande de la au moins une vanne d'injection en tout ou rien permet de produire des créneaux de commande permettant d'assurer une injection par impulsions successives avec des fronts montants présentant de fortes pentes qui sont plus efficaces pour le décollement des sous-produits solides. La pente du front montant du flux de gaz de purge sur une impulsion est par exemple supérieure à 100slm/s.
  • L'organe d'injection, tel qu'un orifice calibré (aussi appelé gicleur), une buse d'injection ou tel qu'un contrôleur de débit (ou « mass flow » en anglais), est configuré pour limiter le débit du gaz de purge dans l'étage de pompage, par exemple à une valeur inférieure à 200 slm (ou 338 Pa.m3/s).
  • La au moins une vanne d'injection pilotable est par exemple une électrovanne telle qu'électromagnétique ou piézoélectrique. Cette vanne est pilotable en tout ou rien : elle est soit ouverte, soit fermée.
  • La fréquence et la durée des impulsions peuvent être ajustées selon la nature des sous-produits à évacuer. Il est ainsi possible d'espacer ou de multiplier le nombre d'impulsions selon l'effet recherché.
  • La fréquence (rythme des ouvertures/fermeture), la durée, le rapport cyclique (temps d'ouverture/temps de fermeture) et les amplitudes des impulsions de gaz de purge peuvent être des paramètres réglables par l'utilisateur au moyen d'une interface du dispositif de contrôle.
  • Le flux de gaz de purge injecté par impulsions est par exemple compris entre 10slm (ou 17Pa.m3/s) et 120slm (ou 202Pa.m3/s), tel que 100slm (ou 169Pa.m3/s).
  • La fréquence des impulsions est par exemple comprise entre 0,1Hz et 5Hz, telle que 0,5Hz c'est-à-dire une ouverture toutes les deux secondes.
  • Le rapport cyclique peut être compris entre 1 et 80%. Il est par exemple de 50%.
  • Le temps d'ouverture/temps de fermeture de la vanne d'injection est par exemple compris entre 1 et 80%, tel que compris entre 40 et 80%.
  • La durée d'une impulsion d'injection de gaz de purge est par exemple de l'ordre d'une seconde et la durée de fermeture de la vanne d'injection est par exemple de l'ordre d'une seconde.
  • Selon un exemple de réalisation, le dispositif d'injection comprend :
    • un distributeur configuré pour distribuer un gaz de purge dans les étages de pompage,
    • un organe d'injection par étage de pompage interposé entre le distributeur et un étage de pompage respectif.
  • Selon un exemple de réalisation, la vanne d'injection est agencée sur une branche du distributeur commune aux étages de pompage.
  • Selon un exemple de réalisation, le dispositif d'injection comporte une vanne d'injection par étage de pompage agencée sur une dérivation respective du distributeur adaptée pour distribuer un gaz de purge dans un étage de pompage respectif.
  • Selon un exemple de réalisation, la pompe à vide en outre comporte un dispositif d'injection additionnel comportant :
    • un distributeur pour distribuer un gaz de purge dans les étages de pompage,
    • un organe d'injection par étage de pompage interposé entre le distributeur et un étage de pompage respectif,
    • une vanne d'injection en continu pilotable et agencée sur une branche du distributeur commune aux étages de pompage, le dispositif de contrôle étant également configuré pour contrôler l'ouverture de la au moins une vanne d'injection en continu pour injecter un gaz de purge en continu dans les étages de pompage.
  • L'invention a aussi pour objet un procédé de contrôle de l'injection d'un gaz de purge dans une pompe à vide primaire de type sèche telle que décrite précédemment, caractérisé en ce que l'on contrôle l'ouverture de la au moins une vanne d'injection pour injecter du gaz de purge par impulsions successives dans au moins un étage de pompage.
  • Selon un exemple de réalisation du procédé de contrôle, au moins deux durées d'impulsion de gaz de purge sont différentes dans deux étages de pompage.
  • Selon un exemple de réalisation du procédé de contrôle, un flux continu de gaz de purge est en outre injecté dans au moins un étage de pompage en commandant au moins une vanne d'injection continuellement en ouverture.
  • Selon un exemple de réalisation du procédé de contrôle, on contrôle en outre l'ouverture de la au moins une vanne d'injection en continu pour injecter un gaz de purge en continu au niveau de chaque étage de pompage.
  • Selon un exemple de réalisation du procédé de contrôle, on synchronise le pilotage des vannes d'injection pour décaler l'injection des impulsions de gaz de purge dans au moins deux étages de pompage.
  • Selon un exemple de réalisation du procédé de contrôle, le décalage des impulsions de gaz de purge est synchronisé pour ouvrir les vannes d'injection dans les étages de pompage de manière successive dans le sens d'écoulement des gaz allant de l'aspiration vers le refoulement de la pompe à vide.
  • Selon un autre exemple de réalisation du procédé de contrôle, le décalage des impulsions de gaz de purge est synchronisé pour ouvrir les vannes d'injection dans les étages de pompage de manière successive dans le sens d'écoulement des gaz allant du refoulement vers l'aspiration de la pompe à vide. On crée ainsi artificiellement un front d'onde gazeux se déplaçant dans le sens contraire d'écoulement des gaz pompés permettant d'évacuer les sous-produits graduellement, en commençant par le dernier, puis l'avant dernier et ainsi de suite ce qui peut permettre d'éviter leur accumulation entre les étages de pompage ou dans un silencieux généralement agencé après le refoulement.
  • D'autres avantages et caractéristiques apparaîtront à la lecture de la description de l'invention, ainsi que des dessins annexés sur lesquels :
    • La figure 1 montre une vue très schématique d'un premier exemple de réalisation d'une pompe à vide primaire de type sèche.
    • La figure 2 montre un graphique d'impulsions de gaz de purge injectées dans un étage de pompage de la pompe à vide de la figure 1 en fonction du temps.
    • La figure 3 montre une vue similaire à la figure 1 pour un deuxième exemple de réalisation.
    • La figure 4 montre une vue similaire à la figure 1 pour un troisième exemple de réalisation.
  • Sur ces figures, les éléments identiques portent les mêmes numéros de référence. Les dessins sont simplifiés pour faciliter leur compréhension.
  • Les réalisations suivantes sont des exemples. Bien que la description se réfère à un ou plusieurs modes de réalisation, ceci ne signifie pas nécessairement que chaque référence concerne le même mode de réalisation, ou que les caractéristiques s'appliquent seulement à un seul mode de réalisation. De simples caractéristiques de différents modes de réalisation peuvent également être combinées ou interchangées pour fournir d'autres réalisations.
  • On définit par pompe à vide primaire, une pompe à vide volumétrique, qui aspire, transfère puis refoule un gaz à pomper. En utilisation classique, une pompe à vide primaire est configurée pour pouvoir refouler un gaz à pomper à pression ambiante.
  • La figure 1 représente un premier exemple de réalisation d'une pompe à vide 1 primaire de type sèche.
  • La pompe à vide 1 comporte au moins deux étages de pompage 2a-2e montés en série entre une aspiration 3 et un refoulement 4 et dans lesquels un gaz à pomper peut circuler (le sens de circulation des gaz pompés est illustré par les flèches sur la figure 1).
  • Dans l'exemple illustratif, la pompe à vide 1 comporte cinq étages de pompage 2a, 2b, 2c, 2d, 2e. Chaque étage de pompage 2a-2e comprend une entrée et une sortie respectives. Les étages de pompage successifs 2a-2e sont raccordés en série les uns à la suite des autres par des canaux inter-étages respectifs raccordant la sortie de l'étage de pompage qui précède à l'entrée de l'étage qui suit.
  • La pompe à vide 1 comporte en outre deux rotors 5 s'étendant dans les étages de pompage 2a-2e.
  • Les rotors 5 présentent par exemple des lobes de profils identiques angulairement décalés, par exemple de type « Roots », par exemple de section en forme de « huit » ou de « haricot », ou de type « Claw » ou sont de type à vis ou d'un autre principe similaire de pompe à vide volumétrique.
  • Les rotors 5 sont configurés pour tourner de façon synchronisée en sens inverse pour entrainer un gaz à pomper entre l'aspiration 3 et le refoulement 4 de la pompe à vide 1. Lors de la rotation, le gaz aspiré depuis l'entrée est emprisonné dans le volume engendré par les rotors 5 et un stator de l'étage de pompage 2a-2e, puis est entraîné par les rotors 5 vers l'étage suivant.
  • Les rotors 5 sont entraînés en rotation par un moteur M de la pompe à vide 1.
  • La pompe à vide 1 comporte en outre un dispositif d'injection 9 configuré pour distribuer un gaz de purge, tel qu'un gaz neutre, tel que de l'air ou de l'azote, dans au moins un étage de pompage 2a-2e et un dispositif de contrôle 10 configuré pour contrôler le dispositif d'injection 9.
  • Le dispositif d'injection 9 comprend au moins un organe d'injection 12a-12e et au moins une vanne d'injection 13 pilotable.
  • L'organe d'injection 12a-12e, tel qu'un orifice calibré (aussi appelé gicleur), une buse d'injection ou tel qu'un contrôleur de débit (ou « mass flow » en anglais), est configuré pour limiter le débit du gaz de purge dans l'étage de pompage 2a-2e, par exemple à une valeur inférieure à 200 slm (ou 338 Pa.m3/s).
  • La au moins une vanne d'injection 13 pilotable est par exemple une électrovanne telle qu'électromagnétique ou piézoélectrique. Cette vanne est pilotable en tout ou rien : elle est soit ouverte, soit fermée. Ces vannes présentent l'avantage d'être simples, peu encombrantes et peu onéreuses. La au moins une vanne d'injection 13 est interposée entre une source d'alimentation en gaz de purge et le au moins un organe d'injection 12a-12e.
  • Le dispositif de contrôle 10 comporte un ou plusieurs contrôleurs ou microcontrôleurs ou processeurs et une mémoire pour exécuter des suites d'instructions de programmes mettant en oeuvre un procédé de contrôle de l'injection d'un gaz de purge dans la pompe à vide 1 dans lequel on contrôle la au moins une vanne d'injection 13 en ouverture et fermeture pour injecter un gaz de purge par impulsions P successives dans au moins un étage de pompage 2a-2e (Figure 2).
  • La commande en ouverture/fermeture de la au moins une vanne d'injection 13 permet de pulser l'injection du gaz de purge alternant des phases d'injection (ou impulsions) avec des phases sans injection ou à injection de moindre flux.
  • Ce mode d'injection en flux pulsé, c'est-à-dire par train d'impulsions, permet de créer des fronts d'onde au moment de l'injection permettant un décollement des sous-produits solides qui est plus efficace qu'une injection de gaz de purge en continu.
  • De plus, l'injection en flux pulsé du gaz de purge permet de pouvoir maintenir une valeur moyenne du flux de gaz de purge injecté du même ordre de grandeur que celle d'une injection classique de gaz de purge en continu.
  • La commande de la au moins une vanne d'injection 13 en tout ou rien permet de produire des créneaux de commande permettant d'assurer une injection par impulsions successives avec des fronts montants présentant de fortes pentes qui sont plus efficaces pour le décollement des sous-produits solides. La pente du front montant du flux de gaz de purge sur une impulsion est par exemple supérieure à 100slm/s.
  • Le dispositif de contrôle 10 est par exemple embarqué dans la pompe à vide 1.
  • La fréquence et la durée des impulsions peuvent être ajustées selon la nature des sous-produits à évacuer. Il est ainsi possible d'espacer ou de multiplier le nombre d'impulsions selon l'effet recherché.
  • La fréquence (rythme des ouvertures/fermeture), la durée, le rapport cyclique (temps d'ouverture/temps de fermeture) et les amplitudes des impulsions de gaz de purge peuvent être des paramètres réglables par l'utilisateur au moyen d'une interface du dispositif de contrôle 10.
  • Le flux de gaz de purge injecté par impulsions est par exemple compris entre 10slm (ou 17Pa.m3/s) et 120slm (ou 202Pa.m3/s), tel que 100slm (ou 169Pa.m3/s).
  • La fréquence des impulsions est par exemple comprise entre 0,1Hz et 5Hz, telle que 0,5Hz c'est-à-dire une ouverture toutes les deux secondes.
  • Le rapport cyclique (le temps d'ouverture/temps de fermeture de la vanne d'injection) peut être compris entre 1 et 80%, tel que compris entre 40 et 80%. Il est par exemple de 50%.
  • La durée d'une impulsion d'injection de gaz de purge est par exemple de l'ordre d'une seconde et la durée de fermeture de la vanne d'injection est par exemple de l'ordre d'une seconde.
  • Selon un premier exemple de réalisation représenté sur la figure 1, le dispositif d'injection 9 comporte un distributeur 11 (appelé « manifold » en anglais) configuré pour distribuer un gaz de purge provenant de la source d'alimentation dans chacun des étages de pompage 2a-2e (le sens de circulation du gaz de purge est illustré par les flèches sur la figure 1).
  • Pour cela, le distributeur 11 comporte une branche 14 commune reliée à des dérivations 15a, 15b, 15c, 15d, 15e. Les dérivations 15a-15e sont adaptées pour distribuer un gaz de purge dans un étage de pompage 2a-2e respectif.
  • La vanne d'injection 13 est agencée sur une branche 14 du distributeur 11 commune aux étages de pompage 2a-2e.
  • Le dispositif d'injection 9 comporte en outre un organe d'injection 12a, 12b, 12c, 12d, 12e par étage de pompage 2a-2e. Ils sont interposés entre le distributeur 11 et un étage de pompage 2a-2e respectif.
  • En fonctionnement, on contrôle l'ouverture de la au moins une vanne d'injection 13 pour injecter du gaz de purge par impulsions successives dans tous les étages de pompage 2a-2e.
  • Ce mode de réalisation présente l'avantage de pouvoir être implémenté facilement sur des pompes à vide existantes en modifiant simplement le programme de pilotage de la au moins une vanne d'injection 13 du dispositif d'injection 9.
  • Etant donné que la vanne d'injection 13 pilotable est commune à tous les étages de pompage 2a-2e, le gaz de purge est injecté par impulsions successives dans les étages de pompage 2a-2e simultanément et sur des durées similaires. En outre, entre deux impulsions de gaz de purge, le flux de gaz de purge injecté est nul puisque la au moins une vanne d'injection 13 est pilotable en tout ou rien.
  • Dans le cas d'organes d'injection 12a-12e réalisés sous forme de contrôleurs de débit pilotables par le dispositif de contrôle 10, il est toutefois possible de prévoir des amplitudes d'impulsions particulières sur chaque étage de pompage 2a-2e.
  • Le distributeur 11 peut également comporter au moins une dérivation additionnelle configurée pour distribuer un gaz de purge dans un palier de la pompe à vide 1 situé à une extrémité des rotors 5, par exemple entre le moteur M et l'étage de pompage 2e situé du côté du refoulement 4 ici accolé au moteur M.
  • La figure 3 montre un deuxième exemple de réalisation.
  • Cet exemple diffère du précédent par le fait que le dispositif d'injection 9 comporte une vanne d'injection 16a-16e par étage de pompage 2a-2e agencée sur une dérivation 15a-15e respective du distributeur 11.
  • En fonctionnement, on contrôle l'ouverture des vannes d'injection 16a-16e pour injecter des impulsions de gaz de purge dans au moins un étage de pompage 2a-2e.
  • Il est possible dans cet exemple de piloter indépendamment chaque vanne d'injection 15a-15b. Ainsi, les impulsions de gaz de purge peuvent être injectées dans un, plusieurs ou tous les étages de pompage 2a-2e, simultanément ou non.
  • Il est également possible de prévoir d'injecter un flux continu de gaz de purge dans le ou les étages de pompage dans lesquels on n'injecte pas de gaz de purge par impulsions successives en commandant au moins une vanne d'injection 16a-16e continuellement en ouverture. Par exemple, on injecte une impulsion de gaz de purge dans l'étage de pompage 2a dit de basse pression situé du côté de l'aspiration 3 et on injecte un gaz de purge en continu dans les autres étages de pompage 2b-2e.
  • Par ailleurs, les impulsions de gaz de purge peuvent être injectées sur des durées différentes ou similaires dans les différents étages de pompage 2a-2e. On prévoit par exemple qu'au moins deux durées d'impulsions de gaz de purge soient différentes dans deux étages de pompage 2a-2e. Les fréquences des impulsions peuvent donc également être différentes pour chaque étage de pompage 2a-2e.
  • On peut en outre prévoir de synchroniser le pilotage des vannes d'injection 16a-16e pour décaler l'injection des impulsions de gaz de purge dans au moins deux étages de pompage 2a-2e. Dans ce cas, les vannes d'injection 16a-16e d'au moins deux étages de pompage 2a-2e ne sont pas ouvertes en même temps ou les durées d'ouverture simultanées sont relativement courtes comparées à la durée totale de l'impulsion.
  • Par exemple, le décalage des impulsions de gaz de purge est synchronisé pour ouvrir les vannes d'injection 16a-16e dans les étages de pompage 2a-2e de manière successive dans le sens d'écoulement des gaz allant de l'aspiration 3 vers le refoulement 4 de la pompe à vide 1. Ainsi, la vanne d'injection 16a de l'étage de pompage 2a dit de basse pression du côté aspiration 3 est d'abord ouverte, puis celle associée au deuxième étage de pompage 2b et ainsi de suite jusqu'à l'étage de pompage 2e dit de haute pression du côté du refoulement 4. On crée ainsi artificiellement un front d'onde gazeux se déplaçant dans le sens d'écoulement des gaz pompés améliorant l'efficacité d'évacuation des sous-produits solides.
  • Selon un autre exemple, le décalage des impulsions de gaz de purge est synchronisé pour ouvrir les vannes d'injection 16a-16e dans les étages de pompage 2a-2e de manière successive dans le sens d'écoulement des gaz allant du refoulement 4 vers l'aspiration 3 de la pompe à vide 1.
  • Ainsi, par exemple la vanne de régulation 16e agencée sur la branche 15e raccordée au dernier étage de pompage 2e est d'abord ouverte, puis, après sa fermeture, la vanne de régulation 16d associée à l'avant dernier étage de pompage 2d est ouverte et ainsi de suite jusqu'au premier ou jusqu'au deuxième premier étage de pompage 2b si on injecte un gaz de purge en continu dans l'étage de pompage 2a dit de basse pression situé du côté de l'aspiration 3 par exemple.
  • On crée ainsi artificiellement un front d'onde gazeux se déplaçant dans le sens contraire d'écoulement des gaz pompés. Ce front d'onde permet ainsi d'évacuer d'éventuels sous-produits solides susceptibles de colmater la pompe à vide 1 d'abord dans le dernier étage de pompage 2e, puis dans l'avant dernier et ainsi de suite. Les sous-produits peuvent être évacués graduellement, en commençant par le dernier étage de pompage 2e, ce qui peut permettre d'éviter leur accumulation successive entre les étages de pompage ou dans un silencieux généralement agencé après le refoulement 4, pour éviter ainsi dans certains cas d'aggraver le risque de colmatage.
  • Plusieurs fronts d'onde peuvent être ainsi créés simultanément dans la pompe à vide 1. Par exemple, la vanne d'injection 16e de l'étage de pompage 2e dit de refoulement peut être ouverte simultanément avec la vanne d'injection 16a de l'étage de pompage 2a dit de basse pression. Un nouveau front d'onde démarre alors qu'un précédent front d'onde est en train de s'achever.
  • On comprend qu'en augmentant le nombre de vannes d'injection, on multiplie les choix possibles.
  • Dans le cas d'organes d'injection 12a-12e réalisés sous forme de contrôleurs de débit pilotables par le dispositif de contrôle 10, il est aussi possible de prévoir des amplitudes d'impulsions particulières sur chaque étage de pompage 2a-2e.
  • La Figure 4 montre un troisième exemple de réalisation.
  • Dans cet exemple, la pompe à vide 1 comporte un dispositif d'injection additionnel 17.
  • Le dispositif d'injection additionnel 17 comporte un distributeur 11 pour distribuer un gaz de purge dans les étages de pompage 2a-2e, un organe d'injection 12a-12e par étage de pompage 2a-2e interposé entre le distributeur 11 et un étage de pompage 2a-2e respectif et une vanne d'injection en continu 18 pilotable agencée sur une branche 14 du distributeur 11 commune aux étages de pompage 2a-2e.
  • La vanne d'injection en continu 18 pilotable est par exemple une électrovanne telle qu'électromagnétique ou piézoélectrique. Cette vanne est par exemple pilotable en tout ou rien.
  • Le dispositif de contrôle 10 est également configuré pour contrôler l'ouverture de la au moins une vanne d'injection en continu 18 pour injecter un gaz de purge en continu dans au moins un étage de pompage 2a-2e.
  • Etant donné qu'un flux de gaz de purge peut être constamment assuré dans tous les étages de pompage 2a-2e au moyen du dispositif d'injection additionnel 17, le dispositif d'injection 9 peut comporter seulement un ou quelques organes d'injection débouchant dans des étages de pompage 2a-2e accolés ou non et ne pas comporter d'organes d'injection et de vannes d'injection dans tous les étages de pompage 2a-2e.
  • Il est aussi possible, comme dans le deuxième mode de réalisation, que le dispositif d'injection 9 comporte un distributeur 11 configuré pour distribuer un gaz de purge dans les étages de pompage 2a-2e, un organe d'injection 12a-12e par étage de pompage 2a-2e interposé entre le distributeur 11 et un étage de pompage 2a-2e respectif et une vanne d'injection 16a-16e par étage de pompage 2a-2e agencée sur une dérivation 15a-15e respective du distributeur 11.
  • En fonctionnement, on contrôle l'ouverture de la au moins une vanne d'injection 16a-16e pour injecter des impulsions de gaz de purge dans au moins un étage de pompage 2a-2e et on contrôle l'ouverture de la au moins une vanne d'injection en continu 18 pour injecter un gaz de purge en continu au niveau de chaque étage de pompage 2a-2e.
  • Le flux du gaz de purge injecté par impulsions successives est par exemple compris entre 10slm et 120slm, tel que 100slm et le flux du gaz de purge injecté en continu est par exemple compris entre 10slm et 120slm, tel que 50slm (ou 84Pa.m3/s). La fréquence des impulsions est par exemple 0.5Hz. Le rapport cyclique est par exemple de 50%.
  • Par conséquent, en plus des possibilités décrites pour le deuxième mode de réalisation, il est possible ici d'assurer en plus un flux de purge non nul entre deux impulsions de gaz de purge dans un même étage de pompage 2a-2e. Une purge peut ainsi être maintenue continuellement dans tous les étages de la pompe à vide 1 simultanément à des saccades de fronts d'onde de purge.

Claims (15)

  1. Pompe à vide (1) primaire de type sèche comportant :
    - au moins deux étages de pompage (2a-2e) montés en série entre une aspiration (3) et un refoulement (4) de la pompe à vide (1),
    - deux rotors (5) s'étendant dans les étages de pompage (2a-2e), les rotors (5) étant configurés pour tourner de façon synchronisée en sens inverse pour entrainer un gaz à pomper entre l'aspiration (3) et le refoulement (4),
    - un dispositif d'injection (9) configuré pour distribuer un gaz de purge dans au moins un étage de pompage (2a-2e), comprenant :
    ∘ au moins un organe d'injection (12a-12e), et
    ∘ au moins une vanne d'injection (13 ; 16a-16e) pilotable en tout ou rien destinée à être interposée entre une source d'alimentation en gaz de purge et le au moins un organe d'injection (12a-12e),
    caractérisée en ce que la pompe à vide (1) comporte en outre un dispositif de contrôle (10) configuré pour contrôler l'ouverture et la fermeture de la au moins une vanne d'injection (13 ; 16a-16e) pour injecter un gaz de purge par impulsions successives dans au moins un étage de pompage (2a-2e).
  2. Pompe à vide (1) selon la revendication 1, caractérisée en ce que le dispositif d'injection (9) comprend :
    - un distributeur (11) configuré pour distribuer un gaz de purge dans les étages de pompage (2a-2e),
    - un organe d'injection (12a-12e) par étage de pompage (2a-2e) interposé entre le distributeur (11) et un étage de pompage (2a-2e) respectif.
  3. Pompe à vide (1) selon la revendication 2, caractérisée en ce que la vanne d'injection (13) est agencée sur une branche (14) du distributeur (11) commune aux étages de pompage (2a-2e).
  4. Pompe à vide (1) selon la revendication 2, caractérisée en ce que le dispositif d'injection (9) comporte une vanne d'injection (16a-16e) par étage de pompage (2a-2e) agencée sur une dérivation (15a-15e) respective du distributeur (11) adaptée pour distribuer un gaz de purge dans un étage de pompage (2a-2e) respectif.
  5. Pompe à vide (1) selon l'une des revendications précédentes, caractérisée en ce qu'elle comporte en outre un dispositif d'injection additionnel (17) comportant :
    - un distributeur (11) pour distribuer un gaz de purge dans les étages de pompage (2a-2e),
    - un organe d'injection (12a-12e) par étage de pompage (2a-2e) interposé entre le distributeur (11) et un étage de pompage (2a-2e) respectif,
    - une vanne d'injection en continu (18) pilotable et agencée sur une branche (14) du distributeur (11) commune aux étages de pompage (2a-2e), le dispositif de contrôle (10) étant également configuré pour contrôler l'ouverture de la au moins une vanne d'injection en continu (18) pour injecter un gaz de purge en continu dans les étages de pompage (2a-2e).
  6. Pompe à vide (1) selon l'une des revendications précédentes, caractérisée en ce que la fréquence des impulsions est comprise entre 0,1Hz et 5Hz.
  7. Pompe à vide (1) selon l'une des revendications précédentes, caractérisée en ce que le flux de gaz de purge injecté par impulsions est compris entre 17Pa.m3/s et 202Pa.m3/s.
  8. Pompe à vide (1) selon l'une des revendications précédentes, caractérisée en ce que le temps d'ouverture/temps de fermeture de la vanne d'injection est compris entre 1 et 80%, tel que compris entre 40 et 80%.
  9. Procédé de contrôle de l'injection d'un gaz de purge dans une pompe à vide (1) primaire de type sèche selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que l'on contrôle l'ouverture de la au moins une vanne d'injection (13 ; 16a-16e) pour injecter du gaz de purge par impulsions successives dans au moins un étage de pompage (2a-2e).
  10. Procédé de contrôle de l'injection d'un gaz de purge selon la revendication 9 dans une pompe à vide selon la revendication 4 ou selon l'une des revendications 5 à 8 prise avec la revendication 4, caractérisé en ce qu'au moins deux durées d'impulsions de gaz de purge sont différentes dans deux étages de pompage (2a-2e).
  11. Procédé de contrôle de l'injection d'un gaz de purge selon l'une des revendications 9 ou 10 dans une pompe à vide selon la revendication 4 ou selon l'une des revendications 5 à 8 prise avec la revendication 4, caractérisé en ce qu'en outre, un flux continu de gaz de purge est injecté dans au moins un étage de pompage (2a-2e) en commandant au moins une vanne d'injection (16a-16e) continuellement en ouverture.
  12. Procédé de contrôle de l'injection d'un gaz de purge selon l'une des revendications 9 à 11 dans une pompe à vide selon la revendication 5 ou selon l'une des revendications 6 à 8 prise avec la revendication 5, caractérisé en ce qu'en outre, on contrôle l'ouverture de la au moins une vanne d'injection en continu (18) pour injecter un gaz de purge en continu au niveau de chaque étage de pompage (2a-2e).
  13. Procédé de contrôle de l'injection d'un gaz de purge selon l'une des revendications 9 à 12 dans une pompe à vide selon la revendication 4 ou selon l'une des revendications 5 à 8 prise avec la revendication 4, caractérisé en ce qu'on synchronise le pilotage des vannes d'injection (16a-16e) pour décaler l'injection des impulsions de gaz de purge dans au moins deux étages de pompage (2a-2e).
  14. Procédé de contrôle de l'injection d'un gaz de purge selon la revendication 13, caractérisé en ce que le décalage des impulsions de gaz de purge est synchronisé pour ouvrir les vannes d'injection (16a-16e) dans les étages de pompage (2a-2e) de manière successive dans le sens d'écoulement des gaz allant de l'aspiration (3) vers le refoulement (4) de la pompe à vide (1).
  15. Procédé de contrôle de l'injection d'un gaz de purge selon la revendication 13, caractérisé en ce que le décalage des impulsions de gaz de purge est synchronisé pour ouvrir les vannes d'injection (16a-16e) dans les étages de pompage (2a-2e) de manière successive dans le sens d'écoulement des gaz allant du refoulement (4) vers l'aspiration (3) de la pompe à vide (1).
EP19198698.3A 2018-09-27 2019-09-20 Pompe à vide primaire de type sèche et procédé de contrôle de l'injection d'un gaz de purge Active EP3628870B1 (fr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1858887A FR3086705B1 (fr) 2018-09-27 2018-09-27 Pompe a vide primaire de type seche et procede de controle de l'injection d'un gaz de purge

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP3628870A1 true EP3628870A1 (fr) 2020-04-01
EP3628870B1 EP3628870B1 (fr) 2021-11-03

Family

ID=65443964

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP19198698.3A Active EP3628870B1 (fr) 2018-09-27 2019-09-20 Pompe à vide primaire de type sèche et procédé de contrôle de l'injection d'un gaz de purge

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11585342B2 (fr)
EP (1) EP3628870B1 (fr)
JP (1) JP2020063737A (fr)
KR (1) KR20200035872A (fr)
CN (1) CN110953153B (fr)
FR (1) FR3086705B1 (fr)
TW (1) TWI804657B (fr)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115388005A (zh) * 2022-08-16 2022-11-25 北京通嘉宏瑞科技有限公司 一种降低压力脉动的多级罗茨真空泵及其工作方法
WO2023247083A1 (fr) * 2022-06-22 2023-12-28 Pfeiffer Vacuum Pompe à vide

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR3097599B1 (fr) * 2019-06-18 2021-06-25 Pfeiffer Vacuum Pompe à vide primaire de type sèche et procédé de contrôle de l’injection d’un gaz de purge
WO2021219307A1 (fr) * 2020-04-29 2021-11-04 Pfeiffer Vacuum Pompe à vide primaire et installation
FR3112176B1 (fr) * 2020-10-09 2023-03-17 Pfeiffer Vacuum Pompe à vide primaire et Installation
CN112024539A (zh) * 2020-06-29 2020-12-04 朝阳黑猫伍兴岐炭黑有限责任公司 一种炭黑管线积炭处理装置
CN112705538A (zh) * 2020-12-04 2021-04-27 浙江银轮机械股份有限公司 罗茨泵和螺杆泵真空机组清洗组件
CN118414496A (zh) * 2021-12-24 2024-07-30 樫山工业株式会社 干式真空泵
GB2621854A (en) * 2022-08-24 2024-02-28 Edwards Korea Ltd Apparatus and method for delivering purge gas to a vacuum pump
CN116428157B (zh) * 2023-04-13 2024-08-30 北京通嘉宏瑞科技有限公司 气体加热控制系统及气体加热控制方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060032442A1 (en) * 2004-07-15 2006-02-16 Kazuhide Hasebe Method and apparatus for forming silicon oxide film
GB2500610A (en) * 2012-03-26 2013-10-02 Edwards Ltd Apparatus to supply purge gas to a multistage vacuum pump
WO2014012896A2 (fr) * 2012-07-19 2014-01-23 Adixen Vacuum Products Procede et dispositif de pompage d'une chambre de procedes

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8809621D0 (en) * 1988-04-22 1988-05-25 Boc Group Plc Dry pump with closed loop filter
US6421127B1 (en) * 1999-07-19 2002-07-16 American Air Liquide, Inc. Method and system for preventing deposition on an optical component in a spectroscopic sensor
KR101151954B1 (ko) * 2002-10-14 2012-06-01 에드워즈 리미티드 진공 펌프, 화학 증착 장치, 진공 펌프 내의 퇴적물 관리 방법, 진공 펌프 기구 내의 퇴적물 관리 방법 및 컴퓨터 판독가능한 저장 매체
US8047817B2 (en) * 2003-09-23 2011-11-01 Edwards Limited Cleaning method of a rotary piston vacuum pump
JP3945519B2 (ja) * 2004-06-21 2007-07-18 東京エレクトロン株式会社 被処理体の熱処理装置、熱処理方法及び記憶媒体
GB2439948B (en) * 2006-07-12 2010-11-24 Boc Group Plc Gas supply apparatus
JP5011195B2 (ja) * 2008-04-10 2012-08-29 東京エレクトロン株式会社 流体分流供給ユニット
GB0922564D0 (en) * 2009-12-24 2010-02-10 Edwards Ltd Pump
FR3001263B1 (fr) * 2013-01-18 2015-02-20 Adixen Vacuum Products Pompe a vide multi-etagee de type seche

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060032442A1 (en) * 2004-07-15 2006-02-16 Kazuhide Hasebe Method and apparatus for forming silicon oxide film
GB2500610A (en) * 2012-03-26 2013-10-02 Edwards Ltd Apparatus to supply purge gas to a multistage vacuum pump
WO2014012896A2 (fr) * 2012-07-19 2014-01-23 Adixen Vacuum Products Procede et dispositif de pompage d'une chambre de procedes

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023247083A1 (fr) * 2022-06-22 2023-12-28 Pfeiffer Vacuum Pompe à vide
FR3137139A1 (fr) * 2022-06-22 2023-12-29 Pfeiffer Vacuum Pompe à vide
CN115388005A (zh) * 2022-08-16 2022-11-25 北京通嘉宏瑞科技有限公司 一种降低压力脉动的多级罗茨真空泵及其工作方法
CN115388005B (zh) * 2022-08-16 2023-10-13 北京通嘉宏瑞科技有限公司 一种降低压力脉动的多级罗茨真空泵的工作方法

Also Published As

Publication number Publication date
US11585342B2 (en) 2023-02-21
EP3628870B1 (fr) 2021-11-03
JP2020063737A (ja) 2020-04-23
TW202012788A (zh) 2020-04-01
CN110953153A (zh) 2020-04-03
CN110953153B (zh) 2023-04-18
US20200102960A1 (en) 2020-04-02
TWI804657B (zh) 2023-06-11
FR3086705A1 (fr) 2020-04-03
FR3086705B1 (fr) 2020-10-23
KR20200035872A (ko) 2020-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3628870B1 (fr) Pompe à vide primaire de type sèche et procédé de contrôle de l'injection d'un gaz de purge
EP2875240B1 (fr) Procede et dispositif de pompage d'une chambre de procedes
FR2705165A1 (fr) Installation de traitement par plasma et procédé pour son exploitation.
FR2705104A1 (fr) Procédé pour augmenter la vitesse de revêtement, procédé pour réduire la densité de poussière dans un espace de décharge de plasma, et chambre à plasma.
EP3485168B1 (fr) Procédé de descente en pression dans un sas de chargement et de déchargement et groupe de pompage associé
EP2909450B1 (fr) Trompe a jet pour depressuriser des enceintes de lubrification d'une turbomachine a doubles injecteurs independants
CH624317A5 (en) Electrostatic atomising-spraying device
EP3607204B1 (fr) Groupe de pompage et utilisation
FR2689185A1 (fr) Ensemble à pompe à huile pour moteur.
WO2010070240A1 (fr) Procede de descente en pression dans un sas de chargement et de dechargement et equipement associe
WO2020201218A1 (fr) Pompe à vide de type sèche et installation de pompage
FR3070489A1 (fr) Detecteur de fuites et procede de detection de fuites pour le controle de l'etancheite d'objets a tester
FR2938302A1 (fr) Dispositif d'ajustement d'une variable de fonctionnement d'un moteur
WO2020254043A1 (fr) Pompe à vide primaire de type sèche et procédé de contrôle de l'injection d'un gaz de purge
WO2018224253A1 (fr) Procédé de surveillance d'un état de fonctionnement d'un dispositif de pompage
WO2015121222A1 (fr) Système de pompage et procédé de descente en pression dans un sas de chargement et de déchargement
FR3105313A1 (fr) Pompe à vide et procédé d’injection d’un gaz de purge
FR2968730A1 (fr) Dispositif de pompage a consommation d'energie reduite
WO2023104539A1 (fr) Dispositif et procédé de pompage et de traitement
FR3109806A1 (fr) Pompe à vide primaire et Installation
FR3112176A1 (fr) Pompe à vide primaire et Installation
WO2013135481A1 (fr) Dispositif de pulsation d'un fluide
FR2483019A1 (fr) Compresseur rotatif pour un melange gaz-liquide
BE469831A (fr)
FR3009925A1 (fr) Circuit d'alimentation en liquide pour rampe de pulverisation, dispositif et procede correspondants

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE APPLICATION HAS BEEN PUBLISHED

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

AX Request for extension of the european patent

Extension state: BA ME

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: REQUEST FOR EXAMINATION WAS MADE

17P Request for examination filed

Effective date: 20200924

RBV Designated contracting states (corrected)

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: EXAMINATION IS IN PROGRESS

17Q First examination report despatched

Effective date: 20201118

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: EXAMINATION IS IN PROGRESS

GRAP Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: GRANT OF PATENT IS INTENDED

INTG Intention to grant announced

Effective date: 20210316

GRAJ Information related to disapproval of communication of intention to grant by the applicant or resumption of examination proceedings by the epo deleted

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSDIGR1

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: EXAMINATION IS IN PROGRESS

GRAS Grant fee paid

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR3

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: GRANT OF PATENT IS INTENDED

GRAP Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1

INTC Intention to grant announced (deleted)
INTG Intention to grant announced

Effective date: 20210811

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE PATENT HAS BEEN GRANTED

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: FG4D

Free format text: NOT ENGLISH

REG Reference to a national code

Ref country code: AT

Ref legal event code: REF

Ref document number: 1444184

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20211115

Ref country code: CH

Ref legal event code: EP

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: FG4D

Free format text: LANGUAGE OF EP DOCUMENT: FRENCH

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R096

Ref document number: 602019008909

Country of ref document: DE

REG Reference to a national code

Ref country code: LT

Ref legal event code: MG9D

REG Reference to a national code

Ref country code: NL

Ref legal event code: MP

Effective date: 20211103

REG Reference to a national code

Ref country code: AT

Ref legal event code: MK05

Ref document number: 1444184

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20211103

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: RS

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

Ref country code: LT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

Ref country code: FI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

Ref country code: BG

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220203

Ref country code: AT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IS

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220303

Ref country code: SE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

Ref country code: PT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220303

Ref country code: PL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

Ref country code: NO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220203

Ref country code: NL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

Ref country code: LV

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

Ref country code: HR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

Ref country code: GR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220204

Ref country code: ES

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SM

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

Ref country code: SK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

Ref country code: RO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

Ref country code: EE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

Ref country code: DK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

Ref country code: CZ

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R097

Ref document number: 602019008909

Country of ref document: DE

PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

26N No opposition filed

Effective date: 20220804

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MC

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PL

REG Reference to a national code

Ref country code: BE

Ref legal event code: MM

Effective date: 20220930

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

P01 Opt-out of the competence of the unified patent court (upc) registered

Effective date: 20230524

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20220920

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20220930

Ref country code: IE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20220920

Ref country code: CH

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20220930

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20220930

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: HU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT; INVALID AB INITIO

Effective date: 20190920

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: CY

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

Effective date: 20230920

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230920

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230920

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20211103

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20240926

Year of fee payment: 6

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Payment date: 20240924

Year of fee payment: 6