EP2064372B1 - Verfahren zur elektrophoretischen beschichtung von werkstücken und beschichtungsanlage - Google Patents

Verfahren zur elektrophoretischen beschichtung von werkstücken und beschichtungsanlage Download PDF

Info

Publication number
EP2064372B1
EP2064372B1 EP07786409.8A EP07786409A EP2064372B1 EP 2064372 B1 EP2064372 B1 EP 2064372B1 EP 07786409 A EP07786409 A EP 07786409A EP 2064372 B1 EP2064372 B1 EP 2064372B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
coating
voltage
workpiece
workpieces
direct current
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
EP07786409.8A
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP2064372A2 (de
Inventor
Jürgen SCHLECHT
Zoltan-Josef Horvath
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eisenmann GmbH
Original Assignee
Eisenmann SE
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=38800741&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=EP2064372(B1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Eisenmann SE filed Critical Eisenmann SE
Publication of EP2064372A2 publication Critical patent/EP2064372A2/de
Application granted granted Critical
Publication of EP2064372B1 publication Critical patent/EP2064372B1/de
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D13/00—Electrophoretic coating characterised by the process
    • C25D13/22—Servicing or operating apparatus or multistep processes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D13/00—Electrophoretic coating characterised by the process
    • C25D13/18—Electrophoretic coating characterised by the process using modulated, pulsed, or reversing current

Definitions

  • the invention relates to a method for the electrophoretic coating of workpieces with a coating medium, in particular lacquer, in which at least one workpiece is immersed in the coating medium, applied with a voltage source a DC voltage between the workpiece and at least one immersed in the coating medium electrode and the DC voltage during the Electrophoresis is increased.
  • the invention relates to a coating system for electrophoretic coating of workpieces with a coating medium, in particular paint, with a bath container in which the at least one workpiece is immersed, with a voltage source for applying a variable DC voltage between the workpiece and at least one electrode in the bath tank.
  • a coating system for electrophoretic coating of workpieces with a coating medium, in particular paint with a bath container in which the at least one workpiece is immersed, with a voltage source for applying a variable DC voltage between the workpiece and at least one electrode in the bath tank.
  • the voltage is then kept constant in a first exemplary embodiment in each case at the value of the coating voltage or, in a second exemplary embodiment, is increased stepwise.
  • the coating of the workpieces acts as an insulating layer on their surface.
  • the thickness of the insulating layer increases with the coating time.
  • the coating speed is dependent on the conductivity of the workpiece surface and thus the current density initially very large. It decreases exponentially with the coating time due to the increasing thickness of the insulating layer until a saturation occurs or the circuit is interrupted.
  • the increasing insulating layer thickness therefore leads to a significant extension of the total coating time.
  • the method of current density constant maintenance is known from other known continuous flow coating plant.
  • the voltage is readjusted as a function of the immersed surface of the workpiece.
  • the workpieces are intermittently immersed in an area of the bath and held there. For the duration of the immersion, a substantially constant voltage is applied between the immersed workpiece and at least one electrode in the bath with a voltage source.
  • a substantially constant voltage is applied between the immersed workpiece and at least one electrode in the bath with a voltage source.
  • longer cycle times for the coating are predetermined here, whereby the entire coating process is considerably prolonged.
  • a method and a system of the type mentioned is from the US 3,855,106 known.
  • the voltage is first increased to a threshold voltage. This is accompanied by an increase in the current density up to a maximum value, in order then to decrease again as a consequence of an increasing electrical resistance with increasing layer thickness, until a predetermined nominal value for the current density has been reached.
  • the current density is kept constant by increasing the voltage, even above the threshold voltage.
  • the bus bars are electrically divided into several segments, wherein the first segment is at a lower voltage and the subsequent segments are held at higher voltages, which corresponds to the size of just to be coated there workpiece, the Coating current is monitored such that the layer thickness achieved is independent of the size of the workpiece.
  • the object of the present invention is to design a method and a coating system of the type mentioned above, with which the workpieces can be provided as simply as possible with a high-quality coating, in particular with a predefinable layer density and a predeterminable layer thickness.
  • This object is achieved in the method according to the invention in that the DC voltage is continuously increased substantially continuously during virtually the entire coating time such that the coating current density at the workpiece surface remains substantially constant over time.
  • a reduction in the conductivity of the workpiece surface is achieved during the entire coating period due to the increase in the thickness of the coating with a continuous enlargement counteracted the voltage, so that the flow and the flow of the media particles, which are understood here by particles both suspended and dispersed particles, and thus the coating speed over the coating time remain almost constant.
  • a controlled homogeneous application of the media particles to the workpiece surface preferably with a predetermined density and layer thickness, is achieved almost during the entire coating time. Since the layer thickness is proportional to the supplied electric charge depending on the coating medium, it can be easily determined.
  • the controlled continuous increase in voltage does not result in any current peaks, so that the voltage source and any contacts, in particular sliding contacts, when using a continuous-flow system are loaded less and smaller rectifiers can be used.
  • the risk of voltage flashovers is reduced by sparking.
  • the achieved almost constant time course of current also leads to a decrease in harmonics when using AC voltage to supply the voltage source.
  • a significantly better active power factor can be achieved since the nearly constant current characteristic reduces idle times of the voltage source.
  • the dipping areas can be made shorter, with shorter coating times the same layer thicknesses as in the known from the prior art continuous systems to reach. Accordingly, when using clock systems, the cycle times can be correspondingly shorter.
  • the voltage can be increased up to a limit voltage, which is predetermined in particular depending on the coating medium.
  • a multiplicity of workpieces can be conveyed simultaneously in the bath of a continuous coating installation, and the voltage source can be used to provide the same temporal voltage progression for each workpiece with a time shift.
  • the advantages of the continuous coating machine and the advantages of the invention can be combined, so that a plurality of workpieces can be continuously and quickly provided each with a high quality coating.
  • the workpieces can also be immersed in cycles in a bath of a tact coater.
  • a DC voltage can be generated from an input AC voltage with a single rectifier and from this DC voltage by means of at least one electronic circuit controlled by a control unit of the coating system the variable DC voltage (s) applied to the workpiece is (are) generated.
  • the coating medium may in particular be lacquer.
  • the coating system according to the invention is characterized in that the voltage source has at least one electronic circuit with which it can be controlled such that it emits a continuously substantially continuously variable DC voltage over virtually the entire coating duration, such that the coating current density at the workpiece surface is substantially in time remains constant. In this way, a reduction in the conductivity of the workpiece surface during almost the entire coating time can be optimally compensated.
  • This embodiment is used in particular where the workpieces to be coated are not at ground potential. In Europe, where by convention the negative pole is at ground potential, these are anaphoretic coating processes.
  • This embodiment is used in particular where the workpieces to be coated are at ground potential, ie in Europe in cataphoretic coating processes.
  • the advantage of this embodiment is that when passing through the workpieces no galvanic transitions are required in which voltage flashovers could be caused by sparking.
  • the coating installation may be a clock coating installation, which has a smaller footprint than a continuous coating plant.
  • the voltage source may comprise a single rectifier and at least one controllable electronic circuit connected downstream thereof which can generate a DC voltage of continuously variable size from the voltage delivered by the rectifier.
  • the voltage source can be easily realized with just a few components.
  • the electronic circuit may be an IGBT circuit, which is particularly easy to implement and suitable for large voltages and currents. Another advantage is the low demand for control power, the insulation of the gate connection from the load circuit and the low on-resistance.
  • the coating system can be designed in particular for coating with paint.
  • FIG. 1 illustrated embodiment of an electrophoretic fürlauftauchlackierstrom the different workpieces to be painted are not grounded and can therefore be brought to different and time-varying potential.
  • the negative pole of a DC voltage source is grounded.
  • the system is the FIG. 1 for cataphoretic operation. It is used in particular for pre-painting of not shown workpieces in a continuous dipping process. It comprises a dip tank 12 shown in vertical section, which is filled up to a certain level with a corresponding coating liquid.
  • the workpieces to be painted are introduced in the direction of arrow 14 by means of a suitable conveyor system, not shown, to the dip tank 12, then immersed in a first area in the coating liquid, moved through the coating liquid, lifted out of the paint liquid in the end of the dip tank 12 and then in Diverted arrow 16 for further treatment.
  • a multiplicity of cathodes 18 immersed in the coating liquid which are connected to the earthed negative pole of a regulated rectifier 20, are immersed.
  • an input AC voltage in the order of about 450 V at.
  • a busbar assembly 22 which preferably extends above the mirror of the paint liquid and is divided into four segments 22a, 22b, 22c and 22d.
  • Each workpiece can be connected in succession with the segments 22a, 22b, 22c and 22d via a galvanic contact during conveyance.
  • the distance of the workpieces is sufficiently large, so that never two of the workpieces at the same time are connected to the same segment 22a, 22b, 22c and 22d, respectively.
  • a workpiece and its galvanic contact together with the cathodes 18 each form an electrode device.
  • Each segment 22a, 22b, 22c and 22d is connected to the positive pole of the controlled rectifier 20 via a respective controllable semiconductor switch 24a, 24b, 24c and 24d, in the present case an IGBT circuit.
  • a coating DC voltage U (T) at the corresponding segments 22a, 22b, 22c and 22d is adjustable.
  • the semiconductor switches 24a, 24b, 24c and 24d in turn each comprise a controllable power transistor 26 and a logic circuit 28 driving the same.
  • FIG. 1 left shown in detail.
  • the semiconductor switches 24b, 24c and 24d of the further segments 22b, 22c, 22d correspond to the first one.
  • control program for the power transistor 26 is stored, which is then set in motion when at an input 30 of the semiconductor switch 24a or an input, not shown, the semiconductor switches 24b, 24c and 24d arrives a start signal.
  • Each semiconductor switch 24a, 24b, 24c and 24d and the conveyor are connected to a central control unit, not shown, with which the delivery process and the Control program can be coordinated in the manner explained below.
  • the central control unit may be a programmable controller (PLC) or a PC.
  • the dip coating system 10 described above operates as follows: First, the passage of a single workpiece is considered. Shortly before the workpiece enters the plunge pool 12, the power transistor 26 of the semiconductor switch 24a is blocked for the first segment 22a, so that therefore the first segment 22a of the busbar arrangement 22 is de-energized. The further segments 22b, 22c and 22d may also be de-energized at this time.
  • the approaching in the direction of arrow 14 workpiece is detected at the inlet of the dip tank 12 by an inlet sensor 32. This gives the start signal to the input 30 of the semiconductor switch 24a of the first segment 22a, so that the logic begins with the execution of the stored program.
  • the workpiece is now galvanically connected to the first segment 22a of the busbar assembly 22, which is still at zero potential.
  • the logic circuit 28 generates now with a certain repetition frequency of eg 500 Hertz pulse width modulated voltage pulses, which during its duration the Open power transistor 26.
  • a certain repetition frequency eg 500 Hertz pulse width modulated voltage pulses, which during its duration the Open power transistor 26.
  • the duration of these pulses is still very low, but increases continuously, though not necessarily linearly, during the passage of the first segment 22a. Accordingly, the mean coating DC voltage U (T) to which the workpiece is exposed during its movement increases along the first segment 22a.
  • the time profile of the coating DC voltage U (T) for the entire coating process is in FIG. 2 and is explained in more detail below.
  • a presence sensor 34 is arranged shortly before reaching the end of the first segment 22a, which is connected via the semiconductor switch 24a to the central control unit.
  • the workpiece enters the detection area of the presence sensor 34, it generates a signal which starts the program of the logic circuit 28 of the semiconductor switch 24b, the second segment 22b and causes the central control unit to apply the same to the second segment 22b, independently of the semiconductor switch 24a of the first segment 22a To bring potential like the first segment 22a.
  • the coating voltage U (T) at the end of the first segment 22a is thus passed on in controllable size to the second segment 22b.
  • the transition from the second segment 22b to the third segment 22c and from the third segment 22c to the fourth segment 22d is monitored by corresponding, not shown further presence sensors analog.
  • the programs of the second semiconductor switch 24b and of the third semiconductor switch 24c are processed analogously to that of the first semiconductor switch 24a and the coating DC voltage U (T) is continuously increased when passing through the second segment 22b and the third segment 22c.
  • the workpiece is further coated with varnish.
  • the entry into the fourth segment 22d is analogous to that in the previous segments 22b and 22c. However, shortly before the end of the fourth segment 22d, from reaching a limit voltage U G , the coating DC voltage U (T) kept constant to prevent the paint from coagulating.
  • the coating voltage along the four segments 22a to 22d as a whole causes the coating DC voltage U (T), whose time course in the FIG. 2 is shown and which has no steps at the transitions between the segments 22a, 22b, 22c and 22d.
  • the time profile of the coating DC voltage U (T) and a coating current I (T) in Tauchlakkierstrom 10 when passing through all four segments 22a, 22b, 22c and 22d, as already mentioned, in FIG. 2 schematically illustrated by an amplitude-time diagram.
  • the course of the coating DC voltage U (T) is in the FIG. 2 dashed line above and the coating stream I (T) underneath shown as a solid line.
  • the amplitudes are plotted on the vertical axis of the diagram and the coating time T on the horizontal axis.
  • the inlet sensor 32 indicates to the semiconductor switches 24a of the first segment 22a of the immersion of the workpiece in the bath is at a time t 0, in the FIG. 2 left, with the semiconductor switch 24a to the first segment 22a a minimum initial coating DC voltage U A applied. Because of the initially high conductivity the still uncoated workpiece surface of the initial coating DC voltage U A immediately follows a strong increase of the coating current I (T) to a value I B. The current I (T) causes the desired uniform and rapid coating of the workpiece surface.
  • the coating DC voltage U (T) is increased approximately in the form of an exponential function when passing through the four segments 22a to 22d with the respective semiconductor switches 24a, 24b, 24c and 24d such that the coating current I (T) and thus the coating speed also remain almost constant with increasing layer thickness, ie decreasing conductivity of the workpiece surface.
  • a continuous busbar arrangement could be brought to the varying DC coating voltage U (T) by a single controllable semiconductor switch during the passage of the workpiece, as in FIG. 2 shown.
  • the advantage of the segmentation is that a plurality of workpieces can be treated simultaneously in the Tauchlakkierstrom 10. In each segment 22a, 22b, 22c and 22d there may be only one workpiece.
  • each segment 22a, 22b, 22c, 22d thus covers a certain voltage range of in FIG. 2 shown coating DC voltage U (T) from.
  • the temporal stress curve is the same for all workpieces with respect to the respective beginning of the coating; the respective start of coating for a workpiece is shifted in time relative to the beginning of the coating of the workpiece previously conveyed in the dipping area.
  • the voltage source which includes the semiconductor switches 24a, 24b, 24c and 24d and the regulated rectifier 20, so the deposition of a paint film between each workpiece and the cathodes 18 in the bath, the respectively required coating DC voltage U (T) with the in FIG. 2 displayed course are created.
  • a second embodiment of a fürlauftauchlackierstrom 110 for cataphoretic dip painting shown in FIG. 3 , are those elements that are among those in the FIGS. 1 and 2 described flow coating unit 10 are provided with the same reference numerals plus 100, so that with respect to the description of the above statements reference is made.
  • the Cataphoretic Continuous Dip Painting System 110 of the FIG. 3 differs from the fürlauftauchlackierstrom 10 of FIG. 1 in that the workpieces are all at ground, that is to say at the same, temporally constant potential. For a plant according to European convention, this means that the plant of the FIG. 3 works cataphoretically in the manner described below.
  • a continuous, continuous bus bar 122 may be used with which each workpiece 170 is electrically connected via a suspension 150 during conveyance.
  • the bus bar 122 is connected via a terminal 135 to the negative terminal of the controlled rectifier 120.
  • Each of the anodes 118 is connected to the positive pole of the controlled rectifier 120 separately via a blocking diode 125a, 125b, 125c, and 125d, respectively, and the semiconductor switches 124a, 124b, 124c, and 124d, respectively.
  • a presence sensor 134 is arranged, which is connected to the semiconductor switches 124a, 124b, 124c and 124d of the anode 118 corresponding to it.
  • the lines between the presence sensors 134 and the respective semiconductor switches 124a, 124b, 124c and 124d are in FIG. 3 for the sake of clarity not shown.
  • the anodes 118 may each be surrounded in a known manner by a membrane which forms a dialysis cell.
  • the cataphoretic continuous dip coating system 110 functions analogously to the anaphoretic continuous dip coating system 10 according to FIG. 1 except that in the cataphoretic continuous dipping apparatus 110, unlike the anaphoretic continuous dipping apparatus 10, the movement path is not divided by physical rail segments 22a, 22b, 22c and 22d but by potential districts in the bath realized near the anodes 118.
  • the potentials at the anodes 118 in the second embodiment are changed analogously to the potentials at the segments 22a, 22b, 22c and 22d of the first embodiment as soon as the presence of a workpiece 170 from the corresponding presence sensor 134 is detected.
  • the voltage curve on the workpieces 170 corresponds to that in FIG FIG. 2 shown.
  • the coating speed is influenced here by all anodes 118.
  • the coating speed at each workpiece 170 is additionally controlled by the removal of the corresponding cathode suspension 150 from the anodes 118.
  • FIG. 4 is a Takttauchlackierstrom 210 for cataphoretic dip painting shown in vertical section.
  • a plurality of workpieces 270 with a continuously increasing during the coating coating DC voltage U (T) is applied, which overall the same time course as the coating DC voltage U (T) in the first embodiment of the continuous dip coating system 10 of the FIGS. 1 and 2 Has.
  • the voltage curve in the Takttauchlackierstrom 210 is in FIG. 5 shown.
  • Those elements to those of the continuous dip coating 10 from the FIGS. 1 and 2 are similar, are provided with the same reference numerals plus 200.
  • anodes 218 On both sides of the workpieces 270 a plurality of anodes 218 is immersed in the paint liquid.
  • the anodes 218 may optionally be surrounded in a known manner in each case with a membrane which forms a dialysis cell.
  • Each anode 218 is connected via a stationary contact 209, an anode terminal 203 and a fixed electrical installation connection 205 connected to the positive pole of the rectifier 220 combined with an isolating transformer. Of some leading to the hidden work electrical installation connection 205 only the ends connected to the rectifier 220 are shown.
  • the rectifier 220 is also grounded.
  • the rectifier 220 is connected to a PC (not shown) or to a programmable controller (PLC), with which a time profile for the coating DC voltage U (T) can be specified, as described in US Pat FIG. 5 is shown.
  • PLC programmable controller
  • the workpieces 270 are each connected via a flexible galvanic contact 211 to a cathode terminal 204. From this, a fixed electrical installation line 206 leads to the negative pole of the rectifier 220. Again, the ends of some fixed electrical installation lines 206 leading away from the rectifier 220 are shown leading to concealed workpieces.
  • the flexible contacts 211 are each designed such that the associated workpiece 270 is permanently connected to the cathode connection 204 during immersion or when lifting out.
  • the rectifier 220 After immersing the workpieces 270 in the plunge pool 212, the rectifier 220 is controlled by the PC or the PLC in such a way that it generates the coating DC voltage U (T) which, as in FIG FIG. 5 shown is increased time-dependent.
  • the coating DC voltage U (T) is applied to the workpieces 270 via the positive terminal of the rectifier 220, the electrical installation connections 205, the anode terminals 203, the stationary contacts 209 and the anodes 218 on the one hand and the electrical installation lines 206, the cathode terminals 204 and the flexible contacts 210 on the other hand.
  • the coating DC current U (T) is steplessly controlled by the coating current I (T) such that the current density at the surface of the workpiece remains constant during the immersion process, irrespective of the size of the submerged surfaces and then over time.
  • the workpieces 170; 270 be coated with a different coating medium.
  • the input AC voltage may also be greater than 400V.
  • a medium voltage for example of the order of 10 kV to 20 kV.
  • a regulated rectifier 20; 120; 220 may also be provided an unregulated rectifier.
  • the control can also be taken over by corresponding semiconductor switches, for example.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur elektrophoretischen Beschichtung von Werkstücken mit einem Beschichtungsmedium, insbesondere Lack, bei dem wenigstens ein Werkstück in das Beschichtungsmedium eingetaucht wird, mit einer Spannungsquelle eine Gleichspannung zwischen dem Werkstück und wenigstens einer in das Beschichtungsmedium eingetauchten Elektrode angelegt und die Gleichspannung während der Elektrophorese erhöht wird.
  • Darüber hinaus betrifft die Erfindung eine Beschichtungsanlage zur elektrophoretischen Beschichtung von Werkstücken mit einem Beschichtungsmedium, insbesondere Lack, mit einem Badbehälter in welchen das wenigstens eine Werkstück eintauchbar ist, mit einer Spannungsquelle zum Anlegen einer veränderlichen Gleichspannung zwischen dem Werkstück und wenigstens einer Elektrode im Badbehälter.
  • Aus der EP 0 255 268 A2 ist eine Methode zur Betreibung einer Durchlaufbeschichtungsanlage zur Beschichtung von Werkstücken bekannt, die in einem kataphoretischen Bad in Förderrichtung kontinuierlich befördert und auf Abstand gehalten werden. Das Bad hat einen Tauchbereich mit ausreichender Größe zum vollständigen Tauchen mehrerer auf Abstand gehaltener Werkstücke. Um Spannungsüberschläge mit Funkenbildung und Fehler auf den elektrophoretisch erzeugten Schichten, beispielsweise Löcher oder Unebenheiten, zu vermeiden, wird in einem Einlaufabschnitt eine Gleichspannung für die Dauer einer kurzen Hochlaufzeit linear bis zu einer Beschichtungsspannung erhöht. In den folgenden Abschnitten des Tauchbereichs, in denen die eigentliche Beschichtung erst stattfindet, wird die Spannung dann bei einem ersten Ausführungsbeispiel jeweils auf dem Wert der Beschichtungsspannung konstant gehalten oder bei einem zweiten Ausführungsbeispiel stufenweise erhöht. Die Beschichtung der Werkstücke wirkt allerdings als Isolierschicht auf deren Oberfläche. Die Dicke der Isolierschicht nimmt mit der Beschichtungszeit zu. Beim Anlegen einer konstanten Gleichspannung (erstes Ausführungsbeispiel) im zweiten und gegebenenfalls den weiteren Abschnitten des Tauchbereichs, ist die Beschichtungsgeschwindigkeit abhängig von der Leitfähigkeit der Werkstückoberfläche und damit die Stromdichte anfänglich sehr groß. Sie nimmt mit der Beschichtungszeit auf Grund der zunehmenden Dicke der Isolierschicht etwa exponentiell ab bis eine Sättigung eintritt oder der Stromkreis unterbrochen wird. Die zunehmende Isolierschichtdicke führt daher zu einer deutlichen Verlängerung der gesamten Beschichtungsdauer. Daher werden entsprechend lange Tauchbereiche benötigt, um die Verweildauer der Werkstücke zu verlängern. Die hohen Stromspitzen zu Beginn des Beschichtungsvorgangs erfordern die Verwendung großer und damit teurer Gleichrichter. Auch führt die konstante Gleichspannung während der eigentlichen Beschichtungszeit in den dafür vorgesehenen Abschnitten des Tauchbereichs bei großen Werkstückoberflächen zu anderen Schichtdicken als bei kleinen Werkstückoberflächen. Das Erhöhen der Spannung lediglich während der kurzen Hochlaufzeit im ersten Abschnitt des Tauchbereichs beeinträchtigt darüber hinaus die Qualität der Beschichtung der Oberfläche der Werkstücke. Die stufenweise Erhöhung der Gleichspannung (zweites Ausführungsbeispiel) ab dem zweiten Abschnitt des Tauchbereiches führt zu Stromsprüngen. An den Werkstücken liegt daher nicht immer die optimale Stromstärke an, um die Stromdichte konstant zu halten.
  • Um die Spannung für die Beschichtung zu regeln, ist von anderen marktbekannten Durchlaufbeschichtungsanlage die Methode der Stromdichtekonstanthaltung bekannt. Hierbei wird die Spannung in Abhängigkeit von der eingetauchten Oberfläche des Werkstücks nachgeregelt. Eine Regelung der Beschichtungsgeschwindigkeit ist hiermit allerdings nicht möglich.
  • Ferner ist bekannt, zur Beschichtung von Hohlräumen, insbesondere geschlossenen rohrförmigen Teilen, kurze Spannungspulse mit erhöhter Spannung zwischen dem Werkstück und der Elektrode anzulegen, um einen Umgriff, insbesondere eine Innenbeschichtung, auch bei Hohlraumtiefen größer als 500 mm zu ermöglichen. Die Spannungen sind bei Lackbeschichtungen auf 450 V begrenzt, da bei größeren Spannungen der Lack koagulieren kann. Diese Methode ist ungeeignet, die Abnahme der elektrischen Leitfähigkeit der Werkstückoberfläche als Folge der Zunahme der Isolierschichtdicke zu kompensieren.
  • Bei vom Markt her bekannten Taktanlagen zur Beschichtung von Werkstücken werden die Werkstücke taktweise in einen Bereich des Bades eingetaucht und dort gehalten. Für die Dauer des Eintauchens wird mit einer Spannungsquelle eine im Wesentlichen konstante Spannung zwischen dem eingetauchten Werkstück und wenigstens einer Elektrode im Bad angelegt. Um der Problematik der mit der Beschichtungszeit aufgrund der zunehmenden Isolierschichtdicke abnehmenden Beschichtungsgeschwindigkeit entgegenzuwirken, werden hier längere Taktzeiten für die Beschichtung vorgegeben, wodurch der gesamte Beschichtungsvorgang deutlich verlängert wird.
  • Ein Verfahren sowie eine Anlage der eingangs genannten Art ist aus der US 3 855 106 bekannt geworden. Dort wird in einer ersten Abscheidungsphase die Spannung zunächst bis zu einer Grenzspannung erhöht. Damit einher geht eine Erhöhung der Stromdichte bis zu einem Maximalwert, um dann in Folge eines mit wachsender Schichtdicke zunehmenden elektrischen Widerstands wieder abzufallen, bis ein vorbestimmter Sollwert für die Stromdichte erreicht ist. Während dieser zweiten Abscheidungsphase wird die Stromdichte durch Erhöhen der Spannung auch über de Grenzspannung hinaus konstant gehalten.
  • Bei einem aus der JP 1 124397 bekannt gewordenen Verfahren und einer Anlage zur elektrophoretischen Beschichtung sind die Stromschienen elektrisch in mehrere Segmente unterteilt, wobei das erste Segment auf einer niedrigeren Spannung liegt und die nachfolgenden Segmente auf höheren Spannungen gehalten werden, welche der Größe des gerade dort zu beschichtenden Werkstücks entspricht, wobei die Beschichtungsstromstärke überwacht wird derart, dass die erzielte Schichtstärke unabhängig von der Größe des Werkstücks ist.
  • Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist, ein Verfahren und eine Beschichtungsanlage der eingangs genannten Art zu gestalten, mit dem/der Werkstücke möglichst einfach mit einer qualitativ hochwertigen Beschichtung insbesondere mit einer vorgebbaren Schichtdichte und einer vorgebbaren Schichtstärke versehen werden können.
  • Diese Aufgabe wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren dadurch gelöst, dass die Gleichspannung während nahezu der gesamten Beschichtungsdauer derart kontinuierlich im Wesentlichen stufenlos erhöht wird, dass die Beschichtungsstromdichte an der Werkstückoberfläche im Wesentlichen zeitlich konstant bleibt.
  • Erfindungsgemäß wird also nahezu während der gesamten Beschichtungsdauer einer Verkleinerung der Leitfähigkeit der Werkstückoberfläche aufgrund der Zunahme der Dicke der Beschichtung mit einer kontinuierlichen Vergrößerung der Spannung entgegengewirkt, so dass der Strom und der Fluß der Medienpartikel, wobei hier unter Partikel sowohl suspendierte als auch dispergierte Teilchen zu verstehen sind, und damit die Beschichtungsgeschwindigkeit über die Beschichtungsdauer nahezu konstant bleiben. Hierdurch wird nahezu während der gesamten Beschichtungszeit eine kontrollierte homogene Auftragung der Medienpartikel auf die Werkstückoberfläche vorzugsweise mit vorgegebener Dichte und Schichtstärke erreicht. Da die Schichtdicke abhängig vom Beschichtungsmedium proportional zu der zugeführten elektrischen Ladung ist, kann sie leicht bestimmt werden. Durch die kontrollierte kontinuierliche Spannungserhöhung kommt es im Übrigen zu keinen Stromspitzen, so dass die Spannungsquelle und etwaige Kontakte, insbesondere Schleifkontakte bei der Verwendung einer Durchlaufanlage, weniger belastet werden und kleinere Gleichrichter eingesetzt werden können. Insbesondere bei Durchlaufanlagen wird so auch die Gefahr von Spannungs-überschlägen durch Funkenbildung reduziert. Der erzielte zeitlich nahezu konstante Stromverlauf führt außerdem zu einer Abnahme von Oberwellen bei der Verwendung von Wechselspannung zur Versorgung der Spannungsquelle. Im Übrigen kann ein deutlich besserer Wirkleistungsfaktor erreicht werden, da durch den nahezu konstanten Stromverlauf Leerlaufzeiten der Spannungsquelle verringert werden. Beim Einsatz in Verbindung mit Durchlaufanlagen können die Tauchbereiche kürzer ausgelegt werden, um mit kürzeren Beschichtungsdauern die gleichen Schichtstärken wie bei den aus dem Stand der Technik bekannten Durchlaufanlagen zu erreichen. Entsprechend können bei der Verwendung von Taktanlagen die Taktzeiten entsprechend kürzer sein.
  • Um eine Koagulation des Beschichtungsmediums zu vermeiden, kann die Spannung bis zu einer Grenzspannung erhöht werden, die insbesondere abhängig von dem Beschichtungsmedium vorgegeben wird.
  • Eine Vielzahl von Werkstücken kann gleichzeitig im Bad einer Durchlaufbeschichtungsanlage befördert werden und mit der Spannungsquelle kann für jedes Werkstück jeweils zeitlich verschoben der gleiche zeitliche Spannungsverlauf bereitgestellt werden. Auf diese Weise können die Vorteile der Durchlaufbeschichtungsanlage und die Vorteile der Erfindung kombiniert werden, so dass eine Vielzahl von Werkstücken kontinuierlich und schnell jeweils mit einer qualitativ hochwertigen Beschichtung versehen werden kann.
  • Die Werkstücke können alternativ auch getaktet in ein Bad einer Taktbeschichtungsanlage eingetaucht werden.
  • Besonders einfach und kostengünstig kann eine Gleichspannung mit einem einzigen Gleichrichter aus einer Eingangs-Wechselspannung erzeugt und aus dieser Gleichspannung mittels mindestens einer von einer Steuereinheit der Beschichtungsanlage gesteuerten elektronischen Schaltung die veränderliche(n) an das Werkstück gelegte(n) Gleichspannung(en) erzeugt wird (werden).
  • Das Beschichtungsmedium kann insbesondere Lack sein.
  • Die erfindungsgemäße Beschichtungsanlage zeichnet sich dadurch aus, dass die Spannungsquelle wenigstens eine elektronische Schaltung aufweist, mit der sie derart steuerbar ist, dass sie eine nahezu über die gesamte Beschichtungsdauer derart kontinuierlich im Wesentlichen stufenlos vergrößerbare Gleichspannung abgibt, dass die Beschichtungsstromdichte an der Werkstückoberfläche im Wesentlichen zeitlich konstant bleibt. Auf diese Weise kann eine Verringerung der Leitfähigkeit der Werkstückoberfläche während nahezu der gesamten Beschichtungsdauer optimal kompensiert werden.
  • Bei einer weiteren besonders vorteilhaften Ausführungsform kann die Beschichtungsanlage eine Durchlaufbeschichtungsanlage sein, welche aufweist:
    • a) ein Fördersystem, welches die Werkstücke entlang eines Bewegungsweges durch den Badbehälter hindurchführt, und
    • b) eine entlang des Bewegungsweges verlaufende Stromschienenanordnung, mit der die Werkstücke beim Durchlauf durch den Badbehälter in elektrischen Kontakt gebracht werden und die galvanisch in eine Vielzahl von Segmenten unterteilt ist, wobei mehrere, vorzugsweise alle, Segmente über einen eigenen Halbleiterschalter mit einem Pol eines einzigen Gleichrichters verbunden sind, derart, dass die an einem Segment liegende Spannung in steuerbarer Größe an das in Bewegungsrichtung folgende Segment weitergegeben werden kann;
    • c) wobei der andere Pol des Gleichrichters mit der wenigstens einen Elektrode verbunden ist. Auf diese Weise kann für eine Vielzahl von Werkstücken, welche gleichzeitig in das Bad eintauchen, jeweils mit einer zeitlichen Verschiebung der gleiche zeitliche Spannungsverlauf bereitgestellt werden.
  • Diese Ausführungsform wird insbesondere dort eingesetzt, wo sich die zu beschichtenden Werkstücke nicht auf Massepotential befinden. Dies sind in Europa, wo nach der Konvention der Minuspol auf Massepotential liegt, anaphoretische Beschichtungsverfahren.
  • Alternativ kann die Beschichtungsanlage eine Durchlaufbeschichtungsanlage sein, welche aufweist:
    • a) ein Fördersystem, welches die Werkstücke entlang eines Bewegungsweges durch den Badbehälter hindurchführt,
    • b) eine entlang des Bewegungsweges verlaufende Stromschienenanordnung, mit der die Werkstücke beim Durchlauf durch den Badbehälter in elektrischen Kontakt gebracht werden und die mit einem Pol eines einzigen Gleichrichters verbunden sind;
    • c) eine Vielzahl von entlang des Bewegungsweges hintereinander angeordneten Elektroden, die jeweils über einen eigenen Halbleiterschalter mit dem anderen Pol des Gleichrichters verbunden sind, derart, dass die im räumlichen Bezirk einer Elektrode an dem Werkstück anliegende Spannung insbesondere in steuerbarer Größe an den Bezirk der in Bewegungsrichtung folgenden Elektrode weitergegeben werden kann.
  • Diese Ausführungsform wird insbesondere dort eingesetzt, wo sich die zu beschichtenden Werkstücke auf Massepotential befinden, in Europa also bei kataphoretische Beschichtungsverfahren.
  • Der Vorteil bei dieser Ausführungsform ist, dass beim Durchlaufen der Werkstücke keine galvanischen Übergänge erforderlich sind, bei denen Spannungsüberschläge durch Funkenbildung verursacht werden könnten.
  • Bei einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform kann die Beschichtungsanlage eine Taktbeschichtungsanlage sein, die einen geringeren Platzbedarf hat als eine Durchlaufbeschichtungsanlage.
  • Schließlich kann die Spannungsquelle einen einzigen Gleichrichter sowie mindestens eine diesem nachgeschaltete steuerbare elektronische Schaltung aufweisen, welche aus der von dem Gleichrichter abgegebenen Spannung eine Gleichspannung von kontinuierlich veränderbarer Größe erzeugen kann. Die Spannungsquelle kann so mit wenigen Bauteilen einfach realisiert werden.
  • Speziell kann die elektronische Schaltung eine IGBT-Schaltung sein, welche besonders einfach realisierbar und für große Spannungen und Ströme geeignet ist. Von Vorteil sind darüber hinaus der geringe Bedarf an Steuerleistung, die Isolation des Gateanschlusses vom Lastkreis und der geringe Durchlasswiderstand.
  • Die Beschichtungsanlage kann insbesondere für die Beschichtung mit Lack ausgebildet sein.
  • Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen
    • Figur 1
    einen schematischen Vertikalschnitt eines ersten Ausführungsbeispiels einer Durchlauftauchlackieranlage zur anaphoretischen Tauchlackierung mit zugehöriger Schaltungsanordnung;
    Figur 2
    schematisch den zeitlichen Verlauf von Beschichtungsspannung und Beschichtungsstrom bei der Durchlauftauchlackieranlage aus Figur 1;
    Figur 3
    einen schematischen Vertikalschnitt eines zweiten Ausführungsbeispiels einer Durchlauftauchlackieranlage zur kataphoretischen Tauchlackierung, die zu der aus Figur 1 ähnlich ist;
    Figur 4
    einen schematischen Vertikalschnitt einer Takttauchlackieranlage;
    Figur 5
    schematisch den zeitlichen Verlauf von Beschichtungsspannung und Beschichtungsstrom bei der Takttauchlackieranlage aus Figur 4.
  • Bei dem in Figur 1 dargestellten Ausführungsbeispiel einer elektrophoretischen Durchlauftauchlackieranlage liegen die verschiedenen zu lackierenden Werkstücke nicht auf Masse und können daher auf unterschiedliches und sich zeitlich veränderndes Potential gebracht werden. Nach der in Europa geltenden Konvention wird der Minuspol einer Gleichspannungsquelle auf Masse gelegt. In diesem Falle arbeitet also die Anlage der Figur 1 in der nachfolgend beschriebenen Weise anaphoretisch. Wo jedoch der Pluspol eine Gleichspannungsquelle als Masse verwendet wird, eignet sich die Anlage der Figur 1 zum kataphoretischen Betrieb. Sie dient insbesondere zum Vorlackieren von nicht gezeigten Werkstücken im Durchlauf-Tauchverfahren. Sie umfasst ein im Vertikalschnitt dargestelltes Tauchbecken 12, das bis zu einem bestimmten Niveau mit einer entsprechenden Lackflüssigkeit angefüllt ist.
  • Die zu lackierenden Werkstücke werden im Sinne des Pfeiles 14 mittels eines geeigneten, nicht dargestellten Fördersystemes an das Tauchbecken 12 herangeführt, sodann in einem ersten Bereich in die Lackflüssigkeit eingetaucht, durch die Lackflüssigkeit hindurchbewegt, im Endbereich des Tauchbeckens 12 aus der Lackflüssigkeit herausgehoben und sodann im Sinne des Pfeiles 16 zur weiteren Behandlung abgeführt.
  • Beiderseits des Bewegungsweges der Werkstücke ist in die Lackflüssigkeit eine Vielzahl von Kathoden 18 eingetaucht, die mit dem geerdeten Minuspol eines geregelten Gleichrichters 20 verbunden sind. An der Eingangsseite des Gleichrichters 20 liegt eine Eingangs-Wechselspannung in der Größenordnung von etwa 450 V an.
  • Parallel zum Bewegungsweg der Werkstücke erstreckt sich ferner eine Stromschienenanordnung 22, die vorzugsweise oberhalb des Spiegels der Lackflüssigkeit verläuft und in vier Segmente 22a, 22b, 22c und 22d unterteilt ist. Jedes Werkstück ist über einen galvanischen Kontakt beim Befördern nacheinander mit den Segmenten 22a, 22b, 22c beziehungsweise 22d verbindbar. Der Abstand der Werkstücke ist ausreichend groß, so dass nie zwei der Werkstücke gleichzeitig mit demselben Segment 22a, 22b, 22c beziehungsweise 22d verbunden sind. Ein Werkstück und sein galvanischer Kontakt bildet zusammen mit den Kathoden 18 jeweils eine Elektrodeneinrichtung.
  • Jedes Segment 22a, 22b, 22c und 22d ist über jeweils einen steuerbaren Halbleiterschalter 24a, 24b, 24c beziehungsweise 24d, im vorliegenden Falle eine IGBT-Schaltung, mit dem Pluspol des geregelten Gleichrichters 20 verbunden. Mit den Halbleiterschaltern 24a, 24b, 24c und 24d ist eine Beschichtungs-Gleichspannung U(T) an den entsprechenden Segmenten 22a, 22b, 22c beziehungsweise 22d einstellbar. Die Halbleiterschalter 24a, 24b, 24c und 24d umfassen ihrerseits jeweils einen steuerbaren Leistungstransistor 26 sowie eine diesen ansteuernde Logikschaltung 28. Der Übersichtlichkeit halber ist lediglich der Halbleiterschalter 24a für das in Förderrichtung erste Segment 22a, in Figur 1 links, im Detail gezeigt. Die Halbleiterschalter 24b, 24c und 24d der weiteren Segmente 22b, 22c, 22d entsprechen dem ersten. In der Logikschaltung 28 ist ein bestimmtes, unten näher erläutertes Steuerungsprogramm für den Leistungstransistor 26 gespeichert, das dann in Gang gesetzt wird, wenn an einem Eingang 30 des Halbleiterschalters 24a beziehungsweise einem nicht gezeigten Eingang der Halbleiterschalter 24b, 24c beziehungsweise 24d ein Startsignal eintrifft. Jeder Halbleiterschalter 24a, 24b, 24c und 24d und die Fördereinrichtung sind mit einer nicht gezeigten zentralen Steuereinheit verbunden, mit der der Förderablauf und der Ablauf der Steuerungsprogramme in der unten erläuterten Weise koordiniert werden kann. Die zentrale Steuereinheit kann eine speicherprogammierte Steuerung (SPS) oder ein PC sein.
  • Die oben beschriebene Tauchlackieranlage 10 arbeitet wie folgt:
    Zunächst wird der Durchgang eines einzigen Werkstückes betrachtet. Kurz vor Eintritt des Werkstückes in das Tauchbecken 12 ist der Leistungstransistor 26 des Halbleiterschalters 24a für das erste Segment 22a gesperrt, so dass also das erste Segment 22a der Stromschienenanordnung 22 spannungslos ist. Die weiteren Segmente 22b, 22c und 22d können zu diesem Zeitpunkt ebenfalls spannungslos sein.
  • Das im Sinne des Pfeiles 14 sich nähernde Werkstück wird am Einlaß des Tauchbeckens 12 von einem Einlasssensor 32 erfasst. Dieser gibt das Startsignal an den Eingang 30 des Halbleiterschalters 24a des ersten Segments 22a, so dass die Logik mit dem Abarbeiten des gespeicherten Programms beginnt. Das Werkstück ist nunmehr galvanisch mit dem ersten Segment 22a der Stromschienenanordnung 22 verbunden, das sich noch auf Potential Null befindet.
  • Die Logikschaltung 28 erzeugt nunmehr mit einer bestimmten Wiederholfrequenz von z.B. 500 Hertz impulsbreitenmodulierte Spannungsimpulse, welche während ihrer Dauer den Leistungstransistor 26 öffnen. Zu Beginn des Programmes, also kurz nach dem Eintritt des Werkstücks in das erste Segment 22a der Stromschienenanordnung 22, ist die Dauer dieser Impulse noch sehr gering, sie wächst aber während des Durchlaufens des ersten Segments 22a kontinuierlich, wenn auch nicht notwendigerweise linear, an. Entsprechend steigt die mittlere Beschichtungs-Gleichspannung U(T), welcher das Werkstück ausgesetzt ist, während dessen Bewegung entlang des ersten Segments 22a an. Der zeitliche Verlauf der Beschichtungs-Gleichspannung U(T) für den gesamten Beschichtungsprozess ist in Figur 2 gezeigt und ist weiter unten noch näher erläutert.
  • Während der Bewegung des Werkstücks im ersten Segment 22a der Stromschienenanordnung 22 findet bereits eine Abscheidung von Lack auf dessen Oberfläche statt.
  • Am Bewegungsweg des Werkstücks ist kurz vor Erreichen des Endes des ersten Segments 22a ein Anwesenheitssensor 34 angeordnet, welcher über den Halbleiterschalter 24a mit der zentralen Steuereinheit verbunden ist. Gerät das Werkstück in den Erfassungsbereich des Anwesenheitssensors 34 erzeugt dieser ein Signal, welches das Programm der Logikschaltung 28 des Halbleiterschalters 24b das zweiten Segments 22b startet und die zentrale Steuereinheit veranlasst, unabhängig von dem Halbleiterschalter 24a des ersten Segments 22a das zweite Segment 22b auf das selbe Potential wie das erste Segment 22a zu bringen. Die Beschichtungs-Spannung U(T) am Ende des ersten Segments 22a wird also in steuerbarer Größe an das zweite Segment 22b weitergegeben. Auf diese Weise wird sichergestellt, dass beim Übertritt des Werkstücks vom ersten Segment 22a zum zweiten Segment 22b der Stromschienenanordnung 22 keinesfalls zwischen diesen eine Potentialdifferenz besteht. Es wird so insgesamt der in Figur 2 gezeigte kontinuierliche Spannungsverlauf erreicht. Außerdem wird so erreicht, dass beim Übertritt der Werkstücke aus dem ersten Segment 22a in das zweite Segment 22b der Stromschienenanordnung 22 keine Funken auftreten.
  • Der Übergang vom zweiten Segment 22b zum dritten Segment 22c und vom dritten Segment 22c zum vierten Segment 22d erfolgt überwacht durch entsprechende nicht gezeigte weitere Anwesenheitssensoren analog.
  • Die Programme des zweiten Halbleiterschalters 24b und des dritten Halbleiterschalters 24c werden analog zu dem des ersten Halbleiterschalters 24a abgearbeitet und die Beschichtungs-Gleichspannung U(T) beim Durchfahren des zweiten Segments 22b und des dritten Segments 22c kontinuierlich weiter erhöht. Das Werkstück wird so weiter mit Lack beschichtet.
  • Der Eintritt in das vierte Segment 22d erfolgt analog zu dem in die vorigen Segmente 22b und 22c. Allerdings wird kurz vor dem Ende des vierten Segments 22d, ab dem Erreichen einer Grenzspannung UG, die Beschichtungs-Gleichspannung U(T) konstant gehalten, um zu verhindern, dass der Lack koaguliert.
  • Mit den Logikschaltungen 28 und den Steuerprogrammen der Halbleiterschalter 24a, 24b, 24c und 24d wird bewirkt, dass an dem Werkstück beim Bewegen entlang der vier Segmente 22a bis 22d insgesamt die Beschichtungs-Gleichspannung U(T) liegt, deren zeitlicher Verlauf in der Figur 2 dargestellt ist und die bei den Übergängen zwischen den Segmenten 22a, 22b, 22c und 22d keine Stufen aufweist.
  • Der zeitliche Verlauf der Beschichtungs-Gleichspannung U(T) und eines Beschichtungsstroms I(T) bei der Tauchlakkieranlage 10 beim Durchlaufen aller vier Segmente 22a, 22b, 22c und 22d ist, wie bereits erwähnt, in Figur 2 schematisch anhand eines Amplituden-Zeit-Diagramms dargestellt. Der Verlauf der Beschichtungs-Gleichspannung U(T) ist in der Figur 2 oben gestrichelt und der des Beschichtungsstroms I(T) darunter als durchgezogene Linie gezeigt. Die Amplituden sind auf der vertikalen Achse des Diagramms und die Beschichtungszeit T auf der horizontalen Achse aufgetragen.
  • Sobald der Einlasssensor 32 dem Halbleiterschalter 24a des ersten Segments 22a das Eintauchen des Werkstückes in das Bad anzeigt, wird zu einem Zeitpunkt t0, in der Figur 2 links, mit dem Halbleiterschalter 24a an das erste Segment 22a eine minimale Anfangs-Beschichtungs-Gleichspannung UA angelegt. Wegen der anfänglich großen Leitfähigkeit der noch unbeschichteten Werkstückoberfläche folgt der Anfangs-Beschichtungs-Gleichspannung UA unmittelbar ein starker Anstieg des Beschichtungsstroms I(T) auf einen Wert IB. Der Strom I(T) bewirkt die gewünschte gleichmäßige und schnelle Beschichtung der Werkstückoberfläche. Mit zunehmender Beschichtungszeit T wird beim Durchlaufen der vier Segmente 22a bis 22d mit den jeweiligen Halbleiterschaltern 24a, 24b, 24c beziehungsweise 24d die Beschichtungs-Gleichspannung U(T) etwa in Form einer Exponentialfunktion erhöht, derart, dass der Beschichtungsstrom I(T) und damit die Beschichtungsgeschwindigkeit auch bei zunehmender Schichtdicke, also abnehmender Leitfähigkeit der Werkstückoberfläche, nahezu konstant bleiben.
  • Um zu verhindern, dass der Lack koaguliert, wird, wie bereits erwähnt, beim Erreichen der abhängig vom verwendeten Lack vorgegebenen Grenzspannung UG, beispielsweise etwa 400 V, fast am Ende der Beschichtungszeit zu einem Zeitpunkt t1, in Figur 2 rechts, die Erhöhung der Beschichtungs-Gleichspannung U(T) gestoppt. Die Dicke der Beschichtung nimmt aber auch bei dieser konstanten Beschichtungs-Gleichspannung U(T) weiterhin zu. Folglich verringert sich beim Erreichen der Grenzspannung UG ab dem Zeitpunkt t1 auch die Leitfähigkeit der Werkstückoberfläche und damit auch der Beschichtungsstrom I(T), da dieser Effekt dann nicht mehr ausgeglichen wird. Die Beschichtung verlangsamt sich nun in der Endphase des Beschichtungsvorgangs. Der Beschichtungsvorgang wird auf Signal der Fördereinrichtung, bevor das Werkstück den Tauchbereich verläßt, zu einem Zeitpunkt t2 mit der zentralen Steuereinheit gestoppt.
  • Sofern, wie oben beschrieben, sich zu einem bestimmten Zeitpunkt nur ein Werkstück in der Tauchlackieranlage 10 befindet, wäre eine Segmentierung der Stromschienenanordnung 22 an und für sich nicht nötig. Eine durchgängige Stromschienenanordnung könnte durch einen einzigen steuerbaren Halbleiterschalter während des Durchgangs des Werkstückes auf die sich verändernde Beschichtungs-Gleichspannung U(T) gebracht werden, wie in Figur 2 dargestellt.
  • Der Vorteil der Segmentierung besteht darin, dass eine Mehrzahl von Werkstücken gleichzeitig in der Tauchlakkieranlage 10 behandelt werden kann. In jedem Segment 22a, 22b, 22c und 22d darf sich dabei nur ein Werkstück befinden.
  • Der Ablauf der Vorgänge ändert sich nunmehr gegenüber dem oben beschriebenen Fall, in dem nur ein Werkstück in der Tauchlackieranlage 10 war, wie folgt:
    Wenn ein Werkstück in das erste Segment 22a eintritt, wechselt das bisher im ersten Segment 22a befindliche Werkstück auf das zweite Segment 22b, das bisher im zweiten Segment 22b befindliche Werkstück auf das dritte Segment 22c, das bisher im dritten Segment 22c befindliche Werkstück auf das vierte Segment 22d und das bisher im vierten Segment 22d befindliche Werkstück verlässt dieses Segment 22d. Zum Zeitpunkt des Eintrittes der Werkstücke in die Segmente 22b, 22c und 22d werden diese mittels der Halbleiterschalter 24b, 24c beziehungsweise 24d auf das Potential gebracht, das die Werkstücke zuletzt auf dem vorausgegangenen Segment 22a, 22b, beziehungsweise 22c hatten.
  • Bei der Weiterbewegung wird das Potential auf den Segmenten 22a, 22b, 22c, 22d wieder erhöht. Jedes Segment 22a, 22b, 22c, 22d deckt somit einen bestimmten Spannungsbereich der in Figur 2 dargestellten Beschichtungs-Gleichspannung U(T) ab.
  • Der zeitliche Spannungsverlauf ist für alle Werkstücke bezogen auf den jeweiligen Beschichtungsbeginn gleich; der jeweilige Beschichtungsbeginn für ein Werkstück ist relativ zu dem Beschichtungsbeginn des im Tauchbereich vorangehend beförderten Werkstückes zeitlich verschoben. Mit der Spannungsquelle, welche die Halbleiterschalter 24a, 24b, 24c und 24d und den geregelten Gleichrichter 20 umfasst, kann so zur Abscheidung eines Lackfilms zwischen jedem Werkstück und den Kathoden 18 im Bad die jeweils erforderliche Beschichtungs-Gleichspannung U(T) mit dem in Figur 2 dargestellten Verlauf angelegt werden.
  • Bei einem zweiten Ausführungsbeispiel einer Durchlauftauchlackieranlage 110 zur kataphoretischen Tauchlackierung, dargestellt in Figur 3, sind diejenigen Elemente, die zu denen der in den Figuren 1 und 2 beschriebenen Durchlauftauchlackieranlage 10 ähnlich sind, mit denselben Bezugszeichen zuzüglich 100 versehen, so dass bezüglich deren Beschreibung auf die obigen Ausführungen Bezug genommen wird. Die kataphoretische Durchlauftauchlackieranlage 110 der Figur 3 unterscheidet sich von der Durchlauftauchlackieranlage 10 der Figur 1, dass sich die Werkstücke alle auf Masse, also auf demselben, zeitlich konstanten Potential befinden. Für eine Anlage nach europäischer Konvention bedeutet dies, dass die Anlage der Figur 3 in nachfolgend beschriebener Weise kataphoretisch arbeitet. Anders als beim Ausführungsbeispiel der Figur 1 kann eine zusammenhängende, durchgängige Stromschiene 122 verwendet werden, mit der jedes Werkstück 170 über eine Aufhängung 150 beim Befördern galvanisch verbunden ist.
  • Die Stromschiene 122 ist über einen Anschluss 135 mit dem Minuspol des geregelten Gleichrichters 120 verbunden. Jede der Anoden 118 ist separat über eine Sperrdiode 125a, 125b, 125c beziehungsweise 125d und die Halbleiterschalter 124a, 124b, 124c beziehungsweise 124d mit dem Pluspol des geregelten Gleichrichters 120 verbunden.
  • In Richtung des Bewegungsweges vor jeder Anode 118 ist ein Anwesenheitssensor 134 angeordnet, der mit dem Halbleiterschaltern 124a, 124b, 124c beziehungsweise 124d der ihm entsprechenden Anode 118 verbunden ist.
  • Die Leitungen zwischen den Anwesenheitssensoren 134 und den jeweiligen Halbleiterschaltern 124a, 124b, 124c beziehungsweise 124d sind in Figur 3 der Übersichtlichkeit halber nicht dargestellt.
  • Mit den Sperrdioden 125a, 125b, 125c beziehungsweise 125d wird eine Beschichtung der entsprechenden Anoden 118 verhindert, wie sie ansonsten bei den entlang des Bewegungsweges im Tauchbecken 112 anliegenden unterschiedlichen Spannungen vorkommen kann.
  • Die Anoden 118 können gegebenenfalls jeweils in bekannter Weise von einer Membran umgeben sein, die eine Dialysezelle bildet.
  • Ansonsten funktioniert die kataphoretische Durchlauftauchlackieranlage 110 analog zu der anaphoretischen Durchlauftauchlackieranlage 10 gemäß Figur 1, nur dass bei der kataphoretischen Durchlauftauchlackieranlage 110 im Unterschied zur anaphoretischen Durchlauftauchlackieranlage 10 der Bewegungsweg nicht durch körperliche Schienensegmente 22a, 22b, 22c und 22d unterteilt ist, sondern durch Potentialbezirke im Bad, die in der Nähe der Anoden 118 realisiert werden. Die Potentiale an den Anoden 118 im zweiten Ausführungsbeispiel werden analog zu den Potentialen an den Segmenten 22a, 22b, 22c und 22d des ersten Ausführungsbeispiels verändert, sobald die Anwesenheit eines Werkstücks 170 von dem entsprechenden Anwesenheitssensor 134 erfaßt wird. Der Spannungsverlauf an den Werkstücken 170 entspricht dem in Figur 2 gezeigten.
  • Alternativ liegen bei der in Figur 3 gezeigten kataphoretischen Durchlauftauchlackieranlage 110 an den Anoden 118 entlang des Bewegungsweges, in Figur 3 von links nach rechts, in sehr kleinen Stufen steigende, jeweils zeitlich konstante Spannungen von etwa 30 V bei der ersten Anode 118 bis etwa 450 V bei der letzten Anode 118 an. Auf die Verwendung der Anwesenheitssensoren 134 wird dann verzichtet. Die Beschichtungs-Gleichspannung U(T), der die Werkstücke 170 beim Durchlaufen des Tauchbeckens 112 ausgesetzt sind, steigt so im Laufe der Beschichtung von etwa 30 V auf etwa 450 V mit ähnlichem zeitlichem Verlauf, wie er bei der anaphoretischen Durchlauftauchlakkieranlage 10 in Figur 2 gezeigt ist. Da die Anoden 118 eng beieinander angeordnet sind, ist der Spannungsverlauf bis auf im Vergleich zu den anliegenden Beschichtungsgleichspannungen U(T) minimale schmale Stufen auch hier im Wesentlichen kontinuierlich.
  • Die Beschichtungsgeschwindigkeit wird hier von allen Anoden 118 beeinflußt. Die Beschichtungsgeschwindigkeit an jedem Werkstück 170 wird zusätzlich über die Entfernung der entsprechenden Kathodenaufhängung 150 von den Anoden 118 geregelt.
  • In Figur 4 ist eine Takttauchlackieranlage 210 zur kataphoretischen Tauchlackierung im Vertikalschnitt gezeigt.
  • Bei dieser wird eine Mehrzahl von Werkstücken 270 mit einer während der Beschichtung kontinuierlich steigenden Beschichtungs-Gleichspannung U(T) beaufschlagt, welche insgesamt den gleichen zeitlichen Verlauf wie die Beschichtungs-Gleichspannung U(T) bei dem ersten Ausführungsbeispiel der Durchlauftauchlackieranlage 10 aus den Figuren 1 und 2 hat. Der Spannungsverlauf bei der Takttauchlackieranlage 210 ist in Figur 5 dargestellt. Diejenigen Elemente die zu denen der Durchlauftauchlackieranlagen 10 aus den Figuren 1 und 2 ähnlich sind, sind mit den gleichen Bezugszeichen zuzüglich 200 versehen.
  • Bei der Takttauchlackieranlage 210 werden die zu lackierenden Werkstücken 270 gleichzeitig im Sinne des Doppelpfeiles 211 mittels eines geeigneten, nicht dargestellten Fördersystemes nach unten in die Lackflüssigkeit in dem geerdeten Tauchbecken 212 eingetaucht, während des Lakkiervorgangs dort gehalten und anschließend nach oben in entgegengesetzte Richtung aus der Lackflüssigkeit herausgehoben. In Figur 4 verdeckt das vordere Werkstück 270 die anderen Werkstücke, weshalb letztere nicht sichtbar sind.
  • Beidseits der Werkstücke 270 ist in die Lackflüssigkeit eine Vielzahl von Anoden 218 eingetaucht. Die Anoden 218 können gegebenenfalls in bekannter Weise jeweils mit einer Membran umgeben sein, die eine Dialysezelle bildet. Jede Anode 218 ist über einen ortsfesten Kontakt 209, einen Anodenanschluss 203 und eine feste Elektroinstallationsverbindung 205 mit dem Pluspol des mit einem Trenntransformator kombinierten Gleichrichters 220 verbunden. Von einigen zu den verdeckten Werkstücken führenden Elektroinstallationsverbindung 205 sind lediglich die mit dem Gleichrichter 220 verbundenen Enden gezeigt. Der Gleichrichter 220 ist ebenfalls geerdet. Der Gleichrichter 220 ist mit einem nicht gezeigten PC oder einer speicherprogammierten Steuerung (SPS), verbunden, mit dem (der) ein zeitlicher Verlauf für die Beschichtungs-Gleichspannung U(T) vorgegeben werden kann, wie er in Figur 5 gezeigt ist.
  • Die Werkstücke 270 sind jeweils über einen flexiblen galvanischen Kontakt 211 mit einem Kathodenanschluß 204 verbunden. Von diesem führt eine feste Elektroinstallationsleitung 206 zu dem Minuspol des Gleichrichters 220. Auch hier sind die Enden von einigen vom Gleichrichter 220 weg führenden festen Elektroinstallationsleitungen 206 gezeigt, die zu verdeckten Werkstücken führen. Die flexiblen Kontakte 211 sind jeweils so ausgestaltet, dass das dazugehörende Werkstück 270 beim Eintauchen beziehungsweise beim Herausheben permanent mit dem Kathodenanschluß 204 verbunden ist.
  • Nach dem Eintauchen der Werkstücke 270 in das Tauchbecken 212 wird mit dem PC beziehungsweise der SPS der Gleichrichter 220 derart angesteuert, dass dieser die Beschichtungs-Gleichspannung U(T) erzeugt, welche wie in Figur 5 gezeigt zeitabhängig erhöht wird. Die Beschichtungs-Gleichspannung U(T) wird über den Pluspol des Gleichrichters 220, die Elektroinstallationsverbindungen 205, die Anodenanschlüsse 203, die ortsfesten Kontakte 209 und die Anoden 218 einerseits und über die Elektroinstallationsleitungen 206, die Kathodenanschlüsse 204 und die flexiblen Kontakte 210 andererseits an die Werkstücke 270 angelegt.
  • Über die Beschichtungs-Gleichspannung U(T) wird stufenlos der Beschichtungsstrom I(T) geregelt, derart, dass die Stromdichte an der Werkstückoberfläche während des Eintauchvorgangs unabhängig von der Größe der eingetauchten Flächen und danach zeitlich konstant bleibt.
  • Die obigen Erläuterungen zu dem in Figur 2 dargestellten zeitlichen Verlauf der Beschichtungs-Gleichspannung U(T) und des Beschichtungsstroms I(T) beim Durchlaufen der anaphoretischen Durchlauftauchlackieranlage 10 aus Figur 1 gelten für den Strom-/Spannungsverlauf beim Lackieren der Werkstücke 270 mit der Takttauchlackieranlage 210 entsprechend. Allerdings sind in Figur 5 die Maßstäbe auf der Strom- beziehungsweise Spannungsachse unterschiedlich zu denen in Figur 2.
  • Bei allen oben beschriebenen Ausführungsbeispielen eines Verfahrens zur elektrophoretischen Beschichtung von Werkstücken beziehungsweise einer Tauchlackieranlage sind unter anderem folgende Modifikationen möglich:
    Bei der anaphoretischen Durchlauftauchlackieranlage 10 "kann im Anschluß an das letzte Segment 22d zusätzlich ein Ausgangssegment vorgesehen sein, in dem die Beschichtungs-Gleichspannung U(T) heruntergefahren werden kann, so dass bei Trennung des Werkstücks von der Stromschienenanordnung 22 diese spannungslos ist.
  • Statt mit Lack können die Werkstücke 170; 270 auch mit einem andersartigen Beschichtungsmedium beschichtet werden.
  • Die Eingangs-Wechselspannung kann auch größer als 400 V sein. Es kann beispielsweise auch eine Mittelspannung, beispielsweise in der Größenordnung von 10 kV bis 20 kV verwendet werden.
  • Anstelle eines geregelten Gleichrichters 20; 120; 220 kann auch ein ungeregelter Gleichrichter vorgesehen sein. Die Regelung kann beispielsweise auch von entsprechenden Halbleiterschaltern übernommen werden.

Claims (13)

  1. Verfahren zur elektrophoretischen Beschichtung von Werkstücken mit einem Beschichtungsmedium, bei dem wenigstens ein Werkstück in das Beschichtungsmedium eingetaucht wird, mit einer Spannungsquelle eine Gleichspannung zwischen dem Werkstück und wenigstens einer in das Beschichtungsmedium eingetauchten Elektrode angelegt und die Gleichspannung während der Elektrophorese erhöht wird,
    dadurch gekennzeichnet, dass
    die Gleichspannung (U(T)) während nahezu der gesamten Beschichtungsdauer derart kontinuierlich stufenlos erhöht wird, dass die Beschichtungsstromdichte an der Werkstückoberfläche zeitlich konstant ist, wobei einer Anfangs-Beschichtungs-Gleichspannung UA unmittelbar ein starker Anstieg des Beschichtungsstroms I(T) auf einen Wert IB folgt, der auch bei zunehmender Schichtdicke konstant bleibt.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
    dass die Spannung (U(T)) bis zu einer Grenzspannung (UG) erhöht wird, die insbesondere abhängig von dem Beschichtungsmedium vorgegeben wird.
  3. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Vielzahl von Werkstücken (170) gleichzeitig im Bad einer Durchlaufbeschichtungsanlage (10; 110) befördert wird und mit der Spannungsquelle (20, 24a, 24b, 24c, 24d; 120, 124a, 124b, 124c, 124d) für jedes Werkstück jeweils zeitlich verschoben der gleiche zeitliche Spannungsverlauf (U(T)) bereitgestellt wird.
  4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Werkstück (270) getaktet in ein Bad einer Taktbeschichtungsanlage (210) eingetaucht wird.
  5. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Gleichspannung mit einem einzigen Gleichrichter (20; 120) aus einer Eingangs-Wechselspannung erzeugt und aus dieser Gleichspannung mittels mindestens einer von einer Steuereinheit der Beschichtungsanlage gesteuerten elektronischen Schaltung (24a, 24b, 24c, 24d; 124a, 124b, 124c, 124d) die veränderliche(n) an das Werkstück (170) gelegte(n) Gleichspannung(en) (U(T)) erzeugt wird (werden).
  6. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Beschichtungsmedium Lack ist.
  7. Beschichtungsanlage zur elektrophoretischen Beschichtung von Werkstücken mit einem Beschichtungsmedium, mit einem Badbehälter, in welchen das wenigstens eine Werkstück eintauchbar ist, mit einer Spannungsquelle zum Anlegen einer veränderlichen Gleichspannung zwischen dem Werkstück und wenigstens einer Elektrode im Badbehälter,
    dadurch gekennzeichnet, dass
    die Spannungsquelle (20, 24a, 24b, 24c, 24d; 120, 124a, 124b, 124c, 124d; 220) wenigstens eine elektronische Schaltung (24a, 24b, 24c, 24d; 124a, 124b, 124c, 124d) aufweist, mit der sie derart steuerbar ist, dass sie eine über nahezu die gesamte Beschichtungsdauer derart kontinuierlich stufenlos vergrößerbare Gleichspannung U(T) abgibt, dass die Beschichtungsstromdichte an der Werkstückoberfläche zeitlich konstant bleibt, wobei einer Anfangs-Beschich-tungs-Gleichspannung UA unmittelbar ein starker Anstieg des Beschichtungsstroms I(T) auf einen Wert IB folgt, der auch bei zunehmender Schichtdicke konstant bleibt.
  8. Beschichtungsanlage nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass sie eine Durchlaufbeschichtungsanlage (10) ist, welche aufweist:
    a) ein Fördersystem, welches die Werkstücke entlang eines Bewegungsweges durch den Badbehälter (12) hindurchführt, und
    b) eine entlang des Bewegungsweges verlaufende Stromschienenanordnung (22), mit der die Werkstücke beim Durchlauf durch den Badbehälter (12) in elektrischen Kontakt gebracht werden und die galvanisch in eine Vielzahl von Segmenten (22a, 22b, 22c, 22d) unterteilt ist, wobei mehrere, vorzugsweise alle, Segmente (22a, 22b, 22c, 22d) über einen eigenen Halbleiterschalter (24a, 24b, 24c, 24d) mit einem Pol eines einzigen Gleichrichters (20) verbunden sind, derart, dass die an einem Segment (22a, 22b, 22c, 22d) liegende Spannung U(T) in steuerbarer Größe an das in Bewegungsrichtung folgende Segment (22b, 22c, 22d) weitergegeben werden kann;
    c) wobei der andere Pol des Gleichrichters (20) mit der wenigstens einen Elektrode (18) verbunden ist.
  9. Beschichtungsanlage nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass sie eine Durchlaufbeschichtungsanlage (110) ist, welche aufweist:
    a) ein Fördersystem, welches die Werkstücke entlang eines Bewegungsweges durch den Badbehälter (112) hindurchführt,
    b) eine entlang des Bewegungsweges verlaufende Stromschienenanordnung (122), mit der die Werkstücke (170) beim Durchlauf durch den Badbehälter (112) in elektrischen Kontakt gebracht werden und die mit einem Pol eines einzigen Gleichrichters (120) verbunden sind;
    c) eine Vielzahl von entlang des Bewegungsweges hintereinander angeordneten Elektroden (118), die jeweils über einen eigenen Halbleiterschalter (124a, 124b, 124c, 124d) mit dem anderen Pol des Gleichrichters (120) verbunden sind, derart, dass die im räumlichen Bezirk einer Elektrode (118) an dem Werkstück (170) anliegende Spannung U(T) insbesondere in steuerbarer Größe an den Bezirk der in Bewegungsrichtung folgenden Elektrode (118) weitergegeben werden kann.
  10. Beschichtungsanlage nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtungsanlage eine Taktbeschichtungsanlage (210) ist.
  11. Beschichtungsanlage nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Spannungsquelle einen einzigen Gleichrichter (20; 120; 220) sowie mindestens eine diesem nachgeschaltete steuerbare elektronische Schaltung (24a, 24b, 24c, 24d; 124a, 124b, 124c, 124d) aufweist, welche aus der von dem Gleichrichter (20; 120; 220) abgegebenen Spannung eine Gleichspannung U(T) von kontinuierlich veränderbarer Größe erzeugt.
  12. Beschichtungsanlage nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die elektronische Schaltung eine IGBT-Schaltung (24a, 24b, 24c, 24d, 26, 28) ist.
  13. Beschichtungsanlage nach einem der Ansprüche 7 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass das Beschichtungsmedium Lack ist
EP07786409.8A 2006-09-20 2007-07-28 Verfahren zur elektrophoretischen beschichtung von werkstücken und beschichtungsanlage Active EP2064372B1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102006044050A DE102006044050A1 (de) 2006-09-20 2006-09-20 Verfahren zur elektrophoretischen Beschichtung von Werkstücken und Beschichtungsanlage
PCT/EP2007/006699 WO2008034484A2 (de) 2006-09-20 2007-07-28 Verfahren zur elektrophoretischen beschichtung von werkstücken und beschichtungsanlage

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP2064372A2 EP2064372A2 (de) 2009-06-03
EP2064372B1 true EP2064372B1 (de) 2018-12-05

Family

ID=38800741

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP07786409.8A Active EP2064372B1 (de) 2006-09-20 2007-07-28 Verfahren zur elektrophoretischen beschichtung von werkstücken und beschichtungsanlage

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8182667B2 (de)
EP (1) EP2064372B1 (de)
DE (1) DE102006044050A1 (de)
HU (1) HUE043737T2 (de)
WO (1) WO2008034484A2 (de)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102011056496A1 (de) * 2011-12-15 2013-06-20 Dürr Systems GmbH Beschichtungsanlage und Verfahren zum Beschichten von Werkstücken
JP5708471B2 (ja) * 2011-12-20 2015-04-30 トヨタ自動車株式会社 電着塗装システム
DE102013003377A1 (de) 2012-03-02 2013-09-05 Basf Coatings Gmbh Elektrotauchlackierung mit einem kombinierten Verfahren zur Schichtdickenoptimierung
CN102758238B (zh) * 2012-07-26 2016-03-30 无锡澳美机械有限公司 一种大型件电泳装置及其电泳工艺
DE102013224748B4 (de) 2012-12-21 2014-12-24 Basf Coatings Gmbh Verfahren zur Ermittlung der maximalen Abscheidespannung oder Abscheidestromstärke bei einem Elektrotauchlackierverfahren
CN103526264B (zh) * 2013-08-26 2016-05-04 广东科富科技股份有限公司 一种阴极电泳涂膜制备实验装置
CN110668083B (zh) * 2019-11-01 2024-05-24 苏州柳溪机电工程有限公司 多工艺高效智能涂装流水线
DE102021111415A1 (de) 2021-05-03 2022-11-03 Dürr Systems Ag Verfahren zum betreiben einer behandlungsanlage sowie behandlungsanlage und computer programm produkt

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1081767A (en) 1963-09-23 1967-08-31 Blundell Permoglaze Ltd Production of synthetic resin or like surface coatings by electrode position
DE1577934A1 (de) 1966-03-17 1970-03-05 Siemens Ag Einrichtung zur Stromversorgung von Werkstuecken beim Durchlauf elektrophoretischer Lackierbaeder
DE1652430A1 (de) 1966-03-17 1971-03-18 Siemens Ag Einrichtung zur Stromversorgung von Werkstuecken beim Durchlauf elektrophoretischer Lackierbaeder
US3855106A (en) 1973-06-04 1974-12-17 Gen Motors Corp Process for electrodeposition of paint
JPH01246397A (ja) 1988-03-29 1989-10-02 Trinity Ind Corp 電着塗装方法
EP0255268B1 (de) 1986-07-22 1991-04-10 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Verfahren zur Elektrotauchlackierung
JPH03274300A (ja) 1990-03-26 1991-12-05 Honda Motor Co Ltd 電着塗装方法
EP0854207A1 (de) 1996-07-23 1998-07-22 Nippon Paint Co., Ltd. Kationischer elektrobeschichtungsprozess und beschichtungszusammensetzung dafür
JP2002030486A (ja) 2000-07-12 2002-01-31 Poritekkusu:Kk 電着塗装装置
JP2003277991A (ja) 2002-03-27 2003-10-02 Kansai Paint Co Ltd アルミニウム合金の塗膜形成方法
DE10325656B3 (de) 2003-06-06 2004-07-15 EISENMANN Maschinenbau KG (Komplementär: Eisenmann-Stiftung) Elektrophoretische Tauchlackieranlage
JP2005002397A (ja) 2003-06-11 2005-01-06 Canon Inc 粗面化ローラの製造方法
WO2005073436A1 (de) 2004-01-22 2005-08-11 Eisenmann Maschinenbau Gmbh & Co. Kg Verfahren und anlage zur bestimmung der dicke einer lackschicht

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01124397A (ja) 1987-11-09 1989-05-17 Teijin Ltd アスペルギルスに対するヒト・モノクローナル抗体とその製造法
DE19502470A1 (de) * 1995-01-27 1996-08-01 Basf Lacke & Farben Pulsmoduliertes Gleichspannungsapplikationsverfahren
DE10054489A1 (de) * 2000-11-03 2002-05-29 Zf Sachs Ag Leistungs-Umrichtermodul

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1081767A (en) 1963-09-23 1967-08-31 Blundell Permoglaze Ltd Production of synthetic resin or like surface coatings by electrode position
DE1577934A1 (de) 1966-03-17 1970-03-05 Siemens Ag Einrichtung zur Stromversorgung von Werkstuecken beim Durchlauf elektrophoretischer Lackierbaeder
DE1652430A1 (de) 1966-03-17 1971-03-18 Siemens Ag Einrichtung zur Stromversorgung von Werkstuecken beim Durchlauf elektrophoretischer Lackierbaeder
US3855106A (en) 1973-06-04 1974-12-17 Gen Motors Corp Process for electrodeposition of paint
EP0255268B1 (de) 1986-07-22 1991-04-10 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Verfahren zur Elektrotauchlackierung
JPH01246397A (ja) 1988-03-29 1989-10-02 Trinity Ind Corp 電着塗装方法
JPH03274300A (ja) 1990-03-26 1991-12-05 Honda Motor Co Ltd 電着塗装方法
EP0854207A1 (de) 1996-07-23 1998-07-22 Nippon Paint Co., Ltd. Kationischer elektrobeschichtungsprozess und beschichtungszusammensetzung dafür
JP2002030486A (ja) 2000-07-12 2002-01-31 Poritekkusu:Kk 電着塗装装置
JP2003277991A (ja) 2002-03-27 2003-10-02 Kansai Paint Co Ltd アルミニウム合金の塗膜形成方法
DE10325656B3 (de) 2003-06-06 2004-07-15 EISENMANN Maschinenbau KG (Komplementär: Eisenmann-Stiftung) Elektrophoretische Tauchlackieranlage
JP2005002397A (ja) 2003-06-11 2005-01-06 Canon Inc 粗面化ローラの製造方法
WO2005073436A1 (de) 2004-01-22 2005-08-11 Eisenmann Maschinenbau Gmbh & Co. Kg Verfahren und anlage zur bestimmung der dicke einer lackschicht

Also Published As

Publication number Publication date
DE102006044050A1 (de) 2008-04-03
HUE043737T2 (hu) 2019-09-30
US20090314640A1 (en) 2009-12-24
WO2008034484A2 (de) 2008-03-27
WO2008034484A3 (de) 2008-08-21
US8182667B2 (en) 2012-05-22
EP2064372A2 (de) 2009-06-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2064372B1 (de) Verfahren zur elektrophoretischen beschichtung von werkstücken und beschichtungsanlage
DE60203047T2 (de) Segmentierte Gegenelektrode für ein elektrolytisches Behandlungssystem
DE19547948C1 (de) Verfahren und Schaltungsanordnung zur Erzeugung von Strompulsen zur elektrolytischen Metallabscheidung
EP0966557B1 (de) Schaltungsanordnung und verfahren zur pulsstromversorgung von galvanisier- oder ätzanlagen
EP1828441B1 (de) Elektrotauchlackieranlage
EP2574687A2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur galvanischen Beschichtung von Substraten
DE10325656B3 (de) Elektrophoretische Tauchlackieranlage
EP2140543A2 (de) Spannungsversorgung für eine sputteranlage
DE1939729C2 (de) Elektrische Schaltung zum Speisen eines Bades für die anodische Oxydation
WO2007054048A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum beschichten und/oder zur behandlung von oberflächen
DE102009005374A1 (de) Durchzieh-Elektroabscheideanlage
DE19942556C2 (de) Elektrotauchlackiervorrichtung
WO2018138361A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur kontinuierlichen behandlung mit gepulstem elektrischem feld
DE102005049712B3 (de) Elektrophoretische Tauchlackieranlage
EP0032892B1 (de) Einrichtung zur Herstellung von galvanisch beschichteten Drähten
DE102014210684A1 (de) Schweißeinheit zum schweißtrafofreien Punktschweißen
DE10215463C1 (de) Durchlaufanlage und Verfahren zum elektrolytischen Metallisieren von Werkstück
DE102009013164A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum elektrolytischen Behandeln von ausgedehntem Gut
EP1109178A2 (de) Verfahren zum Schalten einer induktiven Last
DE2810169B1 (de) Vorrichtung zur Stromversorgung von Werkstuecken beim Durchlaufen von elektrophoretischen Lackierbaedern
EP0568728A2 (de) Verfahren zum Galvanisieren von mit Lochungen versehenen Werkstücken, sowie Anordnung zur Durchführung dieses Verfahrens
DE4325891A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur automatisierten Entkeimung und/oder Aufbereitung von Trink- und Brauchwasser oder von Abwässern mittels anodischer Oxidation
EP4334512A1 (de) Verfahren zum betreiben einer behandlungsanlage sowie behandlungsanlage und computer programm produkt
DE19641273C2 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen strukturierter Oberflächen, insbesondere an zylindrischen Walzen
DE102024109856A1 (de) Vorrichtung zum Auftragen eines Beschichtungsmittels

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

17P Request for examination filed

Effective date: 20090311

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MT NL PL PT RO SE SI SK TR

AX Request for extension of the european patent

Extension state: AL BA HR MK RS

DAX Request for extension of the european patent (deleted)
RBV Designated contracting states (corrected)

Designated state(s): DE FR HU SE

RAP1 Party data changed (applicant data changed or rights of an application transferred)

Owner name: EISENMANN AG

17Q First examination report despatched

Effective date: 20111201

RAP1 Party data changed (applicant data changed or rights of an application transferred)

Owner name: EISENMANN SE

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: EXAMINATION IS IN PROGRESS

GRAP Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: GRANT OF PATENT IS INTENDED

INTG Intention to grant announced

Effective date: 20180625

GRAS Grant fee paid

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR3

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE PATENT HAS BEEN GRANTED

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): DE FR HU SE

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R096

Ref document number: 502007016515

Country of ref document: DE

REG Reference to a national code

Ref country code: SE

Ref legal event code: TRGR

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R026

Ref document number: 502007016515

Country of ref document: DE

PLBI Opposition filed

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009260

REG Reference to a national code

Ref country code: HU

Ref legal event code: AG4A

Ref document number: E043737

Country of ref document: HU

26 Opposition filed

Opponent name: DUERR SYSTEMS AG

Effective date: 20190905

29U Proceedings interrupted after grant according to rule 142 epc

Effective date: 20190906

29W Proceedings resumed after grant [after interruption of proceedings according to rule 142 epc]

Effective date: 20200803

REG Reference to a national code

Ref country code: SE

Ref legal event code: EUG

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: HU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20190729

Ref country code: SE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20190729

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20190731

PLAX Notice of opposition and request to file observation + time limit sent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNOBS2

PLBB Reply of patent proprietor to notice(s) of opposition received

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNOBS3

RAP2 Party data changed (patent owner data changed or rights of a patent transferred)

Owner name: EISENMANN GMBH

PLAB Opposition data, opponent's data or that of the opponent's representative modified

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009299OPPO

R26 Opposition filed (corrected)

Opponent name: DUERR SYSTEMS AG

Effective date: 20190905

PLBD Termination of opposition procedure: decision despatched

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNOPC1

PLBP Opposition withdrawn

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009264

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R100

Ref document number: 502007016515

Country of ref document: DE

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R081

Ref document number: 502007016515

Country of ref document: DE

Owner name: DUERR SYSTEMS AG, DE

Free format text: FORMER OWNER: EISENMANN SE, 71032 BOEBLINGEN, DE

Ref country code: DE

Ref legal event code: R082

Ref document number: 502007016515

Country of ref document: DE

Representative=s name: DTS PATENT- UND RECHTSANWAELTE SCHNEKENBUEHL U, DE

Ref country code: DE

Ref legal event code: R082

Ref document number: 502007016515

Country of ref document: DE

Representative=s name: DTS PATENT- UND RECHTSANWAELTE PARTMBB, DE

PLAB Opposition data, opponent's data or that of the opponent's representative modified

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009299OPPO

PLBM Termination of opposition procedure: date of legal effect published

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009276

27C Opposition proceedings terminated

Effective date: 20221230

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20250722

Year of fee payment: 19