EP0434802A1 - Gasdichte Randdichtung und Verfahren zu deren Herstellung. - Google Patents

Gasdichte Randdichtung und Verfahren zu deren Herstellung.

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EP0434802A1
EP0434802A1 EP90910093A EP90910093A EP0434802A1 EP 0434802 A1 EP0434802 A1 EP 0434802A1 EP 90910093 A EP90910093 A EP 90910093A EP 90910093 A EP90910093 A EP 90910093A EP 0434802 A1 EP0434802 A1 EP 0434802A1
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wall elements
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Definitions

  • the invention relates to a method for coating a surface made of glass or a glass alloy by physical (PVD) or chemical (CVD) deposition from a gas or vapor phase.
  • PVD physical
  • CVD chemical
  • the coating metals mentioned at the beginning include PVD - abbreviated for “physical vapor deposition” - and CDV abbreviated for “che ical vapor deposition”, vapor deposition, sputtering, ion plating - the reactive variants of these methods, thermal, plasma and photon activated as well as the laser induced CVD.
  • Sputtering or cathode sputtering is a vacuum process in which ions hit the layer material (target material) and atomize it by pulse transmission.
  • layer material target material
  • ion plating under vacuum some of the atoms reaching the substrate are ionized and accelerated by an electric field.
  • the properties of the applied layer are favored by the acceleration energy with which the parts strike the substrate. In this way, thin layers for optical, opto-electronic, magnetic and microelectronic components are produced. Other areas of application are tribology, corrosion protection, heat insulation coating and decorative layers.
  • CVD processes are carried out with chemical vapor deposition.
  • thermal CVD process chemical reactions take place in the vapor phase, whereupon the reaction material is deposited as a layer on the substrate.
  • plasma-activated CVD the photon activated CVD
  • laser-induced CVD the laser-induced CVD.
  • the CVD processes are mainly used in machine and apparatus construction as well as in the electronic industry and are used to manufacture wear protection layers or corrosion protection layers.
  • the material and condition properties of the substrate can be changed to a certain penetration depth.
  • the properties of the surface layer then depend on the substrate material, the selected process and the process parameters.
  • Windows of this type formed from two or more glass panes, are provided with profiled metal strips glued to the edges by means of an elastic paste.
  • the edge seal of the so-called insulating glass windows is produced by a lead tape soldered to the glass panes, the edge of the glass panes being previously provided with a copper-plated or tin-coated adhesive layer by means of a flame spraying process.
  • Gas-tight edge seals have been an unsolved problem for years and thus an obstacle to the development of greatly improved thermal insulation, particularly in the window industry.
  • insulating glazing with high insulation values enables energy to be obtained from natural light in an economical manner.
  • a permanently evacuated building and / or lighting element would open up new possibilities for residential and industrial construction, in particular in the area of thermal energy considerable savings could be achieved if, for example, evacuated, transparent walls were used to heat the houses by the incident light and thus the reduction of large amounts of environmentally harmful fossil fuels would be realized.
  • evacuated, transparent walls were used to heat the houses by the incident light and thus the reduction of large amounts of environmentally harmful fossil fuels would be realized.
  • an unsatisfactory situation has created the task of creating a method of the type mentioned at the outset, with which heat losses in closed rooms can largely be remedied or the heating of closed rooms can primarily be done by daylight.
  • this object is achieved in that the edge on the circumference of at least one side face of each wall element is connected to a metallic adhesive layer in order to form a gas-tight structural and / or light element consisting of at least two spaced-apart wall elements.
  • This procedure ensures the manufacture of structural and / or light elements consisting of at least two spaced-apart wall elements forming an insulating intermediate space with a gas-tight edge seal.
  • detached atoms of the coating material hit the solid surface of the wall elements (substrate) and are loosely bound as adatoms. As adatoms, they diffuse over the surface until they condense as a stable germ or by being attached to existing germs.
  • the mobility of the adatoms on the surface depends on their kinetic energy, the substrate temperature and the strength of the interaction between the adatoms and substrate. If there is a strong interaction, you get a high germ density, and vice versa.
  • the germs grow into so-called islands, and the latter coalesce into a coherent film.
  • the germ density and the germ growth determine the contact areas in the transition zone. If the germ density is high, the adhesive strength is correspondingly high due to the large contact areas.
  • the layer material is anchored in pores of the substrate surface or the surface of the wall elements.
  • the layer bonded to the substrate using these methods achieves a tensile strength that is greater than that of the glass of the wall elements.
  • the transition zone also called the interface zone, is just as gas-tight as the wall element made of glass itself.
  • the atoms dusted with this procedure are ejected with a high energy, which depending on the target or.
  • Coating material is 10 to 40 electron volts (eV), while vaporized atoms in the vapor deposition process have energies of only 0.2 to 0.3 eV.
  • the higher energy during sputtering is one reason for a better adhesive strength of the applied layer compared to the vapor deposition process.
  • the adhesive strength of a sputtered layer on glass depends on the points of adhesion at the first moment -1-
  • the layers forming centers of a nuclear bond arise. These centers are formed by imperfections in the surface; defects in the crystal lattice, local potential changes as a result of free bonds or electrical charges.
  • Cathode sputtering or sputtering favor the formation of such traps.
  • the magnetron sputtering system from the group PVD physical vapor deposition
  • PVD physical vapor deposition
  • ion erosion is advantageously produced on the glass surface, for example on the width of the adhesive layer to be created, by shifting the target potential onto the glass surface. This cleans the glass surface and creates additional, adhesion-promoting defects in the crystal lattice.
  • This effect can be intensified by placing an electrode fed with high frequency above the glass surface so that the glass comes under electron bombardment.
  • the first atomic layers of the reactive metallic adhesive layer oxidize and alloy with the glass.
  • a protective barrier layer which is suitable as a solderable or weldable material.
  • This barrier layer consists of nickel, copper or the like.
  • Well solderable metal or metal alloys which have the same or a similar expansion behavior as the glass intended for the wall elements.
  • the barrier layer prevents the latter from alloying with the adhesive layer and not destroying it.
  • the soft solder advantageously has an expansion coefficient such as glass.
  • the melting temperature of the soft solder should not be higher than the temperature tolerance of a heat protection layer of the window glass.
  • the barrier layer can be built up by physical (PVD), chemical (CVD) or galvanic deposition as well as by thermal spraying, it being advantageous in the galvanic procedure if the adhesive layer is used first for better electrical conductivity with a copper coating.
  • a construction and / or light element proves to be particularly simple if two spaced-apart wall elements are enclosed in a gas-tight manner on their respective coated edge by a band-like film soldered to a soft solder.
  • Such an enclosure is suitable for forming a cavity between the front edge of the wall elements and the film surrounding the latter in a gas-tight manner.
  • This cavity can be equipped with gettering agents which promote the maintenance of the vacuum between the wall elements.
  • the front edge of the wall elements is covered with an air-permeable insulation layer.
  • a permeable layer or a wire mesh should preferably be provided between the insulation and the getter.
  • this structural and / or light element 1 shows a section of a building and / or lighting element of a building.
  • the one edge of this structural and / or light element 1, which is formed from two wall elements 2, 3, discloses an adhesive layer 4 of a metallic material that is made by physical (PVD) or chemical (CVD) deposition from the gas or vapor phase , which is provided for a gas-tight connection between the wall elements 2, 3, which are made of glass and form an evacuable space 5 by a distance.
  • PVD physical
  • CVD chemical
  • a barrier layer 6 protecting the adhesive layer is applied to the adhesive layer 4, which is characterized as solderable and is produced by galvanic, chemical or physical deposition or by thermal spraying.
  • Another layer 7 made of solderable material is fused to the barrier layer 6 and serves for the tight connection of the solderable foil 8 enclosing the edge of the structural and / or light element 1 formed from two wall elements 2, 3.
  • the latter can be arranged so that it 8 forms a cavity 9 between the front edge of the structural and / or light element 1, which can be provided for inserting getter means 10.
  • an air-permeable insulation 11 is applied to the front edge of the wall elements 2, 3 as heat protection and in front of it a permeable layer 12 in the form of a Braid made of wire, fiber or similar materials suitable for this purpose.

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Description

Verfahren zur Beschichtung einer Fläche aus Glas
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Beschich¬ tung einer Fläche aus Glas oder einer Glaslegierung durch physikalische (PVD) oder chemische (CVD) Abscheidung aus einer Gas- bzw. Dampfphase.
Bekanntlich fallen unter die eingangs genannten Beschich- tungsmetohden PVD - abgekürzt für "physical vapor deposi- tion" - und CDV abgekürzt für " che ical vapor deposition ", das Bedampfen, Sputtern, Ionenplattieren,- die reaktiven Varianten dieser Methoden, thermische, plasma- und photonen aktivierte sowie das laserinduzierte CVD.
Diese Beschichtungsmethoden sind in dem Fachbuch Oberflächen- - und Dünnschicht-Technologie" Ausgabe 1987 von Renέ A.Haefer eingehend beschrieben. Bei den PVD-Prozessen erfolgt die Abscheidung aus der Gas¬ phase durch Bedampfen, Sputtern oder Ionenplattieren. Beim Bedampfen unter Vakuum, verdampft das Schichtmaterial in einer heizbaren Quelle und die sich geradlinig ausbreitenden Dampfatome lassen sich auf dem Substrat als Schicht auftra¬ gen.
Sputtern oder Kathodenzerstäubung ist ein Vakuumprozess in welchem Ionen auf das Schichtmaterial (Targetmaterial) treffen und dieses durch Impulsübertragung zerstäuben. Beim Ionenplattieren unter Vakuum wird ein Teil der zum Substrat gelangenden Atome ionisiert und durch ein elektri¬ sches Feld beschleunigt. Durch die Beschleunigungsenergie, mit welcher die Teile auf dem Substrat auftreffen, werden die Eigenschaften der aufgetragenen Schicht begünstigt. Auf diese Art werden dünne Schichten für optische, opto¬ elektronische, magnetische und mikroelektronische Bauelemen¬ te hergestellt. Weitere Anwendungsgebiete sind die Tribolo- gie, der Korrosionsschutz, die Wärmeisolationsbeschichtung sowie dekorative Schichten.
CVD-Prozesse werden unter chemischer Abscheidung aus der Dampfphase durchgeführt. Beim thermischen CVD-Prozess finden chemische Reaktionen in der Dampfphase statt, worauf sich das Reaktionsmaterial als Schicht auf dem Substrat nieder¬ schlägt. Weiter existieren das plasma-aktivierte CVD, das photonen- aktivierte CVD sowie das laser-induzierte CVD. Die CVD-Verfahren werden hauptsächlich im Maschinen- und Apparatebau sowie der elektronischen Industrie angewendet und dienen der Herstellung von Verschleissschutzschichten oder Korrosionsschutzschichten.
Durch diese Verfahren können die Material- und Zustandseigen- schaften des Substrates auf eine bestimmte Eindringtiefe geändert werden. Die Eigenschaften der Randschicht hängen dann vom Substratmaterial, dem gewählten Verfahren und den Prozessparametern ab.
Die Herstellung und Verwendung von Isolierglasfenstern be- fasst sich in hohem Masse mit der Isolationszone zwischen den einzelnen Glasscheiben und deren Dichtheit gegenüber der Umgebung.
Fenster dieser Art, aus zwei oder mehreren Glasscheiben gebildet, sind an den Rändern mittels elastisch wirkender Paste aufgeklebten, profilierten Metalleisten versehen. Bei einer anderen Bauart wird die Randdichtung der sog. Isolierglasfenster durch ein mit den Glasscheiben verlötetes Bleiband hergestellt, wobei der Glasscheibenrand zuvor mittels einem Flammspritzverfahren mit einer verkupferten oder verzinnten Haftschicht versehen wird.
Solche Dichtungen sind erfahrungsgemäss nicht gasdicht, weil einerseits das in den zwischen den Glasscheiben vorgesehenen Hohlraum eingeführte Isoliergas Argon über die Gummidichtung diffundiert oder weil andererseits die Haftschicht zwischen der Glasscheibe und der Kupferschicht porös ist. Diese Durchlässigkeit lässt das Eindringen von Feuchtigkeit zwi¬ schen die Glasscheiben zu, sodass das Fenster zeitweise beschlagen ist.
Gasdichte Randdichtungen bilden seit Jahren ein ungelöstes Problem und somit ein Hindernis in der Entwicklung stark verbesserter Wärmeisolationen, insbesondere in der Fenster¬ industrie.
Zudem gestatten Isolierverglasungen mit hohen Isolationswer¬ ten die Gewinnung von Energie aus natürlichem Licht auf wirtschaftliche Weise.
Insbesondere ist es wegen des ungelösten Abdichtungsproblems noch nicht gelungen, ein Lichtelement oder Fenster auszufüh¬ ren, welches durch einen evakuierten Hohlraum einen extrem hohen Isolationswert aufweist.
Ein dauerhaft evakuiertes Bau- und/oder Lichtelement würde dem Wohnungs- und Industriebau neue Möglichkeiten eröffnen, insbesondere im Bereich der Wärmeenergie könnten erhebliche Einsparungen erzielt werden, wenn bspw. durch evakuierte, transparente Wände die Beheizung der Häuser durch das ein¬ fallende Licht vorgenommen und somit die Reduktion grösserer Mengen umweltschädlicher fossiler Brennstoffe verwirklicht würde. Demzufolge hat sich durch eine unbefriedigende Situation die Aufgabe gestellt, ein Verfahren nach der eingangs genannten Art zu schaffen, mit dem Wärmeverluste in geschlossenen Räumen weitgehend behoben werden bzw. das Erwärmen von geschlossenen Räumen vornehmlich durch Tageslicht erfolgen kann.
Erfindungsgemäss wird diese Aufgabe dadurch gelöst, dass zur Bildung eines aus wenigstens zwei beabstandeten Wandelemen¬ ten bestehendes gasdichtes Bau- und/oder Lichtelement der Rand am Umfang wenigstens einer Seitenfläche jedes Wandelementes mit einer metallischen Haftschicht verbunden wird.
Diese Vorgehensweise gewährleistet die Herstellung von aus wenigstens zwei beabstandeten, einen isolierenden Zwischen¬ raum bildenden Wandelementen bestehenden Bau- und/oder Lichtelementen mit einer gasdichten Randdichtung.
Durch die Anwendung dieses Verfahrens treffen losgelöste Atome des Beschichtungs aterials auf die feste Oberfläche der Wandelemente (Substrat) und werden als Adatome lose gebunden. Als Adatome diffundieren sie über die Oberfläche bis sie als stabiler Keim bzw. durch Anlagerung an vorhande¬ ne Keime kondensieren. Die Beweglichkeit der Adatome an der Oberfläche hängt von ihrer kinetischen Energie, der Substrat- temperatur und der Stärke der Wechselwirkung zwischen Adatom und Substrat ab. Besteht eine starke Wechselwirkung, dann erhält man eine hohe Keimdichte, und umgekehrt. Durch Anlage¬ rung von Adatomen wachsen die Keime zu sog. Inseln, und letztere koalisieren zu einem zusammenhängenden Film. Die Keimdichte und das Keimwachstum bestimmen die Kontaktflächen in der Uebergangszone. Bei grosser Keimdichte ist die Haft¬ festigkeit aufgrund grosser Kontaktflächen entsprechend hoch. Das Schichtmaterial wird in Poren der Substratober¬ fläche bzw. der Oberfläche der Wandelemente verankert.
Die unter diesen Verfahren mit dem Substrat verbundene Schicht, erreicht eine Reissfestigkeit die grosser ist als sie der Werkstoff Glas der Wandelemente aufweist. Zudem ist die Uebergangszone, auch Interface-Zone genannt, ebenso gasdicht wie das aus Glas bestehende Wandelement selbst.
Die mit diesen Vorgehen abgestäubten Atome werden mit einer hohen Energie ausgestossen, die je nach Target-bzw. Beschich- tungsmaterial 10 bis 40 Elektronenvolt (eV) beträgt, während verdampfte Atome beim Aufdampfverfahren Energien von nur 0,2 bis 0,3 eV aufweisen. Die höhere Energie beim Sputtern ist ein Grund für eine bessere Haftfestigkeit der aufgebrachten Schicht gegenüber dem Aufdampfverfahren.
Die Haftfestigkeit einer aufgesputterten Schicht auf Glas hängt von den Haftstellen ab, an denen im ersten Augenblick -1-
der Schichtbildung Zentren einer nuklearen Bindung entste¬ hen. Diese Zentren werden durch Fehlstellen in der Ober¬ fläche gebildet; von Fehlstellen im Kristallgitter, lokalen Potentialänderungen als Folge von freien Bindungen oder elektrischen Aufladungen.
Die Kathodenzerstäubung oder das Sputtern begünstigen die Bildung solcher Haftstellen.
Von den erwähnten Verfahren dürfte sich das Magnetron- Sputtersystem aus der Gruppe PVD (physical vapor deposition) als das zur Zeit bestgeeignetste Verfahren für die Reali¬ sierung eines bislang unerreichten gasdichten Isolierglas - Randverbundes erweisen. Dieses Sputtersystem gestattet relativ hohe Depositionsraten und grosse Depositionsflächen bei geringer Substratserwärmung.
Bevor man mit Sputtern beginnt, erzeugt man an der Glasober¬ fläche, etwa auf der zu erstellenden Breite der Haftschicht vorteilhaft eine Ionenerosion durch Umlegen des Targetpoten¬ tials auf die Glasoberfläche. Damit reinigt man die Glasober¬ fläche und schafft zusätzliche, haftvermittelnde Fehlstellen im Kristallgitter.
Dieser Effekt kann verstärkt werden, indem über der Glasober¬ fläche eine mit Hochfrequenz gespiesene Elektrode angeordnet wird, sodass das Glas unter Elektronenbeschuss kommt. Die ersten Atomlagen der reaktiven metallischen Haftschicht oxidieren und legieren mit dem Glas.
Damit die metallische Haftschicht beim Herstellen der dich¬ ten Verbindung zwischen den Wandelementen nicht beschädigt wird, ist vorteilhaft eine schützende Sperrschicht vorzuse¬ hen, die sich als löt- oder schweissbarer Werkstoff eignet. Diese Sperrschicht besteht aus Nickel, Kupfer oder dgl. gut lötbarem Metall oder Metallegierungen, die ein gleichartiges oder ähnliches Ausdehnungsverhalten wie das für die Wandele¬ mente bestimmte Glas aufweisen.
Durch die Sperrschicht wird beim Schmelzvorgang des auf die Sperrschicht aufgetragenen Weichlotes verhindert, dass sich letzeres mit der Haftschicht legiert und diese nicht zer¬ stört. Das Weichlot besitzt vorteilhaft einen Ausdehnungs¬ koeffizienten wie Glas.
Die Schmelztemperatur des Weichlotes sollte nicht höher sein als die Temperaturverträglichkeit einer Wärmeschutzschicht des Fensterglases.
Alternativ kann der Sperrschichtaufbau durch physikalische (PVD), chemische (CVD) oder galvanische Abscheidung sowie durch thermisches Spritzen vorgenommen werden, wobei es bei der galvanischen Vorgehensweise vorteilhaft ist, wenn zwecks besserer elektrischer Leitfähigkeit die Haftschicht vorerst mit einem Kupferauftrag versehen wird.
Besonders einfach erweist sich ein Bau- und/oder Lichtele¬ ment, wenn zwei beabstandete Wandelemente an ihrem jeweils beschichteten Rand von einer mit einem Weichlot verlöteten , bandähnlichen Folie gasdicht eingefasst sind.
Eine solche Einfassung eignet sich zur Ausbildung eines Hohlraumes zwischen dem stirnseitigen Rand der Wandelemente und der letztere gasdicht umgebenden Folie.
Dieser Hohlraum kann mit Gettermitteln ausgestattet sein, die die Aufrechterhaltung des Vakuums zwischen den Wandelementen begünstigen.
Zum Schutz der Wandelemente gegen übermässige Erwärmung bei der Aktivierung des Gettermittels auf ca. 350 °C ist es vorteilhaft, wenn der stirnseitige Rand der Wandelemente mit einer luftdurchlässigen Isolationsschicht belegt wird.
Damit Luft gegen das Gettermittel strömen kann, ist vorzugs¬ weise zwischen die Isolation und das Gettermittel eine durchlässige Schicht, bzw. ein Drahtgeflecht vorzusehen.
Das zur Durchführung des erfindungsgemässen Verfahrens vorgesehene Bau und/oder Lichtelement ist in der einzigen Figur in einer beispielhaften Ausführungsform dargestellt und anschliessend erläutert.
Mit 1 ist ein Bau- und/oder Lichtelement eines Gebäudes ausschnittweise veranschaulicht. Der eine Rand dieses aus zwei Wandelementen 2, 3 gebildeten Bau- und/oder Lichtelemen¬ tes 1 offenbart eine durch physikalische (PVD) oder chemi¬ sche (CVD) Abscheidung aus der Gas- bzw. Dampfphase vorgenom¬ mene Haftschicht 4 eines metallischen Werkstoffes, die für eine gasdichte Verbindung zwischen dem aus Glas bestehenden und durch einen Abstand einen evakuierbaren Zwischenraum 5 bildenden Wandelementen 2, 3 vorgesehen ist. Diese Haft¬ schicht 4 könnte zur Bildung einer Dichtung auch an den zwischen den Wandelementen 2, 3 sich zugekehrten Rändern aufgetragen werden.
In der vorliegenden Darstellung ist auf die Haftschicht 4 eine die Haftschicht schützende Sperrschicht 6 aufgetragen, die sich als lötbar auszeichnet und durch galvanisch, che¬ misch oder physikalisches Abscheiden oder durch thermisches Spritzen hergestellt wird.
Eine weitere Schicht 7 aus lötbarem Material ist mit der Sperrschicht 6 verschmolzen und dient der dichten Verbindung der den Rand des aus zwei Wandelementen 2, 3 gebildeten Bau- und/oder Lichtementes 1 einfassenden lötbaren Folie 8.
Letztere kann wie gezeigt so angeordnet sein, dass sie 8 zwischen dem stirnseitigen Rand des Bau- und/oder Licht¬ elementes 1 mit diesem einen Hohlraum 9 bildet, der zur Einlage von Gettermitteln 10 vorgesehen werden kann.
Zur Vermeidung von Schäden bei der Aktivierung des Gettermit- tels (10) und zu dessen Wirksamkeit, liegt an dem stirnseiti¬ gen Rand der Wandelemente 2, 3 eine luftdurchlässige Isola¬ tion 11 als Wärmeschutz an und vor ihr eine durchlässige Schicht 12 in Form eines Geflechtes aus Draht, Fiber oder ähnlichen, zu diesem Zweck geeigneten Materialien.

Claims

P A T E N T A N S P R U E C H E
1. Verfahren zur Beschichtung einer Fläche aus Glas oder einer Glaslegierung durch physikalische ( PVD ) oder chemische ( CVD ) Abscheidung aus der Gas- bzw. Dampf- phase, dadurch gekennzeichnet, dass zur Bildung eines aus wenigstens zwei beabstandeten Wandelementen bestehen¬ den gasdichten Bau- und/oder Lichtelementes der Rand am Umfang wenigstens einer Seitenfläche jedes Wandelementes mit einer metallischen Haftschicht verbunden wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Haftschicht von einem als Sperrschicht ausgebildeten lötbaren Metall mittels physikalischer (PVD), chemischer oder galvanischer Abscheidung oder durch thermisches Spritzen beschichtet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Haftschicht vor dem galvanischen Auftrag der Sperr¬ schicht mit einer Kupferschicht versehen wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Haftschicht durch Magnetron-Sputtern erstellt wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, dass vor dem Erstellen der Haftschicht über der Glasober¬ fläche eine mit Hochfrequenz gespiesene Elektrode angeordnet ist.
6. Bau- und/oder Lichtelement zur Durchführung des Verfah¬ rens nach einem der Patentansprüche 1 bis 5, bestehend aus wenigstens zwei beabstandeten, mittels Randdichtung einen gasdichten Zwischenraum (5) bildenden Wandelemen¬ ten (2,3) aus Glas, dadurch gekennzeichnet, dass der mit einer Haftschicht (4) versehene Rand am Umfang wenig¬ stens einer Seitenfläche jedes Wandelementes (2,3) mit einem lötbaren Metall als Sperrschicht (6) beschichtet bzw. dass wenigstens die von der Haftschicht (4) ab¬ gewandte Oberfläche der Sperrschicht (6) lötbar ausge¬ bildet ist.
7. Bau- und/oder Lichtelement nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Sperrschicht- (6) mit einem Weichlot (7) beschichtet ist, das eine geringere Schmelz¬ temperatur als die Temperaturverträglichkeit einer Wärmeschutzschicht des Wandelementes (2,3) aufweist.
8. Bau- und/oder Lichtelement nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass zwei beabstandete Wandelemente (2,3) an ihrem jeweils beschichteten Rand von einer verlöteten, bandähnlichen Folie (8) gasdicht eingefasst sind.
9. Bau- und/oder Lichtelement nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dem stirnseitigen Rand der Wandelemente (2,3) und der Folie (8) ein Hohlraum (9) vorgesehen ist.
10. Bau- und/oder Lichtelement nach einem der Ansprüche 8 und 8, dadurch gekennzeichnet, dass der Hohlraum (9) mit Gettermitteln (10) versehen ist.
11. Bau- und/oder Lichtelement nach einem der Ansprüche 9 und 9, dadurch gekennzeichnet, dass der stirnseitige Rand der Wandelemente (2,3) mit einer luftdurchlässigen Isolation (11) versehen ist.
12. Bau- und/oder Lichtelement nach einem der Ansprüche 10 und 11, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen Isolation
(11) und Gettermittel (10) eine durchlässige Schicht
(12) vorgesehen ist.
13. Bau- und/oder Lichtelement nach einem der Ansprüche 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Haft (4)- und/oder Sperrschicht (6) sowie eine die beabstandeten Wandelemente (2,3) dicht einfassende Folie (8) wenig¬ stens annähernd die gleichen Ausdehnungseigenschaften bzw. den gleichen Ausdehnungskoeffizienten wie Glas aufweisen.
14. Anwendung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 5 zur Herstellung von aus wenigstens zwei beabstandeten, und mit einer gasdichten Randabdichtung einen isolieren¬ den Zwischenraum (5) bildenden Wandelementen (2,3) bestehenden Bau- und/oder Lichtelement (1) .
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