DE10006823C2 - Verfahren zur Herstellung eines flexiblen metallischen Substrats für eine CIS-Solarzelle und CIS-Solarzelle - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines flexiblen metallischen Substrats für eine CIS-Solarzelle und CIS-SolarzelleInfo
- Publication number
- DE10006823C2 DE10006823C2 DE10006823A DE10006823A DE10006823C2 DE 10006823 C2 DE10006823 C2 DE 10006823C2 DE 10006823 A DE10006823 A DE 10006823A DE 10006823 A DE10006823 A DE 10006823A DE 10006823 C2 DE10006823 C2 DE 10006823C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- nickel
- layer
- cis
- solar cell
- palladium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 230000009975 flexible effect Effects 0.000 title claims description 12
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 claims description 17
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 16
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 12
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 claims description 9
- UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N iron nickel Chemical compound [Fe].[Ni] UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- BSIDXUHWUKTRQL-UHFFFAOYSA-N nickel palladium Chemical compound [Ni].[Pd] BSIDXUHWUKTRQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910021585 Nickel(II) bromide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims 1
- IPLJNQFXJUCRNH-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);dibromide Chemical compound [Ni+2].[Br-].[Br-] IPLJNQFXJUCRNH-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 67
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 15
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 9
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 5
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-2h-tetrazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NNN=N1 MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 101150049168 Nisch gene Proteins 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- KTSFMFGEAAANTF-UHFFFAOYSA-N [Cu].[Se].[Se].[In] Chemical compound [Cu].[Se].[Se].[In] KTSFMFGEAAANTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N copper(II) sulfide Chemical compound [S-2].[Cu+2] OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 230000003292 diminished effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000002803 fossil fuel Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000009533 lab test Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- IRPLSAGFWHCJIQ-UHFFFAOYSA-N selanylidenecopper Chemical compound [Se]=[Cu] IRPLSAGFWHCJIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/036—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes
- H01L31/0392—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes including thin films deposited on metallic or insulating substrates ; characterised by specific substrate materials or substrate features or by the presence of intermediate layers, e.g. barrier layers, on the substrate
- H01L31/03926—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes including thin films deposited on metallic or insulating substrates ; characterised by specific substrate materials or substrate features or by the presence of intermediate layers, e.g. barrier layers, on the substrate comprising a flexible substrate
- H01L31/03928—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes including thin films deposited on metallic or insulating substrates ; characterised by specific substrate materials or substrate features or by the presence of intermediate layers, e.g. barrier layers, on the substrate comprising a flexible substrate including AIBIIICVI compound, e.g. CIS, CIGS deposited on metal or polymer foils
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
- C25D1/04—Wires; Strips; Foils
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/605—Surface topography of the layers, e.g. rough, dendritic or nodular layers
- C25D5/611—Smooth layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/615—Microstructure of the layers, e.g. mixed structure
- C25D5/617—Crystalline layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/627—Electroplating characterised by the visual appearance of the layers, e.g. colour, brightness or mat appearance
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/0256—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
- H01L31/0264—Inorganic materials
- H01L31/032—Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312
- H01L31/0322—Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312 comprising only AIBIIICVI chalcopyrite compounds, e.g. Cu In Se2, Cu Ga Se2, Cu In Ga Se2
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/036—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes
- H01L31/0392—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes including thin films deposited on metallic or insulating substrates ; characterised by specific substrate materials or substrate features or by the presence of intermediate layers, e.g. barrier layers, on the substrate
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/541—CuInSe2 material PV cells
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines
flexiblen metallischen Substrats für eine CIS-Solarzelle und
eine nach diesem Verfahren hergestellte CIS-Solarzelle.
In dem Bemühen, Strom aus Sonnenlicht ohne Umweltbelastung und
zu erzeugen mit Kosten, die in der selben Größenordnung wie
die Erzeugungskosten bei der Nutzung fossiler Energieträger
liegen, werden große Anstrengungen zur Entwicklung
kostengünstiger Solarzellen gemacht. Dabei stellen
Dünnschichtsolarmodule den jüngsten Entwicklungsstand dar.
Hierbei werden Schichten aus hochreinem Silizium, Kadmium-
Tellurid oder Kupfer-Indium-Selenid/Schwefel (abgekürzt CIS)
von weniger als 1 µm Dicke, üblicherweise mit Hilfe von
Vakuumtechniken, auf Glas aufgedampft.
Unter den drei genannten Dünnschicht-Technologien ist die CIS-
Technologie wegen ihrer Umweltverträglichkeit und dem Fehlen
von Degradation (nachlassende Wirksamkeit durch Altern)
besonders interessant. Die CIS-Schicht wird üblicherweise auf
Glas, das zumeist erst im Sputterverfahren mit Molybdän
beschichtet wurde, abgeschieden.
Es sind wegen der Nachteile von Glas als Substrat jedoch
verschiedene Anstrengungen unternommen worden, um auch
flexible Materialien einsetzen zu können.
In der Überlegung, daß die Verwendung von Kupfer als Träger
material das elektrochemische Abscheiden der CIS-Schicht er
lauben würde und Kupfer selbst Bestandteil der CIS-Schicht
ist, wurde mit der DE-A 196 34 580 vorgeschlagen, ein Kup
ferband als Trägermaterial zu verwenden. Zunächst wird auf
dem Kupferband Indium elektrochemisch abgeschieden. In einem
zweiten Schritt wird das Band aufgeheizt und auf die aufge
heizte Indium-Schicht in der Dampfphase vorliegendes Selen
oder Schwefel aufgebracht, wobei Kupfer in die Indiumschicht
eindiffundieren und dort zusammen mit dem Selen/Schwefel die
CIS-Schicht bilden soll. Das Verfahren erfordert eine genaue
Einhaltung des Temperaturbereiches und der Prozeßzeiten bei
der Selenisierung bzw. Sulfidisierung. Außerdem bildet sich
an der Oberfläche Kupferselenid bzw. Kupfersulfid, das die
Reinheit der CIS-Schicht stören würde und deshalb ätztech
nisch wieder entfernt werden muß. Schließlich kann nicht
ausgeschlossen werden, daß im Verlauf der Zeit weiteres Kup
fer in die CIS-Schicht eindiffundiert und die für den photo
voltaischen Effekt nötige Zusammensetzung ändert und somit
die Funktion der Solarzelle zunehmend vermindert. Aufgrund
der Nutzung der Kupferunterlage für den gleichzeitigen Auf
bau der CIS-Schicht ist hier keine Diffusionssperre vorhan
den.
Ein grundsätzlicher Nachteil von Kupfer ist darüber hinaus,
daß der thermische Ausdehnungskoeffizient der kristallinen
CIS-Schicht von dem des Kupferbandes derart verschieden ist,
daß es bei der Wärmebehandlung, der nach dem Aufbringen der
CIS-Schicht erforderlich ist, leicht zur Rißbildung in der
CIS-Schicht kommt, womit jede photovoltaische Funktion zu
nichte gemacht wird.
Es wurde auch bereits vorgeschlagen, die CIS-Schicht auf ei
ne handelsübliche flexible Molybdänfolie aufzubringen, wie
sie beispielsweise für Durchführungen von elektrischen An
schlüssen in Halogenlampen verwendet wird. Molybdänfolie hat
jedoch den etwa vierfachen Preis von Kupferband. Seine Ver
wendung ist, vermutlich wegen der darin enthaltenen Verun
reinigungen, nicht über Laborversuche hinausgekommen.
Ebenfalls bekannt geworden sind Kunststoff-Folien zur CIS-
Abscheidung. Die Auswahl genügend hochtemperaturfester Mate
rialien bereitet jedoch erhebliche Mühe. Außerdem müssen
derartige Folien naturgemäß erst durch ITO/TCO-Schichten e
lektrisch leitfähig gemacht werden, was üblicherweise wie
derum durch Aufdampfen im Vakuum geschieht, das die Kosten
erheblich steigen läßt.
Chrom-Nickel-Stahl-Folie, die auch bereits vorgeschlagen
wurde, eignet sich ebenfalls wenig, da es dazu neigt, Was
serstoff aufzunehmen, das auf der Folienoberfläche Bläschen
bildet, die bei der Abscheidung der CIS-Schicht zu "pin ho
les" führen, wodurch es beim späteren Aufbringen einer
transparenten Deckschicht zu Kurzschlüssen kommt, welche die
Solarzelle unbrauchbar machen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur
Herstellung eines metallischen Substrates für eine flexible,
bandförmige Solarzelle und ein solches Substrat anzugeben,
das das galvanische Aufbringen der CIS-Schicht erlaubt und
somit keine Vakuumtechnologie erfordert, mit dem das Eindif
fundieren von Ionen des Substrats in die CIS-Schicht jedoch
verhindert wird. Das Substrat soll unempfindlich sein gegen
über mechanischen (Biegen der Zelle) und thermischen Ein
flüssen auf die Solarzelle.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch die Merkmale
der Ansprüche 1, 2, 3, und 6. Zweckmäßige Ausgestaltungen
der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche.
Danach wird als Trägermaterial eine bandförmige Kupferfolie
verwendet, auf die galvanisch ein Schichtaufbau aus Nickel
oder Nickel-Eisen und Molybdän, Rhodium oder Palladium oder
einer Nickel-Palladium-Legierung oder aus Nickel-Eisen und
einer Schicht aus einer Nickel-Palladium-Legierung aufge
bracht wird.
Die Beeinflussung der Eigenschaften von Kupferfolien durch
eine Beschichtung mit Nickel-Palladium ist an sich bereits
bekannt, so aus Abys et al., The Electrodeposition and Mate
rial Properties of Palladium-Nickel Alloys, Metal Finishing,
July 1991, 43-52 oder Galvanische Abscheidung von Palladi
um und Palladiumlegierungen, Galvanotechnik 84 (1993) Nr. 8,
2578-2584. Derartige Substrate dienen aber bisher nur als
Kontaktmaterialien oder als Material für Schmuckstücke (Ein
sparung von Edelmetallen). Für die Herstellung von CIS-
Solarzellen wurden sie nicht erwogen.
Die Schicht aus Molybdän, Rhodium oder Palladium übernimmt
die "Vermittlung" zwischen den sehr unterschiedlichen ther
mischen Ausdehnungskoeffizienten von Kupfer/Nickel und CIS,
während Nickel bzw. Nickel-Eisen die Festigkeit des Schich
tenverbundes erheblich erhöht und eine Diffusionsbarriere
gegenüber Kupferionen darstellt. Molybdän hat einen sehr ge
ringen, der CIS-Schicht ähnlichen thermischen Ausdehnungs
koeffizienten, andererseits einen hohen Elastizitätsmodul,
der die Spannungen zwischen den darunter und darüberliegen
den Schichten unterschiedlicher Ausdehnung aufzunehmen ver
mag. Schichten aus Rhodium oder Palladium verhalten sich
ähnlich, d. h. sie zeigen bei niedriger Wärmeausdehnung eine
hohe Elastizität.
Als Verbundsystem stellt der Schichtenaufbau somit ein ge
eignetes Substrat dar, das ausschließlich im bandgalvanoche
mischen Verfahren herstellbar ist und das trotz der an sich
hohen Kosten von Molybdän, Rhodium und Palladium wegen der
geringen Schichtdicken insgesamt preiswert ist.
Kupferfolie hat den Vorteil, daß sie flexibel und preiswer
ter als andere Metallfolien ist. Die außerdem gute Leitfä
higkeit ist nicht von allzu großer Bedeutung, da photovol
taisch erzeugter Strom eine geringe Stromdichte besitzt. Es
können daher auch Kupferlegierungen, die eine geringere
Leitfähigkeit aufweisen, jedoch andere Vorteile besitzen,
verwendet werden.
Vorteilhaft kann z. B. elektrolytisch abgeschiedene Kupfer
folie, die bisher traditionell ausschließlich für die Lei
terplattenfertigung benutzt wurde und eine Reihe von bisher
bei anderen Anwendungen nicht genutzten bzw. dort nicht ge
fragten Vorteilen aufweist, verwendet werden. Die Reinheit
und die Zusammensetzung kann durch Legierungsbestandteile
und Beimengungen im Elektrolysebad gesteuert werden. Auch
läßt sich die Oberfläche mit geringer Rauhigkeit herstellen.
Kupfer hat an sich allerdings für die Verwendung als Träger
material die bereits oben angedeuteten gravierenden Nachtei
le, die durch die Erfindung jedoch überwunden werden.
Erstens ist die Warmfestigkeit von Kupfer sehr gering, so
daß ohne eine weitere Maßnahme mechanische Beanspruchungen
während des nachfolgenden Temperprozesses zur Beschädigung
der dünnen CIS-Schicht führen können. Zweiten sind Kupferio
nen, wie bereits gesagt, äußerst beweglich, so daß diese bei
dem Temperprozeß, aber auch bereits bei der Gebrauchstempe
ratur der Solarzellen, in unkontrollierter Menge in die CIS-
Schicht einwandern würden. Drittens ist der thermische Aus
dehnungkoeffizient von Kupfer von dem der kristallinen CIS-
Schicht derart verschieden, daß unter Temperatureinfluß mit
einer Rißbildung in der dünnen, aufliegenden CIS-
Absorberschicht zu rechnen ist, welches wiederum jede photo
voltaische Funktion zunichte macht.
Mit dem erfindungsgemäßen Schichtaufbau wird, wie bereits
beschrieben, zunächst eine Nickel- oder Nickel-Eisen-Schicht
aufgebracht, die als Diffusionsbarriere, als Anpassung hin
sichtlich des Ausdehnungskoeffizienten und als Haftschicht
für die nachfolgenden Schichten dient. Die Nickel-Eisen-
Schicht ist als sogenannte INVAR-Legierung bekannt. Nickel
oder Nickel-Eisen kann galvanotechnisch aufgebracht werden.
Die nachfolgenden Schichten bestehen aus Molybdän, Palladium
oder Rhodium, die sich ebenfalls galvanotechnisch aufbringen
lassen.
Eine weitere Variante ist das alleinige Abscheiden einer
Nickel-Palladium-Legierung auf der Kupferfolie, die gleich
zeitig als Diffusionsbarriere und als Vermittlungschicht für
die CIS-Schicht dient.
Das galvanotechnische Aufbringen einer Molybdänschicht ist
bisher wenig bekannt, ist aber möglich.
Schichten aus Palladium oder Rhodium stellen an sich bereits
eine Diffusionsbarriere gegen Kupfer dar, die teuren Edelme
talle können jedoch in geringerer Schichtstärke und mit bes
serer Haftung sowie ohne die Verunreinigung der Bäder durch
Kupfer galvanisch aufgebracht werden, wenn zuvor wenigstens
eine dünne Nickelschicht auf die Kupferfolie abgeschieden
wird.
Molybdän ist nicht in der Lage, als Diffusionsbarriere für
Kupfer zu wirken und benötigt deshalb eine Nickelschicht mit
bestimmter Mindestdicke als Unterlage. Andererseits muß der
direkte Kontakt der Nickelschicht mit der CIS-Schicht ver
mieden werden, weil sich hierbei CIS-Nickel-Komplexe bilden
würden, also reines CIS für den kristallinen Aufbau nicht
mehr zur Verfügung stünde.
Die Kupferfolie soll eine möglichst geringe Oberflächenrau
higkeit aufweisen, kann zur Maximierung der späteren Licht
aufnahme jedoch oberflächenvergrößert sein, indem während
des Herstellungsprozesses, bei galvanisch abgeschiedener Fo
lie beim Abscheiden, bereits Auswölbungen eingebracht wer
den, ohne daß dabei herstellungstechnisch ein besonderer
Mehraufwand entsteht. Solche, z. B. halbkugeligen Auswölbun
gen in der Größenordnung von ca. 2 mm lassen sich z. B.
leicht durch entsprechende Gestaltung der Abscheidetrommel
realisieren. Hierdurch wird bei schräg auf die Solarzelle
auftreffender Strahlung die Lichtabsorption und damit die
Gesamtleistung erhöht.
Auf das Trägermaterial kann die CIS-Schicht dann in bekann
ter Weise ebenfalls galvanisch aufgebracht werden, so daß
insgesamt ein galvanischer Prozeß vorliegt und keine Vakuu
manlagen benötigt werden. Die CIS-Schicht wird anschließend
in einem Wärmebhandlungsprozeß aktiviert.
Die Erfindung soll nachstehend anhand von zwei Ausführungs
beispielen noch näher erklärt werden. In den Zeichnungen
zeigen
Fig. 1 ein Beispiel für einen Schichtaufbau mit Molybdän
auf einem flexiblen Trägermaterial,
Fig. 2 ein zweites Beispiel für einen Schichtaufbau mit
Palladium/Rhodium und
Fig. 3 ein drittes Beispiel für einen Schichtaufbau mit
einer Nickel-Palladium-Legierung.
Gemäß Fig. 1 besteht das flexible Substrat aus einer galva
nisch abgeschiedenen Kupferfolie 1, auf die galvanochemisch
zunächst eine Nickelschicht 3 und dann eine Molybdänschicht
4 aufgebracht wurde. Da Molybdän keine besonders gute Diffu
sionssperre für Kupferionen darstellt, muß in diesen Fall
eine relativ dicke Nickelschicht, ca. in einer Dicke von
2 µm, aufgebracht werden. Nickel übernimmt dann die Funktion
einer Diffusionssperre und erhöht gleichzeitig die Warmfe
stigkeit der Kupferfolie 1. Auf die Molybdänschicht 4 kann
schließlich in üblicher Weise ebenfalls galvanisch eine CIS-
Schicht 5 aufgebracht werden.
Nach dem in Fig. 2 dargestellten Beispiel wird wiederum eine
galvanisch abgeschiedene Kupferfolie 1 verwendet, auf die
galvanisch zunächst auch eine Nickelschicht 2 abgeschieden
wurde, hier allerdings nur mit einer Dicke von ca. 0,2 µm.
Erlaubt wird das durch den weiteren Schichtaufbau, nach dem
eine Schicht 6 aus Palladium oder Rhodium folgt. Palladium
und Rhodium stellen bessere Diffusionsbarrieren dar als Mo
lybdän, so daß die Nickelschicht 2 hier allein zur Haftver
mittlung benötigt wird. Schließlich folgt wieder die CIS-
Schicht in bekannter Weise.
In Fig. 3 ist eine dritte Variante gezeigt. Hierbei wurde
auf eine Kupferfolie 1 allein eine Nickel(20)-Palladium(80)-
Legierungsschicht 7 mittlerer Dicke aufgebracht, wie sie als
Standardprodukt in der Bandgalvanik zur Verfügung steht. Auf
diese wird dann die CIS-Schicht aufgetragen.
1
Kupferfolie
2
Nickelschicht
3
Nickelschicht
4
Molybdänschicht
5
CIS-Schicht
6
Schicht aus Palladium oder Rhodium
7
Nickel(
20
)-Palladium(
80
)-Legierungsschicht
Claims (6)
1. Verfahren zur Herstellung eines flexiblen metallischen
Substrats für eine CIS-Solarzelle,
gekennzeichnet dadurch, daß
auf eine bandförmige Kupferfolie galvanisch zunächst ei
ne Nickel- oder Nickel-Eisen-Schicht und nachfolgend Mo
lybdän, Rhodium oder Palladium aufgebracht wird.
2. Verfahren zur Herstellung eines flexiblen metallischen
Substrats für eine CIS-Zelle,
gekennzeichnet dadurch, daß
auf eine bandförmige Kupferfolie galvanisch eine Nickel-
Palladium-Legierung aufgebracht wird.
3. Verfahren zur Herstellung eines flexiblen metallischen
Substrats für eine CIS-Zelle,
gekennzeichnet dadurch, daß
auf eine bandförmige Kupferfolie galvanisch zunächst ei
ne Nickel-Eisen-Schicht und nachfolgend eine Nickel-
Palladium-Legierung aufgebracht wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
gekennzeichnet dadurch, daß
die Kupferfolie beim Herstellungsprozeß mit Auswölbungen
versehen wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1,
gekennzeichnet dadurch, daß
die Nickelschicht aus einem Nickelelektrolyt mit Nickel
bromiden abgeschieden wird.
6. CIS-Solarzelle mit einer CIS-Schicht, die auf ein fle
xibles metallisches Substrat aufgebracht ist,
gekennzeichnet dadurch, daß
das Substrat aus einem Schichtaufbau aus Nickel oder Ni
ckel-Eisen und Molybdän, Rhodium oder Palladium oder ei
ner Nickel-Palladium-Legierung oder aus Nickel-Eisen und
einer Schicht aus einer Nickel-Palladium-Legierung auf
einer bandförmigen Kupferfolie besteht, wobei der
Schichtaufbau galvanisch hergestellt ist.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10006823A DE10006823C2 (de) | 2000-02-08 | 2000-02-08 | Verfahren zur Herstellung eines flexiblen metallischen Substrats für eine CIS-Solarzelle und CIS-Solarzelle |
EP01911618A EP1261990A1 (de) | 2000-02-07 | 2001-02-07 | Flexibles metallisches substrat für cis-solarzellen und verfahren zu seiner herstellung |
PCT/EP2001/001313 WO2001057932A1 (de) | 2000-02-07 | 2001-02-07 | Flexibles metallisches substrat für cis-solarzellen und verfahren zu seiner herstellung |
AU2001240599A AU2001240599A1 (en) | 2000-02-07 | 2001-02-07 | Flexible metal substrate for cis solar cells, and method for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10006823A DE10006823C2 (de) | 2000-02-08 | 2000-02-08 | Verfahren zur Herstellung eines flexiblen metallischen Substrats für eine CIS-Solarzelle und CIS-Solarzelle |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10006823A1 DE10006823A1 (de) | 2001-08-16 |
DE10006823C2 true DE10006823C2 (de) | 2003-10-02 |
Family
ID=7631049
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10006823A Expired - Fee Related DE10006823C2 (de) | 2000-02-07 | 2000-02-08 | Verfahren zur Herstellung eines flexiblen metallischen Substrats für eine CIS-Solarzelle und CIS-Solarzelle |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE10006823C2 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012123109A2 (de) | 2011-03-15 | 2012-09-20 | Boraident Gmbh | Verfahren zum herstellen von flexiblen dünnschicht-solarzellen |
DE102012216026B4 (de) | 2011-09-26 | 2021-12-02 | International Business Machines Corporation | Verfahren zur Herstellung einer flexiblen Photovoltaik-Dünnschichtzelle mit einer Eisendiffusionsbarriereschicht und flexible Photovoltaik-Dünnschichtzelle mit einer Eisendiffusionsbarriereschicht |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10247856A1 (de) * | 2002-08-16 | 2004-02-26 | Daimlerchrysler Ag | Karosserieteil eines Fahrzeuges und Verfahren zur Herstellung eines solchen |
DE102004042306B4 (de) * | 2004-02-17 | 2007-10-04 | Pvflex Solar Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Substrates für flexible Dünnschicht-Solarzellen nach der CIS-Technologie |
US7913381B2 (en) | 2006-10-26 | 2011-03-29 | Carestream Health, Inc. | Metal substrate having electronic devices formed thereon |
JP4304638B2 (ja) | 2007-07-13 | 2009-07-29 | オムロン株式会社 | Cis系太陽電池及びその製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19634580A1 (de) * | 1996-08-27 | 1998-03-05 | Inst Solar Technologien | CIS-Bandsolarzelle - Verfahren und Vorrichtung zu ihrer Herstellung |
-
2000
- 2000-02-08 DE DE10006823A patent/DE10006823C2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19634580A1 (de) * | 1996-08-27 | 1998-03-05 | Inst Solar Technologien | CIS-Bandsolarzelle - Verfahren und Vorrichtung zu ihrer Herstellung |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
Galvanotechnik 84 (1983) Nr.8, S.2578-2584 * |
Metal Finishing, July 1991, S.43-52 * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012123109A2 (de) | 2011-03-15 | 2012-09-20 | Boraident Gmbh | Verfahren zum herstellen von flexiblen dünnschicht-solarzellen |
DE102011014795A1 (de) | 2011-03-15 | 2012-09-20 | Boraident Gmbh | Verfahren zum Herstellen von flexiblen Dünnschicht-Solarzellen |
DE102012216026B4 (de) | 2011-09-26 | 2021-12-02 | International Business Machines Corporation | Verfahren zur Herstellung einer flexiblen Photovoltaik-Dünnschichtzelle mit einer Eisendiffusionsbarriereschicht und flexible Photovoltaik-Dünnschichtzelle mit einer Eisendiffusionsbarriereschicht |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE10006823A1 (de) | 2001-08-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1261990A1 (de) | Flexibles metallisches substrat für cis-solarzellen und verfahren zu seiner herstellung | |
EP0922303B1 (de) | Cis-bandsolarzelle-verfahren und vorrichtung zu ihrer herstellung | |
DE4333407C1 (de) | Solarzelle mit einer Chalkopyritabsorberschicht | |
DE3382709T2 (de) | Fotovoltaischer Wandler. | |
DE112005000948B4 (de) | Solarzelle vom Chalcopyrit-Typ mit einem Glimmer enthaltenden isolierenden Substrat | |
DE3751113T2 (de) | Dauerhafte ohmische Kontakte für p-leitende, Tellur enthaltende II-VI-Halbleiterschichten. | |
EP0090403B1 (de) | Hochtransparenter, in Durch- und in Aussenansicht neutral wirkender, wärmedämmender Belag für ein Substrat aus transparentem Material | |
DE69910751T2 (de) | Herstellungsverfahren einer einen farbstoff enthaltenden solarzelle | |
DE4433097C2 (de) | Verfahren zum Herstellen einer lichtabsorbierenden Schicht einer Solarzelle | |
DE19921515A1 (de) | Dünnschichtsolarzelle auf der Basis der Ia/IIIb/VIa- Verbindungshalbleiter und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
EP0715358A2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Solarzelle mit Chalkopyrit-Absorberschicht und so hergestellte Solarzelle | |
DE3347489C2 (de) | ||
DE3312053C2 (de) | Verfahren zum Verhindern von Kurz- oder Nebenschlüssen in einer großflächigen Dünnschicht-Solarzelle | |
DE10006823C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines flexiblen metallischen Substrats für eine CIS-Solarzelle und CIS-Solarzelle | |
DE102012216026B4 (de) | Verfahren zur Herstellung einer flexiblen Photovoltaik-Dünnschichtzelle mit einer Eisendiffusionsbarriereschicht und flexible Photovoltaik-Dünnschichtzelle mit einer Eisendiffusionsbarriereschicht | |
DE3113130A1 (de) | Cadmiumsulfidphotoelement und verfahren zu seiner herstellung | |
DE112009002356T5 (de) | Dünnschicht-Solarzellenreihe | |
DE3317309A1 (de) | Duennschicht-solarzellenanordnung | |
DE2016211C3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung | |
EP3039718B1 (de) | Teiltransparente dünnschichtsolarmodule | |
WO2000062347A2 (de) | Solarzelle sowie verfahren zur herstellung einer solarzelle | |
DE3130857C2 (de) | Wärmedämmender Belag für ein Substrat aus transparentem Material, Verfahren zu dessen Herstellung und seine Verwendung | |
DE3382695T2 (de) | Fotovoltaischer wandler. | |
DE19611996C1 (de) | Solarzelle mit einer Chalkopyritabsorberschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE10005680B4 (de) | Trägermaterial für eine flexible, bandförmige CIS-Solarzelle |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8304 | Grant after examination procedure | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8381 | Inventor (new situation) |
Inventor name: KALBERLAH, KLAUS, DR., 12587 BERLIN, DE Inventor name: JACOBS, KLAUS, PROF., DR., 12559 BERLIN, DE Inventor name: HOFFMANN, THOMAS, DR., 12555 BERLIN, DE |
|
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: CIS SOLARTECHNIK GMBH & CO. KG, 27570 BREMERHAVEN, |
|
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |
Effective date: 20130903 |