EA030782B1 - Устройство и способ для изготовления объемного объекта посредством стереолитографии с повышенным пространственным разрешением - Google Patents

Устройство и способ для изготовления объемного объекта посредством стереолитографии с повышенным пространственным разрешением Download PDF

Info

Publication number
EA030782B1
EA030782B1 EA201591209A EA201591209A EA030782B1 EA 030782 B1 EA030782 B1 EA 030782B1 EA 201591209 A EA201591209 A EA 201591209A EA 201591209 A EA201591209 A EA 201591209A EA 030782 B1 EA030782 B1 EA 030782B1
Authority
EA
Eurasian Patent Office
Prior art keywords
projected image
along
mask
illuminated plane
movement
Prior art date
Application number
EA201591209A
Other languages
English (en)
Other versions
EA201591209A1 (ru
Inventor
Андре-Люк Алланик
Original Assignee
Продвэйс
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Продвэйс filed Critical Продвэйс
Publication of EA201591209A1 publication Critical patent/EA201591209A1/ru
Publication of EA030782B1 publication Critical patent/EA030782B1/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10—Processes of additive manufacturing
    • B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
    • B29C64/124—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
    • B29C64/129—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0035—Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0037—Production of three-dimensional images
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/22—Exposing sequentially with the same light pattern different positions of the same surface
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

Изобретение относится к способу изготовления объемного объекта посредством стереолитографии, содержащему проецирование проецируемого изображения на освещаемую плоскость 9 слоя материала, при этом перемещают маску 3 движением, имеющим составляющую 15 вдоль наклонной оси 16, образующей угол 17 с освещаемой плоскостью 9, и преобразуют движение маски 3, имеющее составляющую 15 вдоль наклонной оси 16, образующей угол 17 с освещаемой плоскостью 9, в перемещение проецируемого изображения 5 на освещаемой плоскости 9 вдоль первого направления 10 перемещения, лежащего в освещаемой плоскости 9, посредством зеркала 6, которое отражает к освещаемой плоскости 9 проецируемое изображение 5, исходящее от маски 3.

Description

Изобретение относится к способу изготовления объемного объекта посредством стереолитографии, содержащему проецирование проецируемого изображения на освещаемую плоскость 9 слоя материала, при этом перемещают маску 3 движением, имеющим составляющую 15 вдоль наклонной оси 16, образующей угол 17 с освещаемой плоскостью 9, и преобразуют движение маски 3, имеющее составляющую 15 вдоль наклонной оси 16, образующей угол 17 с освещаемой плоскостью 9, в перемещение проецируемого изображения 5 на освещаемой плоскости 9 вдоль первого направления 10 перемещения, лежащего в освещаемой плоскости 9, посредством зеркала 6, которое отражает к освещаемой плоскости 9 проецируемое изображение 5, исходящее от маски 3.
030782
Область техники
Настоящее изобретение относится к устройству для изготовления объемного объекта посредством стереолитографии. Изобретение также относится к осуществляемому этим устройством способу и к объекту, полученному посредством способа или устройства по изобретению.
Изобретение позволяет выполнять множество последовательных наложенных друг на друга литографий для получения объемного объекта. Таким образом, областью использования изобретения является, в частности, быстрое прототипирование и стереолитография,но не ограничивается этим.
Уровень техники
Уже известны способы изготовления объемных объектов (как правило, прототипов) путем наложения слоев, такие как стереолитография или наложение нитей (FDM-моделирование путем наложения расплавленной полимерной нити).
Принцип стереолитографии заключается в следующем:
1) проецируют по меньшей мере одно проецируемое изображение на фотореактивный слой, который отверждается на участке, освещаемом проецируемым изображением (проецируемое изображение, в общем, образует рисунок, полученный взаимодействием источника света и маской), затем
2) покрывают частично отвержденный слой новым фотореактивным слоем, затем
3) вновь проецируют по меньшей мере одно проецируемое изображение на этот новый фотореактивный слой,
причем этапы 2) и 3) повторяют столько раз, сколько необходимо для получения объемного объекта. Как правило, проецируемое изображение изменяют для каждого слоя. Так, например, для изготовления шара обеспечивают отверждение диска, диаметр которого увеличивается от первого слоя до среднего слоя, а затем уменьшается от среднего слоя до последнего слоя.
Эта технология позволяет изготавливать объемные объекты непосредственно из полимера, способного к световой полимеризации, без механической обработки. Отвержденное или подлежащее отверждению изображение в одном слое называется целевым изображением. Проецируемое изображение может быть намного меньше целевого изображения: в этом случае необходимо перемещать проецируемое изображение на различные участки слоя, изменяя проецируемое изображение.
Целью стереолитографии, такой как она представлена, например, в патентном документе ЕР 1344633 В1 или US 5247180, является улучшение пространственного разрешения. В настоящее время разрешение ограничивается длиной волны и оптическим качеством изображения, генерируемого маской и различными линзами.
Кроме того, в общем, желательно упростить конструкцию и функционирование устройств для выполнения литографии.
В патентном документе WO 95/15841 представлено устройство для литографии, содержащее, в частности, "активную" маску, которая может иметь вид бруска жидких кристаллов, который освещает ванну светочувствительного материала по всей ее ширине. Изображение, формируемое по всей ширине, может перемещаться в единственном направлении (направление F на фиг. 5).
В этом документе также упоминается возможность проецирования изображения маски на стекло, погруженное в ванну, заполненную жидкой смолой, при этом стекло поднимается по мере формирования объекта. В соответствии с этой возможностью маска и другие оптические элементы устройства соединены со стеклом и сопровождают вертикальное движение стекла.
Цель настоящего изобретения состоит в том, чтобы предложить способ или устройство для литографии трехмерного объекта с улучшенным разрешением.
Сущность изобретения
Эта цель достигается благодаря устройству для изготовления объемного объекта посредством литографии, содержащему:
приемное устройство, выполненное с возможностью приема в рабочий объем слоя материала, маску и источник излучения, выполненные с возможностью совместного создания проецируемого
изображения на выходе маски,
средства для проецирования проецируемого изображения на освещаемую плоскость в рабочем объеме, причем эти средства проецирования содержат средства для перемещения проецируемого изображения в освещаемой плоскости вдоль первого направления перемещения и средства для перемещения проецируемого изображения в освещаемой плоскости вдоль второго направления перемещения, отличающегося от первого направления и не наложенного на первое направление,
причем средства для перемещения проецируемого изображения вдоль первого направления перемещения содержат
средства для перемещения маски движением, содержащим составляющую вдоль наклонной оси, образующей угол с освещаемой плоскостью,
и предпочтительно средства (как правило - зеркало, расположенное так, чтобы отражать к освещаемой плоскости исходящее от маски проецируемое изображение) для преобразования движения маски, имеющего составляющую вдоль наклонной оси, образующей угол с освещаемой плоскостью, в перемещение проецируемого изображения на освещаемой плоскости вдоль первого направления перемещения,
- 1 030782
лежащего в освещаемой плоскости.
Предпочтительно средства для перемещения маски движением, содержащим составляющую вдоль наклонной оси, выполнены с возможностью перемещения маски вдоль наклонной оси.
Предпочтительно наклонная ось образует прямой угол с освещаемой плоскостью.
Устройство согласно изобретению может дополнительно содержать средства для динамического изменения проецируемого изображения синхронизированным образом с перемещением проецируемого изображения вдоль первого направления, содержащие средства для динамического изменения маски синхронизировано с движением маски, имеющим составляющую вдоль наклонной оси.
Зеркало может иметь отражающую поверхность, выполненную с возможностью отражения проецируемого изображения и наклоненную под углом 45±10° к освещаемой плоскости.
Предпочтительно средства для проецирования проецируемого изображения выполнены с возможностью проецировать изображение таким образом, чтобы между маской и зеркалом проецируемое изображение распространялось параллельно освещаемой плоскости.
Маска может быть не параллельна, а предпочтительно перпендикулярна освещаемой плоскости.
Средства для перемещения проецируемого изображения вдоль первого направления перемещения могут быть выполнены с возможностью перемещения проецируемого изображения в освещаемой плоскости последовательно вдоль множества параллельных линий, а средства для перемещения проецируемого изображения вдоль второго направления перемещения могут быть выполнены с возможностью перевода проецируемого изображения в конце каждой законченной линии к следующей линии, параллельной законченной линии, таким образом, что положение проецируемого изображения на освещаемой плоскости вдоль законченной линии граничит с положением проецируемого изображения на освещаемой плоскости вдоль следующей линии или частично наложено на него.
Предпочтительно средства для проецирования проецируемого изображения на освещаемую плоскость выполнены с возможностью проецирования проецируемого изображения на различные возможные освещаемые плоскости, параллельные друг другу и находящиеся в рабочем объеме.
Согласно другому аспекту изобретения предложен способ изготовления объемного объекта посредством литографии, включающий в себя следующее:
подают в рабочий объем слой светочувствительного материала, способного отверждаться под действием излучения,
создают посредством маски и источника излучения проецируемое изображение на выходе маски, проецируют проецируемое изображение на освещаемую плоскость слоя материала, перемещают проецируемое изображение в освещаемой плоскости вдоль первого направления перемещения и перемещают проецируемое изображение в освещаемой плоскости вдоль второго направления перемещения, отличающегося от первого направления и не наложенного на первое направление, причем эти два направления перемещения лежат в освещаемой плоскости,
при этом для перемещения проецируемого изображения вдоль первого направления перемещения перемещают маску движением, имеющим составляющую вдоль наклонной оси, образующей угол с
освещаемой плоскостью, и
преобразуют это движение маски, имеющее составляющую вдоль наклонной оси, образующей угол с освещаемой плоскостью, в перемещение проецируемого изображения на освещаемой плоскости вдоль первого направления перемещения, лежащего в освещаемой плоскости, как правило, посредством зеркала, которое отражает к освещаемой плоскости проецируемое изображение, исходящее от маски.
Для перемещения маски движением, имеющим составляющую вдоль наклонной оси, маску предпочтительно перемещают вдоль наклонной оси.
Предпочтительно наклонная ось образует прямой угол с освещаемой плоскостью.
Способ согласно изобретению может содержать в ходе перемещения вдоль первого направления динамическое изменение проецируемого изображения, синхронизированное с перемещением проецируемого изображения вдоль первого направления, причем это изменение изображения получают посредством динамического изменения маски, синхронизированного с ее движением, имеющим составляющую вдоль наклонной оси.
Зеркало может иметь отражающую поверхность, выполненную с возможностью отражения проецируемого изображения и наклоненную под углом 45±10° к освещаемой плоскости.
Между маской и зеркалом проецируемое изображение распространяется параллельно освещаемой плоскости.
Маска предпочтительно не параллельна и предпочтительно перпендикулярна освещаемой плоскости.
Можно перемещать проецируемое изображение в освещаемой плоскости вдоль первого направления перемещения последовательно вдоль множества параллельных линий; проецируемое изображение можно перемещать вдоль второго направления перемещения для перевода проецируемого изображения в конце каждой законченной линии к следующей линии, параллельной законченной линии, таким образом, что положение проецируемого изображения на освещаемой плоскости вдоль законченной линии грани- 2 030782
чит с положением проецируемого изображения на освещаемой плоскости вдоль следующей линии или частично наложено на него.
Предпочтительно шаги способа повторяют на множестве наложенных друг на друга слоев светочувствительного материала.
Согласно еще одному аспекту изобретения предложено объемное изделие или объект, полученный посредством (стерео)литографии посредством способа или устройства согласно изобретению.
Описание чертежей и вариантов осуществления изобретения
Другие преимущества и особенности изобретения будут ясны из подробного описания не имеющих ограничительного характера примеров осуществления со ссылками на прилагаемые чертежи, на которых: фиг. 1 изображает в аксонометрии первый вариант осуществления устройства согласно настоящему
изобретению с головкой в "верхнем" положении,
фиг. 2 изображает в аксонометрии часть устройства согласно изобретению по фиг. 1 с головкой в "нижнем" положении,
фиг. 3 изображает устройство по фиг. 1 на виде сбоку по оси А на фиг. 1 с головкой в "нижнем" положении,
фиг. 4 изображает устройство согласно изобретению по фиг. 1 на виде сбоку при наблюдении по оси А на фиг. 1 с головкой в "верхнем" положении,
фиг. 5 изображает устройство согласно изобретению по фиг. 1 на виде сзади при наблюдении по оси В на фиг. 1,
фиг. 6 схематично изображает на виде сбоку внутренность головки 12 устройства по фиг. 1 в первом варианте исполнения,
фиг. 7 схематично изображает на виде сбоку внутренность головки 12 устройства по фиг. 1 во втором варианте исполнения,
фиг. 8 изображает на виде сбоку устройство согласно изобретению во втором примере выполнения с головкой 12 в "нижнем" и в "верхнем" положении в двух различных моментах времени для иллюстрации перемещения головки.
Эти варианты осуществления не являются ограничительными. Возможны варианты, которые содержат только комбинацию раскрытых ниже признаков изобретения и не включают в себя другие раскрытые признаки (даже если эта комбинация выделена из фразы, содержащей другие признаки), если эта комбинация признаков достаточна для получения технического преимущества или для отличия изобретения от решений уровня техники. Эта комбинация содержит по меньшей мере один признак предпочтительно функционального характера без конструктивных деталей или только часть конструктивных деталей, если одной этой части достаточно для получения технического преимущества или для отличия изобретения от решений уровня техники.
Вначале со ссылками на фиг. 1-7 будет описан первый вариант осуществления устройства 1 согласно изобретению.
Устройство 1 является устройством для стереолитографии.
Устройство 1 предназначено для изготовления объемного объекта (такого как прототип) способом литографии множества наложенных друг на друга слоев.
Устройство 1 содержит приемное устройство 2, выполненное с возможностью приема в ходе работы слоя светочувствительного или фотореактивного материала, который способен отверждаться под действием отверждающего излучения.
Отверждающее излучение является электромагнитным излучением, как правило, видимым светом с длиной волны от 380 до 780 нм или предпочтительно ультрафиолетовым светом с длиной волны от 355 до 385 нм.
Светочувствительный материал не обязательно является жидкостью. Он может быть жидкостью, пастой, гелем или любым другим мягким материалом, способным отверждаться под действием отверждающего излучения. Так, например, в качестве светочувствительного материала можно использовать смолы, такие как смола Innovation Meditech.LED A/Pattern/Flex 70. Могут использоваться также пасты с металлическим или керамическим наполнителем, например, на основе материалов, разработанных в двухтысячных годах для способа OptoForm.
Приемное устройство 2 может быть емкостью (например, для жидкого светочувствительного материала), или лотком, или пластиной (например, для светочувствительного материала в виде геля или пасты), или даже решеткой (например, для светочувствительного материала в виде почти не текучей пасты).
Устройство 1 также содержит маску 3 и источник 4 отверждающего излучения.
Источник 4, как правило, связан с линзой 28 или с системой линз 28.
Как правило, источник 4 представляет собой силовой электролюминесцентный диод (ELD) под коммерческим наименованием Nichia NLBU21P02.
Маска 3 может, например, представлять собой
либо (фиг. 6) жидкокристаллический экран 3 а, образованный пикселями жидкого кристалла, причем каждый пиксель включен (прозрачен для отверждающего излучения) или выключен (непрозрачен для отверждающего излучения) в зависимости от состояния жидкого кристалла этого пикселя,
- 3 030782
либо (фиг. 7) микросхему (DLP, от англ. "Digital light processor" - цифровой оптический процессор, например, типа XGA или 1080р) 3b, образованную решеткой подвижных зеркал, причем каждое подвижное зеркало соответствует пикселю маски 3, включенному или выключенному в зависимости от положения подвижного зеркала.
Таким образом, маска 3 содержит пиксели. Маска 3 и источник 4 выполнены с возможностью совместного создания проецируемого изображения 5 на выходе маски 3
либо посредством отражения маской 3 (в примере с микросхемой DLP) отверждающего излучения, обеспечиваемого источником 4,
либо посредством передачи через маску 3 (в примере с жидкокристаллическим экраном) отверждающего излучения, обеспечиваемого источником 4,
причем включенное или выключенное состояние каждого из пикселей маски 3 соответствует пикселю проецируемого изображения 5, соответственно освещенного или неосвещенного отверждающим излучением.
Маска 3 и источник 4 сгруппированы внутри головки 12.
Головка 12 установлена внутри (металлической) рамы 29, как правило, прямоугольной формы.
Устройство 1 также содержит средства 6, 7, 8 для проецирования проецируемого изображения 5 сфокусированным образом на освещаемую плоскость 9 в рабочем объеме.
Средства 6, 7, 8 проецирования содержат средства 6, 7 для перемещения проецируемого изображения 5 в освещаемой плоскости 9 вдоль первого направления 10 перемещения. Кроме того, средства 6, 7, 8 проецирования содержат средства 8 для перемещения проецируемого изображения 5 в освещаемой плоскости 9 вдоль второго направления 11 перемещения.
Второе направление 11 перемещения отличается от первого направления 10 и не наложено на первое направление 10 (то есть не параллельно ему). Предпочтительно второе направление 11 перемещения перпендикулярно первому направлению 10. Два направления 10, 11 перемещения лежат в освещаемой плоскости 9.
Таким образом, проецируемое изображение 5, исходящее от головки 12, может быть перемещено в двух различных направлениях освещаемой плоскости 9. При этом, перемещая изображение 5 в двух направлениях, можно покрыть требуемую область плоскости 9.
Средства 8 для перемещения проецируемого изображения вдоль второго направления 11 перемещения, как правило, содержат одну или более (металлических) штанг 13, проходящих вдоль второго направления 11, и двигатель 14, предназначенный для перемещения маски 3 и источника 4 (точнее, головки 12, еще точнее - рамы 29) вдоль штанги или штанг 13, то есть вдоль второго направления 11. Двигатель 14 вызывает скольжение рамы 29 вдоль по меньшей мере одной штанги 13.
Средства 6, 7 для перемещения проецируемого изображения 5 вдоль первого направления 10 содержат
средства 7 для перемещения маски 3 движением, которое имеет составляющую 15 вдоль наклонной оси 16, образующей отличный от нуля угол 17 с освещаемой плоскостью 9,
зеркало 6, выполненное с возможностью отражения в сторону освещаемой плоскости 9 проецируемого изображения 5, выдаваемого маской 3, и преобразования таким образом движения маски 3, имеющего составляющую 15 вдоль наклонной оси 16, образующей угол 17 с освещаемой плоскостью 9, в перемещение проецируемого изображения 5 на освещаемой плоскости 9 вдоль первого направления 10 перемещения в освещаемой плоскости 9.
Иначе говоря
исходящее от маски 3 изображение 5 совершает наклонное движение с составляющей 15 относительно освещаемой плоскости 9 и
исходящее от маски 3 изображение 5 проецируется в направлении зеркала таким образом, что оно отражается в проецируемое изображение 5 в направлении освещаемой плоскости 9, вызывая перемещение проецируемого изображения 5 на освещаемой плоскости 9.
При этом данное перемещение получают в первом направлении 10.
Как правило, это первое направление 10 перемещения, лежащее в освещаемой плоскости 9, является направлением излучения света головкой 12. Как вариант, направление 10 может быть направлением плоскости 9, которое имеет составляющую в направлении излучения света головкой 12.
Предпочтительно перемещение маски 3 содержит перемещение маски 3 относительно зеркала 6, а средства 7 выполнены с возможностью перемещения маски 3 относительно зеркала 6.
Следует уточнить, что в данном контексте перемещение маски 3 равносильно перемещению головки 12, с которой соединена маска 3.
После выхода из маски 3 и до достижения освещаемой плоскости 9 проецируемое изображение 5 форматируется (калибруется, фокусируется и т.д.). В частности, после выхода из маски 3 и до достижения освещаемой плоскости 9 проецируемое изображение 5 проходит через множество линз внутри объектива 18, выполненного как одно целое с головкой 12, которые форматируют маску 3 (калибруют, фокусируют и т.д.).
Средства 7 для перемещения маски 3 движением, имеющим составляющую 15 вдоль наклонной оси
- 4 030782
16, выполнены с возможностью перемещения маски 3 вдоль наклонной оси 16, то есть без другой составляющей движения, кроме составляющей 15.
Средства 7 для перемещения маски 3 движением, имеющим составляющую 15 вдоль наклонной оси 16, содержат, например, двигатель 30, трансмиссию 31 (как правило, содержащую ременные передачи), по меньшей мере один (предпочтительно два) противовеса 32, 33 и штангу 34 (как правило, металлическую). Штанга 34 жестко соединена с рамой 29. Штанга 34 проходит продольно параллельно наклонной оси 16 или предпочтительно перпендикулярно освещаемой плоскости. Головка 12 установлена на штанге 34 и перемещается вдоль нее. Двигатель 30 предназначен для перемещения головки 12 вдоль штанги 34. Трансмиссия 31 выполнена таким образом, что при перемещении маски 3 или головки 12 в направлении вдоль оси 16 (вверх или вниз) она перемещает каждый противовес 32, 33 в противоположном направлении (соответственно вниз или вверх).
Как показано на фиг. 4, наклонная ось 16 образует прямой угол 17 с освещаемой плоскостью 9, то есть она перпендикулярна освещаемой плоскости 9.
Таким образом, согласно изобретению для перемещения проецируемого изображения 5 в освещаемую плоскость 9, которая горизонтальна, перемещают вертикально маску 3, а следовательно, и головку 12, которая является относительно тяжелой, то есть маску 3 и головку 12 перемещают вдоль линии их собственной тяжести. Это решение является более устойчивым механически и позволяет значительно улучшить пространственное разрешение литографии. Действительно, в уровне техники, когда головку и ее маску перемещают горизонтально вдоль горизонтальной штанги, штанга может прогибаться под действием веса головки, что может вызывать проблемы позиционирования головки и, следовательно, проецируемого изображения, проблемы повторяемости ориентации головки и проецируемого изображения и вследствие этого проблемы пространственного разрешения литографии каждого слоя.
Устройство 1 также содержит средства для изменения проецируемого изображения 5 в плоскости 9 синхронизировано с перемещением проецируемого изображения 5 вдоль первого направления 10 (по принципу, раскрытому в патентном документе ЕР 1344633), однако включая в данном конкретном примере осуществления средства для изменения маски 3 синхронизировано с движением маски 3, имеющим составляющую вдоль наклонной оси 16. Как правило, эти средства изменения содержат средства вычисления или управления, включающие в себя процессор, и/или аналоговую и/или цифровую схему, и/или центральный блок компьютера, и/или логические средства, выполненные с возможностью вычисления проецируемого изображения 5 (то есть определения, какие пиксели проецируемого изображения 5 должны быть освещены отверждающим излучением и с какой интенсивностью, которая может изменяться от одного пикселя до другого) в функции заданного изображения и действительного положения проецируемого изображения 5 в освещаемой плоскости 9 (то есть в функции положения головки 12 или маски 3 по длине оси 16).
Кроме того, средства вычисления и управления выполнены с возможностью управления всеми двигателями устройства 1.
Зеркало 6 имеет отражающую поверхность 19, которая предназначена для отражения проецируемого изображения 5 и наклонена под углом 20, равным 45±10° (предпочтительно ±1°) к освещаемой плоскости 9.
Предпочтительно зеркало 6 зафиксировано в первом направлении относительно освещаемой плоскости.
Средства 6, 7, 8 для проецирования проецируемого изображения 5 выполнены с возможностью проецирования изображения таким образом, что между маской 3 и зеркалом 6 проецируемое изображение 5 распространяется параллельно освещаемой плоскости 9.
Средства 6, 7, 8 для проецирования проецируемого изображения 5 выполнены с возможностью проецирования изображения таким образом, чтобы между зеркалом 6 и освещаемой плоскостью 9 проецируемое изображение распространялось перпендикулярно освещаемой плоскости 9.
Маска 3 выполнена плоской. Плоскость маски 3 (плоскость микросхемы (DLP) или жидкокристаллического экрана) не параллельна освещаемой плоскости 9 и образует с ней угол 21, предпочтительно перпендикулярна ей.
Средства 6, 7 для перемещения проецируемого изображения 5 вдоль первого направления 10 перемещения выполнены с возможностью перемещения проецируемого изображения 5 в плоскости 9 последовательно вдоль множества параллельных линий 22-24 (для того чтобы не перегружать чертежи, на них показаны только три линии).
Средства 8 для перемещения проецируемого изображения 5 вдоль второго направления 11 перемещения выполнены с возможностью перевода проецируемого изображения в плоскости 9 от конца каждой законченной линии 22 или 23 к следующей линии, соответственно 23 или 24, параллельной законченной линии, таким образом, что
положение 25 проецируемого изображения 5 на освещаемой плоскости 9 вдоль законченной линии 22 граничит с положением 26 проецируемого изображения 5 на освещаемой плоскости 9 вдоль следующей линии 23 (то есть кромка проецируемого изображения в его положении 25 вдоль линии 22 касается кромки проецируемого изображения 5 в его положении 26 вдоль следующей линии 23, но положение 25
- 5 030782
проецируемого изображения 5 на освещаемой плоскости 9 вдоль законченной линии 22 не накладывается на положение 26 проецируемого изображения 5 на освещаемой плоскости 9 вдоль следующей линии 23)
или положение 26 проецируемого изображения 5 на освещаемой плоскости 9 вдоль законченной линии 23 частично наложено на положение 27 проецируемого изображения 5 на освещаемой плоскости 9 вдоль следующей линии 24.
Для изготовления объемных объектов путем наложения множества слоев средства 6, 7, 8 для проецирования сфокусированного проецируемого изображения 5 на освещаемую плоскость 9 выполнены с возможностью проецирования проецируемого изображения 5 сфокусированным образом на различные возможные освещаемые плоскости 9, 9', 9", параллельные друг другу и находящиеся в рабочем объеме, как правило, посредством регулирования объектива 18.
Таким образом, согласно изобретению способ изготовления объемного объекта или изделия посредством литографии, выполняемый в устройстве 1, содержит следующие шаги:
a) подают в рабочий объем слой светочувствительного материала, способного отверждаться под действием отверждающего излучения;
b) посредством источника 4, излучающего отверждающее излучение, и маски 3, отражающей или передающей отверждающее излучение, излучаемое источником 4, создают проецируемое изображение 5 на выходе маски 3;
c) сфокусировано проецируют проецируемое изображение 5 на освещаемую плоскость 9 слоя материала;
d) перемещают проецируемое изображение 5 в плоскости 9 вдоль первого направления 10 перемещения посредством средств 6, 7, а затем, предпочтительно не одновременно, перемещают проецируемое изображение 5 в плоскости 9 вдоль второго направления 11 перемещения посредством средств 8.
Для перемещения проецируемого изображения 5 в плоскости 9 вдоль первого направления 10 перемещения
перемещают маску 3 движением, имеющим составляющую 15 вдоль наклонной оси 16, образующей угол 17 с освещаемой плоскостью, при этом между маской 3 и зеркалом 6 проецируемое изображение 5 распространяется параллельно освещаемой плоскости 9;
преобразуют это движение маски 3, имеющее составляющую 15 вдоль наклонной оси 16, в перемещение проецируемого изображения 5 на освещаемой плоскости 9 вдоль первого направления 10 перемещения посредством зеркала 6, которое отражает к освещаемой плоскости 9 проецируемое изображение 5, исходящее от маски 3; между зеркалом 6 и освещаемой плоскостью 9 проецируемое изображение 5 распространяется перпендикулярно освещаемой плоскости 9.
В ходе перемещения вдоль первого направления 10 проецируемое изображение 5 изменяют средствами вычисления и управления синхронизировано с перемещением проецируемого изображения 5 в плоскости 9 вдоль первого направления 10, причем изменение изображения 5 получают посредством изменения маски 3, синхронизированного с перемещением маски 3 в ее движении, имеющем составляющую 15 вдоль наклонной оси 16.
Таким образом, проецируемое изображение 5 перемещают в плоскости 9 в первом направлении 10 перемещения последовательно вдоль различных параллельных линий 22, 23, 24 и переводят проецируемое изображение 5 в плоскости 9 вдоль второго направления 11 перемещения для перевода проецируемого изображения 5 в конце каждой законченной линии 22, 23 к следующей линии 23, 24, параллельной законченной линии.
Шаги от а) до d) повторяют для множества наложенных друг на друга слоев светочувствительного материала для изготовления объемного объекта.
Далее со ссылкой на фиг. 8 будет раскрыт второй вариант осуществления устройства 100 согласно изобретению, но только в отношении отличий от первого примера выполнения устройства 1. В частности, признаки, общие номера позиций и способ реализации не будут повторно раскрываться полностью.
В устройстве 100 штанга 34 не проходит продольно, параллельно наклонной оси 16, а проходит перпендикулярно освещаемой плоскости 9.
В устройстве 100 ось 16, как и раньше, наклонена к освещаемой плоскости 9, то есть она не лежит в освещаемой плоскости 9 и не параллельна ей. В то же время ось 16 не перпендикулярна освещаемой плоскости 9.
На фиг. 8 показаны два положения маски 3 или головки 12:
первое положение 35 маски 3 или головки 12 (заштрихованное изображение головки 12) в начале движения маски 3, имеющего составляющую 15 вдоль наклонной оси 16, образующей угол 17 с освещаемой плоскостью 9, для перемещения изображения 5 в плоскости 9 вдоль линии 23 и
второе положение 36 маски 3 или головки 12 (не заштрихованное изображение головки 12) в конце движения маски 3, имеющего составляющую 15 вдоль наклонной оси 16, образующей угол 17 с освещаемой плоскостью 9, для перемещения изображения 5 в плоскости 9 вдоль той же линии 23.
Следует отметить, что средства 6, 7 для перемещения проецируемого изображения 5 в освещаемой плоскости 9 вдоль первого направления 10 перемещения выполнены с возможностью того, чтобы в один
- 6 030782
и тот же интервал времени расстояние 37, проходимое проецируемым изображением 5 в освещаемой плоскости 9 вдоль первого направления 10 перемещения, было больше расстояния 38, проходимого маской 3 (или головкой 12) вдоль первого направления 10 перемещения.
Следует отметить, что средства 7 для перемещения маски 3 движением, имеющим составляющую 15 вдоль наклонной оси 16, выполнены с возможностью того, чтобы это движение имело две перпендикулярные составляющие:
первую составляющую 39, перпендикулярную освещаемой плоскости 9, и
вторую составляющую 40, параллельную освещаемой плоскости, точнее, предпочтительно параллельную первому направлению 10 перемещения.
С этой целью в этом примере второго варианта осуществления рама 29 выполнена дополнительно с возможностью перемещения посредством двигателя вдоль по меньшей мере одной штанги 41, проходящей продольно вдоль первого направления 10 перемещения.
Кроме того, как и в первом варианте осуществления, также присутствуют преимущества улучшения стабильности, снижения вибрации, улучшения повторяемости позиционирования и улучшения разрешения литографии (некоторые из них в меньшей степени), поскольку маска 3 (или головка 12) также перемещается, по меньшей мере частично, (составляющая 39) вдоль вертикальной оси собственного веса для горизонтального перемещения изображения 5 в плоскости 9.
Очевидно, что изобретение не ограничивается описанными примерами и возможны многочисленные изменения этих примеров в рамках изобретения.
Само собой разумеется, что различные характеристики, формы, варианты и изменения выполнения изобретения могут сочетаться в различных комбинациях при условии, что они не являются несовместимыми или исключающими друг друга. В частности, все вышеописанные варианты и примеры выполнения могут комбинироваться друг с другом.

Claims (18)

  1. ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ
    1. Способ изготовления объемного объекта посредством стереолитографии, включающий в себя следующее:
    a) подают в рабочий объем слой светочувствительного материала, способного отверждаться под действием излучения,
    b) создают посредством маски 3 и источника 4 излучения проецируемое изображение 5 на выходе маски,
    c) проецируют проецируемое изображение на освещаемую плоскость 9 слоя материала,
    d) перемещают проецируемое изображение 5 в освещаемой плоскости 9 вдоль первого направления 10 перемещения и перемещают проецируемое изображение в освещаемой плоскости 9 вдоль второго направления 11 перемещения, отличающегося от первого направления и не наложенного на первое направление, причем эти два направления перемещения лежат в освещаемой плоскости 9,
    отличающийся тем, что для перемещения проецируемого изображения вдоль первого направления 10 перемещения
    перемещают маску 3 движением, имеющим составляющую 15 вдоль наклонной оси 16, образующей угол 17 с освещаемой плоскостью 9, причем указанная наклонная ось не лежит в освещаемой плоскости и не параллельна ей, и
    преобразуют это движение маски 3 с составляющей 15 вдоль наклонной оси 16, образующей угол 17 с освещаемой плоскостью 9, в перемещение проецируемого изображения 5 на освещаемой плоскости 9 вдоль первого направления 10 перемещения, лежащего в освещаемой плоскости 9, посредством зеркала 6, отражающего к освещаемой плоскости 9 проецируемое изображение 5, исходящее от маски 3, причем указанную маску перемещают относительно зеркала 6.
  2. 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что для перемещения маски 3 движением, имеющим составляющую 15 вдоль наклонной оси 16, маску 3 перемещают вдоль наклонной оси 16, не перпендикулярной освещаемой плоскости.
  3. 3. Способ по п.1, отличающийся тем, что маску 3 перемещают вдоль наклонной оси 16, причем наклонная ось 16 образует прямой угол с освещаемой плоскостью 9.
  4. 4. Способ по любому из пп.1-3, отличающийся тем, что содержит в ходе перемещения вдоль первого направления 10 динамическое изменение проецируемого изображения, синхронизированное с перемещением проецируемого изображения вдоль первого направления, причем это изменение изображения получают посредством динамического изменения маски, синхронизированного с перемещением маски, имеющим составляющую вдоль наклонной оси.
  5. 5. Способ по любому из пп.1-4, отличающийся тем, что зеркало 6 имеет отражающую поверхность 19, выполненную с возможностью отражения проецируемого изображения и наклоненную под углом 45±10° к освещаемой плоскости.
  6. 6. Способ по любому из пп.1-5, отличающийся тем, что между маской 3 и зеркалом 6 проецируемое изображение распространяют параллельно освещаемой плоскости 9.
    - 7 030782
  7. 7. Способ по любому из пп.1-6, отличающийся тем, что маска 3 не параллельна и предпочтительно перпендикулярна освещаемой плоскости 9.
  8. 8. Способ по любому из пп.1-7, отличающийся тем, что проецируемое изображение 5 перемещают в освещаемой плоскости 9 вдоль первого направления 10 перемещения последовательно вдоль множества параллельных линий 22, 23, 24 и проецируемое изображение перемещают вдоль второго направления 11 перемещения для перевода проецируемого изображения в конце каждой законченной линии к следующей линии, параллельной законченной линии, таким образом, что положение проецируемого изображения на освещаемой плоскости вдоль законченной линии граничит с положением проецируемого изображения на освещаемой плоскости вдоль следующей линии или частично наложено на него.
  9. 9. Способ по любому из пп.1-8, отличающийся тем, что эти шаги повторяют на множестве наложенных друг на друга слоев светочувствительного материала.
  10. 10. Устройство 1; 100 для изготовления объемного объекта посредством стереолитографии, содержащее
    приемное устройство 2, выполненное с возможностью приема в рабочий объем слоя материала, маску 3 и источник 4 излучения, выполненные с возможностью совместного создания проецируемого изображения 5 на выходе маски,
    средства 6, 7, 8 для проецирования проецируемого изображения на освещаемую плоскость 9 в рабочем объеме, причем эти средства проецирования содержат средства 6, 7 для перемещения проецируемого изображения в освещаемой плоскости вдоль первого направления 10 перемещения и средства 8 для перемещения проецируемого изображения в освещаемой плоскости вдоль второго направления 11 перемещения, отличающегося от первого направления и не наложенного на первое направление,
    отличающееся тем, что средства 6, 7 для перемещения проецируемого изображения вдоль первого направления 10 перемещения содержат
    средства 7 для перемещения маски движением, содержащим составляющую 15 вдоль наклонной оси 16, образующей угол 17 с освещаемой плоскостью 9, причем указанная наклонная ось не лежит в освещаемой плоскости и не параллельна ей,
    зеркало 6, выполненное с возможностью отражения к освещаемой плоскости 9 исходящего от маски 3 проецируемого изображения 5 и для преобразования движения маски 3, имеющего составляющую 15 вдоль наклонной оси 16, образующей угол 17 с освещаемой плоскостью 9, в перемещение проецируемого изображения 5 на освещаемой плоскости 9 вдоль первого направления 10 перемещения, лежащего в освещаемой плоскости 9,
    причем средства 7 для перемещения маски 3 выполнены с возможностью перемещения маски 3 относительно зеркала 6.
  11. 11. Устройство по п.10, отличающееся тем, что средства 7 для перемещения маски 3 движением, имеющим составляющую 15 вдоль наклонной оси 16, выполнены с возможностью перемещения маски 3 вдоль наклонной оси 16, не перпендикулярной освещаемой плоскости.
  12. 12. Устройство по п.10, отличающееся тем, что средства 7 для перемещения маски движением, содержащим составляющую 15 вдоль наклонной оси 16, выполнены с возможностью перемещения маски 3 вдоль наклонной оси 16, причем наклонная ось 16 образует прямой угол с освещаемой плоскостью 9.
  13. 13. Устройство по любому из пп.10-12, отличающееся тем, что дополнительно содержит средства для динамического изменения проецируемого изображения синхронизировано с перемещением проецируемого изображения 5 вдоль первого направления 10, содержащие средства для динамического изменения маски 3 синхронизировано с движением маски, имеющим составляющую 15 вдоль наклонной оси 16.
  14. 14. Устройство по любому из пп.10-13, отличающееся тем, что зеркало 6 имеет отражающую поверхность 19, выполненную с возможностью отражения проецируемого изображения и наклоненную под углом 45±10° к освещаемой плоскости 9.
  15. 15. Устройство по любому из пп.10-14, отличающееся тем, что средства 6, 7, 8 для проецирования проецируемого изображения выполнены с возможностью проецировать изображение таким образом, чтобы между маской 3 и зеркалом 6 проецируемое изображение 5 распространялось параллельно освещаемой плоскости 9.
  16. 16. Устройство по любому из пп.10-15, отличающееся тем, что маска 3 не параллельна и предпочтительно перпендикулярна освещаемой плоскости 9.
  17. 17. Устройство по любому из пп.10-16, отличающееся тем, что средства 6, 7 для перемещения проецируемого изображения 5 вдоль первого направления 10 перемещения выполнены с возможностью перемещения проецируемого изображения 5 в освещаемой плоскости 9 последовательно вдоль множества параллельных линий 22, 23, 24, а средства 8 для перемещения проецируемого изображения вдоль второго направления перемещения выполнены с возможностью перевода проецируемого изображения в конце каждой законченной линии к следующей линии, параллельной законченной линии, таким образом, что положение проецируемого изображения на освещаемой плоскости вдоль законченной линии граничит с положением проецируемого изображения на освещаемой плоскости вдоль следующей линии или частично наложено на него.
  18. 18. Устройство по любому из пп.10-17, отличающееся тем, что средства 6, 7, 8 для проецирования
    - 8 030782
    проецируемого изображения на освещаемую плоскость выполнены с возможностью проецирования проецируемого изображения на различные возможные освещаемые плоскости 9, 9', 9", параллельные друг другу и находящиеся в рабочем объеме.
EA201591209A 2013-01-09 2014-01-09 Устройство и способ для изготовления объемного объекта посредством стереолитографии с повышенным пространственным разрешением EA030782B1 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1350177A FR3000698B1 (fr) 2013-01-09 2013-01-09 Fabrication d'un objet en volume par lithographie, a resolution spatiale amelioree
PCT/EP2014/050326 WO2014108473A1 (fr) 2013-01-09 2014-01-09 Fabrication d'un objet en volume par lithographie, a resolution spatiale amelioree

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EA201591209A1 EA201591209A1 (ru) 2015-12-30
EA030782B1 true EA030782B1 (ru) 2018-09-28

Family

ID=47833292

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EA201591209A EA030782B1 (ru) 2013-01-09 2014-01-09 Устройство и способ для изготовления объемного объекта посредством стереолитографии с повышенным пространственным разрешением

Country Status (13)

Country Link
US (1) US9632420B2 (ru)
EP (1) EP2943329B1 (ru)
KR (1) KR102217967B1 (ru)
CN (1) CN104981339B (ru)
BR (1) BR112015016385A2 (ru)
CA (1) CA2897119A1 (ru)
EA (1) EA030782B1 (ru)
FR (1) FR3000698B1 (ru)
HK (1) HK1211540A1 (ru)
IL (1) IL239835A0 (ru)
MX (1) MX2015008589A (ru)
SG (1) SG11201505400VA (ru)
WO (1) WO2014108473A1 (ru)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10792868B2 (en) 2015-09-09 2020-10-06 Carbon, Inc. Method and apparatus for three-dimensional fabrication
US10151960B2 (en) 2015-09-25 2018-12-11 Microsoft Technology Licensing, Llc Backlight assembly with tunable grating layer for local dimming
US10543645B2 (en) * 2017-09-15 2020-01-28 The Boeing Company Feedstock lines for additive manufacturing of an object
US11351724B2 (en) 2017-10-03 2022-06-07 General Electric Company Selective sintering additive manufacturing method
US11420384B2 (en) 2017-10-03 2022-08-23 General Electric Company Selective curing additive manufacturing method
US11590691B2 (en) 2017-11-02 2023-02-28 General Electric Company Plate-based additive manufacturing apparatus and method
US20190129308A1 (en) 2017-11-02 2019-05-02 Taiwan Green Point Enterprises Co., Ltd. Digital masking system, pattern imaging apparatus and digital masking method
US11254052B2 (en) 2017-11-02 2022-02-22 General Electric Company Vatless additive manufacturing apparatus and method
US10821668B2 (en) 2018-01-26 2020-11-03 General Electric Company Method for producing a component layer-by- layer
US10821669B2 (en) 2018-01-26 2020-11-03 General Electric Company Method for producing a component layer-by-layer
US11794412B2 (en) 2019-02-20 2023-10-24 General Electric Company Method and apparatus for layer thickness control in additive manufacturing
US11498283B2 (en) 2019-02-20 2022-11-15 General Electric Company Method and apparatus for build thickness control in additive manufacturing
US11254053B2 (en) 2019-02-28 2022-02-22 3D Systems, Inc. High resolution three-dimensional printing system
US11179891B2 (en) 2019-03-15 2021-11-23 General Electric Company Method and apparatus for additive manufacturing with shared components
US11951679B2 (en) 2021-06-16 2024-04-09 General Electric Company Additive manufacturing system
US11731367B2 (en) 2021-06-23 2023-08-22 General Electric Company Drive system for additive manufacturing
US11958250B2 (en) 2021-06-24 2024-04-16 General Electric Company Reclamation system for additive manufacturing
US11958249B2 (en) 2021-06-24 2024-04-16 General Electric Company Reclamation system for additive manufacturing
US11826950B2 (en) 2021-07-09 2023-11-28 General Electric Company Resin management system for additive manufacturing
US11813799B2 (en) 2021-09-01 2023-11-14 General Electric Company Control systems and methods for additive manufacturing

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995015841A1 (fr) * 1992-06-05 1995-06-15 Finab Limited Machine de fabrication d'objets par photopolymerisation selective de liquides ou poudres par couches

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5994419A (ja) * 1982-11-19 1984-05-31 Canon Inc 分割焼付け装置におけるアライメント方法
US5133987A (en) * 1989-10-27 1992-07-28 3D Systems, Inc. Stereolithographic apparatus and method
JPH04305438A (ja) * 1991-04-02 1992-10-28 Sanyo Electric Co Ltd 光学的立体造形方法
US5247180A (en) 1991-12-30 1993-09-21 Texas Instruments Incorporated Stereolithographic apparatus and method of use
JPH07290578A (ja) * 1994-04-26 1995-11-07 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 光造形装置
JPH08281810A (ja) * 1995-04-18 1996-10-29 New Kurieishiyon:Kk 光造形装置
JPH09213623A (ja) * 1996-02-02 1997-08-15 Canon Inc 走査露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
US7088432B2 (en) * 2000-09-27 2006-08-08 The Regents Of The University Of California Dynamic mask projection stereo micro lithography
JP3792168B2 (ja) * 2002-03-12 2006-07-05 ナブテスコ株式会社 光学的立体造形方法および装置
JP2005268439A (ja) * 2004-03-17 2005-09-29 Tadahiro Omi 等倍ｘ線露光方法及び等倍ｘ線露光装置
US20060147845A1 (en) 2005-01-05 2006-07-06 Flanigan Kyle Y Electrically reconfigurable photolithography mask for semiconductor and micromechanical substrates
JP4713223B2 (ja) * 2005-05-26 2011-06-29 芝浦メカトロニクス株式会社 パターン転写装置及び転写方法
JP2008225417A (ja) * 2007-03-16 2008-09-25 Fujitsu Ltd 構造体の製造方法
JP5234315B2 (ja) * 2007-12-03 2013-07-10 ソニー株式会社 光造形装置および光造形方法
JP5234319B2 (ja) * 2008-01-21 2013-07-10 ソニー株式会社 光造形装置および光造形方法
IT1403482B1 (it) * 2011-01-18 2013-10-17 Dws Srl Metodo per la produzione di un oggetto tridimensionale e macchina stereolitografica impiegante tale metodo

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995015841A1 (fr) * 1992-06-05 1995-06-15 Finab Limited Machine de fabrication d'objets par photopolymerisation selective de liquides ou poudres par couches

Also Published As

Publication number Publication date
FR3000698A1 (fr) 2014-07-11
WO2014108473A1 (fr) 2014-07-17
SG11201505400VA (en) 2015-08-28
FR3000698B1 (fr) 2015-02-06
EA201591209A1 (ru) 2015-12-30
BR112015016385A2 (pt) 2017-07-11
EP2943329B1 (fr) 2018-05-16
IL239835A0 (en) 2015-08-31
US20150355553A1 (en) 2015-12-10
KR20150118105A (ko) 2015-10-21
CN104981339B (zh) 2017-10-27
EP2943329A1 (fr) 2015-11-18
MX2015008589A (es) 2016-01-15
CA2897119A1 (fr) 2014-07-17
US9632420B2 (en) 2017-04-25
HK1211540A1 (en) 2016-05-27
CN104981339A (zh) 2015-10-14
KR102217967B1 (ko) 2021-02-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EA030782B1 (ru) Устройство и способ для изготовления объемного объекта посредством стереолитографии с повышенным пространственным разрешением
TWI584045B (zh) 成像位移模組
JP5267174B2 (ja) 光造形装置及び造形ベース
US20150290876A1 (en) Stereolithographic apparatus and method
US11897190B2 (en) 3D printing of an intraocular lens having smooth, curved surfaces
GB2559492A (en) Enhanced digital light processing mask projection stereolithography method and apparatus
CN104093547A (zh) 3d打印系统
CN107932910B (zh) 基于双路入射光的投影式光固化成形装置
JP2010089364A (ja) 三次元造形装置
JP2009113294A (ja) 光造形装置及び光造形方法
CN217862803U (zh) 一种3d打印机
US20190111624A1 (en) Three-dimensioanl printing apparatus
CN113059796B (zh) 3d打印设备的标定机构、方法、系统及存储介质
CN113119458B (zh) 3d打印设备的标定系统、方法及3d打印设备
CN112693113A (zh) 一种基于投影三维重建的快速增材制造系统
CN207028186U (zh) 一种单次打印面积加倍的微投影光固化打印装置
KR101918979B1 (ko) 디엘피 프로젝터 및 레이저 스캐너를 병용하는 3차원 프린팅 장치
JP2010262000A (ja) 描画装置
CN114228153B (zh) 双激光头标定方法
JP4503404B2 (ja) 光造形装置及び光造形方法
CN112026174B (zh) 一种使用dmd动态曝光提高3d打印精度的装置及方法
KR102443272B1 (ko) 특정 경로를 따른 중복 광조사를 이용하는 3d 프린터 및 3d 프린팅 방법
JP7576687B2 (ja) 光造形装置及び製造方法
CN210336908U (zh) 一种光固化3d打印系统
JP2005053024A (ja) ３次元積層造形装置及び３次元積層造形方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s)

Designated state(s): AM AZ BY KZ KG TJ TM RU