EA029723B1 - Подложка, покрытая низкоэмиссионным набором слоев - Google Patents

Подложка, покрытая низкоэмиссионным набором слоев Download PDF

Info

Publication number
EA029723B1
EA029723B1 EA201591585A EA201591585A EA029723B1 EA 029723 B1 EA029723 B1 EA 029723B1 EA 201591585 A EA201591585 A EA 201591585A EA 201591585 A EA201591585 A EA 201591585A EA 029723 B1 EA029723 B1 EA 029723B1
Authority
EA
Eurasian Patent Office
Prior art keywords
layer
layers
substrate
oxide
glazing
Prior art date
Application number
EA201591585A
Other languages
English (en)
Other versions
EA201591585A1 (ru
Inventor
Жюльетт Стерншус
Ян Хаген
Original Assignee
Сэн-Гобэн Гласс Франс
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Сэн-Гобэн Гласс Франс filed Critical Сэн-Гобэн Гласс Франс
Publication of EA201591585A1 publication Critical patent/EA201591585A1/ru
Publication of EA029723B1 publication Critical patent/EA029723B1/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
    • B32B17/10165—Functional features of the laminated safety glass or glazing
    • B32B17/10174—Coatings of a metallic or dielectric material on a constituent layer of glass or polymer
    • B32B17/10201—Dielectric coatings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
    • B32B17/1055—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer
    • B32B17/10761—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer containing vinyl acetal
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
    • B32B17/1055—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer
    • B32B17/1077—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer containing polyurethane
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00—Re-forming shaped glass
    • C03B23/02—Re-forming glass sheets
    • C03B23/023—Re-forming glass sheets by bending
    • C03B23/0235—Re-forming glass sheets by bending involving applying local or additional heating, cooling or insulating means
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B25/00—Annealing glass products
    • C03B25/02—Annealing glass products in a discontinuous way
    • C03B25/025—Glass sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B27/00—Tempering or quenching glass products
    • C03B27/012—Tempering or quenching glass products by heat treatment, e.g. for crystallisation; Heat treatment of glass products before tempering by cooling
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
    • C03C17/3435—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58—After-treatment
    • C23C14/5806—Thermal treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58—After-treatment
    • C23C14/5806—Thermal treatment
    • C23C14/5813—Thermal treatment using lasers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/90—Other aspects of coatings
    • C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/90—Other aspects of coatings
    • C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
    • C03C2217/948—Layers comprising indium tin oxide [ITO]
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
    • C03C2218/156—Deposition methods from the vapour phase by sputtering by magnetron sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/32—After-treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)

Abstract

Объектом настоящего изобретения является материал, содержащий подложку (1), покрытую по меньшей мере на части по меньшей мере одной из ее сторон набором тонких слоев, содержащим по меньшей мере два слоя на основе прозрачного электропроводящего оксида (2, 3), разделенных по меньшей мере одним промежуточным диэлектрическим слоем (4), физическая толщина которого составляет самое большее 50 нм, причем никакой металлический слой не расположен между упомянутыми слоями на основе прозрачного электропроводящего оксида (2, 3), упомянутый набор содержит, кроме того, по меньшей мере один барьерный для кислорода слой (6) выше слоя на основе прозрачного электропроводящего оксида (2), наиболее удаленного от подложки (1), каждый слой на основе прозрачного электропроводящего оксида (2, 3) обладает физической толщиной, заключенной в диапазоне от 20 до 80 нм.

Description

Изобретение относится к области материалов для остекления, содержащих подложку, покрытую по меньшей мере на одной из ее сторон набором тонких слоев, придающим свойства низкой эмиссионной способности.
Низкоэмиссионные покрытия, нанесенные на подложки, в частности из стекла, обладают свойствами отражения инфракрасного излучения и, следовательно, тепла, полезными в большом числе применений.
В случае остеклений, которыми оснащают наземные, в частности автомобильные, транспортные средства, железнодорожные транспортные средства или же воздушные или морские транспортные средства, низкоэмиссионные остекления позволяют в теплое время отражать во внешнюю среду часть солнечного излучения и, следовательно, ограничивать нагревание кабины вышеуказанных транспортных средств, и, в известных случаях, уменьшать издержки на кондиционирование воздуха. И наоборот, в холодное время эти остекления позволяют сохранять тепло внутри кабины и, следовательно, уменьшать затраты энергии на нагрев. То же самое имеет место в случае остеклений, которыми оснащают сооружения.
Свойства низкой эмиссионной способности также полезны для придания остеклениям антиконденсационных свойств. Остекления с очень незначительным коэффициентом теплопередачи действительно склонны к возникновению конденсации воды на их наружной поверхности в форме запотевания или покрытия инеем. При ясном небе в течение ночи излучательный теплообмен с небом вызывает снижение температуры, которое недостаточно компенсируется притоком тепла, проистекающим изнутри жилого помещения. Когда температура наружной поверхности остекления проходит ниже точки росы, вода конденсируется на вышеуказанной поверхности, затрудняя утром видимость через остекление, иногда в течение нескольких часов.
Низкоэмиссионные покрытия могут быть также нанесены на подложки из стекла, используемые в противопожарных остеклениях, дверцах печей, или, в противоположность, дверцах или камерах холодильников или морозильников, чтобы ограничить теплопередачу через остекление или дверцу. Речь идет, в случае обеспечения спокойствия людей, об ограничении повышения температуры со стороны остекления или двери, противоположной источнику тепла, в другом случае, о снижении энергетических затрат.
В случае этих различных применений известно использование наборов тонких слоев, содержащих слой из прозрачного электропроводящего оксида, часто называемого ТСО ("прозрачный электропроводящий оксид"). Эти электропроводящие и тем не менее прозрачные слои в самом деле обладают низкими эмиссионными способностями, коррелирующимися с незначительными удельными объемными или поверхностными сопротивлениями.
Изобретение относится к улучшению этого типа наборов, в особенности, их прочности на изгиб и/или стойкости при гибке. Другие преимущества изобретения будут представлены в продолжении данного текста.
С этой целью объектом изобретения является материал для остекления, содержащий подложку, покрытую по меньшей мере на части по меньшей мере одной из ее сторон набором тонких слоев, содержащим по меньшей мере два слоя на основе прозрачного электропроводящего оксида, разделенных по меньшей мере одним промежуточным диэлектрическим слоем, физическая толщина которого составляет самое большее 50 нм, в частности 30 нм или даже 20 нм, причем никакой металлический слой не расположен между упомянутыми слоями на основе прозрачного электропроводящего оксида, упомянутый набор дополнительно содержит по меньшей мере один барьерный для кислорода слой выше слоя на основе прозрачного электропроводящего оксида, наиболее удаленного от подложки, каждый слой на основе прозрачного электропроводящего оксида обладает физической толщиной, заключенной в диапазоне от 20 до 80 нм.
Предпочтительно подложка покрыта только на одной из ее сторон таким набором.
Под выражениями "ниже" или "под", определяющими относительное положение первого слоя по отношению ко второму в наборе, понимают, что первый слой является более близким к подложке, чем второй слой. Под выражениями "выше" или "на", определяющими относительное положение первого слоя по отношению ко второму в наборе, понимают, что первый слой является более удаленным от подложки, чем второй слой. Эти выражения не означают непременно, что два слоя находятся в контакте, что, однако, не исключено и даже иногда предпочтительно, как будет видно в продолжение данного текста.
Под выражением "на основе" понимают, в частности, что слой включает по меньшей мере 80%, даже 90% и даже 95% по массе рассматриваемого соединения. Слой даже может быть преимущественно образован или по существу образован таким соединением.
Набор содержит по меньшей мере два тонких слоя на основе прозрачного электропроводящего оксида (ТСО). Количество слоев на основе ТСО предпочтительно заключено в диапазоне от 2 до 5, в частности от 2 до 4. Предпочтительно это количество составляет 2 или 3, преимущественно 2.
Под выражением "на основе" понимают в частности, что каждый слой на основе ТСО содержит по меньшей мере 80, даже 90 и даже 95 мас.% такого оксида. Каждый слой на основе ТСО даже преимуще- 1 029723
ственно образован из такого оксида.
Преимущественно, каждый слой ТСО набора является слоем на основе или образованным из одного и того же ТСО, что позволяет упрощать условия нанесения покрытия. Альтернативно, слои ТСО могут быть различной природы. Таким образом, набор предпочтительно содержит точно два слоя из одного и того же ТСО.
Предпочтительно каждый прозрачный электропроводящий оксид выбран среди смешанного оксида олова и индия (1ТО), смешанного оксида индия и цинка (ΙΖΟ), оксида цинка, легированного галлием или алюминием (Л2О), оксида титана, легированного ниобием, станната кадмия или цинка, оксида олова, легированного фтором и/или сурьмой.
В случае оксида цинка, легированного алюминием, степень легирования (т.е. масса оксида алюминия, отнесенная к общей массе) предпочтительно составляет ниже 3%. В случае галлия степень легирования может быть более высокой, типично от 5 до 6%. Для слоев на основе оксида олова, легированного фтором, атомное процентное содержание фтора предпочтительно составляет самое большее 5%, обычно 1-2%.
Показатель преломления слоя на основе ТСО для длины волны 550 нм предпочтительно заключен в диапазоне от 1,7 до 2,5.
Согласно предпочтительному варианту каждый слой на основе ТСО представляет собой слой на основе 1ТО и даже слой из 1ТО. Согласно особенно предпочтительному варианту набор содержит точно два слоя из 1ТО. Атомное процентное содержание δη преимущественно заключено в диапазоне от 5 до 70%, в частности от 10 до 60%. 1ТО обладает хорошей климатической долговечностью, превосходной коррозионной стойкостью и также особенно ценен из-за его повышенной электропроводности, позволяющей использовать незначительную толщину для получения одного и того же уровня эмиссионной способности, что позволяет минимизировать потерю солнечного фактора. Легко наносимые способом катодного распыления, в частности с использованием магнитного поля, называемым "магнетронным способом", эти слои характеризуются меньшей шероховатостью и, следовательно, меньшим загрязнением. Во время изготовления, транспортирования остеклений и ухода за ними более шероховатые слои на самом деле имеют тенденцию к улавливанию различных отходов, которые являются особенно трудно удаляемыми.
Каждый слой на основе прозрачного электропроводящего оксида имеет физическую толщину в диапазоне от 20 до 80 нм, в частности от 30 до 80 нм. Суммарная физическая толщина всех слоев на основе прозрачного электропроводящего оксида предпочтительно заключена в диапазоне от 40 до 400 нм, в частности от 60 до 300 нм. Когда речь идет о слоях на основе 1ТО или образованных из 1ТО и, в частности, когда набор содержит точно два этих слоя, суммарная физическая толщина всех слоев на основе 1ТО или образованных из 1ТО предпочтительно заключена в диапазоне от 40 до 200 нм, в частности от 60 до 160 нм.
Физическая толщина каждого слоя ТСО может быть идентичной или различной.
Авторы изобретения обнаружили, что эмиссионная способность набора слоев может быть непосредственно регулируемой за счет выбора суммарной физической толщины всех слоев ТСО. Неожиданно, несмотря на наличие по меньшей мере одного промежуточного слоя, эмиссионная способность набора из η (в частности, 2) слоев ТСО эквивалентна эмиссионной способности набора, содержащего один слой такого же ТСО, но толщина которого будет равной суммарной толщине η слоев. Следовательно, например, можно получать одну и ту же эмиссионную способность (или поверхностное сопротивление), заменяя единственный слой ТСО (в частности, 1ТО) физической толщиной в 100 нм двумя слоями из того же самого ТСО, имеющими, каждый, физическую толщину 50 нм, разделенными по меньшей мере одним промежуточным слоем. Взамен, свойства прочности на изгиб и/или стойкости при гибке являются четко улучшенными за счет такого выбора, как показано ниже. Кроме того, этот выбор придает некоторую гибкость в отношении концепции и промышленного изготовления набора, причем каждый из слоев ТСО может быть скорректирован независимо друг от друга. Например, первый слой ТСО, наиболее близкий к подложке, может быть нанесен так, чтобы быть более окисленным и, следовательно, более проводящим, чем второй, причем этот последний, взамен, является более прочным, так как менее защищен.
Суммарная физическая толщина слоев ТСО, следовательно, выбирается в зависимости от желательной или фиксированной эмиссионной способности при применении. Под термином "эмиссионная способность" понимают стандартную эмиссионную способность при 283 К в смысле стандарта ΕΝ 12898. Эмиссионная способность набора предпочтительно составляет самое большее 0,4 или 0,3, в частности 0,25 и даже 0,2.
В случае автомобильных остеклений (ветровое стекло, крыши, боковые окна, заднее стекло), целевая эмиссионная способность составляет предпочтительно самое большее 0,25, в частности 0,2 и даже 0,15 или 0,1.
В случае антиконденсационных остеклений, для заданной характеристики антиконденсации, искомая эмиссионная способность зависит от различных факторов, в том числе от наклона остекления и его коэффициента теплопередачи Ид. Типично, для наклонного и/или с незначительным коэффициентом
- 2 029723
теплопередачи остекления будет требоваться более низкая эмиссионная способность и, следовательно, более высокая суммарная толщина. Когда остекление предназначено быть расположенным в вертикальном положении, эмиссионная способность предпочтительно составляет самое большее 0,4, даже 0,3. Суммарная физическая толщина тогда обычно будет составлять по меньшей мере 60 нм, часто самое большее 120 нм. Когда остекление предназначено находиться в наклонном положении, например, при его применениях для крыши, или когда коэффициент теплопередачи Ид ниже или равен 1 Вт/(м2-К), даже 0,6 Вт/(м2-К), эмиссионная способность предпочтительно составляет самое большее 0,3, даже 0,2 и даже 0,18. Суммарная физическая толщина будет предпочтительно составлять по меньшей мере 60 нм, даже 70 нм или 100 нм и самое большее 200 нм.
Согласно изобретению набор содержит по меньшей мере два слоя на основе прозрачного электропроводящего оксида, разделенных по меньшей мере одним промежуточным диэлектрическим слоем.
Наличие металлов между слоями ТСО исключено, так как металлический слой придает набору плохие свойства в отношении коррозионной стойкости, а также незначительной стойкости при гибке или к резкому охлаждению и уменьшает светопропускание. Таким образом, набор в своей совокупности обычно не включает металлических слоев.
Под использованием термина "разделенные" понимают, что промежуточный слой расположен между двумя слоями ТСО, причем промежуточный слой необязательно находится в контакте с одним из слоев ТСО.
Количество промежуточных слоев, разделяющих слои на основе ТСО, изменяется предпочтительно от 1 до 5, в частности от 1 до 3 или составляет 1 или 2. Преимущественно, набор тонких слоев содержит по меньшей мере два слоя (в частности, два слоя) на основе прозрачного электропроводящего оксида, разделенных самое большее двумя промежуточными слоями, в частности одним промежуточным слоем.
Предпочтительно слои на основе ТСО разделены попарно одним промежуточным слоем, находящимся в контакте с двумя слоями на основе ТСО, которые его окружают. Когда набор содержит точно два слоя на основе ТСО, тогда набор содержит последовательность типа ТСО/промежуточный слой/ТСО, в частности 1ТО/промежуточный слой/1ТО.
Промежуточный диэлектрический слой или каждый промежуточный диэлектрический слой предпочтительно является слоем на основе соединения, выбираемого среди оксидов, нитридов или оксинитридов кремния, алюминия, титана, олова, цинка, циркония, ниобия, никеля, хрома или одной из их смесей. Он, предпочтительно, по существу образован из такого соединения, даже образован из такого соединения.
Более конкретно, промежуточный диэлектрический слой или каждый промежуточный диэлектрический слой, предпочтительно, по существу образован из соединения, выбираемого среди оксида, нитрида или оксинитрида кремния и/или алюминия, нитрида или оксида титана, оксида никеля и хрома, нитрида ниобия, оксида олова и цинка. Предпочтительным образом, промежуточный диэлектрический слой или каждый промежуточный диэлектрический слой выполнен на основе (или по существу образован из) оксида кремния, нитрида кремния, оксида титана, оксида олова и цинка. Оксид или нитрид кремния является особенно предпочтительным. Нитрид кремния или оксид олова и цинка являются особенно подходящими, так как их показатель преломления близок к показателю преломления 1ТО, так что их наличие не нарушает оптических свойств набора. Предпочтительно, показатель преломления на длине волны 550 нм промежуточного слоя или каждого промежуточного слоя (в частности, единственного промежуточного слоя) составляет по меньшей мере 1,8, в частности 1,9, преимущественно заключен в диапазон от 1,8 до 2,5, в частности от 1,9 до 2,2.
Эти названия не предполагают реальной стехиометрии слоев и/или наличия легирующих примесей. В качестве примеров, оксид кремния необязательно отвечает точной формуле §Ю2 и/или может быть легирован, например, атомами алюминия или бора, с целью облегчения его нанесения способами катодного распыления. Так же, нитрид кремния не обладает обязательно стехиометрией, отвечающей формуле δί3Ν4, и/или может быть легирован, например, атомами алюминия, циркония или бора, с целью облегчения его нанесения способами катодного распыления. Выражение "по существу образован из" включает возможность такого легирования.
Физическая толщина промежуточного диэлектрического слоя (или каждого промежуточного диэлектрического слоя) заключена в диапазоне предпочтительно от 2 до 3 0 нм или от 2 до 20 нм, в частности от 5 до 15 нм и даже от 8 до 12 нм. Наличие тонких промежуточных слоев неожиданно позволяет улучшать прочность на изгиб и стойкость при гибке наборов, не нарушая, однако, их оптический аспект.
Различные вышеописанные предпочтительные варианты, разумеется, могут быть комбинированы друг с другом согласно всем возможным комбинациям. Согласно особенно предпочтительной комбинации набор содержит точно два слоя 1ТО, окружающие один промежуточный диэлектрический слой и находящиеся в непосредственном контакте с ним. Следовательно, набор содержит последовательность типа 1ТО/промежуточный слой/1ТО, в частности, 1ТО/ХНХ/1ТО или 1ТО/8ЮХ/1ТО или 1ТО/8и2иОХ/1ТО или 1ТО/ТЮХ/1ТО, причем названия δίΝχ, §ЮХ, §и2иОХ или ТЮХ не исключают наличия легирующих добавок, как объяснено выше.
- 3 029723
Набор содержит выше слоя на основе ТСО, наиболее удаленного от подложки, (по меньшей мере) один барьерный для кислорода слой.
Целью барьерного для кислорода слоя является защита против окисления слоев на основе ТСО, в частности слоев 1ТО. Более конкретно, барьерный слой, нанесенный на слой на основе ТСО, наиболее удаленный от подложки и, предпочтительно, находящийся в контакте с ним, позволяет контролировать очень точно состояние окисления этого последнего и, следовательно, его электрические и оптические свойства после термообработок, в частности закалки или гибки.
Физическая толщина барьерного для кислорода слоя предпочтительно заключена в диапазоне от 5 до 100 нм, в частности от 10 до 50 нм.
Барьерным слоем предпочтительно является слой на основе соединения, выбираемого среди нитрида кремния, оксида ниобия, оксида вольфрама, оксида висмута, оксида титана, нитрида циркония и нитрида алюминия. Барьерный слой, предпочтительно, по существу состоит из нитрида кремния, который является наиболее эффективным. Как указано ранее, это название не предполагает реальной стехиометрии слоя и/или не исключает наличия легирующих примесей, в частности алюминия, бора или циркония.
Набор предпочтительно содержит по меньшей мере один другой слой, расположенный под слоем на основе ТСО, наиболее близким к подложке, и/или на барьерном для кислорода слое, наиболее удаленном от подложки. Как указано ранее, под терминами "на" или "под" не подразумевают обязательно, что слои находятся в контакте, а подразумевают только, что они являются более близкими к подложке ("под") или более удаленными от нее ("на"). Однако не исключен случай или случаи, когда эти слои по существу находятся в непосредственном контакте с наиболее близкими слоями ТСО или барьерным слоем, как будет видно впоследствии.
Преимущественно, набор содержит по меньшей мере один слой (в частности, один, два или три), расположенный под наиболее близким к подложке слоем на основе ТСО, и по меньшей мере один слой (в частности, один, два или три), расположенный на барьерном для кислорода слое, наиболее удаленном от подложки.
Набор также преимущественно содержит под слоем на основе ТСО, наиболее близким к подложке, (по меньшей мере) один адгезионный слой и/или по меньшей мере один нейтрализационный слой или набор.
Расположенный между подложкой и слоем на основе ТСО, наиболее близким к подложке, нейтрализационный слой или набор позволяет влиять на характер отражения материала, в частности на его цвет в отражении. Часто предпочтительны синеватые цвета, характеризующиеся отрицательными колориметрическими координатами Ь*. В случае одного слоя, его показатель преломления предпочтительно имеет величину между показателем преломления подложки и показателем преломления слоя на основе ТСО. В качестве не исчерпывающих примеров, можно использовать слой смешанного оксида кремния и олова (818иОХ), оксикарбида или оксинитрида кремния, оксида алюминия, смешанного оксида титана и кремния. Также применим набор слоев, включающий в себя два слоя с высоким и низким показателями преломления, например, набор Т1ОХ/81ОХ, 81НХ/81ОХ. Физическая толщина этого слоя или этих слоев предпочтительно заключена в диапазоне от 5 до 70 нм, в частности от 15 до 30 нм. Предпочтительные нейтрализационные слои или наборы представляют собой нейтрализационный слой из оксинитрида кремния или нейтрализационный набор 81НХ/81ОХ. Предпочтительно нейтрализационный слой или набор находится в непосредственном контакте сразу с подложкой и слоем ТСО, наиболее близким к подложке.
Расположенный между подложкой и слоем на основе ТСО, наиболее близким к подложке, адгезионный слой, который преимущественно имеет показатель преломления, близкий к показателю преломления подложки (в частности, стекла), позволяет улучшать стойкость к закалке и гибке, благоприятствуя сцеплению слоя ТСО. Адгезионный слой представляет собой предпочтительно диоксид кремния. Его физическая толщина предпочтительно заключена в диапазоне от 20 до 200 нм, в частности от 30 до 150 нм. Адгезионный слой предпочтительно находится в непосредственном контакте сразу с подложкой и слоем из ТСО, наиболее близком к подложке.
Набор преимущественно содержит на барьерном слое, наиболее удаленном от подложки, по меньшей мере один слой с низким показателем преломления.
Предпочтительно, слой с низким показателем преломления, типично с показателем преломления самое большее 1,8, даже 1,50 и даже 1,48 (при длине волны 550 нм), в частности на основе диоксида кремния или по существу образованный из диоксида кремния, расположен выше барьерного для кислорода слоя. Его целью является регулирование оптических и/или термических свойств покрытия. В частности, его толщина может быть адаптирована для того, чтобы уменьшать коэффициент отражения набора или оптимизировать его солнечный фактор. Физическая толщина слоя с низким показателем преломления предпочтительно заключена в диапазоне от 20 до 100 нм, в частности от 30 до 90 нм, даже от 40 до 80 нм.
Слой с низким показателем преломления может быть последним слоем набора, следовательно, он находится в контакте с атмосферой. Альтернативно, по меньшей мере один другой тонкий слой может быть расположен выше слоя с низким показателем преломления.
Также можно располагать выше слоя на основе оксида кремния, предпочтительно, на нем или в
- 4 029723
контакте с ним, защитный слой на основе оксида титана, физическая толщина которого преимущественно составляет самое большее 30 нм, в частности 20 нм, даже 10 нм. Этот слой преимущественно является фотокаталитическим.
Очень тонкие фотокаталитические слои, хотя и фотокаталитически менее активные, обладают, однако, хорошими свойствами самоочистки, против загрязнения и против запотевания. К тому же, в случае слоев очень незначительной толщины, фотокаталитический оксид титана фактически обладает свойством при его облучении солнечным светом становиться чрезвычайно гидрофильным, с углами контакта с водой менее 5 и даже 1°, что позволяет воде более легко стекать, удаляя загрязнения, осевшие на поверхность слоя. Кроме того, более толстые слои обладают более высоким световым отражением, что имеет следствием уменьшение солнечного фактора. Защитный слой, в частности фотокаталитический, предпочтительно представляет собой слой из оксида титана, который, в особенности, имеет показатель преломления в диапазоне значений от 2,0 до 2,5. Оксид титана предпочтительно является, по меньшей мере, частично кристаллизованным в форме анатаза, который представляет собой наиболее активную фазу с точки зрения фотокатализа. Смеси анатазной и рутильной фаз также являются очень активными. Диоксид титана, в случае необходимости, может быть легирован ионом металла, например, ионом переходного металла, или атомами азота, углерода, фтора и т.д. Диоксид титана также может быть субстехиометрическим или сверхстехиометрическим. В случае этого варианта осуществления, целиком вся поверхность защитного слоя (в известных случаях фотокаталитического), в частности на основе оксида титана, предпочтительно находится в контакте с внешней средой с тем, чтобы иметь возможность полностью осуществлять свою функцию самоочистки. Однако, может представлять интерес нанесение покрытия на фотокаталитический слой, в частности из диоксида титана, в виде тонкого гидрофильного слоя, в частности на основе диоксида кремния, чтобы улучшать во времени устойчивость гидрофильности.
Альтернативно, набор слоев может не включать фотокаталитический слой.
Разумеется, описанные выше различные предпочтительные варианты осуществления могут быть комбинированы между собой. Все возможные комбинации конкретно не описаны в данном тексте, чтобы бесполезно не перегружать его.
Среди предпочтительных комбинаций набор слоев содержит (или образован из них) последовательно, начиная от подложки:
адгезионный слой, например, на основе диоксида кремния или по существу образованный из него; первый слой ТСО (в частности, 1ТО);
промежуточный диэлектрический слой, например, на основе или по существу образованный из диоксида кремния, нитрида кремния или оксида олова и цинка;
второй слой ТСО (в частности, 1ТО);
барьерный для кислорода слой, например, на основе или по существу образованный из нитрида кремния;
слой с низким показателем преломления, например, на основе или по существу образованный из диоксида кремния.
Нейтрализационный слой или набор слоев может заменять адгезионный слой или быть нанесенным между адгезионным слоем и первым слоем ТСО. Таким образом, в другой предпочтительной комбинации, набор слоев содержит (или образован из них) последовательно, начиная от подложки:
адгезионный (необязательный) слой, например, на основе или по существу образованный из диоксида кремния;
нейтрализационный слой или набор слоев (в частности, слой с высоким, затем с низким показателем преломления), например, слой, по существу образованный из нитрида кремния, затем слой, по существу образованный из диоксида кремния;
первый слой ТСО (в частности, 1ТО);
промежуточный, в частности диэлектрический, слой, например, на основе или по существу образованный из диоксида кремния, нитрида кремния или оксида олова и цинка;
второй слой ТСО (в частности, 1ТО);
барьерный для кислорода слой, например, на основе или по существу образованный из нитрида кремния;
слой с низким показателем преломления, например, на основе или по существу образованный из диоксида кремния.
В этих предпочтительных комбинациях последовательные слои находятся в непосредственном контакте со слоями, которые им предшествуют.
Ниже приводятся некоторые примеры особенно предпочтительных наборов слоев:
- 5 029723
1. подложка/510х/1Т0/51Ых или 3ίΟχ или 3ηΖηΟχ/ΙΤΟ/3ίΝχ/3ίΟχ,·
2. подложка/51Ых/5Юх/1ТО/51Ых или 3ίΟχ или
5ηΖηΟχ/ΙΤΟ/5ίΝχ/5ίΟχ;
3. подложка/310х/31Ых/310х/1Т0/31Ых или 3ίΟχ или
3ηΖηΟχ/ΙΤΟ/3ίΝχ/3ίΟχ;
4. подложка/ЗЮх/1ТО/31Ых или 3ίΟχ или
3ηΖηΟχ/ΙΤΟ/3ίΝχ/3ίΟχ/ΤίΟχ;
5. подложка/31Ых/ЗЮх/1ТО/31Ых или 3ίΟχ или
3ηΖηΟχ/ΙΤΟ/3ίΝχ/3ίΟχ/ΤίΟχ;
6. подложка/310х/31Ых/310х/1Т0/31Ых или 3ίΟχ или
3ηΖηΟχ/ΙΤΟ/3ίΝχ/3ίΟχ/ΤίΟχ.
В случае этих наборов слоев подложка предпочтительно выполнена из стекла.
Как правило, подложка предпочтительно выполнена из стекла.
Согласно первому варианту осуществления, подложка из стекла является прозрачной и бесцветной (тогда речь идет о бесцветном или экстра-бесцветном стекле). Прозрачное стекло типично содержит массовую долю оксида железа порядка 0,05-0,2%, тогда как экстра-прозрачное стекло обычно содержит около 0,005-0,03% оксида железа.
Согласно второму варианту осуществления, стекло может быть окрашенным, например, в синий, зеленый, серый или бронзовый цвет. Тогда стекло содержит красители, главным образом, из оксида железа, с содержаниями в диапазоне от 0,5 до 2,0 мас.%, и необязательно оксида кобальта (с массовыми содержаниями от 5 до 300 ч./млн) и/или оксида селена (с массовыми содержаниями в диапазоне от 1 до 10 ч./млн), даже оксида хрома. Этот вариант осуществления особенно хорошо адаптирован для применений в качестве автомобильных остеклений, но не является предпочтительным в случае, где стремятся к максимизации солнечного фактора.
Стекло обычно является неорганическим, предпочтительно кремне-натрий-кальциевого типа, но оно может быть также в виде стекла боросиликатного или алюмоборосиликатного типа. Толщина подложки обычно заключена в диапазоне от 0,5 до 19 мм, предпочтительно от 0,7 до 9 мм, в частности от 2 до 8 мм, даже от 4 до 6 мм. Так же обстоит дело, если представится случай, в отношении других листов из стекла многослойного остекления.
Подложка из стекла представляет собой подложку предпочтительно флотированного типа, т.е. такую, которая может быть получена по способу, состоящему в выливании расплавленного стекла на ванну из расплавленного олова ("флоат" ванна). В этом случае набор слоев также хорошо может быть нанесен как на "оловянную" сторону, как и на "атмосферную" сторону подложки. Под "атмосферной" и "оловянной" сторонами понимают стороны подложки, находящиеся в контакте соответственно с атмосферой, преобладающей в случае "флоат" ванны, и с расплавленным оловом. "Оловянная" сторона содержит незначительное поверхностное количество олова, продиффундировавшего в структуру стекла.
Подложка из стекла может быть плоской или изогнутой (моллированной), предпочтительно изогнутой.
Подложка из стекла может быть подвергнута термической закалке или упрочнению для придания ей свойств улучшенной механической прочности и желательной при применении формы.
Как описано далее, термическая закалка или гибка пригодна для улучшения эмиссионной способности предварительно нанесенного слоя ТСО. Предпочтительно, удельное электрическое сопротивление набора слоев после закалки или гибки составляет самое большее 2,2-10-4 Ом-см, в частности самое большее 2,1-10-4 Ом-см и даже 2,0-10-4 Ом-см. Свойства эмиссионной способности и удельного электрического сопротивления тесно связаны.
Подложка также может быть из полимерного органического материала. Предпочтительными органическими полимерными материалами являются поликарбонат, полиметилметакрилат, полиэтилентерефталат (РЕТ), полиэтиленнафталат (ΡΕΝ) или же фторированные полимеры, такие как, например, этилентетрафторэтилен (ЕТРЕ). Эти подложки предпочтительно являются гибкими, так, что их незначительная толщина позволяет их наматывать. Набор слоев согласно изобретению из-за своей более высокой прочности на изгиб тогда обладает преимуществом не повреждаться, когда набор намотан.
Объектом изобретения также является остекление, в частности для оснащения наземных, железнодорожных, морских или воздушных транспортных средств, в частности ветровых стекол, стекол заднего окна, боковых оконных стекол автомобиля, автомобильных крыш или для оснащения сооружений, противопожарного остекления, дверцы печи или холодильника, содержащий по меньшей мере один материал согласно изобретению.
Это остекление предпочтительно является выпуклым. Оно имеет, таким образом, один или несколько изгибов с радиусами изгиба типично в диапазоне от 10 до 40 м. Изобретение фактически позволяет получать материалы, которые могут подвергаться сложным гибкам сильной интенсивности (напри- 6 029723
мер, моллированию), без наличия повреждений типа трещин или мутности, как показано в продолжении текста.
Остекление, например, предназначено для оснащения автомобильных наземных транспортных средств. Речь может идти, в частности, о ветровом стекле, стекле заднего обзора, крыше автомобиля или боковом оконном стекле автомобиля.
Это остекление может быть слоистым, в частности в случае ветрового стекла, крыш или, иногда, боковых оконных стекол, в том смысле, что материал согласно изобретению связан по меньшей мере с одной другой подложкой из стекла (типично, одной, но, в случае необходимости, двумя или тремя, например, в случае экранированных остеклений или остеклений для воздушных транспортных средств) через по меньшей мере один вставной лист из полимера, такого, как, в частности, поливинилбутираль (РУБ) или полиуретан (РИ). В этом случае, материал согласно изобретению предпочтительно располагают так, что набор размещен на стороне 4, т.е. на наружной стороне остекления, предназначенной находиться в контакте с кабиной транспортного средства. По меньшей мере одна сторона, расположенная внутри такого слоистого пакета (сторона 2 или 3), или сторона вставного листа, предпочтительно является покрытой набором со свойствами низкой эмиссионной способности, например, самое большее 0,1 или 0,05. Речь может идти, в частности, о наборах тонких слоев, содержащих по меньшей мере один слой серебра, причем слой или каждый слой серебра расположен между диэлектрическими слоями.
В случае задних стекол или боковых остеклений, остекление обычно не является слоистым, но подвергнуто закалке. С точки зрения использования, набор предпочтительно будет расположен на стороне 2, т.е. на наружной стороне остекления, предназначенной находиться в контакте с кабиной транспортного средства.
В случае этого типа применений, подложка преимущественно слегка окрашена, в частности в зеленый, синий или серый цвет. С этой целью подложка из стекла может содержать один или несколько красителей, таких как, в частности, оксид железа с массовой долей в диапазоне от 0,5 до 2,5%, оксид кобальта с массовой долей в диапазоне от 0,0010 до 0,03%, оксид хрома с массовой долей в диапазоне от 0,005 до 0,05%, селен с массовой долей в диапазоне от 0,0001 до 0,005%. В случае применений типа стекла заднего вида, крыши или стекол задних окон, светопропускание остекления может, например, составлять от 5 до 70% (от 5 до 20% для крыши). В случае применений типа ветрового стекла или боковых передних стекол, светопропускание остекления будет составлять, предпочтительно, по меньшей мере 70%, даже 75%.
Остекление также может быть предназначено для оснащения сооружений. Речь пойдет предпочтительно о сложном остеклении, в частности двойном или тройном, и даже более, например, четверном. Двойное остекление обычно образовано двумя листами из стекла, находящимися напротив друг друга и заключающими между собой очень тонкий слой газа, например, воздуха, аргона, ксенона или же криптона. Обычно на периферии остекления, между листами из стекла, располагают разделительную рамку в форме металлического профиля, например, из алюминия, соединенную с листами из стекла с помощью адгезива, причем периферию остекления герметически закрывают с помощью мастики, например, из силикона, полисульфидов или полиуретана, во избежание попадания влаги внутрь очень тонкого слоя газа. Для ограничения влаги в разделительной рамке часто размещают молекулярные сита. Тройное остекление образовано таким же образом, только лишь число листов из стекла равно трем.
Многослойное остекление может включать один или несколько материалов согласно изобретению, в частности материал согласно изобретению, располагаемый так, чтобы его набор находился на стороне 1 остекления, и/или материал согласно изобретению, располагаемый так, чтобы его набор находился на стороне 4 остекления (для двойного остекления) или на стороне 6 (для тройного остекления). Расположение на стороне 1, т.е. в контакте с внешней средой сооружения, позволяет придавать антиконденсационные свойства остеклению, тогда как расположение на стороне 4 или 6 (в контакте с внутренней частью кабины) обеспечивает функции усиленной теплоизоляции.
Когда остекление согласно изобретению представляет собой тройное остекление, то по меньшей мере одна другая сторона, выбираемая среди сторон 2-5, предпочтительно покрыта набором с низкой эмиссионной способностью. Речь может идти, в частности, о наборах тонких слоев, включающих в себя по меньшей мере один слой серебра, причем слой или каждый слой серебра располагается между диэлектрическими слоями. Под низкой эмиссионной способностью обычно понимают эмиссионную способность, составляющую самое большее 0,1, в частности 0,05. Предпочтительно, таким набором покрыты две другие стороны, в частности стороны 2 и 5. Также возможны другие, но менее предпочтительные, конфигурации: стороны 2 и 3, 2 и 4, 3 и 4, 4 и 5, стороны 2, 3 и 4, стороны 2, 3 и 5, стороны 2, 4 и 5, стороны 2, 3, 4 и 5. Когда остекление согласно изобретению представляет собой двойное остекление, сторона 2 преимущественно покрыта набором с низкой эмиссионной способностью, в частности того типа, которая только что была описана. Альтернативно, сторона 2 может быть покрыта набором солнечного регулирования, что, однако, не является предпочтительным, так как такой набор приводит к уменьшению солнечного фактора.
Для улучшения акустических свойств или свойств устойчивости к взлому остекления согласно изобретению, по меньшей мере один лист из стекла остекления может быть соединен с другим листом по- 7 029723
средством разделительного листа из полимера, такого как поливинилбутираль (РУБ) или полиуретан (Ри).
Остекление согласно изобретению может быть использовано в качестве остекления любого типа. Оно может быть вставлено в фасад, крышу, веранду. Оно может быть расположено вертикально или наклонно.
Для использования в противопожарном остеклении или дверце печи, подложка преимущественно состоит из жаростойкого стекла, например, боросиликатного или алюмисиликатного стекла.
Объектом изобретения также является способ получения материала согласно изобретению, в соответствии с которым слои наносят, в частности, путем катодного распыления, затем подвергают термообработке, выбираемой среди закалки, гибки, отжига, быстрого отжига.
Предпочтительно быстрый отжиг осуществляют с помощью пламени, плазменной горелки или лазерного излучения.
Слои набора предпочтительно наносят на плоскую подложку из стекла, которая находится тогда обычно в форме большого листа из стекла размером 3,2x6 м2, или прямо на полосу из стекла во время или точно после процесса флотации, затем подложку разрезают для получения желательных размеров.
Различные слои набора могут быть нанесены на подложку из стекла любым типом способа нанесения тонких слоев. Речь может идти, например, о способах типа "золь-гель"-технологии, пиролиза (жидкое или твердое вещество), химического осаждения в паровой фазе (СУЭ), в частности с помощью плазмы (АРСУЭ), в случае необходимости при атмосферном давлении (АРРЕСУЭ), испарения.
Слои набора предпочтительно наносят путем катодного распыления, в частности с помощью магнитного поля (магнетронный способ). Предпочтительным является случай, когда слой ТСО представляет собой слой 1ТО. В этом способе плазму создают под вакуумом, способствующим близости мишени, содержащей наносимые химические элементы. Активные частицы плазмы, бомбардирующие мишень, "вырывают" вышеуказанные элементы, которые наносятся на подложку, образуя желательный тонкий слой. Этот способ называют "реактивным", когда слой образован материалом, получающимся в результате химической реакции между "вырванными" из мишени элементами и содержащимся в плазме газом. Главное преимущество этого способа заключается в возможности наносить на одной и той же линии очень сложный набор слоев, осуществляя последовательно продвижение подложки под различными мишенями, причем это обычно происходит в одном и том же устройстве.
Магнетронный способ, однако, обладает неудобством, когда подложку не нагревают во время нанесения покрытия: полученные слои ТСО являются слабокристаллизованными, так что их свойства эмиссионной способности не оптимизированы. Тогда оказывается необходимой термообработка. Предпочтительно, термообработку осуществляют при температурах, превосходящих 200°С, в частности 400°С и даже 600 или 700°С, на уровне набора и/или подложки.
Термообработка может быть предназначена для улучшения кристаллизации слоев ТСО и, следовательно, эмиссионной способности набора (случай закалки, гибки, отжига, быстрого отжига), и/или для придания улучшенных механических свойств (случай закалки) и/или придания желательной формы (случай гибки).
Улучшение кристаллизации может быть определено по увеличению степени кристаллизации (массовой или объемной доли кристаллизованного вещества) и/или по размеру кристаллических зерен (или размеру когерентных областей дифракции, измеряемых способами дифракции рентгеновских лучей или Раман-спектроскопии). Это улучшение кристаллизации также можно проконтролировать косвенным образом, по улучшению свойств слоя. В случае слоя типа ТСО, эмиссионная способность уменьшается предпочтительно по меньшей мере на 5 отн.%, даже по меньшей мере на 10 или 15%, так же как уменьшается его энерго- и светопоглощение.
Обработку закалкой или отжигом обычно осуществляют в печи, соответственно для закалки или отжига. Всю подложку в целом (покрытую набором) подвергают воздействию высокой температуры, по меньшей мере 300°С в случае отжига и по меньшей мере 500°С, даже 600°С, в случае закалки. В этом последнем случае подложку затем резко охлаждают, чтобы создать на поверхности стекла напряжения сжатия, которые его механически усиливают. Соответственно уровню полученных напряжений, иногда можно использовать термины упрочнения, полузакалки или, собственно говоря, закалки, причем все эти обработки включены в выражение "закалка" в смысле изобретения.
Гибку обычно осуществляют в гибочной печи. Всю подложку в целом (покрытую набором) подвергают воздействию высокой температуры, составляющей по меньшей мере 500°С, в частности между 500 и 700°С. Гибка позволяет создавать один или несколько изгибов с радиусами кривизны, типично составляющими от 10 см до 40 м. За гибкой может следовать быстрое охлаждение, чтобы создавать на поверхности стекла напряжения сжатия, которые его механически усиливают; в этом случае обычно говорят о гибке-закалке.
После закалки или гибки-закалки поверхностные напряжения преимущественно составляют по меньшей мере 60 МПа, даже 70 МПа.
Быстрый отжиг предпочтительно осуществляют с помощью пламени, плазменной горелки или лазерного излучения. В случае этого типа способа создают относительное перемещение между подложкой
- 8 029723
и устройством (пламя, лазер, плазменная горелка). Обычно устройство является подвижным, и покрытая подложка продвигается мимо устройства так, чтобы обрабатывалась ее поверхность. Эти способы позволяют подводить большую плотность энергии к обрабатываемому покрытию в течение очень незначительного периода времени, ограничивая, таким образом, диффузию тепла к подложке и, следовательно, нагрев упомянутой подложки. Температура подложки в течение обработки обычно составляет самое большее 100, даже 50 и даже 30°С. Каждую точку тонкого слоя подвергают обработке быстрым отжигом в течение длительности, обычно меньшей или равной 1 с, даже 0,5 с.
Термообработку быстрым отжигом предпочтительно осуществляют с помощью излучения лазера, эмиттирующего в инфракрасной или видимой области спектра. Длина волны излучения заключена предпочтительно в диапазоне от 530 до 1200 нм или от 600 до 1000 нм, в частности от 700 до 1000 нм, даже от 800 до 1000 нм. Предпочтительно используют лазерные диоды, эмиттирующие, например, на длине волны порядка 808, 880, 915 или же 940 или 980 нм. В форме диодных систем могут быть получены очень высокие мощности, позволяющие достигать поверхностных мощностей на уровне обрабатываемого покрытия выше 20 кВт/см2, даже 30 кВ т/см2.
Лазерное излучение предпочтительно выходит в виде, по меньшей мере, лазерного пучка, образующего линию (называемую "лазерная линия" в дальнейшем тексте), который облучает одновременно всю ширину или часть ширины подложки. Этот способ является предпочтительным, так как в нем избегают использования дорогостоящих, обычно крупногабаритных и трудных в отношении технического обслуживания систем смещения. Лазерный пучок в виде линии в частности может быть получен с помощью систем лазерных диодов высокой мощности, связанных с оптической системой фокусировки. Толщина линии составляет предпочтительно от 0,01 до 1 мм. Длина линии типично составляет между 5 мм и 3,2 м. Профиль линии в частности может быть кривой Гаусса или строб-импульсом. Лазерная линия, облучающая одновременно всю ширину или часть ширины подложки, может быть образована одной линией (тогда облучающая всю ширину подложки) или несколькими линиями, в случае необходимости, разъединенными. Когда используют несколько линий, предпочтительно, чтобы они были расположены так, чтобы обрабатывалась вся поверхность набора. Линия или каждая линия предпочтительно располагается перпендикулярно направлению продвижения подложки или располагается наклонно. Различные линии могут обрабатывать подложку одновременно или со сдвигом во времени. Важным является то, чтобы вся обрабатываемая поверхность была обработана. Также подложка может передвигаться, в частности, за счет поступательного движения по отношению к фиксированной лазерной линии, обычно в направлении ниже, но, возможно, выше лазерной линии. Этот способ осуществления является особенно подходящим из-за непрерывной обработки. Альтернативно, подложка может быть неподвижной, а лазер может быть подвижным. Предпочтительно, разница между соответствующими скоростями подложки и лазера больше или равна 1 м/мин, даже 4 и даже 6, 8, 10 или 15 м/мин, чтобы обеспечивать большую скорость обработки. Когда перемещается подложка, в частности поступательно, она может быть приведена в движение с помощью любых механических средств транспортировки, например, с помощью ленточных конвейеров, валиков, сдвиговых пластин. Система конвейерной транспортировки позволяет контролировать и регулировать скорость смещения. Лазер также может приводиться в движение, чтобы устанавливать его расстояние до подложки, что может быть особенно пригодным тогда, когда подложку подвергают гибке, но только в этом случае. На самом деле, предпочтительно, чтобы лазерный пучок был сфокусирован на обрабатываемом покрытии таким образом, чтобы это последнее находилось на расстоянии меньшем или равном 1 мм от фокальной плоскости. Если система перемещения подложки или лазера недостаточно точная в том, что касается расстояния между подложкой и фокальной плоскостью, она предпочтительно допускает возможность устанавливать расстояние между лазером и подложкой. Это установление может быть автоматическим, в частности, регулируемым благодаря измерению расстояния до обработки.
Устройство лазерного излучения может быть встроено в линию нанесения слоев, например, линию нанесения путем катодного распыления с использованием магнитного поля (магнетронный способ) или линию химического нанесения из паровой фазы (СУЭ), в частности с помощью плазмы (РЕСУЭ), в вакууме или при атмосферном давлении (АРРЕСУО).
На фиг. 1 и 2 схематически представлен вид в разрезе части предпочтительных вариантов осуществления изобретения. Представлены расположенный на подложке набор и часть самой подложки (а именно из стекла).
Представлены нанесенные на подложку 1 слои 2 и 3 прозрачного электропроводящего оксида (типично ΙΤΟ), промежуточный слой 4 (например, из диоксида кремния или нитрида кремния или же из оксида цинка и олова) и барьерный для кислорода слой 6 (типично из нитрида кремния).
Другими слоями (необязательными), представленными на фиг. 1, являются адгезионный слой 5 (например, из диоксида кремния) и слой с низким показателем преломления 7 (например, из диоксида кремния).
На фиг. 2 представлены (необязательные) слои:
на барьерном для кислорода слое 6 (типично из нитрида кремния), слой с низким показателем преломления 7 (например, из диоксида кремния) и защитный слой 10 (типично из ΤίΟ2, который может быть фотокаталитическим);
- 9 029723
под слоем ТСО 3 слой с низким показателем преломления 8 (типично из диоксида кремния) и слой с высоким показателем преломления 9 (типично из нитрида кремния).
Нижеследующие примеры иллюстрируют изобретение, но без его ограничения.
Известным образом на подложки из стекла путем катодного магнетронного распыления наносят наборы, такие, как описанные в нижеприводимой табл. 1, представленного на фиг. 1 типа.
В табл. 1 приводятся данные о физической толщине (в нм) каждого из слоев набора. Первая строка
таблицы соответствует последнему слою набора (в контакте с атмосферой). Во второй колонке таблицы указывается ссылка на слой, соответствующий используемому согласно фиг. 1. Слои нитрида и оксида кремния легированы алюминием для легкости их нанесения посредством магнетронного катодного распыления.
Таблица 1
С1 С2 1 2 3 4
5ЮХ 7 70 70 70 70 70 70
3ίΝχ 6 20 20 20 20 20 20
ΙΤΟ 2 - - 60 50 60 40
3ίθχ 4 - - - 10 10 -
3ίΝχ 4 - - 10 - - 10
ΙΤΟ 3 120 100 60 50 60 40
3ίθχ 5 35 35 35 35 35 35
Примеры С1 и С2 представляют собой сравнительные примеры, содержащие только один слой ТСО, нанесенный на адгезионный слой и покрытый барьерным для кислорода слоем и слоем с низким показателем преломления.
Напротив, примеры 1-4 согласно изобретению включают два слоя ТСО (здесь 1ТО), разделенных промежуточным диэлектрическим слоем из оксида или нитрида кремния, соответственно случаю.
Эти наборы наносили на два типа подложек из флоат-стекла: подложку из прозрачного стекла (содержащего 0,1% оксида железа), коэффициент светопропускания которого составляет выше 85%, и подложку из темно-серого стекла, коэффициент светопропускания которого составляет ниже 30%.
Подложки с нанесенным покрытием затем подвергали стадии гибки-закалки. Гибка представляет собой гибку гравитационного типа (моллирование) на прямоугольной рамке для моллирования, придающее цилиндрическую форму с радиусом кривизны 20 см.
Моллирование является так называемым "выпуклым", когда набор расположен с выпуклой стороны после моллирования, или "вогнутым", когда набор расположен на вогнутой стороне после моллирования. В случае выпуклого моллирования набор подвергается напряжениям растяжения, которые могут приводить к трещинам и/или мутности. В случае вогнутого моллирования набор подвергается напряжениям сжатия, которые могут приводить к мутности.
Полученные результаты излагаются в нижеприводимых табл. 2 и 3.
Для каждого опыта в таблицах указывается:
природа стекла ("Т" для стекла, слегка окрашенного в темно-серый цвет, "С" для бесцветного стекла);
тип набора слоев, обозначенный ссылками, используемыми в табл. 1; удельное поверхностное сопротивление Нс, измеренное до и после гибки-закалки; тип гибки: выпуклый (СУ) или вогнутый (СС);
оценка от 0 до 10, позволяющая качественно оценивать количество трещин после моллирования вследствие визуального осмотра, причем оценка 0 свидетельствует об отсутствии трещин;
оценка от 0 до 10, позволяющая качественно оценивать мутность после моллирования вследствие визуального осмотра, причем оценка 0 свидетельствует об отсутствии мутности.
- 10 029723
Таблица 2
Стекло С Т т с С
Набор слоев 2 3 4
Нс до (Ом) 68 54 83
Нс после (Ом) 19 31
Гибка ον СС ον ον СС
Трещины 0 - 0 0 -
Мутность 0 0 0 0 0
Эти результаты показывают, что замена одного слоя ТСО двумя слоями того же самого ТСО суммарной толщины, равной толщине одного слоя, позволяет ожидать того же самого уровня удельного поверхностного сопротивления и, следовательно, тех же самых низкоэмиссионных характеристик: около 19 Ом для полной толщины 120 нм и 24 Ом для полной толщины 100 нм.
В то же самое время стойкость к гибке и закалке отчетливо улучшена благодаря изобретению. Следовательно, наборы согласно изобретению способны противостоять более интенсивным обработкам гибкой (с меньшими радиусами кривизны), чем наборы не по изобретению.

Claims (14)

  1. ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ
    1. Подложка (1) для остекления, покрытая по меньшей мере на части по меньшей мере одной из ее сторон набором тонких слоев, содержащим по меньшей мере два слоя на основе прозрачного электропроводящего оксида (2, 3), разделенных по меньшей мере одним промежуточным диэлектрическим слоем (4), физическая толщина которого составляет самое большее 50 нм, причем никакой металлический слой не расположен между упомянутыми слоями на основе прозрачного электропроводящего оксида (2, 3), упомянутый набор дополнительно содержит по меньшей мере один барьерный для кислорода слой (6) выше слоя на основе прозрачного электропроводящего оксида (2), наиболее удаленного от подложки (1), каждый слой на основе прозрачного электропроводящего оксида (2, 3) обладает физической толщиной, составляющей от 20 до 80 нм.
  2. 2. Подложка по предыдущему пункту, отличающаяся тем, что выполнена из стекла.
  3. 3. Подложка по одному из предыдущих пунктов, отличающаяся тем, что каждый прозрачный электропроводящий оксид (2, 3) выбран среди смешанного оксида олова и индия, смешанного оксида индия и цинка, оксида цинка, легированного галлием или алюминием, оксида титана, легированного ниобием, станната кадмия или цинка, оксида олова, легированного фтором и/или сурьмой.
  4. 4. Подложка по одному из предыдущих пунктов, отличающаяся тем, что каждый слой на основе прозрачного электропроводящего оксида (2, 3) имеет физическую толщину, составляющую от 30 до 80 нм.
  5. 5. Подложка по одному из предыдущих пунктов, отличающаяся тем, что суммарная физическая толщина всех слоев на основе прозрачного электропроводящего оксида (2, 3) заключена в диапазоне от 40 до 400 нм, в частности от 60 до 300 нм.
  6. 6. Подложка по одному из предыдущих пунктов, отличающаяся тем, что набор тонких слоев содержит два слоя на основе прозрачного электропроводящего оксида (2, 3), разделенных самое большее двумя промежуточными диэлектрическими слоями (4), в частности одним промежуточным диэлектрическим слоем (4).
  7. 7. Подложка по одному из предыдущих пунктов, отличающаяся тем, что промежуточный диэлектрический слой или каждый промежуточный диэлектрический слой (4) выполнен на основе соединения, выбираемого среди оксидов, нитридов или оксинитридов кремния, алюминия, титана, олова, цинка, циркония, ниобия, никеля, хрома или одной из их смесей.
  8. 8. Подложка по одному из предыдущих пунктов, отличающаяся тем, что физическая толщина промежуточного диэлектрического слоя или каждого промежуточного диэлектрического слоя (4) составляет
    - 11 029723
    от 2 до 20 нм, в частности от 5 до 15 нм.
  9. 9. Подложка по одному из предыдущих пунктов, отличающаяся тем, что барьерный слой (6) выполнен на основе соединения, выбираемого среди нитрида кремния, оксида ниобия, оксида вольфрама, оксида висмута, оксида титана, нитрида циркония и нитрида алюминия.
  10. 10. Подложка по одному из предыдущих пунктов, отличающаяся тем, что набор содержит под слоем на основе прозрачного электропроводящего оксида (3), наиболее близким к подложке, по меньшей мере один адгезионный слой (5), в частности, из диоксида кремния.
  11. 11. Способ получения подложки по одному из предыдущих пунктов, в котором слои наносят, в частности, путем катодного распыления, затем подвергают термообработке, выбираемой среди обработок путем закалки, гибки, отжига, быстрого отжига.
  12. 12. Способ по предыдущему пункту, в котором быстрый отжиг осуществляют с помощью пламени, плазменной горелки или лазерного излучения.
  13. 13. Остекление, в частности, для оснащения наземных, железнодорожных, морских или воздушных транспортных средств, в частности ветровых стекол, стекол заднего окна, боковых оконных остеклений автомобиля, автомобильных крыш или для оснащения сооружений, противопожарного остекления, дверцы печи или холодильника, содержащее по меньшей мере одну подложку по одному из предыдущих пп.1-10.
  14. 14. Остекление по предыдущему пункту, представляющее собой изогнутое остекление.
EA201591585A 2013-02-27 2014-02-25 Подложка, покрытая низкоэмиссионным набором слоев EA029723B1 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1351729A FR3002534B1 (fr) 2013-02-27 2013-02-27 Substrat revetu d'un empilement bas-emissif.
PCT/FR2014/050392 WO2014131980A1 (fr) 2013-02-27 2014-02-25 Substrat revêtu d'un empilement bas-emissif

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EA201591585A1 EA201591585A1 (ru) 2015-12-30
EA029723B1 true EA029723B1 (ru) 2018-05-31

Family

ID=48741315

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EA201591585A EA029723B1 (ru) 2013-02-27 2014-02-25 Подложка, покрытая низкоэмиссионным набором слоев

Country Status (12)

Country Link
US (1) US9950951B2 (ru)
EP (1) EP2961711B1 (ru)
JP (1) JP6546097B2 (ru)
KR (1) KR102140136B1 (ru)
CN (1) CN105026330B (ru)
BR (1) BR112015019816B1 (ru)
CA (1) CA2902130A1 (ru)
EA (1) EA029723B1 (ru)
FR (1) FR3002534B1 (ru)
MX (1) MX370002B (ru)
PL (1) PL2961711T3 (ru)
WO (1) WO2014131980A1 (ru)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11155493B2 (en) 2010-01-16 2021-10-26 Cardinal Cg Company Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods
EP2995595B1 (en) * 2013-05-09 2020-11-25 AGC Inc. Translucent substrate, organic led element and method of manufacturing translucent substrate
US9745792B2 (en) 2015-03-20 2017-08-29 Cardinal Cg Company Nickel-aluminum blocker film multiple cavity controlled transmission coating
JPWO2016181740A1 (ja) * 2015-05-11 2018-03-01 旭硝子株式会社 車両用の断熱ガラスユニットおよびその製造方法
CN107531561A (zh) * 2015-05-11 2018-01-02 旭硝子株式会社 车辆用的隔热玻璃单元
WO2017097779A1 (en) * 2015-12-11 2017-06-15 Michiels Group Bvba A method of manufacturing a coated polymer substrate having low emissivity
FR3053126B1 (fr) * 2016-06-27 2019-07-26 Saint-Gobain Glass France Procede et dispositif de localisation de l'origine d'un defaut affectant un empilement de couches minces deposees sur un substrat
KR101873103B1 (ko) * 2016-09-06 2018-06-29 (주)엘지하우시스 창호용 기능성 건축 자재
CN106381472B (zh) * 2016-09-30 2019-02-19 郑州航空工业管理学院 一种用于通航飞机座舱玻璃的防紫外节能疏水薄膜及其制备方法
FR3061172B1 (fr) * 2016-12-26 2020-03-27 Saint-Gobain Glass France Dispositif chauffant comprenant un substrat verrier revetu sur ses deux faces
US20210204366A1 (en) * 2017-04-18 2021-07-01 Saint-Gobain Glass France Pane having heatable tco coating
CN107253826B (zh) * 2017-05-22 2020-08-04 美的集团股份有限公司 隔热玻璃及其制备方法和电器
RU2661294C1 (ru) * 2017-08-03 2018-07-13 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" Способ получения многослойной детали из титанового сплава
US10650935B2 (en) * 2017-08-04 2020-05-12 Vitro Flat Glass Llc Transparent conductive oxide having an embedded film
US20190043640A1 (en) * 2017-08-04 2019-02-07 Vitro Flat Glass, LLC Protective Layer Over a Functional Coating
CN109534691B (zh) * 2017-12-22 2021-12-07 中国南玻集团股份有限公司 节能膜、夹层玻璃、中空玻璃及应用
WO2019131660A1 (ja) * 2017-12-28 2019-07-04 Ａｇｃ株式会社 積層膜付き透明基板
WO2019181421A1 (ja) * 2018-03-20 2019-09-26 Ａｇｃ株式会社 積層膜付きガラス基板及び窓ガラス
US11028012B2 (en) * 2018-10-31 2021-06-08 Cardinal Cg Company Low solar heat gain coatings, laminated glass assemblies, and methods of producing same
US20230098954A1 (en) * 2020-03-12 2023-03-30 Pilkington Group Limited Coated glazing
US20230105541A1 (en) * 2020-03-12 2023-04-06 Pilkington Group Limited Coated glazing

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4504109A (en) * 1981-11-25 1985-03-12 Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho Infrared shielding lamination
JPH11149063A (ja) * 1997-09-09 1999-06-02 Asahi Optical Co Ltd 反射防止膜付き眼鏡レンズ
US6797388B1 (en) * 1999-03-18 2004-09-28 Ppg Industries Ohio, Inc. Methods of making low haze coatings and the coatings and coated articles made thereby
WO2011122152A1 (ja) * 2010-03-30 2011-10-06 日本電気硝子株式会社 電磁波遮蔽膜及び電磁波遮蔽部材
FR2963343A1 (fr) * 2010-07-28 2012-02-03 Saint Gobain Vitrage pourvu d'un revetement contre la condensation
US20120048722A1 (en) * 2010-08-31 2012-03-01 Guardian Industries Corp. System and/or method for heat treating conductive coatings using wavelength-tuned infrared radiation
US20120164420A1 (en) * 2010-02-26 2012-06-28 Guardian Industries Corp., CRVC Articles including anticondensation and/or low-e coatings and/or methods of making the same

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0373335A (ja) * 1988-11-04 1991-03-28 Asahi Glass Co Ltd 透明導電ガラス
FR2672884B1 (fr) * 1991-02-20 1993-09-10 Saint Gobain Vitrage Int Couche protectrice sur un substrat conducteur.
FR2730990B1 (fr) * 1995-02-23 1997-04-04 Saint Gobain Vitrage Substrat transparent a revetement anti-reflets
JP2000294980A (ja) * 1999-04-06 2000-10-20 Nippon Sheet Glass Co Ltd 透光性電磁波フィルタおよびその製造方法
JP2001114534A (ja) * 1999-10-20 2001-04-24 Nippon Sheet Glass Co Ltd 金属酸化物膜付きガラス板およびその製造方法、ならびにこれを用いた複層ガラス
US20040200238A1 (en) * 2001-07-23 2004-10-14 Masato Hyodo Low emissivity glass and method for production thereof
DE102004050158B3 (de) * 2004-10-15 2006-04-06 Saint-Gobain Sekurit Deutschland Gmbh & Co. Kg Transparente Scheibe mit einer beheizbaren Beschichtung
JP4890548B2 (ja) * 2005-07-26 2012-03-07 ピルキングトン・ノースアメリカ・インコーポレイテッド 銀フリー・低放射率の日照調整コーティング
FR2889182B1 (fr) * 2005-07-29 2007-10-26 Saint Gobain Vitrage muni d'un empilement de couches minces agissant sur le rayonnement solaire
DE102005039707B4 (de) * 2005-08-23 2009-12-03 Saint-Gobain Glass Deutschland Gmbh Thermisch hoch belastbares Low-E-Schichtsystem für transparente Substrate, insbesondere für Glasscheiben
FR2893023B1 (fr) * 2005-11-08 2007-12-21 Saint Gobain Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques
FR2893610B1 (fr) * 2005-11-23 2008-07-18 Saint Gobain Procede de structuration de surface d'un produit verrier, produit verrier a surface structuree et utilisations
JP2008013420A (ja) * 2006-07-10 2008-01-24 Fujikura Ltd 熱線反射ガラス
JP2010503166A (ja) * 2006-09-07 2010-01-28 サン−ゴバン グラス フランス 有機発光デバイス用基板、基板の使用法およびを製造プロセス、ならびに有機発光デバイス
FR2911130B1 (fr) * 2007-01-05 2009-11-27 Saint Gobain Procede de depot de couche mince et produit obtenu
FR2931147B1 (fr) * 2008-05-19 2010-11-19 Saint Gobain Vitrage muni d'un empilement de couches minces
FR2946639B1 (fr) * 2009-06-12 2011-07-15 Saint Gobain Procede de depot de couche mince et produit obtenu.
FR2949226B1 (fr) * 2009-08-21 2011-09-09 Saint Gobain Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques, en particulier pour realiser un vitrage chauffant.
FR2955915B1 (fr) * 2010-02-01 2012-03-09 Saint Gobain Vitrage multiple lumineux a diodes electroluminescentes
US8304045B2 (en) * 2010-02-26 2012-11-06 Guardian Industries Corp. Articles including anticondensation coatings and/or methods of making the same

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4504109A (en) * 1981-11-25 1985-03-12 Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho Infrared shielding lamination
JPH11149063A (ja) * 1997-09-09 1999-06-02 Asahi Optical Co Ltd 反射防止膜付き眼鏡レンズ
US6797388B1 (en) * 1999-03-18 2004-09-28 Ppg Industries Ohio, Inc. Methods of making low haze coatings and the coatings and coated articles made thereby
US20120164420A1 (en) * 2010-02-26 2012-06-28 Guardian Industries Corp., CRVC Articles including anticondensation and/or low-e coatings and/or methods of making the same
WO2011122152A1 (ja) * 2010-03-30 2011-10-06 日本電気硝子株式会社 電磁波遮蔽膜及び電磁波遮蔽部材
FR2963343A1 (fr) * 2010-07-28 2012-02-03 Saint Gobain Vitrage pourvu d'un revetement contre la condensation
US20120048722A1 (en) * 2010-08-31 2012-03-01 Guardian Industries Corp. System and/or method for heat treating conductive coatings using wavelength-tuned infrared radiation

Also Published As

Publication number Publication date
JP6546097B2 (ja) 2019-07-17
MX370002B (es) 2019-11-28
PL2961711T3 (pl) 2022-01-10
JP2016515950A (ja) 2016-06-02
MX2015010827A (es) 2015-12-03
FR3002534A1 (fr) 2014-08-29
FR3002534B1 (fr) 2018-04-13
WO2014131980A1 (fr) 2014-09-04
CN105026330B (zh) 2018-11-09
EP2961711A1 (fr) 2016-01-06
BR112015019816A2 (pt) 2017-07-18
EP2961711B1 (fr) 2021-08-18
EA201591585A1 (ru) 2015-12-30
KR102140136B1 (ko) 2020-07-31
US9950951B2 (en) 2018-04-24
US20160002098A1 (en) 2016-01-07
KR20150123241A (ko) 2015-11-03
BR112015019816B1 (pt) 2021-07-06
CA2902130A1 (fr) 2014-09-04
CN105026330A (zh) 2015-11-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EA029723B1 (ru) Подложка, покрытая низкоэмиссионным набором слоев
US10358865B2 (en) Articles including anticondensation and/or low-E coatings and/or methods of making the same
KR102067047B1 (ko) 응결 방지 창유리
KR101952975B1 (ko) 창유리 패널
KR101982357B1 (ko) 코팅이 제공된 기판의 획득 방법
EP2539291B1 (en) Articles including anticondensation and/or low-e coatings and/or methods of making the same
JP5830011B2 (ja) 高い太陽熱利得係数を有する太陽光制御コーティング
US20090197098A1 (en) Electromagnetic radiation shielding device
EA022242B1 (ru) Способ получения подложки
US10479724B2 (en) Coated article having a protective coating containing silicon nitride and/or silicon oxynitride
EA017695B1 (ru) Остекление
KR20200118069A (ko) 4중 금속층을 갖는 태양광 제어 코팅
US20230112850A1 (en) Heat-Treatable Coating Having Reduced Haze
US20230312407A1 (en) Article Coated by a Multi-Layer Coating Stack
RU2286964C2 (ru) Способ изготовления изделий с покрытием и изделия с покрытием
WO2023064111A1 (en) Heat-treatable coating having reduced haze

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s)

Designated state(s): AM AZ BY KZ KG TJ TM