DK153337B - Fremgangsmaade til toer sensibilisering af en isolerende overflade - Google Patents

Fremgangsmaade til toer sensibilisering af en isolerende overflade Download PDF

Info

Publication number
DK153337B
DK153337B DK150779AA DK150779A DK153337B DK 153337 B DK153337 B DK 153337B DK 150779A A DK150779A A DK 150779AA DK 150779 A DK150779 A DK 150779A DK 153337 B DK153337 B DK 153337B
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
substrate
powder
deposition
metal
compound
Prior art date
Application number
DK150779AA
Other languages
English (en)
Other versions
DK150779A (da
DK153337C (da
Inventor
Leo Gulvad Svendsen
Gunnar Soerensen
Original Assignee
Neselco As
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Neselco As filed Critical Neselco As
Priority to DK150779A priority Critical patent/DK153337C/da
Priority to IE732/80A priority patent/IE49192B1/en
Priority to ZA00802121A priority patent/ZA802121B/xx
Priority to CA000349530A priority patent/CA1162778A/en
Priority to IT67559/80A priority patent/IT1128410B/it
Priority to IL59807A priority patent/IL59807A/xx
Priority to PCT/DK1980/000023 priority patent/WO1980002222A1/en
Priority to JP55500874A priority patent/JPH0210593B2/ja
Priority to DE8080900719T priority patent/DE3067809D1/de
Publication of DK150779A publication Critical patent/DK150779A/da
Priority to EP80900719A priority patent/EP0026211B1/en
Priority to NO80803710A priority patent/NO154370C/no
Priority to US06/389,934 priority patent/US4504529A/en
Publication of DK153337B publication Critical patent/DK153337B/da
Application granted granted Critical
Publication of DK153337C publication Critical patent/DK153337C/da

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/18Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
    • H05K3/181Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
    • H05K3/182Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating characterised by the patterning method
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1603Process or apparatus coating on selected surface areas
    • C23C18/1607Process or apparatus coating on selected surface areas by direct patterning
    • C23C18/1608Process or apparatus coating on selected surface areas by direct patterning from pretreatment step, i.e. selective pre-treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/28Sensitising or activating
    • C23C18/285Sensitising or activating with tin based compound or composition
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/22Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20
    • G03G15/225Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20 using contact-printing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/65Apparatus which relate to the handling of copy material
    • G03G15/6582Special processing for irreversibly adding or changing the sheet copy material characteristics or its appearance, e.g. stamping, annotation printing, punching
    • G03G15/6585Special processing for irreversibly adding or changing the sheet copy material characteristics or its appearance, e.g. stamping, annotation printing, punching by using non-standard toners, e.g. transparent toner, gloss adding devices
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/05Patterning and lithography; Masks; Details of resist
    • H05K2203/0502Patterning and lithography
    • H05K2203/0517Electrographic patterning
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/12Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
    • H05K3/1266Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by electrographic or magnetographic printing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/29Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
    • Y10T428/2982Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
    • Y10T428/2991Coated
    • Y10T428/2998Coated including synthetic resin or polymer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)

Description

DK 153337B
i
Den foreliggende opfindelse angår en fremgangsmåde til selektiv sensibilisering af et isolerende substrats overflade med henblik på en efterfølgende behandling med en aktivator efterfulgt af strømløs afsætning af et metal derpå. Ved fremgangs-5 måden ifølge opfindelsen fremstilles det sensibiliserede mønster på det isolerende substrat ved et tørt, xerografisk trin.
Indenfor elektronikken har det længe været et ønske at være i stand til at overføre ledende materialer i et i forvejen fast-lagt mønster (selektivt) med god vedhæftning til overfladen af et isolerende substrat. Det nævnte forud fastlagte mønster kan have detaljer, som ikke berører andre dele af mønsteret. Derfor har der været anvendt strømløs afsætning af metallet til fremstilling af mønsteret.
Der er grundliggende to muligheder for fremstilling af substratet til strømløs afsætning af et metal: - de dele af overfladen, der ikke skal metal 1iseres, kan maskeres og/eller 20 - de dele, som skal metal 1iseres, kan sensibiliseres.
Indenfor dette område kendes en fremgangsmåde til tilvejebringelse af et ledende materiale på et isolerende substrat omfattende tre essentielle trin (forkonditionering og skylning ikke 25 indbefattet); se f.eks. US patentskrift nr. 4.042.730. De første to trin ved denne fremgangsmåde betegnes almindeligt som "sensibilisering" og "aktivering”. Det tredje trin er den strømløse afsætning af det ledende materiale. Disse fremgangsmådetrin gennemføres almindeligvis i vandige opløsninger.
30 Under sensibiliseringstrinnet påføres en reducerende metalfor bindelse f.eks. en tin (II) forbindelse på det isolerende substrats overflade ved neddypning af substratet i en opløsning, der indeholder den reducerende forbindelse. Denne forbindelse "sensibiliserer " overfladen til efterfølgende påføring af en 35 "aktivator".
Aktiveringstrinnet omfatter påføring af en forbindelse af et ædelt metal (sædvanligvis PdC^) til den sensibiliserede over- 2
DK 153337B
flade på det isolerende substrat. Når det sensibiliserede substrat neddyppes i en opløsning, der indeholder aktivatorforbindelsen, reduceres forbindelsen til dens metalliske tilstand og genudfældes på de sensibiliserede dele af substratet, hvil-5 ket giver "aktivatoren" eller "katalysatoren" for den efterfølgende strømløse afsætning. Udfældningen af aktivatoren er en kemisk redox-proces, hvor sensibi1isatoren (Sn2+) oxideres (til Sn*+) og aktivatorforbindelsen (Pd2+) reduceres til at give aktivatormetallet (Pd°). Sensibi1isatoren virker til at 10 forøge aktivatorens vedhæftning til substratet.
Der er imidlertid to hovedproblemer ved sensibiliseringstrinnet ved den ovenfor forklarede fremgangsmåde i tre trin. Det første er, at det er vanskeligt at opnå en selektiv sensibilisering af overfladen. Det andet problem er, at vedhæftningen 15 af det reducerende middel til substratet ikke er så god, når det er påført ved den våde proces.
Et andet forsøg på at opnå et mønster er selektiv afsensibi-lisering ved hjælp af ultraviolet lys som beskrevet i procee-dings of the conference Physics in Industry 1976: "New Photoimaging Processes for Industriel Use - a Link between Basic and Applied Research", side 101-105.
For at forbedre vedhæftningen er de separate processer til sen-25 sibilisering og aktivering blevet kombineret til en proces, som beskrevet i US patentskrift nr. 3.969.554. Anvendelsen af en sensibi1isator/aktivator-opløsning i et enkelt bad er beskrevet med visse detaljer af Rantell og Holtz i Electroplating and Metal Finishing, bind 27, nr. 2, 1974, side 15-20.
30
For nyligt er der beskrevet rent organiske opløsninger til sensibilisering, f.eks. i DK patentskrift nr. 132.801. I dette patentskrift er funktionen af disse opløsninger og fordelene og ulemperne ved vandige og organiske opløsningsmidler angivet på omfattende måde. Den metode, hvor der anvendes et organisk 3 5 opløsningsmiddel, er baseret på direkte afsætning af f.eks. Pd på substratets overflade ved afdampning af det organiske opløsningsmiddel, som også kan have ætset substratets overflade.
3
DK 153337B
Ved en yderligere "additiv" proces til fremstilling af trykte kredsløb anvendes såkaldte katalytiske lakker, som ifølge DE offentliggørelsesskrift nr. 2.635.457 indeholder et bindemiddel, vand, et metalsalt, et kompleksdannende middel og et re-5 duktionsmiddel. Den katalytiske lak kan påføres et substrat f.eks. ved serigrafi.
Den terminimologi, der er almindeligt anvendt på dette område, er blevet forklaret detaljeret ovenfor for at give en klar be-^ skrivelse af de forskellige procestrin, der gennemføres under fremstillingen af det isolerende substrat til strømløs metalafsætning. Under alle omstændigheder bør man undgå at sammenblande betegnelserne "sensibilisering" og "aktivering". Det må imidlertid indrømmes, at denne terminologi uheldigvis ikke anvendes i hele litteraturen med den samme betydning, som skit-15 seret ovenfor. Dette vil blive forklaret mere detaljeret nedenfor i forbindelse med den teknik, der er kendt fra US patentskrift nr. 3.880.689.
De ovenfor beskrevne "våde" processer har, som allerede nævnt, O Π de ulemper, at præcisionen ved metalliseringen er lav, da det er bestemt af den metode, der anvendes til frembringelse af det sensibiliserede mønster. Som et eksempel kan nævnes serigrafi, hvor opløsningen ikke vil være bedre end silkedugens maskevidde. Der kan også forekomme sammenløb og diffluens før 25 tørring. Et andet problem i forbindelse med de kendte processer til sensibilisering og aktivering er, at vedhæftningen af det afsatte materiale ikke er tilfredsstillende, et problem, som er velkendt fra ikke-selektiv metallisering. Yderligere forslag til løsninger af disse problemer er f.eks. beskrevet i 30 SE patentpublikation nr. 350.774 (indgnidning sammen med svag formaling), GB patentskrift nr. 1.324.653 (ionbombardement) og DE patentskrift nr. 1.571.802 (afsætning af et bindende lag før atomisering af metalpartikler).
35 En "subtraktiv" metode til frembringelse af et ledende mønster på substratets overflade består i elektrostatisk udfældning af et maskeringslag, der er et positivt billede af det ønskede ledende mønster på et eksisterende lag af Cu på det isolerende
DK 153337 B
4 substrat. Ifølge US patentskrifterne nr. 2.966.429 og 2.910.351 tilvejebringes laget ved at sammensmelte et elektrostatisk overført tyndt lag af et dielektrisk pulver. Efter fjernelse af det ikke-maskerede Cu-lag efter fjernelse af 5 masken, vil det ledende mønster blive tilbage.
Denne kendte metode er tidsforbrugende, men giver gode resultater, når der fremstilles grove detaljer, såsom trykte kredsløb med tilfredsstillende vedhæftning. Imidlertid anvendes stationære "mønsterelektroder" til overføringen af mønsteret, 10 hvilket gør det vanskeligt at ændre de ledende mønster. I virkeligheden består overføringen kun af selektiv beskyttelse af dele af et lamineret lag af Cu, mod at blive ætset bort, således at den gode vedhæftning kan tilskrives lamineringsprocessen.
15 I US patentskrift nr. 3.880.689 beskrives en metode, som sigter mod at styrke kontrasten og tætheden i et konventionelt fremkaldt, magnetisk billede ved strømløs afsætning af et metal på bi 1 leddelene. Til dette formål anvendes et tonerfrem-kaldermiddel, der indeholder en forbindelse (i det nævnte patentskrift betegnet "sensibiliseringsmiddel"), der tillader, at det synlige billede afsættes strømløst. Det er anført, at det fremkaldte billede kan overføres til en strømplade, og en plade med trykt kredsløb dannes ved strømløs afsætning på det o c overførte billede.
Som "sensibiliseringsmidler" nævnes i US patentskrift nr. 3.880.689 metallerne fra gruppe IB og VIII i det periodiske system samt tin. Palladium, platin, guld og sølv foretrækkes, 30 idet palladium foretrækkes mest. "Sensibi1iseringsmidlerne" afsættes på substratet i form af en forbindelse deraf sammen med tonerpulveret. Ved behandling med den strømløse afsætningsopløsning reduceres "sensibi1iseringsmidlet" til dannelse af en katalysator for strømløs afsætning. Denne reduktion gen-35 nemføres med et reduktionsmiddel, der er indeholdt i afsætningsopløsningen, f.eks. formaldehyd eller en NaH2P02~opløs-ning. Det reducerede metalliske "sensibiliseringsmiddel", fortrinsvis palladium, giver de ønskede bindingssteder for metallet, det skal afsættes på det synlige billede.
5
DK 153337 B
Den ovenfor anførte beskrivelse af mekanismen ved "sensibilisering" ifølge US patentskrift nr. 3.880.689 gør det klart, at de metaller, der betegnes som "sensibi1iseringsmidlér" i virkeligheden er "aktivatorer" i overensstemmelse med den alminde-5 lige terminologi som beskrevet ovenfor. De påføres til substratet i form af forbindelser, der reduceres til metallet under afsætningstrinnet ved hjælp af et reduktionsmiddel, der er indeholdt i afsætningsopløsningen.
Den samme mekanisme gælder for det tilfælde, der er beskrevet 10 i US patentskrift nr. 3.880.689, hvor tin (tindibromid) angives at blive anvendt som "sensibiliseringsmiddel". Under den forudsætning, at tin virkelig reagerer på den beskrevne måde, hvilket er tvivlsomt, vil Sn2+-forbindelsen ifølge den mekanisme, der er beskrevet i US patentskrift nr. 3.880.689 blive X 5 reduceret ved hjælp af et reduktionsmiddel, der er indeholdt i afsætningsopløsningen. Tin i dets metalliske tilstand ville blive udfældet på substratet under dannelse af de bindingssteder for metallet, der skal afsættes strømløst. Imidlertid er 2Q tin (II) salte kendt for at være kraftige reduktionsmidler. Det synes derfor at være tvivlsomt, hvorvidt et tin (II) salt vil blive reduceret til metallisk tin· i en almindelig afsætningsopløsning.
Den magnetiske billeddannelsesproces, der er beskrevet i US 2 5 patentskrift nr. 3.880.689 er ikke tilfredsstillende til fremstilling af strømløst afsatte mønstre på isolerende substrater, navnlig trykte kredsløb, af de i de følgende anførte grunde. Vedhæftningen af det afsatte metal på substratet er ikke god på grund af, at der ikke er nogen oxyderet sensibi- o Π liseringsmiddel (ifølge den sædvanlige terminologi * en tin (IV)-forbindelse) til stede mellem substratet og det ædle metal (Pd), der sikrer god binding. Desuden er processen med strømløs afsætning af et metal yderst langsomt. Toneren, der indeholder "sensibiliseringsmidlet" (ifølge den terminologi, 35 der anvendes i US patentskrift nr. 3.880.689 .= Pd2+), fremstilles i et organisk opløsningsmiddel. Kun en lille mængde "sensibi1iserings"-forbindelse er til stede på tonerens over- 6
DK 153337B
flade, og denne må først reduceres, før den strømløse afsætning af metal kan starte ved de således skabte katalytiske steder. Derfor er denne fremgangsmåde ikke velegnet til påføring af tykke lag af ren metal, hvilket er nødvendigt for 5 trykte kredsløb, da det ville være nødvendigt med lang tid i løbet af hvilken tid, det alkaliske middel, der er til stede i afsætningsopløsningen ifølge denne kendte proces, ville angribe det polymere substrat og det afsatte kobber ville blive omdannet til CuO.
10
Endelig kendes tonere, der indeholder et farvestof og et che- lat af EDTA med et metal, fra DE offentliggørelsesskrift nr. 23 24 378. Dette metal kan f.eks. være tin. Disse kendte tonere kan lades positivt og anvendes til udvikling af elektriske billeder ved elektrofotografi.
15
Det er formålet med den foreliggende opfindelse at tilvejebringe en fremgangsmåde til selektiv sensibilisering af et isolerende substrats overflade med henblik på en efterfølgende behandling med en aktivator, efterfulgt af strømløs afsætning 20 af et metal derpå, hvilken fremgangsmåde kan gennemføres hurtigt og giver en god vedhæftning af det afsatte metal på substratet, god opløsning af mønsteret, og som gør det let at ændre mønsteret.
25 Dette opnås ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen, hvor der anvendes en tør, xerografisk metode til sensibilisering af det isolerende substrat. Denne fremgangsmåde omfatter dannelse af et latent billede af det ønskede mønster ved xerografi, fremkaldelse af det latente billede med tonerpulver, der indehol-30 der en sensibi1isator (ifølge den sædvanlige terminologi i forbindelse med processen i tre trin), og overføring af det fremkaldte billede til det isolerende substrats overflade, hvorved der opnås et sensibiliseret substrat, som kan behandles med aktiveringsopløsningen, og derefter med afsætningsop-35 løsningen.
Opfindelsen angår således en fremgangsmåde til selektiv sensibilisering af et isolerende substrats overflade med henblik på
DK 153337B
7 en efterfølgende behandling med en aktivator efterfulgt af strømløs afsætning af et metal derpå, hvilken fremgangsmåde er ejendommelig ved, at man gennemfører sensibiliseringen som en tør proces, hvor der ved en xerografisk proces dannes et la-5 tent billede af metalmønsteret, der skal afsættes ved strømløs afsætning, fremkalder det latente billede under anvendelse af et tonerpulver, der indeholder en metalforbindelse, der er sensibi1isator for den aktivator, der anvendes til strømløs afsætning, overfører det fremkaldte billede til det isolerende 10 substrats overflade og behandler det for at sikre dets vedhæftning derti1.
Ifølge den foreliggende opfindelse anvendes den tørre sensibiliseringsproces under anvendelse af en xerografisk metode i „ „ stedet for den våde sensibiliseringsproces ved den kendte tre-15 trinsproces til fremstilling af ledende mønstre på isolerende substrater. Den tørre sensibiliseringsmetode ifølge opfindelsen, hvor et latent billede fremstillet ved xerografi fremkaldes med et tonerpulver, der indeholder sensibi1iseringsmid-2Q del, og derefter overføres til substratet, giver flere uventede fordele i forhold til den kendte teknik.
Anvendelsen af xerografi gør det muligt på yderst let måde at fremstille et hvilket som helst ønsket mønster ved en simpel billededannelsesproces, der kan gennemføres i et hvilket som 25 helst almindeligt xerografisk apparat. Fine mønstre med høj opspaltning kan let opnås.
Anvendelsen af sensibiliseringsmidlet ifølge den kendte tretrinsproces, giver en god vedhæftning af det ædle metal (akti-30 vator eller katalysator) og af det strømløst afsatte metal på substratet. En sådan vedhæftning kan ikke opnås, når aktivatoren påføres direkte til substratet. Adhæsionen af selve sensibiliseringsmidlet til substratet kan let opnås f.eks, ved "fastbrænding" af tonerpulveret, sådan som det vil blive for-35 klaret nedenfor.
En yderligere fordel er, at den samlede proces til strømløs metal afsætning kan gennemføres meget hurtigt. Det xerografiske
DK 153337B
8 sensi bi 1iseringstrin er i sig selv meget hurtigt. Det giver også en vis overfladeruhed, som begunstiger hastigheden ved afsætning og vedhæftning. Derpå neddyppes substratet i aktivatoropløsningen, hvor den metalliske aktivator (Pd°) hurtigt 5 afsættes på de sensibiliserede dele af overfladen ved en io-nisk redoxproces. Efter skylning neddyppes substratet, hvor aktivatoren allerede er til stede i dens aktive tilstand i metalliseringsbadet, hvor der straks starter strømløs metalafsætning .
10
Fremgangsmåden ifølge opfindelsen er meget gunstig set fra et miljømæssigt synspunkt, da der ikke kræves forudgående ætsning af substratet, og de spildproblemer, der især er ved de sub-traktive metoder, undgås fuldstændigt. Desuden gør et meget lavt palladiumforbrug processen meget økonomisk.
Den tørre sensibilisering af et isolerende substrat under anvendelse af en xerografisk proces ifølge opfindelsen foreslås fra første gang med den foreliggende opfindelse. Den fremgangsmåde, der er beskrevet i US patentskrift nr. 3.880.689 20 refererer til magnetisk trykning, dvs. en anden teknologi. En simpel overføring af fremgangsmåden fra magnetisk trykning til en elektrofotografisk billeddannelsesproces giver ikke fremgangsmåden ifølge opfindelsen, men derimod en fremgangsmåde, hvor det xerografiske billede ville blive fremkaldt med et to-2 5 nerpulver, der indeholder aktivatorforbindelsen (ædelmetalforbindelse; f.eks. PdCl2)· En hurtig afsætning af det efterfølgende afsatte metal og god vedhæftning deraf ville ikke kunne opnås på denne måde.
30 Det tonerpulver, der anvendes ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen omfatter sædvanligvis et termoplastisk materiale. Sensibiliseringsmidlet, f.eks. en Sn2 + -forbindel se, kan udfældes på overfladen af hver pulverpartikel. Ved en anden udførelsesform kan Sn2+-forbindelsen fordeles i hver pulverpartikel.
35
Tonerpul veret, der anvendes ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen, kan have den egenskab, at når det er til stede i smeltet tilstand, befugtiger det den overflade, der skal sensibiliseres.
DK 153337 B
9
Efter overføringen af det latente billede, kan substratet og tonerpulveret behandles med et organisk opløsningsmiddel til opnåelse afvedhæftning. Ved en anden udførelsesform kan vedhæftning mellem tonerpulveret og substratoverfladen også opnås 5 med i det mindste lokal smeltning af substratoverfladen.
Tonerpulveret kan også indeholde et infrarødt, absorberende materiale, eller hovedbestanddelen af tonerpulveret kan være et materiale med stor tabsvinkel ved mikrobølgefrekvenser.
1 o
Opfindelsen vil blive yderligere beskrevet i det følgende under henvisning til foretrukne udførelsesform og eksempler på fremstillinger, som har vist sig at være særligt fordelagtige ved den praktiske udførelse af opfindelsen.
15 Det, der gør det muligt at udnytte en procedure, som den, der er specificeret ved den foreliggende opfindelse, og som ikke hidtil har været kendt, er, at det stadig kan være fordelagtigt at anvende en tretrinsproces, som den der er beskrevet i indledningen, men at det er muligt at undgå den våde proces 20 ved overføringen af Sn+2-forbindelsen, den sensibiliserende del af processen og den efterfølgende selektive afsensibi1ise-ring. Vedhæftningen mellem Sn+2-forbindelsen og substratets overflade ved den våde proces er ikke overvældende god, men ganske overraskende har det vist sig, at den overføring, der 25 udføres i overensstemmelse med opfindelsen, giver en vedhæftning, som er yderst god, dvs. at Pd- og Cu-atomer afsat ved de efterfølgende procestrin er bedre fixeret til substratet, end det, der hidtil har været muligt.
30 Den xerografiske proces har vist sig at være velegnet til overføring af den sensibiliserende Sn+2-forbindelse, da den giver både en passende dækning af det isolerende substrat og en passende opspaltning, hvilket normalt er modstridende krav. Endvidere er mange af de polymerharpikser, der anvendes som toningspulvere i xerografiske kopieringsmaskiner, velegnede 3 9 med hensyn til vedhæftning til et stort antal forskellige substratmaterialer. Som et eksempel kan der refereres til dem, der er nævnt i US patentskrift nr. 2.966.429. Desuden vil det
DK 153337B
10 være enkelt for en fagmand at efterprøve i handlen tilgængelige polymerharpiksers anvendelighed. Gode resultater opnås med så forskellige materialer som polyacrylater, polyamider, polyvinylchlorider og phenolharpiks. Som velegnede substrat-5 materialer kan nævnes polyestere, polyacrylater, polyvinylchlorider, polycarbonater, dvs. en stor del af de materialer, der anvendes i praksis inden for elektronikken.
Fixeringen af det xerografisk overførte pulver til overfladen af det isolerende substrat kan dels foregå på måder, som i og for sig er kendte ved pulvere, som ikke indeholder sensibiliserende metalforbindelser, typisk ved "fastbrænding". Dette vil sige, at hver pulverpartikel opvarmes, så den ved smeltning flyder ud på substratoverfladen i en grad, som afhænger af befugtningen (overfladespændingen). Der er ved fremgangsmå- 15 den ifølge opfindelsen ikke samme krav til en porefri sammenflydning, som stilles i de fremgangsmåder, som baserer sig på at benytte det opnåede lag som afmaskning før ætsning. Dette hænger sandsynligvis sammen med sensibiliseringsmekanismen, som snarere end at kræve et jævnt lag som grundlag for den ef- 20 terfølgende strømløse metal afsætning, benytter de på overfladen anbragte partikler af metalforbindelse som kim. Dvs., at kravene til vedhæftning er større end kravene til sammenflydning.
Med henblik på at opnå en lokal opvarmning af de overførte partikler, er disse tilsat stoffer, som absorberer energi-stråling, hvis bølgelængde afhænger af anvendelsen og kombinationen substrat/pulver. I de tilfælde, at pulvermaterialet ikke er termoplatisk, vil det være formålstjenligt at lade 30 hver pulverpartikel opvarme substratoverfladen i sin berøringsflade, og et passende valg af blødgør ingstemperatur for substratet vil muliggøre fastsmeltning i dette tilfælde. Denne metode er blot et specialtilfælde af den metodem som består i at opvarme hele overfladen til smeltning.
35
Under de omstændigheder, at en opvarmning er uønsket, kan fikseringen foretages ved at lade pulveret på substratet passere en atmosfære med passende damptryk af et organisk opløs-
DK 153337B
η ningsmiddel, som på kendt vis får substrat og partikler til at klæbe sammen, hvorefter opløsningsmidlet atter inddampes.
Der er flere muligheder for fremstilling af de ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen benyttede præparerede pulvere. De ved 5 udviklingen af fremgangsmåden ifølge opfindelsen hidtil benyttede metoder har alle haft til hensigt at sørge for, at hver pulverpartikel i det mindste på sin overflade har en rimelig jævn fordeling af Sn+2-forbindelser. Dette kan opnås på to principielt forskellige måder: enten direkte ved imprægnering af hver partikels overflade eller ved fremstilling af en fast masse med tilstræbt jævn fordeling af den sensibiliserende forbindelse i plastmaterialet, som derpå formales på almindelig kendt vis til opnåelse af en passende partikelstørrelse.
Denne fastsættes af opbygningen af det xerografiske overfø-X 5 ringsapparatur og hører til kendt teknik inden for det pågældende fagområde.
Eksempel 1.
20 Fremstilling af et sensibiliserende plastpulver med en tilstræbt jævn fordeling af tinforbindelser i materialet: 10 g af et plastmateriale tilsættes 0,05 g - 0,5 g af SnCl2/ 2H2O. Denne pulverblanding kan underkastes en tør eller våd formaling i en vandig eller en organisk væske. Herefter kan 25 væsken eventuelt fjernes ved en konventionel tørringsteknik, f.eks. fordampning, filtrering eller spray-tørring.
Imprægnering af de enkelte plastpartikler med en tinforbindelse ifølge opfindelsen kan tage sit udgangspunkt i allerede eksisterende pulvere, men kan tillige foretages ved fremstil-
v U
lingen af plastpulveret.
Endnu mere hensigtsmæssigt kan den ønskede fordeling af tinforbindelse i den enkelte plastpartikel frembringes under pulverf remsti 11 ingen. Dette kan eksempelvis opnås ved at forstøv-35 ningstørre (spray-tørre) en plastholdig opløsning, som tillige indeholder en tinforbindelse.
Idet visse Sn+2-forbindelser, eksempelvis SnCl2, 2H2O, er opløselige i organiske opløsningsmidler, er det muligt at på-
DK 153337B
12 virke pulverpartikler individuelt med et opløsningsmiddel, som får partiklerne til at kvælde og dermed optage de Sn-forbin-delser, som er opløst i det organiske opløsningsmiddel. Bortdampning af opløsningsmidlet frembringer den ønskede fordeling 5 af SnCl2, 2H2O.
Eksempel 2.
Et plastpulver, som kvælder op under anvendelse af et organisk opløsningsmiddel opslæmmes i et sådant opløsningsmiddel, som tilsættes en mættet opløsning af SnCl2, 2H2O i methanol, uden at der sker udfældning af tinforbindelser. Efter en vis reaktionstid kan opløsningsmidlet igen fjernes, f.eks. ved filtrering eller spray-tørring af suspensionen indeholdende det således præparerede pulver. Mængden af tilsat tinforbindelse af-15 hænger meget af kombinationen af plastmateriale og opløsningsmiddel samt disses volummæssige forhold og endvidere af den benyttede pulvertørringsmetode. For så vidt plastmaterialet kan bringes i fuldstændig opløsning i et organisk opløsningsmiddel, kan der hertil sættes en tinforbindelse ligeledes i et 20 organisk opløsningsmiddel, hvorefter det imprægnerede plastpulver kan vindes ved en konventionel tørringsproces, eksempelvis spray-tørring af den plastholdige opløsning.
En anden metode, som har været benyttet med held, består i ke-25 misk udfældning af en Sn+2-forbindelse på pulverpartiklerne under omrøring.
Eksempel 3,
Udfældning af tinforbindelse på hver enkelt plastpartikel: 20 10 g plastpulver opslæmmes i 200 ml methanol. Hertil tilsættes under omrøring en mættet opløsning af SnCl2/ 2H2O i methanol i en mængde, som er afpasset efter plastpulverets partikelstørrelse. Vægtmængden af SnCl2# 2H2O kan f.eks. være 1 - 10% af piastpulveret. Under omrøring tilsættes der et basisk agens, 35 hvorefter det opslæmmede plastpulver virker som scavenger for udfældeisen af hydroxy-tin-chlorider. Det således præparerede pulver kan herefter tørres, eventuelt formales og sigtes.
DK 153337B
13
Der er ved udviklingen af fremgangsmåden ifølge opfindelsen opnået, at man kan sensibilisere en isolerende overflade med henblik på efterfølgende strømløs metallisering af kendte metoder, uden at stille krav om forudgående udformning af spe-5 cielle mastere eller masker, idet ethvert forlæg, som kan kopieres med en xerografisk proces, også vil kunne overføres til den ønskede substatoverflade. Fremgangsmåden er lidet ressourceforbrugende og meget miljøvenlig, idet bortætsning af det overflødige metallag undgås. Endvidere viser det sig, at det 10 ved den strømløse metallisering påførte metallag har en langt bedre adhæsion til substratoverfladen (eksempelvis som målt ved Scotch Tape metoden), end hvad der gælder for lag af samme tykkelse, men påført ved konventionel strømløs afsætning eller ved pådampning eller vpd-metoder (vpd: vapour phase depositi-15 on). Det har endog vist sig, at nærværende metode stiller lang ringere krav til rengøring af substratets overflade forud for metalliseringen end ovennævnte metoder.
Eksempel 4.
20 Tør selektiv sensibilisering af et isolerende substrats overflade. En fotoledende isolerende master fremføres med en hastighed af 0,25 m/s forbi en koronaudladningsanordning med en højspænding på 6500 volt, som oplader masteren på en ensartet måde. Det elektrostatiske billede, som fremkommer efter be-25 lysning, dvs. projektion af et kontrastrigt forlæg på masteren, fremkaldes ved at nævnte master føres forbi en magnetbørste, som indeholder 5% præparerede pulverpartikler fremstillet som beskrevet i eksempel 1 under anvendelse af spray-tørring og 95¾ jernpartikler, som er overtrukket med en polymer.
3 0
Denne polymer har til formål at give jernpartiklerne en passende placering i den triboelektriske række i forhold til den til det præparerede pulver benyttede plastkvalitet. Et substrat i form af en 0,15 mm tyk polycarbonatfol ie anbringes overfor masteren og polaritetsreversion ved hjælp af en anden 3 5 koronaudladningsanordning overfører mønsteret af præparerede pulverpartikler fra masteren til substratet. Substratet opvarmes ved passage af glatte, 120eC varme ruller, hvorved de

Claims (8)

1. Fremgangsmåde til selektiv sensibilisering af et isolerende substrats overflade med henblik på en efterfølgende behandling med en aktivator efterfulgt af strømløs afsætning af et metal derpå, kendetegnet ved, at man gennemfører sensibiliseringen som en tør proces, hvor der ved en xerografisk proces dannes et latent billede af metalmønsteret, der skal afsættes ved strømløs afsætning, fremkalder det latente billede under anvendelse af et tonerpulver, der indeholder en metalforbindelse, der er sensibi1isator for den aktivator, der anvendes til strømløs afsætning, overfører det fremkaldte billede til det isolerende substrats overflade, og behandler det for at sikre dets vedhæftning dertil.
2. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at tonerpulveret er et termoplastisk materiale, der indeholder en Sn+2-forbindelse udfældet på overfladen af hver pulverpartikel .
3. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, 2 5 at tonerpul veret er et termoplastisk materiale, der indeholder en Sn+2-forbindelse fordelt i hver pulverpartikel.
4. Fremgangsmåde ifølge krav 2 eller 3, kendetegnet ved, at den overflade, der skal sensibiliseres er befugtet med 3 0 det smeltede plastmateriale.
5. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at vedhæftningen mellem tonerpul veret og substratets overflade opnås ved anvendelse af et organisk opløsningsmiddel. 35
6. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at vedhæftningen mellem substratets overflade og pulverpartiklerne opnås ved i det mindste lokal smeltning. DK 153337 B
7. Fremgangsmåde ifølge krav 1 eller 6, kendetegnet ved, at pulverpartiklerne indeholder et infrarødt, absorberende materiale.
8. Fremgangsmåde ifølge krav 1 eller 6, kendetegnet 5 ved, at tonerpul verets ihovedbestanddel er et materiale med stor tabsvinkel ved mikrobølgefrekvenser. 10 20 25 30 35
DK150779A 1979-04-11 1979-04-11 Fremgangsmaade til toer sensibilisering af en isolerende overflade DK153337C (da)

Priority Applications (12)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DK150779A DK153337C (da) 1979-04-11 1979-04-11 Fremgangsmaade til toer sensibilisering af en isolerende overflade
ZA00802121A ZA802121B (en) 1979-04-11 1980-04-10 Method for dry sensitization of an insulating surface and powder to be used in the method
CA000349530A CA1162778A (en) 1979-04-11 1980-04-10 Method for dry sensitization of an insulating surface and powder to be used in the method
IT67559/80A IT1128410B (it) 1979-04-11 1980-04-10 Procedimento e polvere per sensibilizzazione a secco di una superficie isolante ai fini della deposizione non elettrolitica di un rivestimento metallico
IL59807A IL59807A (en) 1979-04-11 1980-04-10 Method for dry sensitization of an insulating substrate surface and powder to be used in the method
IE732/80A IE49192B1 (en) 1979-04-11 1980-04-10 A process for dry sensitization of an insulating surface
PCT/DK1980/000023 WO1980002222A1 (en) 1979-04-11 1980-04-11 A method for drysensitization of an insulating surface and a powder for use with the method
JP55500874A JPH0210593B2 (da) 1979-04-11 1980-04-11
DE8080900719T DE3067809D1 (en) 1979-04-11 1980-04-11 A method for dry sensitization of an insulating surface
EP80900719A EP0026211B1 (en) 1979-04-11 1980-10-23 A method for dry sensitization of an insulating surface
NO80803710A NO154370C (no) 1979-04-11 1980-12-09 Fremgangsmaate til toerr, selektiv sensibilisering av et isolerende substrats overflate.
US06/389,934 US4504529A (en) 1979-04-11 1982-06-18 Xerographic method for dry sensitization and electroless coating of an insulating surface and a powder for use with the method

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DK150779 1979-04-11
DK150779A DK153337C (da) 1979-04-11 1979-04-11 Fremgangsmaade til toer sensibilisering af en isolerende overflade

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DK150779A DK150779A (da) 1980-10-12
DK153337B true DK153337B (da) 1988-07-04
DK153337C DK153337C (da) 1988-11-14

Family

ID=8105559

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK150779A DK153337C (da) 1979-04-11 1979-04-11 Fremgangsmaade til toer sensibilisering af en isolerende overflade

Country Status (12)

Country Link
US (1) US4504529A (da)
EP (1) EP0026211B1 (da)
JP (1) JPH0210593B2 (da)
CA (1) CA1162778A (da)
DE (1) DE3067809D1 (da)
DK (1) DK153337C (da)
IE (1) IE49192B1 (da)
IL (1) IL59807A (da)
IT (1) IT1128410B (da)
NO (1) NO154370C (da)
WO (1) WO1980002222A1 (da)
ZA (1) ZA802121B (da)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DK427780A (da) * 1980-10-10 1982-04-11 Neselco As Pulver til brug ved toer sensibilisering for stroemloes metallisering
DK148327C (da) * 1981-07-24 1985-11-04 Neselco As Pulver til brug ved toer sensibilisering for stroemloes metallisering
DE3134507A1 (de) * 1981-09-01 1983-03-17 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt "verfahren zur selektiven chemischen metallabscheidung"
DK153572C (da) * 1982-02-18 1988-12-19 Platonec Aps Pulver til brug ved toer aktivering for stroemloes metallisering, fremgangsmaade til fremstilling deraf samt anvendelse deraf
IT1184408B (it) * 1985-04-09 1987-10-28 Telettra Lab Telefon Processo per la fabbricazione di piastre e circuiti stampati,e prodotti relativi
US5244525A (en) * 1987-11-02 1993-09-14 Kimberly-Clark Corporation Methods for bonding, cutting and printing polymeric materials using xerographic printing of IR absorbing material
US4851320A (en) * 1988-05-23 1989-07-25 Tektronix, Inc. Method of forming a pattern of conductor runs on a dielectric sheet
US5213850A (en) * 1989-03-24 1993-05-25 Nippon Paint Co., Ltd. Process for plating a metallic deposit between functional pattern lines on a substrate
ATE185157T1 (de) 1990-11-19 1999-10-15 Loctite Corp Fotohärtbare polysiloxanzusammensetzung und verfahren zur herstellung
US5269980A (en) * 1991-08-05 1993-12-14 Northeastern University Production of polymer particles in powder form using an atomization technique
DE4142658A1 (de) * 1991-12-19 1993-06-24 Siemens Ag Verfahren zum aufbringen von lot auf eine leiterplatte
US5304447A (en) * 1992-02-11 1994-04-19 Elf Technologies, Inc. Plateable toner and method for producing the same
DE4319759A1 (de) * 1993-06-15 1994-12-22 Bayer Ag Pulvermischungen zum Metallisieren von Substratoberflächen
DE19731346C2 (de) * 1997-06-06 2003-09-25 Lpkf Laser & Electronics Ag Leiterbahnstrukturen und ein Verfahren zu deren Herstellung
DE19942054A1 (de) * 1999-09-03 2001-12-06 Schott Glas Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltung
CN1539028A (zh) * 2001-06-04 2004-10-20 ���ڵٿ����޹�˾ 形成图案的方法
GB2381274A (en) * 2001-10-29 2003-04-30 Qinetiq Ltd High resolution patterning method
GB2382798A (en) * 2001-12-04 2003-06-11 Qinetiq Ltd Inkjet printer which deposits at least two fluids on a substrate such that the fluids react chemically to form a product thereon
US20040265531A1 (en) * 2003-06-30 2004-12-30 Mckean Dennis R. Sliders bonded by a debondable silicon-based encapsulant
EP2003939A1 (en) * 2007-06-14 2008-12-17 Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO Method for preparing a pattern for a 3-dimensional electric circuit
EP2524381A1 (en) * 2010-01-14 2012-11-21 The Regents Of The University Of California A universal solution for growing thin films of electrically conductive nanostructures
HUE069614T2 (hu) 2012-10-12 2025-03-28 Univ California Polianilin membránok, alkalmazásaik és vonatkozó eljárások
BR112015028583B1 (pt) 2013-05-15 2022-02-15 The Regents Of The University Of California Membranas de osmose direta compreendendo polianilina e método para sua formação bem como método de osmose direta
US10532328B2 (en) 2014-04-08 2020-01-14 The Regents Of The University Of California Polyaniline-based chlorine resistant hydrophilic filtration membranes

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3226256A (en) * 1963-01-02 1965-12-28 Jr Frederick W Schneble Method of making printed circuits
US3826747A (en) * 1972-05-15 1974-07-30 Canon Kk Toner for electrophotography
DE2815696A1 (de) * 1977-04-19 1978-11-02 Philips Nv Verfahren zur additiven herstellung von verdrahtungsmustern

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB299903A (en) * 1927-08-02 1928-11-02 Albert Ivan Gates Warren Improvements in processes for coating non-conducting substances with metals
GB567503A (en) * 1943-06-02 1945-02-16 Frank Enoch Kerridge Improvements in or relating to the production of metallic designs on non-metallic materials
US2910351A (en) * 1955-01-03 1959-10-27 Gen Electric Method of making printed circuit
US2947625A (en) * 1955-12-21 1960-08-02 Ibm Method of manufacturing printed circuits
US2966429A (en) * 1956-08-31 1960-12-27 Gen Electric Method of and apparatus for making printed circuits
US3043685A (en) * 1957-07-18 1962-07-10 Xerox Corp Xerographic and magnetic image recording and reproducing
US2939804A (en) * 1958-01-23 1960-06-07 Uarco Inc Resin particle coated with metal
NL241541A (da) * 1959-07-22
US3231374A (en) * 1960-09-02 1966-01-25 Rca Corp Methods for preparing etch resists using an electrostatic image developer composition
US3275436A (en) * 1962-07-24 1966-09-27 Xerox Corp Method of image reproduction utilizing a uniform releasable surface film
US3350202A (en) * 1964-10-27 1967-10-31 Union Carbide Corp Method of xerographically photosensitizing planographic printing plates
GB1175832A (en) * 1965-10-12 1969-12-23 Emi Ltd Improvements relating to the production of an Electrical Conductor Adhering to an Insulating Support
US3494790A (en) * 1965-10-29 1970-02-10 Texas Instruments Inc Preparation of welding surfaces on semiconductors
US3942983A (en) * 1967-06-09 1976-03-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Electroless deposition of a non-noble metal on light generated nuclei of a metal more noble than silver
BE720382A (da) * 1967-09-14 1969-02-17
NL157659B (nl) * 1967-09-22 1978-08-15 Philips Nv Werkwijze voor het langs fotografische weg vervaardigen van elektrisch geleidende koperpatronen.
NL6808469A (da) * 1968-06-15 1969-12-17
CA929705A (en) * 1969-01-13 1973-07-10 Ransburg Corporation Deposition materials and methods
US3691993A (en) * 1970-11-23 1972-09-19 Ibm Apparatus for transferring developed image
DE2159467A1 (de) * 1970-12-02 1972-07-13 Minolta Camera Kk Verfahren zur Herstellung eines flüssigen Entwicklers für die Elektrophotographie
US3745045A (en) * 1971-01-06 1973-07-10 R Brenneman Electrical contact surface using an ink containing a plating catalyst
US3880689A (en) * 1971-09-30 1975-04-29 Eastman Kodak Co Magnetic developer containing an electroless plating sensitizer, and method of using same
BE789988A (fr) * 1971-10-12 1973-04-12 Xerox Corp Composition de revelateur et procede pour son emploi
CA986770A (en) * 1972-04-10 1976-04-06 Jack C. Goldfrank Pressure fixable magnetic toners
JPS5187042A (da) * 1975-01-29 1976-07-30 Hitachi Metals Ltd
JPS5196330A (da) * 1975-02-21 1976-08-24
US4042730A (en) * 1976-03-29 1977-08-16 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Process for electroless plating using separate sensitization and activation steps
JPS5841760B2 (ja) * 1976-05-29 1983-09-14 神崎製紙株式会社 呈色剤の製造方法
US4307168A (en) * 1977-05-05 1981-12-22 Eastman Kodak Company Amplification of developed electrographic image patterns
JPS54126959A (en) * 1978-03-25 1979-10-02 Nippon Mektron Kk Method of producing circuit board

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3226256A (en) * 1963-01-02 1965-12-28 Jr Frederick W Schneble Method of making printed circuits
US3826747A (en) * 1972-05-15 1974-07-30 Canon Kk Toner for electrophotography
DE2815696A1 (de) * 1977-04-19 1978-11-02 Philips Nv Verfahren zur additiven herstellung von verdrahtungsmustern

Also Published As

Publication number Publication date
IE800732L (en) 1980-10-11
ZA802121B (en) 1981-04-29
JPH0210593B2 (da) 1990-03-08
IL59807A (en) 1983-11-30
NO154370C (no) 1986-09-03
WO1980002222A1 (en) 1980-10-16
EP0026211B1 (en) 1984-05-16
DK150779A (da) 1980-10-12
NO154370B (no) 1986-05-26
IT1128410B (it) 1986-05-28
US4504529A (en) 1985-03-12
JPS56500435A (da) 1981-04-02
IT8067559A0 (it) 1980-04-10
CA1162778A (en) 1984-02-28
DE3067809D1 (en) 1984-06-20
IE49192B1 (en) 1985-08-21
DK153337C (da) 1988-11-14
NO803710L (no) 1980-12-09
EP0026211A1 (en) 1981-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK153337B (da) Fremgangsmaade til toer sensibilisering af en isolerende overflade
US5268259A (en) Process for preparing an electroded donor roll
US3573041A (en) Process for preparing a planographic printing plate
US4710401A (en) Method of printing electrically conductive images on dielectric substrates
JPH07263841A (ja) 配線基板
US4698907A (en) Method for manufacturing a circuit board by a direct electrostatic transfer and deposition process
CA1046865A (en) Process for the preparation of printing forms
US4066453A (en) Process for the preparation of printing forms
JPS60206085A (ja) プリント回路板の製造法
US4717639A (en) Process for preparation of a stencil or resist image
US5494764A (en) Method for making printed circuit boards
CA1213993A (en) Dry sensitization plastic powder for electroless metal deposition
JP3909728B2 (ja) 印刷配線基板の製造装置
CA1062071A (en) Method of manufacturing an external electrically conducting metal pattern
US4084968A (en) Method of manufacturing electrically conductive metal layers on substrates
JP2005194327A (ja) 金属微粒子含有樹脂粒子、金属微粒子含有樹脂層および金属微粒子含有樹脂層の形成方法
JP7460047B2 (ja) 電子写真用トナーによる金属パターンの作製方法
US3578444A (en) Method of making positive-working lithographic plates by electrostatic image
CN100421533C (zh) 电子电路的制造方法和电子电路基板
CA1046866A (en) Process for the preparation of printing forms
US3300304A (en) Electrophotographic material and process
US3807305A (en) Metal photographic plate comprising a silver halide process
JPH07224178A (ja) 無極性樹脂用表面処理剤
DE2755851A1 (de) Material zur herstellung von druckformen
JPH06112627A (ja) プリント配線板の作製方法

Legal Events

Date Code Title Description
PBP Patent lapsed
PBP Patent lapsed