DK153337B - Fremgangsmaade til toer sensibilisering af en isolerende overflade - Google Patents
Fremgangsmaade til toer sensibilisering af en isolerende overflade Download PDFInfo
- Publication number
- DK153337B DK153337B DK150779AA DK150779A DK153337B DK 153337 B DK153337 B DK 153337B DK 150779A A DK150779A A DK 150779AA DK 150779 A DK150779 A DK 150779A DK 153337 B DK153337 B DK 153337B
- Authority
- DK
- Denmark
- Prior art keywords
- substrate
- powder
- deposition
- metal
- compound
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 92
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 title claims description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 67
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 53
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 48
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 29
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 28
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 24
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 24
- 239000012190 activator Substances 0.000 claims description 21
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 claims description 20
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 18
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 11
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 claims description 11
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 6
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 4
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 claims description 3
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 claims description 2
- 230000000763 evoking effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 25
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 9
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 7
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 6
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N heavy water Substances [2H]O[2H] XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N 0.000 description 6
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 6
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 6
- AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L tin(II) chloride (anhydrous) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sn+2] AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- -1 tin (II) compound Chemical class 0.000 description 2
- IUTCEZPPWBHGIX-UHFFFAOYSA-N tin(2+) Chemical class [Sn+2] IUTCEZPPWBHGIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSUXOVNWDZTCFN-UHFFFAOYSA-L tin(ii) bromide Chemical compound Br[Sn]Br ZSUXOVNWDZTCFN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGDUWKHMIDZUIX-UHFFFAOYSA-J O[Sn](Cl)(Cl)Cl Chemical class O[Sn](Cl)(Cl)Cl FGDUWKHMIDZUIX-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910002666 PdCl2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 244000052616 bacterial pathogen Species 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000009837 dry grinding Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005367 electrostatic precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011817 metal compound particle Substances 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001238 wet grinding Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/18—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
- H05K3/181—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
- H05K3/182—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating characterised by the patterning method
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1603—Process or apparatus coating on selected surface areas
- C23C18/1607—Process or apparatus coating on selected surface areas by direct patterning
- C23C18/1608—Process or apparatus coating on selected surface areas by direct patterning from pretreatment step, i.e. selective pre-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/28—Sensitising or activating
- C23C18/285—Sensitising or activating with tin based compound or composition
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/22—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20
- G03G15/225—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20 using contact-printing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/65—Apparatus which relate to the handling of copy material
- G03G15/6582—Special processing for irreversibly adding or changing the sheet copy material characteristics or its appearance, e.g. stamping, annotation printing, punching
- G03G15/6585—Special processing for irreversibly adding or changing the sheet copy material characteristics or its appearance, e.g. stamping, annotation printing, punching by using non-standard toners, e.g. transparent toner, gloss adding devices
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/05—Patterning and lithography; Masks; Details of resist
- H05K2203/0502—Patterning and lithography
- H05K2203/0517—Electrographic patterning
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/12—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
- H05K3/1266—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by electrographic or magnetographic printing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
- Y10T428/2991—Coated
- Y10T428/2998—Coated including synthetic resin or polymer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Description
DK 153337B
i
Den foreliggende opfindelse angår en fremgangsmåde til selektiv sensibilisering af et isolerende substrats overflade med henblik på en efterfølgende behandling med en aktivator efterfulgt af strømløs afsætning af et metal derpå. Ved fremgangs-5 måden ifølge opfindelsen fremstilles det sensibiliserede mønster på det isolerende substrat ved et tørt, xerografisk trin.
Indenfor elektronikken har det længe været et ønske at være i stand til at overføre ledende materialer i et i forvejen fast-lagt mønster (selektivt) med god vedhæftning til overfladen af et isolerende substrat. Det nævnte forud fastlagte mønster kan have detaljer, som ikke berører andre dele af mønsteret. Derfor har der været anvendt strømløs afsætning af metallet til fremstilling af mønsteret.
Der er grundliggende to muligheder for fremstilling af substratet til strømløs afsætning af et metal: - de dele af overfladen, der ikke skal metal 1iseres, kan maskeres og/eller 20 - de dele, som skal metal 1iseres, kan sensibiliseres.
Indenfor dette område kendes en fremgangsmåde til tilvejebringelse af et ledende materiale på et isolerende substrat omfattende tre essentielle trin (forkonditionering og skylning ikke 25 indbefattet); se f.eks. US patentskrift nr. 4.042.730. De første to trin ved denne fremgangsmåde betegnes almindeligt som "sensibilisering" og "aktivering”. Det tredje trin er den strømløse afsætning af det ledende materiale. Disse fremgangsmådetrin gennemføres almindeligvis i vandige opløsninger.
30 Under sensibiliseringstrinnet påføres en reducerende metalfor bindelse f.eks. en tin (II) forbindelse på det isolerende substrats overflade ved neddypning af substratet i en opløsning, der indeholder den reducerende forbindelse. Denne forbindelse "sensibiliserer " overfladen til efterfølgende påføring af en 35 "aktivator".
Aktiveringstrinnet omfatter påføring af en forbindelse af et ædelt metal (sædvanligvis PdC^) til den sensibiliserede over- 2
DK 153337B
flade på det isolerende substrat. Når det sensibiliserede substrat neddyppes i en opløsning, der indeholder aktivatorforbindelsen, reduceres forbindelsen til dens metalliske tilstand og genudfældes på de sensibiliserede dele af substratet, hvil-5 ket giver "aktivatoren" eller "katalysatoren" for den efterfølgende strømløse afsætning. Udfældningen af aktivatoren er en kemisk redox-proces, hvor sensibi1isatoren (Sn2+) oxideres (til Sn*+) og aktivatorforbindelsen (Pd2+) reduceres til at give aktivatormetallet (Pd°). Sensibi1isatoren virker til at 10 forøge aktivatorens vedhæftning til substratet.
Der er imidlertid to hovedproblemer ved sensibiliseringstrinnet ved den ovenfor forklarede fremgangsmåde i tre trin. Det første er, at det er vanskeligt at opnå en selektiv sensibilisering af overfladen. Det andet problem er, at vedhæftningen 15 af det reducerende middel til substratet ikke er så god, når det er påført ved den våde proces.
Et andet forsøg på at opnå et mønster er selektiv afsensibi-lisering ved hjælp af ultraviolet lys som beskrevet i procee-dings of the conference Physics in Industry 1976: "New Photoimaging Processes for Industriel Use - a Link between Basic and Applied Research", side 101-105.
For at forbedre vedhæftningen er de separate processer til sen-25 sibilisering og aktivering blevet kombineret til en proces, som beskrevet i US patentskrift nr. 3.969.554. Anvendelsen af en sensibi1isator/aktivator-opløsning i et enkelt bad er beskrevet med visse detaljer af Rantell og Holtz i Electroplating and Metal Finishing, bind 27, nr. 2, 1974, side 15-20.
30
For nyligt er der beskrevet rent organiske opløsninger til sensibilisering, f.eks. i DK patentskrift nr. 132.801. I dette patentskrift er funktionen af disse opløsninger og fordelene og ulemperne ved vandige og organiske opløsningsmidler angivet på omfattende måde. Den metode, hvor der anvendes et organisk 3 5 opløsningsmiddel, er baseret på direkte afsætning af f.eks. Pd på substratets overflade ved afdampning af det organiske opløsningsmiddel, som også kan have ætset substratets overflade.
3
DK 153337B
Ved en yderligere "additiv" proces til fremstilling af trykte kredsløb anvendes såkaldte katalytiske lakker, som ifølge DE offentliggørelsesskrift nr. 2.635.457 indeholder et bindemiddel, vand, et metalsalt, et kompleksdannende middel og et re-5 duktionsmiddel. Den katalytiske lak kan påføres et substrat f.eks. ved serigrafi.
Den terminimologi, der er almindeligt anvendt på dette område, er blevet forklaret detaljeret ovenfor for at give en klar be-^ skrivelse af de forskellige procestrin, der gennemføres under fremstillingen af det isolerende substrat til strømløs metalafsætning. Under alle omstændigheder bør man undgå at sammenblande betegnelserne "sensibilisering" og "aktivering". Det må imidlertid indrømmes, at denne terminologi uheldigvis ikke anvendes i hele litteraturen med den samme betydning, som skit-15 seret ovenfor. Dette vil blive forklaret mere detaljeret nedenfor i forbindelse med den teknik, der er kendt fra US patentskrift nr. 3.880.689.
De ovenfor beskrevne "våde" processer har, som allerede nævnt, O Π de ulemper, at præcisionen ved metalliseringen er lav, da det er bestemt af den metode, der anvendes til frembringelse af det sensibiliserede mønster. Som et eksempel kan nævnes serigrafi, hvor opløsningen ikke vil være bedre end silkedugens maskevidde. Der kan også forekomme sammenløb og diffluens før 25 tørring. Et andet problem i forbindelse med de kendte processer til sensibilisering og aktivering er, at vedhæftningen af det afsatte materiale ikke er tilfredsstillende, et problem, som er velkendt fra ikke-selektiv metallisering. Yderligere forslag til løsninger af disse problemer er f.eks. beskrevet i 30 SE patentpublikation nr. 350.774 (indgnidning sammen med svag formaling), GB patentskrift nr. 1.324.653 (ionbombardement) og DE patentskrift nr. 1.571.802 (afsætning af et bindende lag før atomisering af metalpartikler).
35 En "subtraktiv" metode til frembringelse af et ledende mønster på substratets overflade består i elektrostatisk udfældning af et maskeringslag, der er et positivt billede af det ønskede ledende mønster på et eksisterende lag af Cu på det isolerende
DK 153337 B
4 substrat. Ifølge US patentskrifterne nr. 2.966.429 og 2.910.351 tilvejebringes laget ved at sammensmelte et elektrostatisk overført tyndt lag af et dielektrisk pulver. Efter fjernelse af det ikke-maskerede Cu-lag efter fjernelse af 5 masken, vil det ledende mønster blive tilbage.
Denne kendte metode er tidsforbrugende, men giver gode resultater, når der fremstilles grove detaljer, såsom trykte kredsløb med tilfredsstillende vedhæftning. Imidlertid anvendes stationære "mønsterelektroder" til overføringen af mønsteret, 10 hvilket gør det vanskeligt at ændre de ledende mønster. I virkeligheden består overføringen kun af selektiv beskyttelse af dele af et lamineret lag af Cu, mod at blive ætset bort, således at den gode vedhæftning kan tilskrives lamineringsprocessen.
15 I US patentskrift nr. 3.880.689 beskrives en metode, som sigter mod at styrke kontrasten og tætheden i et konventionelt fremkaldt, magnetisk billede ved strømløs afsætning af et metal på bi 1 leddelene. Til dette formål anvendes et tonerfrem-kaldermiddel, der indeholder en forbindelse (i det nævnte patentskrift betegnet "sensibiliseringsmiddel"), der tillader, at det synlige billede afsættes strømløst. Det er anført, at det fremkaldte billede kan overføres til en strømplade, og en plade med trykt kredsløb dannes ved strømløs afsætning på det o c overførte billede.
Som "sensibiliseringsmidler" nævnes i US patentskrift nr. 3.880.689 metallerne fra gruppe IB og VIII i det periodiske system samt tin. Palladium, platin, guld og sølv foretrækkes, 30 idet palladium foretrækkes mest. "Sensibi1iseringsmidlerne" afsættes på substratet i form af en forbindelse deraf sammen med tonerpulveret. Ved behandling med den strømløse afsætningsopløsning reduceres "sensibi1iseringsmidlet" til dannelse af en katalysator for strømløs afsætning. Denne reduktion gen-35 nemføres med et reduktionsmiddel, der er indeholdt i afsætningsopløsningen, f.eks. formaldehyd eller en NaH2P02~opløs-ning. Det reducerede metalliske "sensibiliseringsmiddel", fortrinsvis palladium, giver de ønskede bindingssteder for metallet, det skal afsættes på det synlige billede.
5
DK 153337 B
Den ovenfor anførte beskrivelse af mekanismen ved "sensibilisering" ifølge US patentskrift nr. 3.880.689 gør det klart, at de metaller, der betegnes som "sensibi1iseringsmidlér" i virkeligheden er "aktivatorer" i overensstemmelse med den alminde-5 lige terminologi som beskrevet ovenfor. De påføres til substratet i form af forbindelser, der reduceres til metallet under afsætningstrinnet ved hjælp af et reduktionsmiddel, der er indeholdt i afsætningsopløsningen.
Den samme mekanisme gælder for det tilfælde, der er beskrevet 10 i US patentskrift nr. 3.880.689, hvor tin (tindibromid) angives at blive anvendt som "sensibiliseringsmiddel". Under den forudsætning, at tin virkelig reagerer på den beskrevne måde, hvilket er tvivlsomt, vil Sn2+-forbindelsen ifølge den mekanisme, der er beskrevet i US patentskrift nr. 3.880.689 blive X 5 reduceret ved hjælp af et reduktionsmiddel, der er indeholdt i afsætningsopløsningen. Tin i dets metalliske tilstand ville blive udfældet på substratet under dannelse af de bindingssteder for metallet, der skal afsættes strømløst. Imidlertid er 2Q tin (II) salte kendt for at være kraftige reduktionsmidler. Det synes derfor at være tvivlsomt, hvorvidt et tin (II) salt vil blive reduceret til metallisk tin· i en almindelig afsætningsopløsning.
Den magnetiske billeddannelsesproces, der er beskrevet i US 2 5 patentskrift nr. 3.880.689 er ikke tilfredsstillende til fremstilling af strømløst afsatte mønstre på isolerende substrater, navnlig trykte kredsløb, af de i de følgende anførte grunde. Vedhæftningen af det afsatte metal på substratet er ikke god på grund af, at der ikke er nogen oxyderet sensibi- o Π liseringsmiddel (ifølge den sædvanlige terminologi * en tin (IV)-forbindelse) til stede mellem substratet og det ædle metal (Pd), der sikrer god binding. Desuden er processen med strømløs afsætning af et metal yderst langsomt. Toneren, der indeholder "sensibiliseringsmidlet" (ifølge den terminologi, 35 der anvendes i US patentskrift nr. 3.880.689 .= Pd2+), fremstilles i et organisk opløsningsmiddel. Kun en lille mængde "sensibi1iserings"-forbindelse er til stede på tonerens over- 6
DK 153337B
flade, og denne må først reduceres, før den strømløse afsætning af metal kan starte ved de således skabte katalytiske steder. Derfor er denne fremgangsmåde ikke velegnet til påføring af tykke lag af ren metal, hvilket er nødvendigt for 5 trykte kredsløb, da det ville være nødvendigt med lang tid i løbet af hvilken tid, det alkaliske middel, der er til stede i afsætningsopløsningen ifølge denne kendte proces, ville angribe det polymere substrat og det afsatte kobber ville blive omdannet til CuO.
10
Endelig kendes tonere, der indeholder et farvestof og et che- lat af EDTA med et metal, fra DE offentliggørelsesskrift nr. 23 24 378. Dette metal kan f.eks. være tin. Disse kendte tonere kan lades positivt og anvendes til udvikling af elektriske billeder ved elektrofotografi.
15
Det er formålet med den foreliggende opfindelse at tilvejebringe en fremgangsmåde til selektiv sensibilisering af et isolerende substrats overflade med henblik på en efterfølgende behandling med en aktivator, efterfulgt af strømløs afsætning 20 af et metal derpå, hvilken fremgangsmåde kan gennemføres hurtigt og giver en god vedhæftning af det afsatte metal på substratet, god opløsning af mønsteret, og som gør det let at ændre mønsteret.
25 Dette opnås ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen, hvor der anvendes en tør, xerografisk metode til sensibilisering af det isolerende substrat. Denne fremgangsmåde omfatter dannelse af et latent billede af det ønskede mønster ved xerografi, fremkaldelse af det latente billede med tonerpulver, der indehol-30 der en sensibi1isator (ifølge den sædvanlige terminologi i forbindelse med processen i tre trin), og overføring af det fremkaldte billede til det isolerende substrats overflade, hvorved der opnås et sensibiliseret substrat, som kan behandles med aktiveringsopløsningen, og derefter med afsætningsop-35 løsningen.
Opfindelsen angår således en fremgangsmåde til selektiv sensibilisering af et isolerende substrats overflade med henblik på
DK 153337B
7 en efterfølgende behandling med en aktivator efterfulgt af strømløs afsætning af et metal derpå, hvilken fremgangsmåde er ejendommelig ved, at man gennemfører sensibiliseringen som en tør proces, hvor der ved en xerografisk proces dannes et la-5 tent billede af metalmønsteret, der skal afsættes ved strømløs afsætning, fremkalder det latente billede under anvendelse af et tonerpulver, der indeholder en metalforbindelse, der er sensibi1isator for den aktivator, der anvendes til strømløs afsætning, overfører det fremkaldte billede til det isolerende 10 substrats overflade og behandler det for at sikre dets vedhæftning derti1.
Ifølge den foreliggende opfindelse anvendes den tørre sensibiliseringsproces under anvendelse af en xerografisk metode i „ „ stedet for den våde sensibiliseringsproces ved den kendte tre-15 trinsproces til fremstilling af ledende mønstre på isolerende substrater. Den tørre sensibiliseringsmetode ifølge opfindelsen, hvor et latent billede fremstillet ved xerografi fremkaldes med et tonerpulver, der indeholder sensibi1iseringsmid-2Q del, og derefter overføres til substratet, giver flere uventede fordele i forhold til den kendte teknik.
Anvendelsen af xerografi gør det muligt på yderst let måde at fremstille et hvilket som helst ønsket mønster ved en simpel billededannelsesproces, der kan gennemføres i et hvilket som 25 helst almindeligt xerografisk apparat. Fine mønstre med høj opspaltning kan let opnås.
Anvendelsen af sensibiliseringsmidlet ifølge den kendte tretrinsproces, giver en god vedhæftning af det ædle metal (akti-30 vator eller katalysator) og af det strømløst afsatte metal på substratet. En sådan vedhæftning kan ikke opnås, når aktivatoren påføres direkte til substratet. Adhæsionen af selve sensibiliseringsmidlet til substratet kan let opnås f.eks, ved "fastbrænding" af tonerpulveret, sådan som det vil blive for-35 klaret nedenfor.
En yderligere fordel er, at den samlede proces til strømløs metal afsætning kan gennemføres meget hurtigt. Det xerografiske
DK 153337B
8 sensi bi 1iseringstrin er i sig selv meget hurtigt. Det giver også en vis overfladeruhed, som begunstiger hastigheden ved afsætning og vedhæftning. Derpå neddyppes substratet i aktivatoropløsningen, hvor den metalliske aktivator (Pd°) hurtigt 5 afsættes på de sensibiliserede dele af overfladen ved en io-nisk redoxproces. Efter skylning neddyppes substratet, hvor aktivatoren allerede er til stede i dens aktive tilstand i metalliseringsbadet, hvor der straks starter strømløs metalafsætning .
10
Fremgangsmåden ifølge opfindelsen er meget gunstig set fra et miljømæssigt synspunkt, da der ikke kræves forudgående ætsning af substratet, og de spildproblemer, der især er ved de sub-traktive metoder, undgås fuldstændigt. Desuden gør et meget lavt palladiumforbrug processen meget økonomisk.
Den tørre sensibilisering af et isolerende substrat under anvendelse af en xerografisk proces ifølge opfindelsen foreslås fra første gang med den foreliggende opfindelse. Den fremgangsmåde, der er beskrevet i US patentskrift nr. 3.880.689 20 refererer til magnetisk trykning, dvs. en anden teknologi. En simpel overføring af fremgangsmåden fra magnetisk trykning til en elektrofotografisk billeddannelsesproces giver ikke fremgangsmåden ifølge opfindelsen, men derimod en fremgangsmåde, hvor det xerografiske billede ville blive fremkaldt med et to-2 5 nerpulver, der indeholder aktivatorforbindelsen (ædelmetalforbindelse; f.eks. PdCl2)· En hurtig afsætning af det efterfølgende afsatte metal og god vedhæftning deraf ville ikke kunne opnås på denne måde.
30 Det tonerpulver, der anvendes ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen omfatter sædvanligvis et termoplastisk materiale. Sensibiliseringsmidlet, f.eks. en Sn2 + -forbindel se, kan udfældes på overfladen af hver pulverpartikel. Ved en anden udførelsesform kan Sn2+-forbindelsen fordeles i hver pulverpartikel.
35
Tonerpul veret, der anvendes ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen, kan have den egenskab, at når det er til stede i smeltet tilstand, befugtiger det den overflade, der skal sensibiliseres.
DK 153337 B
9
Efter overføringen af det latente billede, kan substratet og tonerpulveret behandles med et organisk opløsningsmiddel til opnåelse afvedhæftning. Ved en anden udførelsesform kan vedhæftning mellem tonerpulveret og substratoverfladen også opnås 5 med i det mindste lokal smeltning af substratoverfladen.
Tonerpulveret kan også indeholde et infrarødt, absorberende materiale, eller hovedbestanddelen af tonerpulveret kan være et materiale med stor tabsvinkel ved mikrobølgefrekvenser.
1 o
Opfindelsen vil blive yderligere beskrevet i det følgende under henvisning til foretrukne udførelsesform og eksempler på fremstillinger, som har vist sig at være særligt fordelagtige ved den praktiske udførelse af opfindelsen.
15 Det, der gør det muligt at udnytte en procedure, som den, der er specificeret ved den foreliggende opfindelse, og som ikke hidtil har været kendt, er, at det stadig kan være fordelagtigt at anvende en tretrinsproces, som den der er beskrevet i indledningen, men at det er muligt at undgå den våde proces 20 ved overføringen af Sn+2-forbindelsen, den sensibiliserende del af processen og den efterfølgende selektive afsensibi1ise-ring. Vedhæftningen mellem Sn+2-forbindelsen og substratets overflade ved den våde proces er ikke overvældende god, men ganske overraskende har det vist sig, at den overføring, der 25 udføres i overensstemmelse med opfindelsen, giver en vedhæftning, som er yderst god, dvs. at Pd- og Cu-atomer afsat ved de efterfølgende procestrin er bedre fixeret til substratet, end det, der hidtil har været muligt.
30 Den xerografiske proces har vist sig at være velegnet til overføring af den sensibiliserende Sn+2-forbindelse, da den giver både en passende dækning af det isolerende substrat og en passende opspaltning, hvilket normalt er modstridende krav. Endvidere er mange af de polymerharpikser, der anvendes som toningspulvere i xerografiske kopieringsmaskiner, velegnede 3 9 med hensyn til vedhæftning til et stort antal forskellige substratmaterialer. Som et eksempel kan der refereres til dem, der er nævnt i US patentskrift nr. 2.966.429. Desuden vil det
DK 153337B
10 være enkelt for en fagmand at efterprøve i handlen tilgængelige polymerharpiksers anvendelighed. Gode resultater opnås med så forskellige materialer som polyacrylater, polyamider, polyvinylchlorider og phenolharpiks. Som velegnede substrat-5 materialer kan nævnes polyestere, polyacrylater, polyvinylchlorider, polycarbonater, dvs. en stor del af de materialer, der anvendes i praksis inden for elektronikken.
Fixeringen af det xerografisk overførte pulver til overfladen af det isolerende substrat kan dels foregå på måder, som i og for sig er kendte ved pulvere, som ikke indeholder sensibiliserende metalforbindelser, typisk ved "fastbrænding". Dette vil sige, at hver pulverpartikel opvarmes, så den ved smeltning flyder ud på substratoverfladen i en grad, som afhænger af befugtningen (overfladespændingen). Der er ved fremgangsmå- 15 den ifølge opfindelsen ikke samme krav til en porefri sammenflydning, som stilles i de fremgangsmåder, som baserer sig på at benytte det opnåede lag som afmaskning før ætsning. Dette hænger sandsynligvis sammen med sensibiliseringsmekanismen, som snarere end at kræve et jævnt lag som grundlag for den ef- 20 terfølgende strømløse metal afsætning, benytter de på overfladen anbragte partikler af metalforbindelse som kim. Dvs., at kravene til vedhæftning er større end kravene til sammenflydning.
Med henblik på at opnå en lokal opvarmning af de overførte partikler, er disse tilsat stoffer, som absorberer energi-stråling, hvis bølgelængde afhænger af anvendelsen og kombinationen substrat/pulver. I de tilfælde, at pulvermaterialet ikke er termoplatisk, vil det være formålstjenligt at lade 30 hver pulverpartikel opvarme substratoverfladen i sin berøringsflade, og et passende valg af blødgør ingstemperatur for substratet vil muliggøre fastsmeltning i dette tilfælde. Denne metode er blot et specialtilfælde af den metodem som består i at opvarme hele overfladen til smeltning.
35
Under de omstændigheder, at en opvarmning er uønsket, kan fikseringen foretages ved at lade pulveret på substratet passere en atmosfære med passende damptryk af et organisk opløs-
DK 153337B
η ningsmiddel, som på kendt vis får substrat og partikler til at klæbe sammen, hvorefter opløsningsmidlet atter inddampes.
Der er flere muligheder for fremstilling af de ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen benyttede præparerede pulvere. De ved 5 udviklingen af fremgangsmåden ifølge opfindelsen hidtil benyttede metoder har alle haft til hensigt at sørge for, at hver pulverpartikel i det mindste på sin overflade har en rimelig jævn fordeling af Sn+2-forbindelser. Dette kan opnås på to principielt forskellige måder: enten direkte ved imprægnering af hver partikels overflade eller ved fremstilling af en fast masse med tilstræbt jævn fordeling af den sensibiliserende forbindelse i plastmaterialet, som derpå formales på almindelig kendt vis til opnåelse af en passende partikelstørrelse.
Denne fastsættes af opbygningen af det xerografiske overfø-X 5 ringsapparatur og hører til kendt teknik inden for det pågældende fagområde.
Eksempel 1.
20 Fremstilling af et sensibiliserende plastpulver med en tilstræbt jævn fordeling af tinforbindelser i materialet: 10 g af et plastmateriale tilsættes 0,05 g - 0,5 g af SnCl2/ 2H2O. Denne pulverblanding kan underkastes en tør eller våd formaling i en vandig eller en organisk væske. Herefter kan 25 væsken eventuelt fjernes ved en konventionel tørringsteknik, f.eks. fordampning, filtrering eller spray-tørring.
Imprægnering af de enkelte plastpartikler med en tinforbindelse ifølge opfindelsen kan tage sit udgangspunkt i allerede eksisterende pulvere, men kan tillige foretages ved fremstil-
v U
lingen af plastpulveret.
Endnu mere hensigtsmæssigt kan den ønskede fordeling af tinforbindelse i den enkelte plastpartikel frembringes under pulverf remsti 11 ingen. Dette kan eksempelvis opnås ved at forstøv-35 ningstørre (spray-tørre) en plastholdig opløsning, som tillige indeholder en tinforbindelse.
Idet visse Sn+2-forbindelser, eksempelvis SnCl2, 2H2O, er opløselige i organiske opløsningsmidler, er det muligt at på-
DK 153337B
12 virke pulverpartikler individuelt med et opløsningsmiddel, som får partiklerne til at kvælde og dermed optage de Sn-forbin-delser, som er opløst i det organiske opløsningsmiddel. Bortdampning af opløsningsmidlet frembringer den ønskede fordeling 5 af SnCl2, 2H2O.
Eksempel 2.
Et plastpulver, som kvælder op under anvendelse af et organisk opløsningsmiddel opslæmmes i et sådant opløsningsmiddel, som tilsættes en mættet opløsning af SnCl2, 2H2O i methanol, uden at der sker udfældning af tinforbindelser. Efter en vis reaktionstid kan opløsningsmidlet igen fjernes, f.eks. ved filtrering eller spray-tørring af suspensionen indeholdende det således præparerede pulver. Mængden af tilsat tinforbindelse af-15 hænger meget af kombinationen af plastmateriale og opløsningsmiddel samt disses volummæssige forhold og endvidere af den benyttede pulvertørringsmetode. For så vidt plastmaterialet kan bringes i fuldstændig opløsning i et organisk opløsningsmiddel, kan der hertil sættes en tinforbindelse ligeledes i et 20 organisk opløsningsmiddel, hvorefter det imprægnerede plastpulver kan vindes ved en konventionel tørringsproces, eksempelvis spray-tørring af den plastholdige opløsning.
En anden metode, som har været benyttet med held, består i ke-25 misk udfældning af en Sn+2-forbindelse på pulverpartiklerne under omrøring.
Eksempel 3,
Udfældning af tinforbindelse på hver enkelt plastpartikel: 20 10 g plastpulver opslæmmes i 200 ml methanol. Hertil tilsættes under omrøring en mættet opløsning af SnCl2/ 2H2O i methanol i en mængde, som er afpasset efter plastpulverets partikelstørrelse. Vægtmængden af SnCl2# 2H2O kan f.eks. være 1 - 10% af piastpulveret. Under omrøring tilsættes der et basisk agens, 35 hvorefter det opslæmmede plastpulver virker som scavenger for udfældeisen af hydroxy-tin-chlorider. Det således præparerede pulver kan herefter tørres, eventuelt formales og sigtes.
DK 153337B
13
Der er ved udviklingen af fremgangsmåden ifølge opfindelsen opnået, at man kan sensibilisere en isolerende overflade med henblik på efterfølgende strømløs metallisering af kendte metoder, uden at stille krav om forudgående udformning af spe-5 cielle mastere eller masker, idet ethvert forlæg, som kan kopieres med en xerografisk proces, også vil kunne overføres til den ønskede substatoverflade. Fremgangsmåden er lidet ressourceforbrugende og meget miljøvenlig, idet bortætsning af det overflødige metallag undgås. Endvidere viser det sig, at det 10 ved den strømløse metallisering påførte metallag har en langt bedre adhæsion til substratoverfladen (eksempelvis som målt ved Scotch Tape metoden), end hvad der gælder for lag af samme tykkelse, men påført ved konventionel strømløs afsætning eller ved pådampning eller vpd-metoder (vpd: vapour phase depositi-15 on). Det har endog vist sig, at nærværende metode stiller lang ringere krav til rengøring af substratets overflade forud for metalliseringen end ovennævnte metoder.
Eksempel 4.
20 Tør selektiv sensibilisering af et isolerende substrats overflade. En fotoledende isolerende master fremføres med en hastighed af 0,25 m/s forbi en koronaudladningsanordning med en højspænding på 6500 volt, som oplader masteren på en ensartet måde. Det elektrostatiske billede, som fremkommer efter be-25 lysning, dvs. projektion af et kontrastrigt forlæg på masteren, fremkaldes ved at nævnte master føres forbi en magnetbørste, som indeholder 5% præparerede pulverpartikler fremstillet som beskrevet i eksempel 1 under anvendelse af spray-tørring og 95¾ jernpartikler, som er overtrukket med en polymer.
3 0
Denne polymer har til formål at give jernpartiklerne en passende placering i den triboelektriske række i forhold til den til det præparerede pulver benyttede plastkvalitet. Et substrat i form af en 0,15 mm tyk polycarbonatfol ie anbringes overfor masteren og polaritetsreversion ved hjælp af en anden 3 5 koronaudladningsanordning overfører mønsteret af præparerede pulverpartikler fra masteren til substratet. Substratet opvarmes ved passage af glatte, 120eC varme ruller, hvorved de
Claims (8)
1. Fremgangsmåde til selektiv sensibilisering af et isolerende substrats overflade med henblik på en efterfølgende behandling med en aktivator efterfulgt af strømløs afsætning af et metal derpå, kendetegnet ved, at man gennemfører sensibiliseringen som en tør proces, hvor der ved en xerografisk proces dannes et latent billede af metalmønsteret, der skal afsættes ved strømløs afsætning, fremkalder det latente billede under anvendelse af et tonerpulver, der indeholder en metalforbindelse, der er sensibi1isator for den aktivator, der anvendes til strømløs afsætning, overfører det fremkaldte billede til det isolerende substrats overflade, og behandler det for at sikre dets vedhæftning dertil.
2. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at tonerpulveret er et termoplastisk materiale, der indeholder en Sn+2-forbindelse udfældet på overfladen af hver pulverpartikel .
3. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, 2 5 at tonerpul veret er et termoplastisk materiale, der indeholder en Sn+2-forbindelse fordelt i hver pulverpartikel.
4. Fremgangsmåde ifølge krav 2 eller 3, kendetegnet ved, at den overflade, der skal sensibiliseres er befugtet med 3 0 det smeltede plastmateriale.
5. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at vedhæftningen mellem tonerpul veret og substratets overflade opnås ved anvendelse af et organisk opløsningsmiddel. 35
6. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at vedhæftningen mellem substratets overflade og pulverpartiklerne opnås ved i det mindste lokal smeltning. DK 153337 B
7. Fremgangsmåde ifølge krav 1 eller 6, kendetegnet ved, at pulverpartiklerne indeholder et infrarødt, absorberende materiale.
8. Fremgangsmåde ifølge krav 1 eller 6, kendetegnet 5 ved, at tonerpul verets ihovedbestanddel er et materiale med stor tabsvinkel ved mikrobølgefrekvenser. 10 20 25 30 35
Priority Applications (12)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DK150779A DK153337C (da) | 1979-04-11 | 1979-04-11 | Fremgangsmaade til toer sensibilisering af en isolerende overflade |
| ZA00802121A ZA802121B (en) | 1979-04-11 | 1980-04-10 | Method for dry sensitization of an insulating surface and powder to be used in the method |
| CA000349530A CA1162778A (en) | 1979-04-11 | 1980-04-10 | Method for dry sensitization of an insulating surface and powder to be used in the method |
| IT67559/80A IT1128410B (it) | 1979-04-11 | 1980-04-10 | Procedimento e polvere per sensibilizzazione a secco di una superficie isolante ai fini della deposizione non elettrolitica di un rivestimento metallico |
| IL59807A IL59807A (en) | 1979-04-11 | 1980-04-10 | Method for dry sensitization of an insulating substrate surface and powder to be used in the method |
| IE732/80A IE49192B1 (en) | 1979-04-11 | 1980-04-10 | A process for dry sensitization of an insulating surface |
| PCT/DK1980/000023 WO1980002222A1 (en) | 1979-04-11 | 1980-04-11 | A method for drysensitization of an insulating surface and a powder for use with the method |
| JP55500874A JPH0210593B2 (da) | 1979-04-11 | 1980-04-11 | |
| DE8080900719T DE3067809D1 (en) | 1979-04-11 | 1980-04-11 | A method for dry sensitization of an insulating surface |
| EP80900719A EP0026211B1 (en) | 1979-04-11 | 1980-10-23 | A method for dry sensitization of an insulating surface |
| NO80803710A NO154370C (no) | 1979-04-11 | 1980-12-09 | Fremgangsmaate til toerr, selektiv sensibilisering av et isolerende substrats overflate. |
| US06/389,934 US4504529A (en) | 1979-04-11 | 1982-06-18 | Xerographic method for dry sensitization and electroless coating of an insulating surface and a powder for use with the method |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DK150779 | 1979-04-11 | ||
| DK150779A DK153337C (da) | 1979-04-11 | 1979-04-11 | Fremgangsmaade til toer sensibilisering af en isolerende overflade |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DK150779A DK150779A (da) | 1980-10-12 |
| DK153337B true DK153337B (da) | 1988-07-04 |
| DK153337C DK153337C (da) | 1988-11-14 |
Family
ID=8105559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DK150779A DK153337C (da) | 1979-04-11 | 1979-04-11 | Fremgangsmaade til toer sensibilisering af en isolerende overflade |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4504529A (da) |
| EP (1) | EP0026211B1 (da) |
| JP (1) | JPH0210593B2 (da) |
| CA (1) | CA1162778A (da) |
| DE (1) | DE3067809D1 (da) |
| DK (1) | DK153337C (da) |
| IE (1) | IE49192B1 (da) |
| IL (1) | IL59807A (da) |
| IT (1) | IT1128410B (da) |
| NO (1) | NO154370C (da) |
| WO (1) | WO1980002222A1 (da) |
| ZA (1) | ZA802121B (da) |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DK427780A (da) * | 1980-10-10 | 1982-04-11 | Neselco As | Pulver til brug ved toer sensibilisering for stroemloes metallisering |
| DK148327C (da) * | 1981-07-24 | 1985-11-04 | Neselco As | Pulver til brug ved toer sensibilisering for stroemloes metallisering |
| DE3134507A1 (de) * | 1981-09-01 | 1983-03-17 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | "verfahren zur selektiven chemischen metallabscheidung" |
| DK153572C (da) * | 1982-02-18 | 1988-12-19 | Platonec Aps | Pulver til brug ved toer aktivering for stroemloes metallisering, fremgangsmaade til fremstilling deraf samt anvendelse deraf |
| IT1184408B (it) * | 1985-04-09 | 1987-10-28 | Telettra Lab Telefon | Processo per la fabbricazione di piastre e circuiti stampati,e prodotti relativi |
| US5244525A (en) * | 1987-11-02 | 1993-09-14 | Kimberly-Clark Corporation | Methods for bonding, cutting and printing polymeric materials using xerographic printing of IR absorbing material |
| US4851320A (en) * | 1988-05-23 | 1989-07-25 | Tektronix, Inc. | Method of forming a pattern of conductor runs on a dielectric sheet |
| US5213850A (en) * | 1989-03-24 | 1993-05-25 | Nippon Paint Co., Ltd. | Process for plating a metallic deposit between functional pattern lines on a substrate |
| ATE185157T1 (de) | 1990-11-19 | 1999-10-15 | Loctite Corp | Fotohärtbare polysiloxanzusammensetzung und verfahren zur herstellung |
| US5269980A (en) * | 1991-08-05 | 1993-12-14 | Northeastern University | Production of polymer particles in powder form using an atomization technique |
| DE4142658A1 (de) * | 1991-12-19 | 1993-06-24 | Siemens Ag | Verfahren zum aufbringen von lot auf eine leiterplatte |
| US5304447A (en) * | 1992-02-11 | 1994-04-19 | Elf Technologies, Inc. | Plateable toner and method for producing the same |
| DE4319759A1 (de) * | 1993-06-15 | 1994-12-22 | Bayer Ag | Pulvermischungen zum Metallisieren von Substratoberflächen |
| DE19731346C2 (de) * | 1997-06-06 | 2003-09-25 | Lpkf Laser & Electronics Ag | Leiterbahnstrukturen und ein Verfahren zu deren Herstellung |
| DE19942054A1 (de) * | 1999-09-03 | 2001-12-06 | Schott Glas | Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltung |
| CN1539028A (zh) * | 2001-06-04 | 2004-10-20 | ���ڵٿ�����˾ | 形成图案的方法 |
| GB2381274A (en) * | 2001-10-29 | 2003-04-30 | Qinetiq Ltd | High resolution patterning method |
| GB2382798A (en) * | 2001-12-04 | 2003-06-11 | Qinetiq Ltd | Inkjet printer which deposits at least two fluids on a substrate such that the fluids react chemically to form a product thereon |
| US20040265531A1 (en) * | 2003-06-30 | 2004-12-30 | Mckean Dennis R. | Sliders bonded by a debondable silicon-based encapsulant |
| EP2003939A1 (en) * | 2007-06-14 | 2008-12-17 | Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Method for preparing a pattern for a 3-dimensional electric circuit |
| EP2524381A1 (en) * | 2010-01-14 | 2012-11-21 | The Regents Of The University Of California | A universal solution for growing thin films of electrically conductive nanostructures |
| HUE069614T2 (hu) | 2012-10-12 | 2025-03-28 | Univ California | Polianilin membránok, alkalmazásaik és vonatkozó eljárások |
| BR112015028583B1 (pt) | 2013-05-15 | 2022-02-15 | The Regents Of The University Of California | Membranas de osmose direta compreendendo polianilina e método para sua formação bem como método de osmose direta |
| US10532328B2 (en) | 2014-04-08 | 2020-01-14 | The Regents Of The University Of California | Polyaniline-based chlorine resistant hydrophilic filtration membranes |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3226256A (en) * | 1963-01-02 | 1965-12-28 | Jr Frederick W Schneble | Method of making printed circuits |
| US3826747A (en) * | 1972-05-15 | 1974-07-30 | Canon Kk | Toner for electrophotography |
| DE2815696A1 (de) * | 1977-04-19 | 1978-11-02 | Philips Nv | Verfahren zur additiven herstellung von verdrahtungsmustern |
Family Cites Families (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB299903A (en) * | 1927-08-02 | 1928-11-02 | Albert Ivan Gates Warren | Improvements in processes for coating non-conducting substances with metals |
| GB567503A (en) * | 1943-06-02 | 1945-02-16 | Frank Enoch Kerridge | Improvements in or relating to the production of metallic designs on non-metallic materials |
| US2910351A (en) * | 1955-01-03 | 1959-10-27 | Gen Electric | Method of making printed circuit |
| US2947625A (en) * | 1955-12-21 | 1960-08-02 | Ibm | Method of manufacturing printed circuits |
| US2966429A (en) * | 1956-08-31 | 1960-12-27 | Gen Electric | Method of and apparatus for making printed circuits |
| US3043685A (en) * | 1957-07-18 | 1962-07-10 | Xerox Corp | Xerographic and magnetic image recording and reproducing |
| US2939804A (en) * | 1958-01-23 | 1960-06-07 | Uarco Inc | Resin particle coated with metal |
| NL241541A (da) * | 1959-07-22 | |||
| US3231374A (en) * | 1960-09-02 | 1966-01-25 | Rca Corp | Methods for preparing etch resists using an electrostatic image developer composition |
| US3275436A (en) * | 1962-07-24 | 1966-09-27 | Xerox Corp | Method of image reproduction utilizing a uniform releasable surface film |
| US3350202A (en) * | 1964-10-27 | 1967-10-31 | Union Carbide Corp | Method of xerographically photosensitizing planographic printing plates |
| GB1175832A (en) * | 1965-10-12 | 1969-12-23 | Emi Ltd | Improvements relating to the production of an Electrical Conductor Adhering to an Insulating Support |
| US3494790A (en) * | 1965-10-29 | 1970-02-10 | Texas Instruments Inc | Preparation of welding surfaces on semiconductors |
| US3942983A (en) * | 1967-06-09 | 1976-03-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Electroless deposition of a non-noble metal on light generated nuclei of a metal more noble than silver |
| BE720382A (da) * | 1967-09-14 | 1969-02-17 | ||
| NL157659B (nl) * | 1967-09-22 | 1978-08-15 | Philips Nv | Werkwijze voor het langs fotografische weg vervaardigen van elektrisch geleidende koperpatronen. |
| NL6808469A (da) * | 1968-06-15 | 1969-12-17 | ||
| CA929705A (en) * | 1969-01-13 | 1973-07-10 | Ransburg Corporation | Deposition materials and methods |
| US3691993A (en) * | 1970-11-23 | 1972-09-19 | Ibm | Apparatus for transferring developed image |
| DE2159467A1 (de) * | 1970-12-02 | 1972-07-13 | Minolta Camera Kk | Verfahren zur Herstellung eines flüssigen Entwicklers für die Elektrophotographie |
| US3745045A (en) * | 1971-01-06 | 1973-07-10 | R Brenneman | Electrical contact surface using an ink containing a plating catalyst |
| US3880689A (en) * | 1971-09-30 | 1975-04-29 | Eastman Kodak Co | Magnetic developer containing an electroless plating sensitizer, and method of using same |
| BE789988A (fr) * | 1971-10-12 | 1973-04-12 | Xerox Corp | Composition de revelateur et procede pour son emploi |
| CA986770A (en) * | 1972-04-10 | 1976-04-06 | Jack C. Goldfrank | Pressure fixable magnetic toners |
| JPS5187042A (da) * | 1975-01-29 | 1976-07-30 | Hitachi Metals Ltd | |
| JPS5196330A (da) * | 1975-02-21 | 1976-08-24 | ||
| US4042730A (en) * | 1976-03-29 | 1977-08-16 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Process for electroless plating using separate sensitization and activation steps |
| JPS5841760B2 (ja) * | 1976-05-29 | 1983-09-14 | 神崎製紙株式会社 | 呈色剤の製造方法 |
| US4307168A (en) * | 1977-05-05 | 1981-12-22 | Eastman Kodak Company | Amplification of developed electrographic image patterns |
| JPS54126959A (en) * | 1978-03-25 | 1979-10-02 | Nippon Mektron Kk | Method of producing circuit board |
-
1979
- 1979-04-11 DK DK150779A patent/DK153337C/da not_active IP Right Cessation
-
1980
- 1980-04-10 ZA ZA00802121A patent/ZA802121B/xx unknown
- 1980-04-10 IT IT67559/80A patent/IT1128410B/it active
- 1980-04-10 CA CA000349530A patent/CA1162778A/en not_active Expired
- 1980-04-10 IE IE732/80A patent/IE49192B1/en not_active IP Right Cessation
- 1980-04-10 IL IL59807A patent/IL59807A/xx unknown
- 1980-04-11 DE DE8080900719T patent/DE3067809D1/de not_active Expired
- 1980-04-11 JP JP55500874A patent/JPH0210593B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1980-04-11 WO PCT/DK1980/000023 patent/WO1980002222A1/en not_active Ceased
- 1980-10-23 EP EP80900719A patent/EP0026211B1/en not_active Expired
- 1980-12-09 NO NO80803710A patent/NO154370C/no unknown
-
1982
- 1982-06-18 US US06/389,934 patent/US4504529A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3226256A (en) * | 1963-01-02 | 1965-12-28 | Jr Frederick W Schneble | Method of making printed circuits |
| US3826747A (en) * | 1972-05-15 | 1974-07-30 | Canon Kk | Toner for electrophotography |
| DE2815696A1 (de) * | 1977-04-19 | 1978-11-02 | Philips Nv | Verfahren zur additiven herstellung von verdrahtungsmustern |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IE800732L (en) | 1980-10-11 |
| ZA802121B (en) | 1981-04-29 |
| JPH0210593B2 (da) | 1990-03-08 |
| IL59807A (en) | 1983-11-30 |
| NO154370C (no) | 1986-09-03 |
| WO1980002222A1 (en) | 1980-10-16 |
| EP0026211B1 (en) | 1984-05-16 |
| DK150779A (da) | 1980-10-12 |
| NO154370B (no) | 1986-05-26 |
| IT1128410B (it) | 1986-05-28 |
| US4504529A (en) | 1985-03-12 |
| JPS56500435A (da) | 1981-04-02 |
| IT8067559A0 (it) | 1980-04-10 |
| CA1162778A (en) | 1984-02-28 |
| DE3067809D1 (en) | 1984-06-20 |
| IE49192B1 (en) | 1985-08-21 |
| DK153337C (da) | 1988-11-14 |
| NO803710L (no) | 1980-12-09 |
| EP0026211A1 (en) | 1981-04-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DK153337B (da) | Fremgangsmaade til toer sensibilisering af en isolerende overflade | |
| US5268259A (en) | Process for preparing an electroded donor roll | |
| US3573041A (en) | Process for preparing a planographic printing plate | |
| US4710401A (en) | Method of printing electrically conductive images on dielectric substrates | |
| JPH07263841A (ja) | 配線基板 | |
| US4698907A (en) | Method for manufacturing a circuit board by a direct electrostatic transfer and deposition process | |
| CA1046865A (en) | Process for the preparation of printing forms | |
| US4066453A (en) | Process for the preparation of printing forms | |
| JPS60206085A (ja) | プリント回路板の製造法 | |
| US4717639A (en) | Process for preparation of a stencil or resist image | |
| US5494764A (en) | Method for making printed circuit boards | |
| CA1213993A (en) | Dry sensitization plastic powder for electroless metal deposition | |
| JP3909728B2 (ja) | 印刷配線基板の製造装置 | |
| CA1062071A (en) | Method of manufacturing an external electrically conducting metal pattern | |
| US4084968A (en) | Method of manufacturing electrically conductive metal layers on substrates | |
| JP2005194327A (ja) | 金属微粒子含有樹脂粒子、金属微粒子含有樹脂層および金属微粒子含有樹脂層の形成方法 | |
| JP7460047B2 (ja) | 電子写真用トナーによる金属パターンの作製方法 | |
| US3578444A (en) | Method of making positive-working lithographic plates by electrostatic image | |
| CN100421533C (zh) | 电子电路的制造方法和电子电路基板 | |
| CA1046866A (en) | Process for the preparation of printing forms | |
| US3300304A (en) | Electrophotographic material and process | |
| US3807305A (en) | Metal photographic plate comprising a silver halide process | |
| JPH07224178A (ja) | 無極性樹脂用表面処理剤 | |
| DE2755851A1 (de) | Material zur herstellung von druckformen | |
| JPH06112627A (ja) | プリント配線板の作製方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PBP | Patent lapsed | ||
| PBP | Patent lapsed |