NO154370B - Fremgangsmaate til toerr, selektiv sensibilisering av et isolerende substrats overflate. - Google Patents
Fremgangsmaate til toerr, selektiv sensibilisering av et isolerende substrats overflate. Download PDFInfo
- Publication number
- NO154370B NO154370B NO803710A NO803710A NO154370B NO 154370 B NO154370 B NO 154370B NO 803710 A NO803710 A NO 803710A NO 803710 A NO803710 A NO 803710A NO 154370 B NO154370 B NO 154370B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- powder
- substrate
- compound
- adhesion
- insulating substrate
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 59
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 31
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 47
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 11
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 claims description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 6
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 claims description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 5
- 239000012190 activator Substances 0.000 claims description 4
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 4
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 claims description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 17
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 17
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 8
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 4
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000000586 desensitisation Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 2
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 2
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 2
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 2
- 201000004624 Dermatitis Diseases 0.000 description 1
- FGDUWKHMIDZUIX-UHFFFAOYSA-J O[Sn](Cl)(Cl)Cl Chemical class O[Sn](Cl)(Cl)Cl FGDUWKHMIDZUIX-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- -1 SnCl2"2H20 Chemical class 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 208000010668 atopic eczema Diseases 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000009388 chemical precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000000454 electroless metal deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004924 electrostatic deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000011817 metal compound particle Substances 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000000935 solvent evaporation Methods 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L tin(II) chloride (anhydrous) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sn+2] AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
- 238000001238 wet grinding Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/18—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
- H05K3/181—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
- H05K3/182—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating characterised by the patterning method
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1603—Process or apparatus coating on selected surface areas
- C23C18/1607—Process or apparatus coating on selected surface areas by direct patterning
- C23C18/1608—Process or apparatus coating on selected surface areas by direct patterning from pretreatment step, i.e. selective pre-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/28—Sensitising or activating
- C23C18/285—Sensitising or activating with tin based compound or composition
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/22—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20
- G03G15/225—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20 using contact-printing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/65—Apparatus which relate to the handling of copy material
- G03G15/6582—Special processing for irreversibly adding or changing the sheet copy material characteristics or its appearance, e.g. stamping, annotation printing, punching
- G03G15/6585—Special processing for irreversibly adding or changing the sheet copy material characteristics or its appearance, e.g. stamping, annotation printing, punching by using non-standard toners, e.g. transparent toner, gloss adding devices
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/05—Patterning and lithography; Masks; Details of resist
- H05K2203/0502—Patterning and lithography
- H05K2203/0517—Electrographic patterning
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/12—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
- H05K3/1266—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by electrographic or magnetographic printing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
- Y10T428/2991—Coated
- Y10T428/2998—Coated including synthetic resin or polymer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Description
Oppfinnelsen angår en fremgangsmåte til selektiv sensibilisering av et isolerende substrat med hensyn på en følgende be-handling med en aktivator fulgt av strømløs utskillelse av et metall derpå.
Innen elektronikken har det i lang tid være ønskelig å overføre ledende metaller selektivt til et foreliggende mønster med god klebning til overflaten av et isolerende substrat. Særlig fordi slike foreliggende mønstre kan ha detaljer som ikke berører andre deler av mønsteret, har det vært anvendt strømløs avsetning. For dette formål kan det anvendes f.eks. maskering av de partier av overflaten som ikke skal metalliseres og/eller sensibilisering av partier som skal metalliseres. En lenge kjent fremgangsmåte er å anvende vandige sensibiliseringsoppløsninger og i senere tid rene organiske oppløsninger, som beskrevet i dansk patentskrift nr. 132 801. Dette patentskrift gir en særlig inn-gående beskrivelse av virkemåten av disse oppløsninger sammen med fordeler og ulemper med vandige og organiske oppløsningsmidler. Fremgangsmåten som anvender vandige oppløsninger er kort sagt følgende: 1) Neddykning i en Sn + 2-oppløsning (sensibilisator) for skylling. 2) Neddykning i en aktiverende oppløsning (f.eks. en Pd-forbindelse) for skylling.
3) Neddykning i et metalliseringsbad.
Fremgangsmåten hvor et organisk oppløsningsmiddel anvendes,
er basert på direkte overføring av f.eks. Pd-ioner til overflaten av substratet ved fordampning av det organiske oppløsningsmiddel som eventuelt også har etset overflaten av substratet.
Disse fremgangsmåter har den ulempe at presisjonen av metalliseringen er bestemt av fremgangsmåten som anvendes for overføring av det sensibiliserte mønster. Som et eksempel kan nevnes silketrykk hvor oppløsningen ikke vil være bedre enn maskevidden for silkeduken. Også sammenflytning og utflytning kan skje før tørking. Et annet problem i forbindelse med ovenfor nevnte fremgangsmåter er at klebingen i praksis ikke synes å være særlig god, og dette problem er godt kjent fra ikke-selektiv metallisering. Løsninger av dette problem er f.eks. beskrevet i svensk patentskrift nr. 350 774, hvor det anvendes inngnidning med lett slipning', britisk patentskrift nr. 1 324 653, hvor det anvendes ionebombardement og tysk utlegningsskrift nr. 1 571 802, hvor det anvendes avsetning av et bindesjikt før forstøvning av metallpartiklene.
Overføring av mønsteret kan også utføres ved selektiv desensibilisering ved hjelp av ultrafiolett lys, som beskrevet i Proceedings of Conference: Physics in Industry 1976, "New Photoimaging Processes for Industrial Use - a Link Between Basic and Applied Research" - sidene 101-105.
En ytterligere fremgangsmåte for overføring av et ledende mønster på overflaten av et substrat består i elektrostatisk utfelling av et maskeringssjikt som er en positiv av-bildning av det ønskede ledende mønster på et forhåndenvær-ende sjikt av Cu på det isolerende substrat. Ifølge US-patentskrifter nr. 2 966 429 og 2 910 351 frembringes sjiktet ved sammenflytning under smelting av et tynt elektrostatisk overført sjikt i form av dielektrisk pulver. Etter fjerning ved etsing av det ikke-maskerte Cu-sjikt fremtrer det ledende mønster. I det sistnevnte patentskrift er henvist til en ikke-publisert US-patentsøknad nr.
472 622, som angivelig beskriver en foto-elektrostatisk prosess, hvor overflaten av substratet dekkes av et foto-ledende, isolerende sjikt (sannsynligvis kjent fra en ZnO-prosess, også kjent som "Elektrofax"). Det samme patentskrift beskriver et dielektrisk pulver i en etterfølgende delprosess for forsølving, innblandet en Ag-forbindelse, som etter fastsmeltning sammen med det dielektriske pulver reduseres til metallisk Ag i et bad. På denne måte blir det ledende mønster som oppnås i den første delprosess
dekket av Ag-partikler, som deretter kan elektropletteres med andre materialer. Det skal bemerkes at denne partial-prosess medfører tilstedeværelsen av et ledende sjikt (i be-skrivelsen Cu) under de overførte og ved reduksjon dannede Ag-partikler.
Fremgangsmåtene beskrevet i de to sistnevnte US-patent-skrifter er tidkrevende, men gir godt resultat når grove detaljer, slik som trykte kretser, fremstilles med til-strekkelig klebing. Begge fremgangsmåter anvender imid-lertid stasjonære mønsterelektroder for overføring av mønsteret, hvilket gjør det vanskelig å endre ledende mønstre. Overføringen består egentlig bare i selektivt å gjøre deler av et laminert sjikt av Cu beskyttet mot etsingen, slik at den gode klebning må tilskrives laminer-ingsprosessen.
Hensikten med oppfinnelsen er å unngå de ovenfor nevnte ulemper og tilveiebringe en overføring av et mønster på
en overflate av et isolerende substrat som er mer flek-sibelt, dvs. lett å endre, og som gir bedre klebing og større mulighet for å oppnå finere detaljer enn ved de hittil kjente fremgangsmåter.
Dette oppnås ifølge oppfinnelsen ved at sensibiliseringen utføres som tørr prosess, idet det ved hjelp av en xerografisk prosess frembringes et latent bilde av det metall-mønster som skal utskilles ved strømløs plattinering,
det latente bildet fremkalles under anvendelse av et tonerpulver som inneholder en metallforbindelse som er en sensibilisator for den til strømløs plattering anvendte aktivator, det fremkalte bildet overføres til overflaten av det isolerende substrat og behandles derpå for å sikre dets klebing.
I krav 2 er det angitt at tonerpulveret er et termoplastisk materiale sominneholder en på overflaten av hver pulver-
partikkel"utskilte' Sn + 2-forbindelse.
I krav 3 er det angitt at tonerpulveret som anvendes ved fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen er et termoplastisk materiale som inneholder en i hver pulverpartikkel fordelt Sn+ 2 forbindelse.
I krav 4 er det angitt at overflaten som skal sensibiliseres fuktes med det smeltede termoplastiske mateialet.
I krav 5 er det angitt at klebingen mellom tonerpulveret og substratets overflate oppnås ved anvendelse av et organisk oppløsningsmiddel.
I krav 6 er det angitt at en fremgangsmåte ifølge oppfinnelsen hvor klebingen mellom substratets overflate og pulverpartiklene oppnås ved i det minste lokal smelting.
I krav 7 angis en fremgangsmåte ifølge oppfinnelsen hvorved det anvendes pulverpartikler som inneholder et infrarødt absorberende materiale.
I krav 8 er det angitt en fremgangsmåte ifølge oppfinnelsen hvor tonerpulverets hovedbestanddel er et material med en stor tapsvinkel ved mikrobølgefrekvenser.
Oppfinnelsen skal beskrives nærmere i det følgende ved an-givelse av delprosesser og eksempler på preparater, som har vist seg særlig gunstige ved den praktiske utførelse av oppfinnelsen.
Det som muliggjør utnyttelsen av en fremgangsmåte som angitt i foreliggende oppfinnelse og som ikke har vært tid-ligere kjent, er at det stadig kan være fordelaktig å be-skytte en tretrinns prosess som angitt innledningsvis, men at det er mulig å unngå de våte prosesser ved overføringen av Sn + 2-forbindelsen, sensibiliseringsdelen av prosessen og den etterfølgende selektive desensibilisering. Klebingen
+ 2 mellom Sn -forbindelsen og substrates overflate ved den vate prosess er ikke særlig god, men det har overraskende nok vist seg at det ved overføringen ifølge oppfinnelsen oppnås en klebing som er særdeles god, dvs. de i neste delprosesser overførte Pd- og Cu-atomer er bedre fiksert på substratet enn det som hittil har kunnet oppnås.
Den xerografiske prosess har vist seg godt egnet for over-føring av den sensibiliserende Sn+ -forbindelse, idet det dermed både oppnås en passende dekning av det isolerende substrat og en passende oppløsningsevne, hvilket normalt er motstridende betingelser. Videre er en del av de plast-kvaliteter som anvendes som toningspulver i xerografiske kopieringsmaskiner vel egnet med hensyn til klebing til et stort antall forskjellige substratmaterialer. Som eksempel kan nevnes de som er angitt i US-patentskrift nr. 2 966 429. Videre vil det være enkelt for fagmannen å prøve brukbar-heten av i handelen forekommende plastmaterialer. Gode resultater er oppnådd med forskjellige slike materialer,
så som polyakrylater, polyamider, polyvinylklorider og fenolharpikser, og som egnede substratmaterialer kan nevnes polyestere, polyakrylater, polyvinylklorider, polykarbonater, dvs. en stor del av de i elektronisk praksis anvendte materialer.
Fiksering av det xerografisk overførte pulver til overflaten av det isolerende substrat kan dels foregå ved fremgangsmåter som i og for seg er kjent for pulveret, som ikke inneholder sensibiliserende metallforbindelser som er typisk for fastbrenning. Det betyr at hver pulverpartikkel oppvarmes slik at den ved smelting flyter ut på substratoverflaten i en grad som er avhengig av fuktingen (overflatespenningen). Ifølge oppfinnelsen stilles ikke de samme betingelser til porefri sammenflytning som det stilles ved de fremgangsmåter som er basert på å benytte det dannede sjikt som maskering før etsingen. Dette henger sannsynligvis sammen med sensi-biliseringsmekanismen som heller enn å'kreve et jevnt sjikt som grunnlag for den etterfølgende strømløse metallavsetning, benytter de på overflaten anbragte partikler av metallfor-bindelsen som utgangspunkt. Det vil si at kravene til klebingen er større enn kravene til sammenflytning.
Når det gjelder å oppnå en lokal oppvarming- av de overførte partikler er disse tilsatt stoffet som absorberer energi-stråling hvis bølgelengde avhenger av anvendelsen og kombinasjonen substrat/pulver.
I de tilfeller hvor pulvermaterialet ikke er termoplastisk vil det være hensiktsmessig å la hver pulverpartikkel opp-varme substratoverflaten i sin berøringsflate og et passende valg av mykningstemperatur for substratet vil muliggjøre fastsmeltning i dette tilfellet. Denne fremgangsmåte er bare et spesialtilfelle av fremgangsmåten, som består i å opp-varme hele overflaten til smeltepunktet.
I de tilfeller hvor oppvarming er uønsket kan fikseringen foretas ved å la pulveret på substratet passere en atmos-fære av et organisk oppløsningsmiddel med passende damp-trykk, som på kjent måte får substratet og partiklene til å klebes til hverandre, hvoretter oppløsningsmidlet igjen inn-dampes.
Det er flere muligheter for fremstilling av de ved fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen anvendte preparerte pulvere.. De ved utvikling av fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen
hittil anvendte metoder har alle hatt til hensikt å sørge for at hver pulverpartikkel i det minste på sin overflate har en rimelig jevn fordeling av Sn+^-f orbindel.ser., Dette'kan oppnås på to prinsippielt forskjellige måter,, enten direkte ved impregnering av hver partikkels overflate eller ved fremstilling av en fast masse med tilnærmet jevn fordeling av den sensibiliserende forbindelse i. plastma-terialet, som deretter males på kjent måte- for oppnåelse av en passende partikkelstørrelse. Denne bestemmes av utformingen av det xerografiske overføringsapparat. og er vel kjent teknikk innen-for vedkommende fagområde.
Eksemgel_l
Fremstilling- av et sensibiliserende pulver med tilstrebet jevn fordeling av tinnforbindelser i materialet: 10 g av et plastmateriale tilsettes 0,05 — 0,5 g av SnCl..,, ZH^O. Denne pulverblanding kan underkastes en tørr eller
våt formaling i en vandig eller organisk væske. Deretter kan væsken eventuelt fjernes ved vanlig tørreteknikk., f..eks. fordampning, filtrering- eller sprøytetørring.
Impregnering av de enkelte plastpartikler med en tinnforbindelse ifølge oppfinnelsen kan gå ut fra. et allerede foreliggende pulver-, men kan også foretas ved fremstillingen av plastpulveret.
Enda mer hensiktsmessig kan den ønskede fordeling av tinnforbindelse i den enkelte plastpartikkel frembringes under pulverfremstillingen. Dette kan f.eks. oppnås ved å for-støvningstørre en plastholdi.g oppløsning, som også inneholder en tinnforbindelse.
Da visse Sn + 2-forbindelser, f.eks-. SnCl2"2H20, 2^0, er opp-løselige i organiske oppløsningsmidler, er det mulig å på-virke pulverpartiklene individuelt med et oppløsningsmiddel som får partiklene til å svelle^ og dermed oppta de. Sn-forbindelser som er oppløst i det organiske oppløsningsmiddel. Bortdampning- av oppløs-nin<g>smidlet frembringer den ønskede fordeling av SnCl2-2H20..
Eksemp_el_2
Et. plastpulver. som sveller- opp under anvendelse av et organisk oppløsningsmiddel oppslemmes- i et slikt oppløsningsmiddel, som tilsettes en mettet oppløsning av SnCl2-2H20 i metanol uten at det. skjer utfelling; av tinnforbindelser. Etter en viss reaksjonstid kan oppløsningsmidlet igjen fjernes,
f.eks. ved filtrering eller sprøytetørklng. av suspensjonen som inneholder det således preparerte pulver. Mengden av tilsatt tinnforbindelse avhenger meget av kombinasjonen av
plastmateriale og oppløsningsmiddel, samt deres volummessige forhold og videre av den anvendte pulvertørremetode. I den grad pulvermaterialet kan bringes i fullstendig oppløsning i et organisk oppløsningsmiddel, kan det tilsettes en tinnforbindelse likeledes i et organisk oppløsningsmiddel, hvoretter det impregnerte plastpulver kan tilbakevinnes ved en vanlig tørreprosess, f.eks. sprøytetørking av den plastholdige opp-løsning.
En annen metode som har vært benyttet med hell består i kjemisk utfelling av en Sn + 2-forbindelse pa pulverpartiklene under omrøring.
Eksempel_3
Utfelling av tinnforbindelse på hver enkelt plastpartikkel: 10 g plastpulver oppslemmes i 200 ml metanol. Deretter tilsettes under omrøring en mettet oppløsning av SnCl•21^0 i metanol i en mengde som er tilpasset etter plastpulverets partikkelstørrelse. Vektmengden av SnC^^I^O kan være 1-10% av plastpulveret. Under omrøring tilsettes et basisk agens, hvoretter det oppslemmede plastpulver virker som hjelpemiddel for utfelling av hydroksy-tinn-klorider.
Det således preparerte pulver kan deretter tørres, eventuelt formales og siktes.
Ved utviklingen av fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen er
det oppnådd at man kan sensibilisere en isolerende overflate med henblikk på etterfølgende strømløs metallisering etter kjente metoder, uten å stille betingelser om forut-gående utforming av spesielle originaler eller masker,
idet hvert mønster som kan kopieres med en xerografisk prosess også kan overføres til den ønskede substratover-flate. Fremgangsmåten er lite ressurskrevende og meget miljøvennlig, idet bortetsing av det overflødige metallsjikt unngås. Videre viser det seg at det ved den strøm-løse metallisering påførte metallsjikt har en langt bedre klebing til substratoverflaten (f.eks. målt med Scotch
Tape-metoden) enn sjikt av samme tykkelse som er påført ved vanlig strømløs avsetning eller ved pådampning eller vpd-metoder (vapour phase deposition). I tillegg hertil setter foreliggende metode meget mindre krav til rengjøring av overflaten av substratet før metalliseringen enn ved de ovenfor nevnte metoder.
Claims (8)
1. Fremgangsmåte til selektiv sensibilisering av overflaten av et isolerende substrat med hensyn på en etterfølgende be-handling med en aktivator fulgt av strømløs utskillelse av et metall derpå,
karakterisert vedat sensibiliseringen utføres som tørr prosess, idet det ved hjelp av en xerografisk prosess frembringes et latent bilde av det metallmønster som skal utskilles ved strømløs plattinering, det latente bildet fremkalles under anvendelse av et tonerpulver som inneholder en metallforbindelse som er en sensibilisator for den til strømløs plattering anvendte aktivator, det fremkalte bildet overføres til overflaten av det isolerende substrat og behandles derpå for å sikre dets klebing.
2. Fremgangsmåte ifølge krav 1,
karakterisert vedat tonerpulveret er et termoplastisk material som inneholder en på overflaten av hver pulverpartikkel utskilt Sn<+2->forbindelse.
3. Fremgangsmåte ifølge krav 1,
karakterisert vedat tonerpulveret er et termoplastisk material som inneholder en i hver pulver-
+ 2
partikkel fordelt Sn -forbindelse.
4. Fremgangsmåte ifølge krav 2 eller 3,karakterisert vedat overflaten som skal sensibiliseres fuktes ved det smeltede termoplastiske materialet.
5. Fremgangsmåte ifølge krav 1,
karakterisert vedat klebingen mellom tonerpulveret og substratets overflate oppnås ved anvendelse av et organisk oppløsningsmiddel.
6. Fremgangsmåte ifølge krav 1,karakterisert vedat klebingen mellom substratets overflate og pulverpartiklene oppnås ved i det minste lokal smelting.
7. Fremgangsmåte ifølge krav 1 eller 6,karakterisert vedat pulverpartiklene inneholder et infrarødt absorberende material.
8. Fremgangsmåte ifølge krav 1 eller 6,karakterisert vedat tonerpulverets hovedbestanddel er et material med en stor tapsvinkel ved mikrobølgefrekvenser.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DK150779A DK153337C (da) | 1979-04-11 | 1979-04-11 | Fremgangsmaade til toer sensibilisering af en isolerende overflade |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO803710L NO803710L (no) | 1980-12-09 |
NO154370B true NO154370B (no) | 1986-05-26 |
NO154370C NO154370C (no) | 1986-09-03 |
Family
ID=8105559
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO80803710A NO154370C (no) | 1979-04-11 | 1980-12-09 | Fremgangsmaate til toerr, selektiv sensibilisering av et isolerende substrats overflate. |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4504529A (no) |
EP (1) | EP0026211B1 (no) |
JP (1) | JPH0210593B2 (no) |
CA (1) | CA1162778A (no) |
DE (1) | DE3067809D1 (no) |
DK (1) | DK153337C (no) |
IE (1) | IE49192B1 (no) |
IL (1) | IL59807A (no) |
IT (1) | IT1128410B (no) |
NO (1) | NO154370C (no) |
WO (1) | WO1980002222A1 (no) |
ZA (1) | ZA802121B (no) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DK427780A (da) * | 1980-10-10 | 1982-04-11 | Neselco As | Pulver til brug ved toer sensibilisering for stroemloes metallisering |
DK148327C (da) * | 1981-07-24 | 1985-11-04 | Neselco As | Pulver til brug ved toer sensibilisering for stroemloes metallisering |
DE3134507A1 (de) * | 1981-09-01 | 1983-03-17 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | "verfahren zur selektiven chemischen metallabscheidung" |
DK153572C (da) * | 1982-02-18 | 1988-12-19 | Platonec Aps | Pulver til brug ved toer aktivering for stroemloes metallisering, fremgangsmaade til fremstilling deraf samt anvendelse deraf |
IT1184408B (it) * | 1985-04-09 | 1987-10-28 | Telettra Lab Telefon | Processo per la fabbricazione di piastre e circuiti stampati,e prodotti relativi |
US5244525A (en) * | 1987-11-02 | 1993-09-14 | Kimberly-Clark Corporation | Methods for bonding, cutting and printing polymeric materials using xerographic printing of IR absorbing material |
US4851320A (en) * | 1988-05-23 | 1989-07-25 | Tektronix, Inc. | Method of forming a pattern of conductor runs on a dielectric sheet |
US5213850A (en) * | 1989-03-24 | 1993-05-25 | Nippon Paint Co., Ltd. | Process for plating a metallic deposit between functional pattern lines on a substrate |
ES2137159T3 (es) | 1990-11-19 | 1999-12-16 | Loctite Corp | Composicion de silicona fotocurable y procedimiento de preparacion. |
US5269980A (en) * | 1991-08-05 | 1993-12-14 | Northeastern University | Production of polymer particles in powder form using an atomization technique |
DE4142658A1 (de) * | 1991-12-19 | 1993-06-24 | Siemens Ag | Verfahren zum aufbringen von lot auf eine leiterplatte |
US5304447A (en) * | 1992-02-11 | 1994-04-19 | Elf Technologies, Inc. | Plateable toner and method for producing the same |
DE4319759A1 (de) * | 1993-06-15 | 1994-12-22 | Bayer Ag | Pulvermischungen zum Metallisieren von Substratoberflächen |
DE19731346C2 (de) * | 1997-06-06 | 2003-09-25 | Lpkf Laser & Electronics Ag | Leiterbahnstrukturen und ein Verfahren zu deren Herstellung |
DE19942054A1 (de) * | 1999-09-03 | 2001-12-06 | Schott Glas | Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltung |
WO2002099162A2 (en) * | 2001-06-04 | 2002-12-12 | Qinetiq Limited | Patterning method |
GB2381274A (en) * | 2001-10-29 | 2003-04-30 | Qinetiq Ltd | High resolution patterning method |
GB2382798A (en) * | 2001-12-04 | 2003-06-11 | Qinetiq Ltd | Inkjet printer which deposits at least two fluids on a substrate such that the fluids react chemically to form a product thereon |
US20040265531A1 (en) * | 2003-06-30 | 2004-12-30 | Mckean Dennis R. | Sliders bonded by a debondable silicon-based encapsulant |
EP2003939A1 (en) | 2007-06-14 | 2008-12-17 | Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Method for preparing a pattern for a 3-dimensional electric circuit |
WO2011087913A1 (en) * | 2010-01-14 | 2011-07-21 | The Regents Of The University Of California | A universal solution for growing thin films of electrically conductive nanostructures |
WO2014059339A1 (en) | 2012-10-12 | 2014-04-17 | The Regents Of The University Of California | Polyaniline membranes, uses, and methods thereto |
EP2996799B1 (en) | 2013-05-15 | 2021-07-28 | The Regents of the University of California | Polyaniline membranes formed by phase inversion for forward osmosis applications |
US10532328B2 (en) | 2014-04-08 | 2020-01-14 | The Regents Of The University Of California | Polyaniline-based chlorine resistant hydrophilic filtration membranes |
Family Cites Families (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB299903A (en) * | 1927-08-02 | 1928-11-02 | Albert Ivan Gates Warren | Improvements in processes for coating non-conducting substances with metals |
GB567503A (en) * | 1943-06-02 | 1945-02-16 | Frank Enoch Kerridge | Improvements in or relating to the production of metallic designs on non-metallic materials |
US2910351A (en) * | 1955-01-03 | 1959-10-27 | Gen Electric | Method of making printed circuit |
US2947625A (en) * | 1955-12-21 | 1960-08-02 | Ibm | Method of manufacturing printed circuits |
US2966429A (en) * | 1956-08-31 | 1960-12-27 | Gen Electric | Method of and apparatus for making printed circuits |
US3043685A (en) * | 1957-07-18 | 1962-07-10 | Xerox Corp | Xerographic and magnetic image recording and reproducing |
US2939804A (en) * | 1958-01-23 | 1960-06-07 | Uarco Inc | Resin particle coated with metal |
NL241541A (no) * | 1959-07-22 | |||
US3231374A (en) * | 1960-09-02 | 1966-01-25 | Rca Corp | Methods for preparing etch resists using an electrostatic image developer composition |
US3275436A (en) * | 1962-07-24 | 1966-09-27 | Xerox Corp | Method of image reproduction utilizing a uniform releasable surface film |
US3226256A (en) * | 1963-01-02 | 1965-12-28 | Jr Frederick W Schneble | Method of making printed circuits |
US3350202A (en) * | 1964-10-27 | 1967-10-31 | Union Carbide Corp | Method of xerographically photosensitizing planographic printing plates |
GB1175832A (en) * | 1965-10-12 | 1969-12-23 | Emi Ltd | Improvements relating to the production of an Electrical Conductor Adhering to an Insulating Support |
US3494790A (en) * | 1965-10-29 | 1970-02-10 | Texas Instruments Inc | Preparation of welding surfaces on semiconductors |
US3942983A (en) * | 1967-06-09 | 1976-03-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Electroless deposition of a non-noble metal on light generated nuclei of a metal more noble than silver |
BE720382A (no) * | 1967-09-14 | 1969-02-17 | ||
NL157659B (nl) * | 1967-09-22 | 1978-08-15 | Philips Nv | Werkwijze voor het langs fotografische weg vervaardigen van elektrisch geleidende koperpatronen. |
NL6808469A (no) * | 1968-06-15 | 1969-12-17 | ||
CA929705A (en) * | 1969-01-13 | 1973-07-10 | Ransburg Corporation | Deposition materials and methods |
US3691993A (en) * | 1970-11-23 | 1972-09-19 | Ibm | Apparatus for transferring developed image |
US3785983A (en) * | 1970-12-02 | 1974-01-15 | Minolta Camera Kk | Method of producing a liquid developer for use in the electronic photography |
US3745045A (en) * | 1971-01-06 | 1973-07-10 | R Brenneman | Electrical contact surface using an ink containing a plating catalyst |
US3880689A (en) * | 1971-09-30 | 1975-04-29 | Eastman Kodak Co | Magnetic developer containing an electroless plating sensitizer, and method of using same |
BE789988A (fr) * | 1971-10-12 | 1973-04-12 | Xerox Corp | Composition de revelateur et procede pour son emploi |
CA986770A (en) * | 1972-04-10 | 1976-04-06 | Jack C. Goldfrank | Pressure fixable magnetic toners |
JPS511434B2 (no) * | 1972-05-15 | 1976-01-17 | ||
JPS5187042A (no) * | 1975-01-29 | 1976-07-30 | Hitachi Metals Ltd | |
JPS5196330A (no) * | 1975-02-21 | 1976-08-24 | ||
US4042730A (en) * | 1976-03-29 | 1977-08-16 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Process for electroless plating using separate sensitization and activation steps |
JPS5841760B2 (ja) * | 1976-05-29 | 1983-09-14 | 神崎製紙株式会社 | 呈色剤の製造方法 |
NL7704238A (nl) * | 1977-04-19 | 1978-10-23 | Philips Nv | Werkwijze voor het additief vervaardigen van bedradingspatronen. |
US4307168A (en) * | 1977-05-05 | 1981-12-22 | Eastman Kodak Company | Amplification of developed electrographic image patterns |
JPS54126959A (en) * | 1978-03-25 | 1979-10-02 | Nippon Mektron Kk | Method of producing circuit board |
-
1979
- 1979-04-11 DK DK150779A patent/DK153337C/da not_active IP Right Cessation
-
1980
- 1980-04-10 IE IE732/80A patent/IE49192B1/en not_active IP Right Cessation
- 1980-04-10 CA CA000349530A patent/CA1162778A/en not_active Expired
- 1980-04-10 ZA ZA00802121A patent/ZA802121B/xx unknown
- 1980-04-10 IL IL59807A patent/IL59807A/xx unknown
- 1980-04-10 IT IT67559/80A patent/IT1128410B/it active
- 1980-04-11 JP JP55500874A patent/JPH0210593B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1980-04-11 DE DE8080900719T patent/DE3067809D1/de not_active Expired
- 1980-04-11 WO PCT/DK1980/000023 patent/WO1980002222A1/en active IP Right Grant
- 1980-10-23 EP EP80900719A patent/EP0026211B1/en not_active Expired
- 1980-12-09 NO NO80803710A patent/NO154370C/no unknown
-
1982
- 1982-06-18 US US06/389,934 patent/US4504529A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DK153337C (da) | 1988-11-14 |
ZA802121B (en) | 1981-04-29 |
DK153337B (da) | 1988-07-04 |
NO803710L (no) | 1980-12-09 |
NO154370C (no) | 1986-09-03 |
IT1128410B (it) | 1986-05-28 |
IE49192B1 (en) | 1985-08-21 |
EP0026211B1 (en) | 1984-05-16 |
EP0026211A1 (en) | 1981-04-08 |
US4504529A (en) | 1985-03-12 |
DK150779A (da) | 1980-10-12 |
IT8067559A0 (it) | 1980-04-10 |
IL59807A (en) | 1983-11-30 |
WO1980002222A1 (en) | 1980-10-16 |
IE800732L (en) | 1980-10-11 |
DE3067809D1 (en) | 1984-06-20 |
JPS56500435A (no) | 1981-04-02 |
CA1162778A (en) | 1984-02-28 |
JPH0210593B2 (no) | 1990-03-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NO154370B (no) | Fremgangsmaate til toerr, selektiv sensibilisering av et isolerende substrats overflate. | |
CA1282367C (en) | Glow discharge metal deposition on non-conductor from organometallic compound | |
JPS62260068A (ja) | 非導電性物質の表面に導電性金属層をメツキする方法 | |
DE1925760A1 (de) | Verfahren zum Herstellen gemusterter Metall-Duennfilme | |
JP2004532334A (ja) | 有機分離剤を使用することによる面平行な小板の製造方法 | |
US4039698A (en) | Method for making patterned platinum metallization | |
US3210214A (en) | Electrical conductive patterns | |
US3077386A (en) | Process for treating selenium | |
DE1597891A1 (de) | Verfahren zur Bilderzeugung | |
US4230788A (en) | Method of manufacturing an external electrically conducting metal pattern | |
CA1082817A (en) | Method of depositing metal conducting patterns on large area surfaces | |
US4099969A (en) | Coating method to improve adhesion of photoconductors | |
US4084968A (en) | Method of manufacturing electrically conductive metal layers on substrates | |
CA1045909A (en) | Processes and products of sensitizing substrates | |
US3740251A (en) | Method of uniformly coating a tubular lamp envelope with phosphor | |
JPS5931703B2 (ja) | 電子写真法による画像の製法 | |
CA1290720C (en) | Production of metallic structures on inorganic non-conductors | |
US3309227A (en) | Wax masking process | |
JPH07224178A (ja) | 無極性樹脂用表面処理剤 | |
PL81184B1 (no) | ||
SU1191877A1 (ru) | Электрофотографический носитель | |
US2859350A (en) | Xeroradiography device | |
SU1126581A1 (ru) | Вакуумный фоторезист | |
SU1097708A1 (ru) | Установка дл химического нанесени покрытий | |
JPS6317531A (ja) | 微細導体層パタ−ンの製造方法とその装置 |