DE1597891A1

DE1597891A1 - Verfahren zur Bilderzeugung

Info

Publication number: DE1597891A1
Application number: DE19671597891
Authority: DE
Inventors: Mortimer Levy; Augostini Peter Paul
Original assignee: Rank Xerox Ltd
Current assignee: Xerox Ltd
Priority date: 1966-10-31
Filing date: 1967-10-31
Publication date: 1970-08-27
Also published as: US3653885A; GB1200094A

Description

Verfahren zur Bilderzeugung

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bilderzeugung, insbesondere ein verbessertes fotoelektrosolografisches Verfahren.

In jüngster Zeit wurden elektrosolografische Verfahren zur Bilderzeugung entwickelt, mit denen Bilder hoher Qualität mit großer Dichte, gleichmäßiger Tönung und großer Bildauflösung hergestellt werden können. Ein derartiges Verfahren ist in der französischen Patentschrift 1 466 349 beschrieben.

Bei einem typischen Ausführungsbeispiel eines solchen Verfahrens zur Bilderzeugung besteht eine fotoelektrosolografische Struktur aus einer leitenden Unterlage, die mit einer Schicht eines erweichbaren oder löslichen Materials, das fotoempfindliche Partikel enthält, überzogen ist. Auf der fotoleitenden Oberfläche wird ein latentes elektrostatisches Bild erzeugt, z.B. durch gleichmäßige elektrostatische Aufladung und Belichtung mit einem aktivierenden Lichtraster einer elektro-

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magnetisehen Strahlung. Die erreichbare Schicht wird dann durch Tauchen der Platte in ein nur die lösliche Schicht angreifendes Lösungsmittel entwickelt. Die fotoleitenden Partikel, die der Strahlung ausgesetzt waren, wandern durch die erweichbare Schicht, wenn diese erweicht oder aufgelöst ist, und bilden auf der leitenden Unterlage ein Bild, das einem Negativ des Originals entspricht. Dieses Verfahren ist als Positiv-Negativ-Verfahren bekannt. Durch die Verwendung verschiedener Materialien können abhängig von den jeweils benutzten Materialien und der gewählten Polarität Positiv-Positivoder auch Positiv-Negativ-Bilder hergestellt werden. Die Partikel der erweichbaren Schicht, die nicht zur leitenden Unterlage wandern, werden mit der durch das Lösungsmittel erweichten Schicht fortgewaschen.

Es gibt drei grundsätzliche fotoelektrosolografische Strukturen: Eine Schichtstruktur, die eine leitende Unterlage, eine Schicht aus erweichbarem Material und einen Überzug aus fotoleitendem Material, gewöhnlich in Partikelform, aufweist, das in der oberen Fläche der erweichbaren Schicht eingebettet ist. Eine Binderstruktur, in der fotoleitende Partikel innerhalb der löslichen Schicht verteilt sind, mit der eine leitende Unterlage überzogen ist. Schließlich eine überzogene Struktur, bei der eine leitende Unterlage mit einem erweichbaren Material überzogen ist, gefolgt von einem Überzug fotoleitender Partikel und einem zweiten Überzug löslichen bzw. erweichbaren Materials, das die fotoleitenden Partikel ab-

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Das fotoelektrosolografisehe Verfahren besteht aus einer Kombination von Verfahrensschritten, die aus Aufladung, Belichtung und Entwicklung mit einem flüssigen oder, dampfförmigen Lösungsmittel oder einer Kombination von Dampf, gefolgt von Flüssigkeit, bestehen. Wird allein eine Dampfentwicklung angewendet, kann die erweichbare Schicht abgelöst v/erden, so daß das durch die auf die leitende Unterlage gewanderten Partikel gebildete Bild zurückbleibt. Die jeweilige Charakteristik dieser Bilder wird durch das Aufladungspoteiitial, Belichtung und Entwicklung sowie durch die besondere Kombination der Verfahr ens schritte bestinu.it. Große Dichte, gleichmäßige Tönung und hohe Bildauflösung sind einige der möglichen Bildcharakterist ika. Das Bild wird als fixiertes oder unfixiertec Pulverbild erzeugt und kann in Verbindung mit einer Vielzahl von Anwendungsmöglichkeiten benutzt werden, so z.B. bei Mikrofilmen, Hartkopien, optischen Masken oder bei Verwendung klebender Materialien für Ablösungsanwendungen. V/eitere Ausführungsbeisiäele s.oid in der ₍;ena;uiten Patentschrift beschrieben.

Ein weiteres in jüngster Zeit entwickeltes Verfahren zur Bilderzeugung, elektrosolografische :3il α erzeugung genannt, verwendet nichtfotoleitende χ artikel, die in einer nichtfotoleitenden auflösbaren Schicht auf elnir leitenden Unterlage enthalten s_.nd. Bei diesem Verfahren wird ein lat^itea elektrostatisches Bild durcn Koronaaufladung durch eine I.aske oder Schablone hindurch erzeugt, ..'Ire. die nit dem :;ild veradiene

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Fläche einem nur auf die erweichbare Schicht wirkenden Lösungsmittel ausgesetzt, wandern die Partikel in Bildkonfiguration auf die leitende Unterlage. Die unerwünschten Partikel werden mit der aufgelösten Schicht fortgewaschen. Dieses Verfahren ist ebenfalls in der französischen Patentschrift 1 466 349 beschrieben.

Die fotoleitenden Partikel, die für eine Verwendung bei der * Fotoelektrosolografie geeignet sind,· sind im wesentlichen die gleichen fotoleitenden Materialien, die auch bei der Xerografie verwendet werden. Diese sind glasartiges Selen und Selen enthaltende Legierungen, wie auch andere anorganische oder organische Fotoleiter. Die Verwendung von kleinen Partikeln aus Selen oder Selenverbindungen ergeben bei der Fotoelektrosolografie Bilder zufriedenstellender Auflösung und Dichte. Bei allen bekannten, bei der Fotoelektrosolografie verwendeten fotoleitenden Materialien kann das auf der Unterlage erzeugte Bild jederzeit nach der .entwicklung normalem Kaumlicht ausge-™ setzt werden, ohne daß die Dichte des Bildes beeinträchtigt wird. Jedoch ist das aus deu Entväcklerbad kommende Bild meist nicht gegen Wärme und Abrieb beständig. So kann zum Beispiel das Bild fortgewJecht werden, wenn die Entwicklerflüssigkeit nur aus Lösungsmittel besteht und die das Bild tragende Unterlage durch das Lösungsmittel nicht erweicht . v/ird.

Um den Abrieb oder einen Dichteverlust des Bildes zu vermeiden, ist es notwendig, das Bild während der Entwicklung oder durch

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zusätzliche Verfahrensschritte nach der Entwicklung zu fixieren. Zur Fixierung während der Entwicklung erweicht die Entwicklerflüssigkeit die leitende Unterlage oder eine dünne Schicht auf der Unterlage, so daf3 die bild erzeugenden Partikel in die Unterlage oder die dünne Schicht eingebettet werden können.. Zur Fixierung nach der Entwicklung verdunstet die Entwieklerflüssigkeit und läßt einen Überzug gelösten Plastikmaterials über dem Bild zurück. Bei Anwendung zusätzlicher Verfahrensschritte nach der Entwicklung kann das Bild entweder durch Versehen der Bildpartikel mit Überzügen oder durch Einbetten der Partikel in der leitenden Unterlage bzw. einem dünnen Überzug fixiert werden. Da diese Verfahren entweder Zusätze für die Entwicklerflüssigkeit oder einen besonderen Überzugsvorgang erfordern, besteht ein Bedürfnis nach einem einfachen und wirksamen tfixiervorgang für fotoelektrosolografische Bilder, der eine Erweichung oder ein Überziehen der Unterlage vermeidet, wobei derart erzeugte Bilder eine hohe Auflösung und eine ausgezeichnete Dichte aufweisen sollen.

Aufgabe der Erfindung ist es daher, ein Verfahren zur Haltbarmachung fotoelektrosolografischer Bilder anzugeben, das die genannten Nachteile vermeidet und einfach und wirksam arbeitet. Insbesondere soll dieses Verfahren Selen enthaltende Bilder haltbar machen, d.h. es soll ein verbessertes fotoelektrosolografisch.es Verfahren angegeben werden.

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Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß bei einem auf einer Unterlage gebildeten fotoelektrosolografischen Bild durch Erwärmung oder eine chemische Reaktion des bilderzeugenden Materials und der leitenden Unterlage eine chemische Reaktion zwischen Unterlage und de^i bild erzeugend en Material stattfindet und damit ein dauerhaftes, stabiles Bild hoher Dichte und Auflösung entsteht. Die "Vorteile dieses verbesserten Verfahrens gehen aus der folgenden Erläuterung der Erfindung an Hand der Zeichnungen hervor. Im einzelnen zeigen:

Pig. IA eine schematische Darstellung einer Schichtstruktur im Schnitt zur Ausführung des Verfahrens gemäß der

Erfindung,
S¹Ig. IB eine schematische Darstellung einer Binderstruktur

im Schnitt,
Pig. IC eine schematische Darstellung einer überzogenen Struktur im Schnitt,

S¹Ig. 2A die Struktur gemäß Pig. IA während der Aufladung, gig. 2B die Struktur gemäß Pig. IA während des Belichtungs-

vorganges,
Fig« 2C die Struktur gemäß Pig. IA während des Eatwieklungsvorganges,

Pig. 2D die Struktur gemäiS Pig. IA nach der Entv/icklung und ι Pig. 2E die Struktur gemäß Pig. IA bei der Haltbarmachung des Bildes.

Pig. IA zeigt eine fotoelektrosolografische Bildplatte, .die eine leitende Unterlage 11 mit einer daraufliegenden erweich-

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baren Schicht 12 und eine Schicht 13 auf v/eist, die gewöhnlich ein brüchiges fotoleitendes Material in Partikelform enthält.

. Die Unterlage 11, auf der das erweichbare Plastikmaterial und das partikelförmige fotoleitende Material aufgebracht ist, kann irgendeine leitende Unterlage sein, die chemisch mit dem fotoleitenden Material reagiert. Typische Unterlagen sind Kupfer, Messing, Kadmium, Silber und Gold. Die Unterlage kann in irgendeiner Form ausgebildet sein, so als Metallblatt, Gewebe, Folie, Zylinder oder einer ähnlichen Form. Falls gewünscht, kann das leitende Metall 'auf einem Isolator, wie z.B. Papier, Glas oder Plastik aufgezogen sein.

Die erweichbare Plastikschicht 12 kann aus irgendeinem beliebigen Material sein, das sich in einera flüssigen oder dampf- förmigen Lösungsmittel löst und während des Bilderzeugungs- und Entwioklungsvorgangs elektrisch unempfindlich ist. Typische Materialien sind Staybelite-Ester 10, ein teilweise hydrierter Bernsteinester, Foral-Ester, ein hydrierter Bernstein- f triester, Neolyne 23, ein Alkydharz, die alle von der Herkules Powder Co. erhältlich sind| SR 82, SR 84, Silikonharze, die beide von der General Electric Corporation erhältlich sind; Sukrosebenzoat von der jSastman Chemical; Velsicol X-37» hydriertes Velsicol X-37 der Velsicol Chemical Corp.; hydriertes Piccopale 100, ein stark verzweigtes Polyolefin, Piccotex 100, ein Polystyrolvinyltoluol, Piccolastic A-75, 100 und 125, alles Polystyrole, Piccodine 2215, ein Polystyrololefincopolyner, alle von der 1-eniisylvania Industrial Chemical Co. j

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Araldit 6060 und 6071, Epoxydharze von Ciba; R5O61A, ein Phenylmethylsilikonharz von Dow Corning; Epon 1001, ein Bisphenol-A-epichlorhydrinepoxydharz der Shell Chemical Corp.| PS-2, PS-3i beide Polystyrole und ET693, ein Phenolformaldehydharz der Dow Chemical.

Die vorstehend genannte Gruppe von Materialien sind nicht allein für die erweich/bare i'lastikschicht geeignet, sondern sind nur zur Veranschaulichung einiger dafür geeigneter Materialien angegeben. Die ±^Jlastikschicht kann jede geeignete Stärke aufweisen. Normalerweise muß, je stärker die Schicht ist, um so größer auch das für die Aufladung erforderliche Potential sein'. Eine Stärke von ungefähr 1 "bis 4 Mikron hat sich als befriedigend erwiesen, jedoch arbeiten Schichten mit anderen Abmessungen ebenfalls.

Das Material 13, welches das fottoleitende Material bildet, kann ein geeigneter Selen- oder Selenverbindungofotoleiter w sein. Typische Fotoleiter sind partikelförmiges glasartiges Selen und Selenverbindungen, wie z.B. aus Tellur und Selen. Die Größe der fotoleitenden i-artikel erstreckt sich von etwa 0,01 bis 1,5 Mikron Durchmesser, die durch Vakuumverdampfungsverfahren hergestellt werden können, wie in der französischen Patentschrift 1 466 349 beschrieben iat. Eine weitere geeignete Methode zur Herstellung der partikelfürnigen fotoleitenden Schicht ist durch einfaches Bestäuben oder Kaskadieren der löslichen Schicht mit dem Fotoleiter allein oder zuea;:u;ien mit gläsernen Träjerperlen möglich, die mit einem dampfförmigen

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Lösungsmittel erweicht wird. Diese Methode ist ebenfalls in der französischen Patentschrift 1 466 349 beschrieben. Die Stärke der fotoleitenden Schicht beträgt zwischen 0,2 und 14 Mikron, wobei die stärkeren Schichten bei der Binderstruktur verwendet werden.

In Pig. IB ist die Binderstruktur gezeigt, bei der die fotoleitenden Partikel 13 innerhalb der löslichen Schicht 12 verteilt sind.

Die in Fig. IC gezeigte Struktur weist die überzogene Bauweise auf, bei der die fotoleitenden Partikel 13 zwischen zwei Schichten löslichen Massematerials eingeschlossen sind, das auf der Unterlage 11 aufliegt. Beide, die Binder- und die Überzugsstruktur gemäß I¹Ig. IB und IC, enthalten die gleichen Grundmaterialien, die bereits in Zusammenhang mit Pig. IA aufgeführt wurden.

In Pig. 2A ist gezeigt, wie die Schichtstruktur gemäß Pig. IA mit einer Koronaladungseinrichtung 14 gleichmäßig über die gesamte Oberfläche geladen wird, vgl. auch die US-Patentschrift 2 777 957. Es wurde bereits erläutert, daß das erforderliche Potential für die fotoelektrosolografische Bilderzeugung von verschiedenen Paktoren abhängt. Derartige Paktoren sind z.B. die Form der bilderzeugenden Strukturen, von denen drei mögliche in den Pig. IA, IB und IC gezeigt sind, die Stärke und das verwendete Material der erweichijaren Schicht, der Typ des

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verwendeten Fotoleiters, das üitwicklerlösungsmittel, die Kombination einzelner Verfahrensschritte, die x-olarität des Potentials, die Belichtung u.a.m.

Ist das Potential zu hoch, werden die fotoleitenden rartikel gewöhnlich gleichmäßig auf der leitenden Unterlage abgelagert, ohne sich nach der Belichtung zu orientieron. Ist dagegen im anderen Pail das -Potential zu niedrig, werden keine der Partikel auf der Unterlage abgelagert. Normalerweise kann das

ψ Potential von wenigen Volt bis zu 400 Volt bei einer löslichen Schicht von etwa 2 Mikron Stärke abhängig vom jeweils gewählten Material betragen. Gewöhnlich wächst das erforderliche Potential mit der Stärke der löslichen Masseschicht bei einem gegebenen Massematerial. Mir wenige Kombinationen von Materialien können Bilder nur mit Potentialen einer Polarität gewonnen werden. Bei einigen Kombinationen· von lOtoleitern und löslichen Schichten ist das maximale i-otential bei positiver Polarität größer als bei negativer. Zum Beispiel wurde dieses für auf

I mehreren verschiedenen Massematerialien mittels Vakuumverdampfung aufgebrachtes Selen beobachtet.

Andere Verfahren zur Herstellung eines elektrostatischen Bildes auf der Oberfläche einer fotoleitenden Schicht sind ebenfalls in Verbindung mit dem erfindungsgemäßen Verfahren anzuwenden. Derartige Verfahren arbeiten mit Koronaentladung durch eine Schablone, wie in der französischen Patentschrift beschrieben. Außerdem kann die fotoelektrosolografi3che Struk-

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tür mit einer Elektrode durch eine Flüssigkeit geladen werden, wobei Flüssigkeiten geringer Viskosität, wie z.B. Silikonöl verwendet werden.

Wie in Fig. 2B gezeigt, wird die Bilderzeugung bzw. die Belichtung vorgenommen, indem eine der Belichtung dienende Strahlung 15 auf "bestimmte Stellen der geladenen, die fotoleitenden Partikel enthaltenden Oberfläche auftrifft. Die Belichtung fotoelektrosolografischer Bilder hängt vom Fotoleiter, vom Potential, dessen Polarität, der Kombination ein-

zelner Verfahrensschritte bei der Bildung der bilderzeugenden Strukturen, dem für die lösliche Schicht verwendeten Material und dem bei der Entwicklung verwendeten Lösungsmittel ab. Wie bei der xerografischen Bilderzeugung ist jedes zur Aktivierung des fotoleitenden Materials 13 geeignete Licht ausreichend für die Erzeugung von Bildern. Zum Beispiel ist die minimale Belichtung für eine maximale Lichte bei einer Struktur, die im Vakuum aufgedampftes Selen auf Staybelite mit einer Stärke von 2 Mikron enthält, bei Licht von 4 000 1

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ungefähr 1,5, x 10 Photonen/cm . Diese gleiche Belichtung entlädt eine gebräuchliche xerografische Selenplatte von 50 Mikron Stärke von 600 Volt auf 500 Volt.

In Fig. 2C ist der En twi ciclungs Vorgang der fotoelektrosolografischen Struktur gezeigt, wobei die oti-uktur durch Eintauchen in ein Lösungsmittel für die lösliche Schicht 12 entwickelt wird. Das flüssige Lösungsmittel 16 kann mit der

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fotoelektrosolografischeii Struktur durch Sprühen, Gießen oder Eintauchen der Struktur in Berührung gebracht werden. Die Entwicklungszeit ist nicht "besonders kritisch, da das lösungsmittel so ausgesucht ist, daß es nur die erweichbare oder lösliche Schicht auflöst, gegenüber den fotoleitenden Partikeln und der leitenden Unterlage jedoch neutral ist. Die Entwicklungszeit besteht im wesentlichen aus zwei Teilen: die Zeit, während der die Partikel gemäß dem Bildraster auf die leitende Unterlage wandern, und die Zeit, während der die nicht wandernden Partikel fortgewaschen werden. Die Entwicklungszeit reicht von weniger als einer Sekunde bei einer Schichtstruktur von 3 Mikron Stärke, wie in Pig. IA gezeigt, bis etwa 45 Sekunden bei Benutzung einer Binderstruktur mit einer Stärke von etwa 12 Mikron, wie sie in Fig. IB gezeigt ist. Die Fortschwemnzeit und damit die Entwicklungszeit kann verringert v/erden, indem die Relativbewegung zwischen dem Lösungsmittel und der bilderzeugenden Struktur vergrößert wird.

Die als Lösungsmittel verwendete Entwicklerflüssigkeit 16 kann jedes geeignete Lösungsmittel für die lösliche Schicht enthalten. Typische Lösungsmittel sind Freon D.1G (DuPont)$ Trichlorethylen, Chlorofon.i, Äthyläther, Xylol, Dioxan, Benzol, Toluol, Zyklohexan, 1,1,1-Trichloräthan, Penthan, η-Hep tan, geruchloses Lösungsmittel 34-40 (Sohio), Freon 113 (DuPont), m-Xylol, Tetrachlorkohlenstoffthiophen, Diphenyläther, p-Cymen, cis-2,k:-Dichloräth;/len, Nitromethan, Äthanol, Äthylacetat, L'ethyläthylketon, Äthylendichlorid, Hethylchlorid,

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1, -1 -Di chi or ä thy 1 en, Tr ans-1,2-Di chi or äthyl en und Supernaphtholit (Buffalo Solvents and Chemicals).

Nach der in Pig. 2C gezeigten Entwicklung in dem flüssigen Lösungsmittel formiert sich der Fotoleiter 13 in Bildkonfiguration auf der Unterlage 11, vgl. Pig. 2D. Um das Bild 13 haltbar zu machen und gleichzeitig die Dichte des Bildes zu steigern, wird an dieser Stelle ein Vorgang zur Haltbarmachung des Bildes, der, wie in Pig. 2E gezeigt, eine Reaktion zwischen dem Bild 13 und der Unterlage 11 bewirkt, eingeführt. Dieser Vorgang umfaßt die Erwärmung der das Bild tragenden Unterlage 11 mit Hilfe einer geeigneten Wärmequelle, wie z.B. einer Heizwicklung 19, um eine Reaktion zwischen der Unterlage 11 und dem fotoleitenden Material und damit eine cheiiiische Reaktion zwischen beiden hervorzurufen. Andere Y/ärmequellen, wie heiße Luft, Gasbrenner o.a. können ebenfalls benutzt werden. V/ährend der jirwärmung sintert das fotoleitende Material in den Bildbereichen zusammen und bewirkt dabei, bedingt durch Schwund, einen anfänglichen Rückgang in der I Bilddichte; nach der Reaktion mit der Unterlage wird das fotoleitende Material feucht und dehnt sich auf der Unterlage aus, so daß mit 13' bezeichnete Bildbereiche hoher Dichte entstehen.

Alle der weiter vorn genannten als Potoleiter benutzten Selene oder Selenverbindungen reagieren mit den meisten Metallverbindungen. Typische derartige Metalle sind Kupfer, Gold,

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Kadmium, Messing, Silber und andere, tfie "bereits erwähnt, kann die Unterlage jedo beliebige Form aufweisen, solange das reagierende Metall sich an der belichteten Oberfläche zur Aufnahme des fotoleitenden Materials befindet.

Um die Erfindung besaer zu veranschaulichen, wird die Ue-' handlung einer gebräuchlichen fotoelektrosolografischen Platte aus einer Kupferunterlage mit einer 2 Mikron starken Schicht von Staybelite-Ester 10, einem zu 50 $ hydrierten Glyzerinbernsteinester der Herkules Powder Co., über der Kupferunterlage und einer 0,2 Mikron starken Schicht von aufgedampftem Selen, das in der Oberfläche des Staybelits eingelagert ist, beschrieben.

Die Platte wird zuerst mit einer Koronaladungsvorrichtung auf ein positives Potential von etwa 100 Volt aufgeladen, vgl. Fig. 2A. Die Platte wird dann mit einem optischen Bild von 107,6 Lux-Sekunden in den ausgeleuchteten Bereichen mit einer Wolframlampe belichtet.

Die Entwicklung der blatte wird durch Eintauchen in Freon 113» einem halogenierten Kohlenwasserstoff (DuPont de Nemours Cq, Inc.) für etwa 2 Sekunden bewirkt, wonach sie in Luft getrocknet wird, vgl. Pig. 2C und 2D. Das Teilchenbild wird dann durch eine Minute langes Erwärmen der Unterlage auf etwa 10O⁰C haltbar gemacht, wobei die Kupferunterlage mit den Bildpartikeln aus Selen reagiert. Bei dieser Reaktion entsteht ein schwarzes

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kristallines Material mit einem bei etwa 1 00O⁰C liegenden S chmel zpunkt.

Während der Erwärmung sintert das Selen in den Bildbereichen zusammen, wodurch ein anfänglicher Itüclcgang der Bilddichte durch Schwund auftritt, der jedoch nach der iteaktion durch das feucht werdende und sich auf der Kupferunterlage ausdehnende Selen ausgeglichen v/ird. Dieser Schwund kann durch eine vorangehende Umwanulung der Selenoberfläche in den Bild- Ji Bereichen in einen kristallinen Zustand vermieden werden, wonach dann die Erwärmung zum Auftreten der chemischen Heaktion an der Kupfer-Selenfläche vorgenommen wird. Diese Kristallisation kann durch Zusammenbringen der Bildfläche mit irgendeinem bekannten Element oder einer Verbindung erreicht werden, welche eine Kristallisation der uberfläche des Selens oder der Selenverbindung in den Bildbereichen bewirken. Diese al3 Agens wirkenden Elemente bzw. Verbindungen können Dampfaufbereitungen mit Quecksilber, Jod, Bleichsäure, Brom, Fluor und Aminen, wie Hexylamin u.a. sein. Zum Beispiel ist ^ eine Anwendung von Quecksilberdampf für etwa fünf Minuten normalerweise ausreichend, um die Oberfläche des Selens in den Bildbereichen zu kristallisieren.

Die Heakti ons temp era tür ist die Temperatur, bei der das Selen oder die Selenverbindungen mit dem jeweils verwendeten Unterlagenmaterial reagieren. Diese Temperatur ist nur im Hinblick auf die Unterlage kritisch, da diese nicht so groß werden

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- 16 darf, daß sich die Unterlage verwirft oder krümmt.

Gewöhnlich reichen Temperaturen von 90 Ms 200⁰C aus, um das Selen oder die Selen enthaltende Verbindung mit der Unterlage reagieren zu lassen.

Beispiel I

Eine bilderzeugende Platte, wie sie in Fig. IA" dargestellt ist, wird durch einen Überzug mittels Abrollen einer 2 Mikron starken Schicht aus Staybelite-Ester 10 (Herkules Powder Co.) auf einem 0,0762 mm starken Mylar-Polyesterfilm (DuPont de Nemours & Co., Inc.) hergestellt, der einen dünnen Überzug Kupfer von etwa 0,1 Mikron Stärke aufweist. Eine dünne Schicht glasartigen Selens von etwa 1 Mikron Stärke wird dann mittels eines inerten Gases auf dem Staybelite aufgetragen, wie in der französischen Patentschrift 1 466 M9 näher beschrieben.

Die Platte wird dann elektrostatisch unter Dunkelkammerbedingungen auf ein positives Potential von etwa 60 Volt mittels einer Koronaladungseinrichtung aufgeladen, wie im US-Patent 2 588 699 beschrieben. Die geladene Platte wird dann mit einem optischen Bild belichtet, das in den ausgeleuchteten Bereichen mit Hilfe einer './olframlampe und eines Blaufilters eine BeIichtungsstärke von 107,6 Lux-Sekunden aufweist. Die Platte wird dann entwickelt, indem sie für etwa 2 Sekunden in ein Bad von Zyklohexan eingetaucht wird. Die Platte wird dann aus dem Bad herausgenommen und getrocknet. Auf der Platte

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hat sich ein ausgezeichnetes Bild gemäß dem projizierten Bild gebildet. Dieses Bild besteht aus einer dünnen Schicht von Selenpartikeln, die sich in Bildkonfiguration auf der Kupferunterlage abgelagert haben.

Die Platte wird dann in eine abgedichtete G-laekammer gesteckt, in der sie etwa für fünf Minuten Quecksilberdampfen ausgesetzt wird. Fach Ablauf dieser Zeit wird die Platte herausgenommen und durch Warmluft auf etwa 10O⁰C für mehrere Minuten er- m

hitzt, während der das Selen und die Unterlage reagieren, wobei das Selen feucht wird und sich auf der Kupferunterlage ausdehnt. Das so entstehende Bild zeigt hohe Dichte, ausgezeichneten Kontrast und ist gegenüber Abrieb unempfindlich und noch bei relativ hohen !Temperaturen haltbar.

Beispiel II

Eine bilderzeugende Platte, die, wie im Beispiel I, eine mit Kupfer überzogene Mylar-Unterlage benutzt, wird durch Abrollen M mit einer 2 Mikron starken Schicht aus Piccotex 100 (Pennsylvania Industrial Chemical Co.) überzogen. Diese Platte wird mit einer Selenschicht überzogen und, wie im Beispiel I, in Zyklohexan entwickelt. Die Platte wird dann, wie im Beispiel I, belichtet und entwickelt und zeigt ein haltbares Bild, wonach die Quecksilberdampfanwendung und die Wärmefixierung, wie im Beispiel I, ausgeführt wird.

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Beispiel III - VIII

Die beim Beispiel I erläuterten Verfahrensschritte werden
mit einer Anzahl Platten ausgeführt, die unter den verschiedensten Bedingungen hergestellt, mit Bildern versehen, entwickelt und haltbar gemacht werden, wobei die in der folgenden Tabelle aufgeführten Ergebnisse und Verfahrensparameter bei den in den Beispielen getesteten Proben auftreten.

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	Leitende Unterlage	erweichbarer Kunststoff	Tabelle	fotolei tende Schicht	Potential	Belichtung	Entwickler (1-3 Sek. im Bad)	• ■	Wärme- fixie rung
	Kupfer	Staybelite		Selen	+ 100 7	4000 JL Licht	Freon 113	Quecksil- berdampf- behandlunjz:	100⁰C
Bei spiel Hr.	(0,1 Mikron) auf 0,0762mm				mit 5 x 10¹I Photonen/cm7		5 Minuten
1	Mylar				see
	Kupfer	Piccotex	Selen	+ 100 V	4000 I Licht	Pr eon 113		10O⁰C
	(0,1 Mikron)				mit 5 x lO-H;		5 Hinuten
2	auf 0,0762mm				Pho t onen/cm /
	Mylar				see
	0,127 mm	Staybelite	Selen	+ 100 V	4000 I Licht	Tetrachlor		100⁰C
	Kupferfolie				mit 5 x 10¹I	kohlenstoff	5 Minuten
3					Pho tonen/cm /
					see
	0,127 mm	Piccotex	Selen	+ 100 7	4000 i Licht	Tetrachlor		100⁰C
	Kupferfolie				mit 5 x 10¹I	kohlenstoff	5 Minuten
4					Photonen/cm /
					see
	Gold	Staybelite	Selen	+ 100 7	4000 i Licht mit 5 x Kr-i Photonen/cm7	Zyklohexan		10O⁰C
	(300 1) auf Glasschliff				see		5 Minuten
5					4000 λ Licht
	Gold	Piccotex	Selen	+ 100 7	mit 5 x 10-H; Photonen/cm/	Zyklohexan		10O⁰C
	(300 A) auf Glasschliff				see		5 Minuten
6			•
				•

O O co OO OO cn

- 19 -

cn co

co

cn

Die genannten Proben 1 bis 6 erzeugen alle haltbare Bilder hoher Auflösung und Dichte.

Obwohl bestimmte Stoffe und Parameter angegeben wurden, können andere geeignete Materialien und Verfahrensschritte, wie sie z.B. weiter vorn erwähnt wurden, zur Erzielung ähnlicher Ergebnisse benutzt werden. Es können auch weitere Materialien hinzugefügt werden, die die Bilder mit stärkerem Kontrast versehen oder sonstwie modifizieren.

Andere Ausgestaltungen und Abänderungen der Erfindung werden durch die Beschreibung nahegelegt und bleiben daher im Rahmen der Erfindung.

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Claims

Patentansprüche

1. Verfahren zur Bilderzeugung mit folgenden Verfahrensschritten: Verwendung einer Struktur aus einer leitenden Unterlage und einer Auflage erweichbaren Materials, das ein in Partikeln oder Bruchstücken vorliegendes bilderzeugendes Material enthält, Bildung eines latenten elektrostatischen Bildes auf dieser Struktur, Entwicklung des Bildes in einem Lösungsmittel für das erweichbare Material, wobei das bilderzeugende Material sich in Bildkonfiguration auf der leitenden Unterlage ablagert, dadurch gekennzeichnet, dass für die Unterlage (11) und das bilderzeugende Material (13) Stoffe verwendet werden, die eine, chemische Reaktion miteinander eingehen.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die chemische Reaktion durch Einwirkung von Wärme hervorgerufen wird.

3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeich net, dass die leitende Unterlage (11) Kupfer enthält.

4* Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass die leitende Unterlage (11) Messing enthält.

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5. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die leitende Unterlage (11) Kadmium enthält.

6. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die leitende Unterlage (11) Silber enthält,

7. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die leitende Unterlage (11) Gold enthält.

8. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 7» dadurch gekennzeichnet, daß das Mlderzeugende Material (15) fotoleitend ist.

9. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das bilderzeugende Material (13) glasartiges Selen enthält.

10. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß das fotoleitende Material (13) eine glasartige Legierung mit mindestens 50 Gewichtsprozenten Selen ist.

11. Verfahren nach Anspruch 1, nach dem ein nach den Ansprüchen, 8 bis 10 aufgebautes Bild entwickelt wird, dadurch gekennzeichnet, daß das Bild mit einem kristallisierenden Agens behandelt wird, bevor es chemisch mit der Unterlage (11) reagiert.

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12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß das kristallisierende Agens Quecksilberdampf enthält.

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