JPS5931703B2 - 電子写真法による画像の製法 - Google Patents
電子写真法による画像の製法Info
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- JPS5931703B2 JPS5931703B2 JP51150707A JP15070776A JPS5931703B2 JP S5931703 B2 JPS5931703 B2 JP S5931703B2 JP 51150707 A JP51150707 A JP 51150707A JP 15070776 A JP15070776 A JP 15070776A JP S5931703 B2 JPS5931703 B2 JP S5931703B2
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G13/00—Electrographic processes using a charge pattern
- G03G13/26—Electrographic processes using a charge pattern for the production of printing plates for non-xerographic printing processes
- G03G13/32—Relief printing plates
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G13/00—Electrographic processes using a charge pattern
- G03G13/26—Electrographic processes using a charge pattern for the production of printing plates for non-xerographic printing processes
- G03G13/28—Planographic printing plates
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
- H05K3/061—Etching masks
- H05K3/065—Etching masks applied by electrographic, electrophotographic or magnetographic methods
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は導電性支持材料に被覆した導電層の静電帯電、
露光、トーナによる処理および非画像部の光導電層の除
去による、電子写真法による画像の製法に関する。
露光、トーナによる処理および非画像部の光導電層の除
去による、電子写真法による画像の製法に関する。
印刷版として使用するに適した支持体を光導電層で被覆
し、静電帯電と露光によつて像をつくり、トーナによつ
て可視化し、定着した後、トーナによつて被覆されてい
ない部分を溶解して除去する電子写真法による印刷版の
製法は公知である（西ドイツ公開特許公報第１５７２３
１２号参照）。
し、静電帯電と露光によつて像をつくり、トーナによつ
て可視化し、定着した後、トーナによつて被覆されてい
ない部分を溶解して除去する電子写真法による印刷版の
製法は公知である（西ドイツ公開特許公報第１５７２３
１２号参照）。
この方法によれば光導電層を溶解除去するため溶剤を純
有機溶剤の形または水を含む混合物として使用しなけれ
ばならない。液体の被覆除去剤は有毒蒸気を発生し、不
適当な使用および排出により環境を汚染する。
有機溶剤の形または水を含む混合物として使用しなけれ
ばならない。液体の被覆除去剤は有毒蒸気を発生し、不
適当な使用および排出により環境を汚染する。
さらにこの種の被覆除去法の自動化は高価な装置を必要
とする。さらに支持シートが光導電剤粒子を含む軟化し
うる結合剤の層を備える画像の製法が公知である（フラ
ンス特許第１４７８１７２号参照）。
とする。さらに支持シートが光導電剤粒子を含む軟化し
うる結合剤の層を備える画像の製法が公知である（フラ
ンス特許第１４７８１７２号参照）。
この層は最初、支持シートの上に置かれる付着シートに
対するより強い付着力を支持シートに対して有する。結
合剤の層は後の過程で引離しうるように活性化剤により
軟化されるか、または膨潤される。付着シートをカバー
した後静電場が結合剤層を通して適用され、像に従う露
光は両方とも透明である支持シートか付着シートを通し
て行われる。電場を維持したまま支持シートと付着シー
トは分離され、その際光導電剤粒子を含む結合剤の層は
像に従つて引離される。結合剤層の支持シートおよび付
着シートへの付着力は僅かしか異なつてはならない。こ
れは支持シートおよび付着シートに同じ材料を使用する
ことによつてもつともよく達成される。この方法でポジ
像およびネガ像が得られる。この方法は費用を要し、活
性化成分として有害溶剤の使用が避けられない。
対するより強い付着力を支持シートに対して有する。結
合剤の層は後の過程で引離しうるように活性化剤により
軟化されるか、または膨潤される。付着シートをカバー
した後静電場が結合剤層を通して適用され、像に従う露
光は両方とも透明である支持シートか付着シートを通し
て行われる。電場を維持したまま支持シートと付着シー
トは分離され、その際光導電剤粒子を含む結合剤の層は
像に従つて引離される。結合剤層の支持シートおよび付
着シートへの付着力は僅かしか異なつてはならない。こ
れは支持シートおよび付着シートに同じ材料を使用する
ことによつてもつともよく達成される。この方法でポジ
像およびネガ像が得られる。この方法は費用を要し、活
性化成分として有害溶剤の使用が避けられない。
さらに３９０００〜９８５００Ｖ／Ｍｍにわたる大きい
電場の強さの直接使用も欠点であることが明らかになつ
た。上記方法を改善するため軟化しうる光導電層を支持
シートと付着シートの間に配置する画像製法（西ドイツ
特許公報第１８０２９９３号参照）が公知である。光導
電層は電場の作用下に活性化剤によつて軟化され、その
際この活性化剤に、引離すべき軟化可能の光導電層を強
化するプラスチツク材料が添加される。しかしこの場合
も高い電場の強さおよび活性化剤の有害溶剤蒸気が避け
られず、比較的複雑で高価な方法は簡単化されない。
電場の強さの直接使用も欠点であることが明らかになつ
た。上記方法を改善するため軟化しうる光導電層を支持
シートと付着シートの間に配置する画像製法（西ドイツ
特許公報第１８０２９９３号参照）が公知である。光導
電層は電場の作用下に活性化剤によつて軟化され、その
際この活性化剤に、引離すべき軟化可能の光導電層を強
化するプラスチツク材料が添加される。しかしこの場合
も高い電場の強さおよび活性化剤の有害溶剤蒸気が避け
られず、比較的複雑で高価な方法は簡単化されない。
それゆえ本発明の目的は電子写真法により画像を製造す
るため、活性化剤または被覆除去剤として単独または混
合物の形の有機溶剤の使用を避けながら光導電層を除去
する簡単な方法を得ることである。
るため、活性化剤または被覆除去剤として単独または混
合物の形の有機溶剤の使用を避けながら光導電層を除去
する簡単な方法を得ることである。
この問題はトーナでカバーされていない光導電層を５０
〜２５０℃の温度で、導電性支持材料より光導電層に対
する表面付着力の高い付着材料へ付着、転移させること
によつて解決される。
〜２５０℃の温度で、導電性支持材料より光導電層に対
する表面付着力の高い付着材料へ付着、転移させること
によつて解決される。
有利な実施例によれば付着、転移はとくに有機材料より
なる光導電層の軟化点により約１００〜２００℃の温度
範囲で行われる。それによつて光導電層の画像部と非画
像部の満足な分離が達成される。この目的のためその表
面に光導電層が支持材料よりよく付着する付着材料を選
ぶことだけが必要である。
なる光導電層の軟化点により約１００〜２００℃の温度
範囲で行われる。それによつて光導電層の画像部と非画
像部の満足な分離が達成される。この目的のためその表
面に光導電層が支持材料よりよく付着する付着材料を選
ぶことだけが必要である。
さらに現像に使用されるトーナは画像部が付着材料に付
着、転移することを避けるため、付着材料に対しては低
い付着力を有するか、またはまつたく付着力を有しては
ならない。
着、転移することを避けるため、付着材料に対しては低
い付着力を有するか、またはまつたく付着力を有しては
ならない。
軟化点または融点が光導電層の軟化点よりかなり高く、
かつ付着性を有する化合物がとくにトーナ物質として適
する。
かつ付着性を有する化合物がとくにトーナ物質として適
する。
この方法を実施する場合、付着材料はトーナで処理した
光導電層上に配置され、この層と付着材料は１つが加熱
されている１組のローラの間を通すことにより圧着され
る。
光導電層上に配置され、この層と付着材料は１つが加熱
されている１組のローラの間を通すことにより圧着され
る。
続いて光導電層を支持する支持体と付着材料は分離され
る。これによつて非画像部の光導電層はその支持材料か
ら分離され、付着材料に密着し、トーナによりカバーさ
れた光導電層の部分は支持材料上に残留する。加圧下と
くに約１０ａｔ下の付着、転移がとくに有利である。印
刷目的に適する金属面が支持体として使用される場合、
印刷版はこの方法で製造することができる。
る。これによつて非画像部の光導電層はその支持材料か
ら分離され、付着材料に密着し、トーナによりカバーさ
れた光導電層の部分は支持材料上に残留する。加圧下と
くに約１０ａｔ下の付着、転移がとくに有利である。印
刷目的に適する金属面が支持体として使用される場合、
印刷版はこの方法で製造することができる。
露出した金属面は選択的にエツチングして凸版またはグ
ラビア印刷の印刷版を製造することができる。光導電層
用の支持材料として金属蒸着した透明シートを使用する
場合、プリント回路としても使用しうるマスキング性の
よい透明ポジが非画像部の金属をエツチングにより除去
した後に得られる。次に本発明を図面により説明する。
ラビア印刷の印刷版を製造することができる。光導電層
用の支持材料として金属蒸着した透明シートを使用する
場合、プリント回路としても使用しうるマスキング性の
よい透明ポジが非画像部の金属をエツチングにより除去
した後に得られる。次に本発明を図面により説明する。
第１図は付着材料３、導電性支持材料２および支持材料
に被覆した光導電層１を示す。
に被覆した光導電層１を示す。
第２図はトーナ４でカバーされた光導電層１を支持する
導電性支持材料２を示す。
導電性支持材料２を示す。
第３図は付着材料３へ付着、転移した光導電層の部分７
を示す。
を示す。
付着、転移の後選択的に行われるエツチングは５で示さ
れる。光導電層１のためにとくに適する支持・材料２は
金属化したポリエステルシート、光輝圧延した金属シー
トまたは機械的処理によつて粗面化した金属シートであ
る。
れる。光導電層１のためにとくに適する支持・材料２は
金属化したポリエステルシート、光輝圧延した金属シー
トまたは機械的処理によつて粗面化した金属シートであ
る。
金属化したポリエステルシート２に被覆した光導電層１
のための付着材料３は光輝圧延して粗面化または陽極酸
化した金属シート３である。
のための付着材料３は光輝圧延して粗面化または陽極酸
化した金属シート３である。
粗面化または陽極酸化したシート３は光輝圧延した金属
シート２と共通に使用できるけれど、粗面化したシート
２から陽極酸化したシート３への付着、転移が有利であ
る。適当なトーナ物質４は金属微粉末、金属酸化物また
は金属塩のような高融点無機材料およびポリビニルアル
コールまたはデンプンのような有機材料である。
シート２と共通に使用できるけれど、粗面化したシート
２から陽極酸化したシート３への付着、転移が有利であ
る。適当なトーナ物質４は金属微粉末、金属酸化物また
は金属塩のような高融点無機材料およびポリビニルアル
コールまたはデンプンのような有機材料である。
とくにポリテトラフルオルエチレンがトーナ物質として
使用される。次に本発明の方法を例によつて説明する。
使用される。次に本発明の方法を例によつて説明する。
例１
２・５−ビス−（４！−ジエチルアミノフエニル）１・
３・４−オキサジアゾール１７．０７、スチレンと無水
マレイン酸のコーポリマ一１７．０ｙ、グリコールモノ
メチルエーテル２５０Ｖ中のローダミンＢエクストラ０
．３４７、ブチルアセテート６２７、ブタノン５４７お
よびメタノール３４ｙの溶液を１μのアルミニウムを蒸
着した厚さ７５μのポリエステルシートに被覆し、溶剤
蒸発後アルミニウム上に厚さ４μの光導電層が得られる
。
３・４−オキサジアゾール１７．０７、スチレンと無水
マレイン酸のコーポリマ一１７．０ｙ、グリコールモノ
メチルエーテル２５０Ｖ中のローダミンＢエクストラ０
．３４７、ブチルアセテート６２７、ブタノン５４７お
よびメタノール３４ｙの溶液を１μのアルミニウムを蒸
着した厚さ７５μのポリエステルシートに被覆し、溶剤
蒸発後アルミニウム上に厚さ４μの光導電層が得られる
。
この層を暗中でコロナにより正の４００Ｖに帯電させ、
オリジナルを使用して露光する。オリジナルを密着露光
する場合、露光時間は６５？の距離に１００Ｗ電球を使
用して５秒である。露光に続いて得られた帯電潜像を液
体トーナで現像する。この液体トーナはポリテトラフル
オルエチレン３７を沸点範囲１８５〜２１０℃のイソパ
ラフイン２００ｍ１中のペンタエリトリツト樹脂エステ
ル４７の溶液に微細に分散させ、沸点範囲１８５〜２１
０℃のイソパラフイン２１で希釈することによつて得ら
れる。過剰の現像液を除去し、トーナ像を温風で乾燥し
た後、トーナ像を支持する被覆されたポリエステルシー
トを厚さ２５μの光輝圧延した可撓性アルミニウムシー
トで蔽い、両方を０，５ｍ／Ｍｉ！ｌの速度で１組のロ
ールの間を通過させる。１組のロールは１２０℃まで加
熱される鋼ロールとポリテトラフルオルエチレンで被覆
した相手ロールからなる。
オリジナルを使用して露光する。オリジナルを密着露光
する場合、露光時間は６５？の距離に１００Ｗ電球を使
用して５秒である。露光に続いて得られた帯電潜像を液
体トーナで現像する。この液体トーナはポリテトラフル
オルエチレン３７を沸点範囲１８５〜２１０℃のイソパ
ラフイン２００ｍ１中のペンタエリトリツト樹脂エステ
ル４７の溶液に微細に分散させ、沸点範囲１８５〜２１
０℃のイソパラフイン２１で希釈することによつて得ら
れる。過剰の現像液を除去し、トーナ像を温風で乾燥し
た後、トーナ像を支持する被覆されたポリエステルシー
トを厚さ２５μの光輝圧延した可撓性アルミニウムシー
トで蔽い、両方を０，５ｍ／Ｍｉ！ｌの速度で１組のロ
ールの間を通過させる。１組のロールは１２０℃まで加
熱される鋼ロールとポリテトラフルオルエチレンで被覆
した相手ロールからなる。
カバーしたアルミニウムシートが加熱した鋼ロールに面
し、１組のロールでおよぼす圧力が約１０ａｔの場合と
くに有利な結果が得られる。シート材料を室温まで冷却
した後、アノレミニウムシートをポリエステノレシート
から弓離す。トーナで蔽われた光導電層はポリエステル
シート上に残るけれど、非画像部の光導電層はアルミニ
ウムシートに付着する。ポリエステルシートはすでに平
版印刷版であり、トーナで蔽われた光導電層よりなる画
像部は親油性であり、非画像部の露出したアルミニウム
面は親水性である。シートはオフセツト印刷機にセツト
して常用法による印刷に使用することができる。例２ １面を２μのアルミニウムを蒸着した厚さ１００μのポ
リエステルシートを２−ビニル−４（２′−クロロフエ
ニル）−５−（４″−ジエチルアミノフエニル）−オキ
サゾール１０ｙ、スチレンと無水マレイン酸のコーポリ
マ一１０７、テトラヒドロフラン１３５ｙ中のローダミ
ンＢＯ．Ｏ５７の溶液で被覆してアルミニウム面上に厚
さ５μの光導電層を得る。
し、１組のロールでおよぼす圧力が約１０ａｔの場合と
くに有利な結果が得られる。シート材料を室温まで冷却
した後、アノレミニウムシートをポリエステノレシート
から弓離す。トーナで蔽われた光導電層はポリエステル
シート上に残るけれど、非画像部の光導電層はアルミニ
ウムシートに付着する。ポリエステルシートはすでに平
版印刷版であり、トーナで蔽われた光導電層よりなる画
像部は親油性であり、非画像部の露出したアルミニウム
面は親水性である。シートはオフセツト印刷機にセツト
して常用法による印刷に使用することができる。例２ １面を２μのアルミニウムを蒸着した厚さ１００μのポ
リエステルシートを２−ビニル−４（２′−クロロフエ
ニル）−５−（４″−ジエチルアミノフエニル）−オキ
サゾール１０ｙ、スチレンと無水マレイン酸のコーポリ
マ一１０７、テトラヒドロフラン１３５ｙ中のローダミ
ンＢＯ．Ｏ５７の溶液で被覆してアルミニウム面上に厚
さ５μの光導電層を得る。
コロナによりこの層を暗中で負の５００Ｖに帯電させ、
次に例１と同様に露光し、液体トーナで現像する。この
液体トーナは酸化亜鉛３ｙを沸点範囲１８５〜２１０℃
のイソパラフイン２００ｍ１中の水素添加したペンタエ
リトリツト樹脂エステル４ｙの溶液に微細に分散させ、
同じイソパラフイン４１？で希釈することによつて得ら
れる。光導電層で被覆した現像したポリエステルシート
を例１と同様に処理して印刷版が得られる。酸化亜鉛で
カバーされる光導電層の部分は熱によつて影響を受けず
、この部分は平版印刷版の親油性部分であり、公知法の
印刷に使用することができる。このように得た画像支持
シートを２Ｎソーダ液で２２℃、約２分処理すると、非
画像部の露出したアルミニウム層が溶解される。
次に例１と同様に露光し、液体トーナで現像する。この
液体トーナは酸化亜鉛３ｙを沸点範囲１８５〜２１０℃
のイソパラフイン２００ｍ１中の水素添加したペンタエ
リトリツト樹脂エステル４ｙの溶液に微細に分散させ、
同じイソパラフイン４１？で希釈することによつて得ら
れる。光導電層で被覆した現像したポリエステルシート
を例１と同様に処理して印刷版が得られる。酸化亜鉛で
カバーされる光導電層の部分は熱によつて影響を受けず
、この部分は平版印刷版の親油性部分であり、公知法の
印刷に使用することができる。このように得た画像支持
シートを２Ｎソーダ液で２２℃、約２分処理すると、非
画像部の露出したアルミニウム層が溶解される。
露光に使用したオリジナルにより、この方法でマスキン
グ性のよい透明ポジまたはプリント回路を製造すること
ができる。光導電層は透明ベース上の金属化した像を得
るようにテトラヒドロフランのような溶剤で除去するこ
ともできる。
グ性のよい透明ポジまたはプリント回路を製造すること
ができる。光導電層は透明ベース上の金属化した像を得
るようにテトラヒドロフランのような溶剤で除去するこ
ともできる。
例３
光導電層を負の４５０Ｖに帯電させ、光導電層上の帯電
潜像を現像するため液体現像剤の代りに乾燥トーナを使
用するほかは例１記載のとおり処理する。
潜像を現像するため液体現像剤の代りに乾燥トーナを使
用するほかは例１記載のとおり処理する。
乾燥トーナは磁気ブラシにより適用される沈殿炭酸カル
シウムからなる。所要の現像剤混合物は炭酸カルシウム
２ｙおよび粒子サイズ７５〜１５０μｍの鉄粉１００７
よりなる。印刷版は前記のように製造される。例４ アルミニウム蒸着したポリエステルシートの代りに厚さ
１００μの光輝圧延したアルミニウムシートを使用する
ほかは例１記載のとおり処理する。
シウムからなる。所要の現像剤混合物は炭酸カルシウム
２ｙおよび粒子サイズ７５〜１５０μｍの鉄粉１００７
よりなる。印刷版は前記のように製造される。例４ アルミニウム蒸着したポリエステルシートの代りに厚さ
１００μの光輝圧延したアルミニウムシートを使用する
ほかは例１記載のとおり処理する。
例１のポリテトラフルオルエチレンで現像した後、厚さ
１００μの機械的に粗面化したアルミニウムシートを光
導電層の上に配置し、材料を０．２ｍ／〃１Ｕ１の速度
で１組のロールの間に通す。１組のロールのうちの鋼ロ
ールは約１５０℃に加熱され、約１０ａｔの圧力が２つ
のロールの間におよぼされる。
１００μの機械的に粗面化したアルミニウムシートを光
導電層の上に配置し、材料を０．２ｍ／〃１Ｕ１の速度
で１組のロールの間に通す。１組のロールのうちの鋼ロ
ールは約１５０℃に加熱され、約１０ａｔの圧力が２つ
のロールの間におよぼされる。
ポリテトラフルオルエチレンでカバーされない部分の光
導電層は機械的に粗面化したアルミニウムに付着、転移
する。両方のアルミニウムシートは光導電層の像に従つ
た分布を示し、オフセツト印刷版として使用することが
できる。例５ 例２記載の光導電剤溶液を厚さ約１００μの機械的に粗
面化したアルミニウムシートに被覆する。
導電層は機械的に粗面化したアルミニウムに付着、転移
する。両方のアルミニウムシートは光導電層の像に従つ
た分布を示し、オフセツト印刷版として使用することが
できる。例５ 例２記載の光導電剤溶液を厚さ約１００μの機械的に粗
面化したアルミニウムシートに被覆する。
溶剤の蒸発に続いて厚さ約５μの光導電層をコロナによ
り正の４００ＶＶＣ帯電させ、複写カメラで投影して露
光する。５００Ｗランプ８個を使用し、絞りを１１にセ
ツトして露出時間は２０秒である。
り正の４００ＶＶＣ帯電させ、複写カメラで投影して露
光する。５００Ｗランプ８個を使用し、絞りを１１にセ
ツトして露出時間は２０秒である。
得られた帯電像を例１記載のポリテトラフルオルエチレ
ンの液体トーナで現像する。次に陽極酸化したアルミニ
ウムを光導電層の付着材料として使用するほかは例４の
とおり処理する。
ンの液体トーナで現像する。次に陽極酸化したアルミニ
ウムを光導電層の付着材料として使用するほかは例４の
とおり処理する。
第１図は光導電材料を支持する支持材料および付着材料
、第２図は現像後の支持材・料を示し、第３図は付着材
料による光導電材料の付着、転移を示す図である。 １・・・・・・光導電層、２・・・・・・支持材料、３
・・・・・・付着材料、４・・・・・・トーナ、５・・
・・・・エツチ部、７・・・・・・付着、転移した光導
電層。
、第２図は現像後の支持材・料を示し、第３図は付着材
料による光導電材料の付着、転移を示す図である。 １・・・・・・光導電層、２・・・・・・支持材料、３
・・・・・・付着材料、４・・・・・・トーナ、５・・
・・・・エツチ部、７・・・・・・付着、転移した光導
電層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 導電性支持材料に被覆した光導電層の静電帯電、露
光、トーナによる処理および非画像部の光導電層の除去
による、電子写真法による画像の製法において、光導電
層の軟化点より高い軟化点を有するトーナでカバーされ
ていない光導電層を５０〜２５０℃の温度範囲で、導電
性支持材料より光導電層に対する表面付着力が高い付着
材料へ光導電層を付着、転移させることによつて除去す
ることを特徴とする電子写真法による画像の製法。 ２ 光導電層を１００〜２００℃の温度範囲で付着、転
移させる特許請求の範囲第１項記載の製法。 ３ 光導電層を圧力下に付着、転移させる特許請求の範
囲第１項または第２項記載の製法。 ４ 光導電層を１０ａｔの圧力下に付着、転移させる特
許請求の範囲第１項から第３項までのいずれか１項に記
載の製法。 ５ トーナでカバーされていない光導電層を機械的に粗
面化したアルミニウムシートから陽極酸化したアルミニ
ウム面へ付着、転移させる特許請求の範囲第１項から第
４項までのいずれか１項に記載の製法。 ６ 光導電層上の潜像を付着材料に対しほとんどまたは
まつたく付着性のないトーナで処理する特許請求の範囲
第１項から第５項までのいずれか１項に記載の製法。 ７ 光導電層上の潜像をトーナ物質としてポリテトラフ
ルオルエチレンを含む液体現像剤で処理する特許請求の
範囲第１項から第６項までのいずれか１項に記載の製法
。 ８ 導電性支持材料に被覆した光導電層の静電帯電、露
光、トーナによる処理および非画像部の光導電層の除去
による、電子写真法による画像の製法において、導電性
支持材料として金属化した絶縁材料を使用し、光導電層
の軟化点より高い軟化点を有するトーナでカバーされて
いない光導電層を５０〜２５０℃の温度範囲で、導電性
支持材料より光導電層に対する表面付着力が高い付着材
料へ光導電層を付着、転移させることによつて除去し、
さらに非画像部の金属をエッチングにより除去し、最後
に画像部のトーナおよび光導電層を除去することを特徴
とする電子写真法による画像の製法。 ９ 光導電層を１００〜２００℃の温度範囲で付着、転
移させる特許請求の範囲第８項記載の製法。 １０ 光導電層を圧力下に付着、転移させる特許請求の
範囲第８項または第９項記載の製法。 １１ 光導電層を１０ａｔの圧力下に付着、転移させる
特許請求の範囲第８項から第１０項までのいずれか１項
に記載の製法。 １２ トーナでカバーされていない光導電層を機械的に
粗面化したアルミニウムシートから陽極酸化したアルミ
ニウム面へ付着、転移させる特許請求の範囲第８項から
第１１項までのいずれか１項に記載の製法。 １３ 光導電層上の潜像を付着材料に対しほとんどまた
はまつたく付着性のないトーナで処理する特許請求の範
囲第８項から第１２項までのいずれか１項に記載の製法
。 １４ 光導電層上の潜像をトーナ物質としてポリテトラ
フルオルエチレンを含む液体現像剤で処理する特許請求
の範囲第８項から第１３項までのいずれか１項に記載の
製法。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
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Publications (2)
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| JPS5278501A JPS5278501A (en) | 1977-07-01 |
| JPS5931703B2 true JPS5931703B2 (ja) | 1984-08-03 |
Family
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Family Applications (1)
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