DE963261C - Verfahren zum vakuumdichten Einschmelzen einer elektrischen Durchfuehrung in die Glaswand eines Alkalimetalldampf enthaltenden Entladungsgefaesses - Google Patents

Verfahren zum vakuumdichten Einschmelzen einer elektrischen Durchfuehrung in die Glaswand eines Alkalimetalldampf enthaltenden Entladungsgefaesses

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DE963261C
DE963261C DE1954P0012136 DEP0012136A DE963261C DE 963261 C DE963261 C DE 963261C DE 1954P0012136 DE1954P0012136 DE 1954P0012136 DE P0012136 A DEP0012136 A DE P0012136A DE 963261 C DE963261 C DE 963261C
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glass
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vacuum
alkali metal
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DE1954P0012136
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Dr Phil Gysbert Jacob Ekkers
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Patelhold Patenverwertungs and Elektro-Holding AG
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Patelhold Patenverwertungs and Elektro-Holding AG
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C27/00Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
    • C03C27/04Joining glass to metal by means of an interlayer
    • C03C27/042Joining glass to metal by means of an interlayer consisting of a combination of materials selected from glass, glass-ceramic or ceramic material with metals, metal oxides or metal salts
    • C03C27/044Joining glass to metal by means of an interlayer consisting of a combination of materials selected from glass, glass-ceramic or ceramic material with metals, metal oxides or metal salts of glass, glass-ceramic or ceramic material only

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Description

Bei elektrischen, Entladurngsgefäßen, deren Ia nen-raum mit Alkalimetalldiampf gefüllt ist, müssen bekanntlich, die Zuleitungen zu den. Elektroden: vakuumdicht durch die Gefäßwand: hindurchgeführt werden.
Es ist bekannt, hierzu ein hinsichtlich der thermischen Ausdehnung an das Glas angepaßtes· Leitermaterial zu verwende«, und dien Leiter bei der Durchführungsstelle zu oxydieren. Beim Einschmelzen der oxydierten Stelle in einen gläsernen Teil der Gefäßwand.' löst sich ein Teil des Oxydes im Glas. Eine nach diesem Verfahren, hergestellte Elektrodendurchführung versagt aber, wenn sie hohen Betriebstemperaturen ausgesetzt wird und auch wenn, das Entladungsgefäß ein Reduktionsmittel, z. B. einen Alkalimetalldampf enthält. In beiden Fällen tritt eine Zersetzung der Metalloxydschicht auf dem. Leiter ein, und die Durchführung wird undicht.
Es ist weiterhin bekannt, einen, passend ausgewählten, gut gereinigten und entgasten Leiter unter Ausschluß einer Oxydation mit Glas zu. umgeben. Eine nach, diesem Verfahren hergestellte Elektrodendurchführung weist den obengemannten Nachteil nicht auf. Die schwache Haftfähigkeit des Glases auf dem blanken Metall hat jedoch zur Folge, daß die mechanischen Eigenschaften der Durchführung unbefriedigend! sind.
Es ist schließlich bekannt, eine vakuumdichte Glasmetallverbindung für Caesiumda.mpf enthaltende Gefäße dadurch zu schaffen, daß mindestens für den mit dem. Caesiumdampfraum in Kontakt stehenden Teil der Verbindung eine Verschmelzung von caesiumdampffestem Glas und Molybdän gewählt wird. Dabei wird die Erscheinung verwertet, daß Molybdän mit Borosilikatgläsern, insbesondere mit dem handelsüblichen Pyrexglas, bei der Verschmelzung eine Zwischenschicht bildet, welche der Einwirkung des Caesiumdampfes widersteht. Die Anwendung dieser Maßnahme wird jedoch dadurch erschwert, daß die Ausdehnungskoeffizienten, für Molybdän, und Glas verschieden sind. Es ist daher eventuell notwendig, entweder den Teil des D urchführungs Stabes, der in den Caesiumdampfraum führt, aus Molybdän herzusteHeni, oder den Durchführungsstab minr destens an dem in den, Caesiumdampfraum führenden Ende mit einem Molybdäntnanteil zu. versehen, dessen Oberfläche mit dem Glas verschmolzen ist. Außerdem ist die zulässige Betriebstemperatur dieser bekannten Verschmelzung mit Rücksicht auf die Eigenschaften der Zwischenschicht auf ungefähr 2oo° C beschränkt1.
Die; Erfindung betrifft ein Verfahren zum va,-kuumdichten Einschmelzen einer elektrischen Durchführung in die Glaswand eines Entladungsgefäßes,, welches alle genannten Nachteile vermeidet. Danach1 wird zunächst ein Teil eines gereinigten und entgasten, Leiters- mit einer Glashülle versehen, worauf ein an diesem Teil angrenzender Teil des Leiters oxydiert und ebenfalls mit einer Glashülle versehen wird. Schließlich wird der mit Glas umgebene Abschnitt des Leiters so in die Gefäßwand eingeschmolzen,, daß der oxydierte Teil des Leiters nach der Außenseite des Gefäßes hin liegt.
Die Erfindung sei an Hand der.Fig. 1 und 2 erläutert, welche Längsschnitte durch den kreiszylindrischen Leiter zeigen. Dabei ist L der vakuumdicht durch die Gefäßwand W zu führende Leiter. Die Außenseite des Gefäßes ist mit a, die Innenseite mit i bezeichnet. Nach der Erfindung wird zunächst ein Teil 1 des blanken, d. h, gereinigten und entgasten Leiters mit einem Glasbelag versehen, indem auf an, sich, bekannte Weise die Glashülle 3 aufgebracht wird. Es genügt eine Glasdicke von wenigen hundertstel Millimetern. Sodann wird ein an diesen Teil angrenzender Teil 2 des Leiters oxydiert, wie dies durch die schwarzen Schnittflächen 0 angedeutet ist,. Anschließend wird auch dieser Teil mit einem Glasbelag versehen, indem die Glashülle 4 aufgebracht wird,. Diese neue Glashülle schmilzt dabei mit der alten, zusammen, so daß eine Grenzfläche zwischen! den, beiden Glashüllen nicht mehr wahrnehmbar ist. Schließlich wird der mit Glas umgebene Abschnitt des· Leiters so in die Gefäßwand W eingeschmolzen, daß gemäß Fig. 2 der oxydierte Teil des Leiters L gegen die Außenseite α des Gefäßes zu liegen kommt.
Durch das Verfahren werden auf einfachste Weise die notwendigen Eigenschaften der Durchführung erreicht, denn die Oxydschichr, welche für die mechanische Festigkeit von Bedeutung ist, kommt mit einem allfällig im Gefäß befindlichen Reduktionsmittel nicht in Berührung· und' ist keinen hohen Temperaturen ausgesetzt. Der nicht oxydierte Teil des Leiters ist aber bei allen Temperaturen und auch bei Gegenwart von Reduktionsmitteln mit seiner Glashülle dicht verbunden. 1Oo

Claims (1)

  1. PATENTANSPRUCH:
    Verfahren zum vakuumdichten Einschmelzen einer elektrischen Durchführung in die Glaswand eines Entladungsgefäßes, das Alkalimetalldampf enthält und bei hohen Betriebstemperaturen arbeitet, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst ein Teil eines gereinigten und entgasten Leiters mit einer Glashülle versehen wird, daß dann ein am diesen. Teil angrenzender Teil des, Leiters oxydiert und, ebenfalls mit einer Glashülle versehen, wird: und daß schließlich der mit Glas umgebene Abschnitt des Leiters so in die Gefäßwand eingeschmolzen wird, daß der oxydierte Teil des Leiters· nach der Außenseite des Gefäßes hin liegt.
DE1954P0012136 1954-06-12 1954-06-12 Verfahren zum vakuumdichten Einschmelzen einer elektrischen Durchfuehrung in die Glaswand eines Alkalimetalldampf enthaltenden Entladungsgefaesses Expired DE963261C (de)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE862038C (de) * 1948-12-15 1953-01-08 Fritz Kesselring Geraetebau Ag Vakuumdichte Glas-Metall-Verbindung fuer Caesiumdampf enthaltende Gefaesse
GB686519A (en) * 1951-10-05 1953-01-28 Westinghouse Electric Int Co Improvements in or relating to the application of glass coatings to metals

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE862038C (de) * 1948-12-15 1953-01-08 Fritz Kesselring Geraetebau Ag Vakuumdichte Glas-Metall-Verbindung fuer Caesiumdampf enthaltende Gefaesse
GB686519A (en) * 1951-10-05 1953-01-28 Westinghouse Electric Int Co Improvements in or relating to the application of glass coatings to metals

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