DE955996C

DE955996C - Verfahren zur Herstellung von Interferenzfiltern

Info

Publication number: DE955996C
Application number: DEL15520A
Authority: DE
Inventors: Dr Dierick Kossel
Original assignee: Ernst Leitz Wetzlar GmbH
Current assignee: Ernst Leitz Wetzlar GmbH
Priority date: 1953-05-14
Filing date: 1953-05-14
Publication date: 1957-01-10

Description

Verfahren zur Herstellung von Interferenzfiltern Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von. Interferenzfilbern, die aus mehreren metallisch. ireflektierenden, dünnen Schichten., die in A/2-Abständen voneinander angeordnet sind, besteben.
Derartige Interferenzfilter sind an sich bekannt. Sie werden z. B. durch abwechselndes Aufdampfen von Metallschichten und Zwischenschichten aus einem geeigneten Dielektrikum auf einen. Träger, beispielsweise einte Glasplatte, hergestellt. Allerdings werden bei zunehmender Zahl der Schlichten die Oberflächen derselben immer umgleichmäßiger und rauher, so daß man über eine begrenzte Zahl von Metallschichten nicht hinauskommt.
Andererseits ist das von L i p p m a n:n entwickelte Verfab,ren zur Farbenphotographie bekannt, wobei die nach dem Vorschlag von O. `@Tiener durch Reflexion z. B. an einem Quecksilberbelag auf der Rückseite einer lichtempfindlichen Schicht erzeugten stehenden Wellen nach der Enitwicklung und, Fixierung Si,lberschich4en im Abstand von A./2 in der Gelatineschicht erzeugen. Zur Herstellung optischer Filter ist dies Verfahren jedoch nicht zu verwenden, weil die Gelatine wärme- und feuchr tigkeitsempfindlich ist. Außerdem ist die Schrumpfung nach dem Entwickeln und Trocknen nicht an allen Stellen einer größeren Plante gleichmäßig, so daß die Einhaltung des genauen: Abstandes von A,12 über größere Bereiche nicht möglich ist.
Die Erfindung vermeidet die Nachteile dieser bereits bekannten Verfahren zurr Herstellung von Interferen@zfiltern dadurch, daß diie lichtempfindlichie Substanz in einte anorganische Trägerschicht eingebracht, mittels stehende Wellen nach dem Vorschlag von W iene,r belicihtet und' anschließend auf chemischem oder physikalischem Wege entwickelt und fixiert wird. Als Ausgangsmaterial können dabei die an sich bekannten, lichtempfindlichen Gläser oder besonders fei:npoiige anorganische Trägerschichten, z. B. Aluminiumoxyd- oder Kieselsäuresch,ichten, hir die die lichtempfindliche Substanz einb bracht wird,, verwendet werden.
Das Einbringen der lichtempfindlichen Substanz in die Trägerschicht kann beispielsweise folgendermaßen erfolgen: Die auf eine Unterlage aufgeschleuderte oder aufgedampfte z. B. io a dicke Trägerschicht wird mit einer Silbernii,tr.atlösung getränkt. Anschließend wird durch Baden in Ammonchlorid in drei Trägerschicht das lichtempfindliche- Silberchlorid: erzeugt.
Man kann aber auch das Material der Trägerschicht schon vor dem Aufsclilieudern oder anderweitigen Aufbringen auf die Unterlage mit der lichtempfindlichen Substanz versehen.
An Stelle von Aluminiumoxyd oder Kieselsäure können auch beispielsweise Metalle auf die Unterlage aufgedampft werden-, die durch nachträgliche chemische oder elektrolytische Bethandlung im eiiri d@urchsidhtiges Dielektrikum übergeführt werden.
Die sensibilisierte Trägerschicht wird dann an der Rückseite verspiegelt oder auf Quersilber gelegt und mit monochromatischem Licht exponiert. Nach dem Entwickeln und Fixieren erhält man dann in der Trägerschicht dünne Silberschichten in Abständen von A/2. Diese Sdlbersohichten können gegebenenfalls in an sich bekannter Weise in hochbrechende Silberverbindungen, z. B. Silberjodi:d oder Silbersulfid, übergeführt werden.

Claims

PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur Herstellung von Interferenzfiltern, dadurch gekennzeichnet, daß eine lichtempfindliche Substanz in eine anorganische Trägerschicht eingebracht, in an sich bekannter Weise mittels stehender Wellen belichtet und anschließend auf chemischem oder physikalischem Wege entwickelt und fixiert wird.
2. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß als Ausgangsmaterial für die Belichtung mit stehenden Wellen an sich bekanntes lichtempfindliches Glas verwendet wird.
3. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß als Trägerschicht eine Kieselsäureschicht auf eine Unterlage aufgeschleudert oder durch Sedimen.tation aufgebracht wird. 4. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Trägerschicht durch Aufdampfen eines durchsichtigen Dielektrikums auf eine Unterlage erzeugt wird. 5. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Trägerschicht durch Aufdampfen von Metallen, die anschließend durch chemische oder elektrolytische Behandlung in ein durchsichtiges Dielektrikum übergeführt werden, erzeugt wird. 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Trägerschicht mit Silbernitrat getränkt und anschließend in Ammonchlorid gebadet wird. 7. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Material für die Trägerschicht bei ihrer Herstellung mit der lichtempfindlichen Substanz versehen ist. 8. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß das entwickelte Silber in eine hochbrechende Silberverbindung übergeführt wird. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschrift Nr. 56 6o6; Handbuch der wissenschaftlichen und angewandten Photographie, Bd. 8, Wien 1929, S. 2i9 ff. und 228, Abs. 3 ; Angerer, Wissenschaftliche Photographie.
4. Aufl., Akademische Verlagsgesellschaft Leipzig, 1950, S. 189, Abs. 2; Photo-Kino-Technik, Nr. 6, 1949, S.141; Nr.12, i949, S. 3o4; britische Patentschrift Nr. 597 o89.