DE754572C - Verfahren und Anordnung zum Entlueften einer elektrischen Entladungslampe und Einbringen einer Edelgasfuellung - Google Patents

Verfahren und Anordnung zum Entlueften einer elektrischen Entladungslampe und Einbringen einer Edelgasfuellung

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DE754572C
DE754572C DEP82798D DEP0082798D DE754572C DE 754572 C DE754572 C DE 754572C DE P82798 D DEP82798 D DE P82798D DE P0082798 D DEP0082798 D DE P0082798D DE 754572 C DE754572 C DE 754572C
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DE
Germany
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discharge lamp
tube
discharge
hydrogen
nitrogen
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Expired
Application number
DEP82798D
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English (en)
Inventor
Josef Dr Kern
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Osram GmbH
Original Assignee
Patent Treuhand Gesellschaft fuer Elektrische Gluehlampen mbH
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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/38Exhausting, degassing, filling, or cleaning vessels
    • H01J9/395Filling vessels

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Discharge Lamp (AREA)

Description

  • Verfahren und Anordnung zum Entlüften einer elektrischen Entladungslampe und Einbringen einer Edelgasfüllung Bei den üblichen Verfahren zum Entlüften einer elektrischen Entladungslampe, insbesondere einer Überdruckdampfentladungslampe, und Einbringen einer Edelgasfüllung wird das Entladungsgefäß an eine Hochvakuumpumpe angeschmolzen und entlüftet, dann mit einem Hilfsgas oder Hilfsdampf gefüllt und anschließend mittels einer Entladung zwischen den Elektroden unter Abpumpen der ausgetriebenen Verunreinigungen ausgeheizt, worauf nach erneutem Entlüften des Entladungsgefäßes die endgültige Edelgasfüllung eingefüllt und gegebenenfalls auch noch ein im Betrieb verdampfender Metallvorrat, meist Quecksilber, aus einem Ansatzrohr des Entladungsgefäßes in dieses übergekippt oder übergedampft wird. Diese Herstellungsverfahren erfordern naturgemäß erhebliche Zeit, insbesondere deswegen, weil dabei das Entladungsgefäß mittels der Hochvakuumpumpe mehrmals entlüftet werden muß. Auch bei dem bekannten Entfernen der im Entladungsgefäß vorhandenen Luft mittels Durchströmenlassens neutraler Hilfsgase hat man anschließend eine Hochvakuumpumpe zu Hilfe genommen, um diese Hilfsgase wieder beseitigen und die endgültige Füllung einbringen zu können.
  • Das Verfahren nach der Erfindung, bei dem das Entlüften und Einbringen einer Edelgasfüllung von weniger als Atmosphärendruck ohne Zuhilfenahme einer Pumpe erfolgt, führt wesentlich einfacher und schneller zum Ziel. Es wird dabei die mit einem Einlaßrohr und einem Auslaßrohr versehene, gegebenenfalls einen Getterkörper zur Bindung von Ausheizv erunreinigungen enthaltende Entladungslampe aus einem Überdruckgasbehälter mit einem Gemisch von Edelgas und Wasserstoff oder Stickstoff gespült und dann nach dem Zuschmelzen der Rohre aus dem in der Entladungslampe eingeschlossenen Gasgemisch der `'Wasserstoff oder Stickstoff durch Erhitzen eines im Entladungsgefäß oder in einem abtrennbaren Ansatzrohr untergebrachten Körpers aus Tantal, Titan, Palladium oder Zirkon absorbiert. Bei diesem Absorptionsvorgang entsteht demgemäß im Entladungsgefäß von selbst die Edelgasfüllung mit dem gewünschten Druck, der durch Vorsehung eines entsprechenden Edelgasgehaltes der Spülgasmischung nach Belieben eingestellt «erden kann.
  • Es hat sich gezeigt, daß oftmals, insbesondere bei der Herstellung von kleinen Höchstdruckdampfentladungslampen aus Ouarzglas mit einem Entladungsraum von meist weniger als i cm3, eine besondere Ausheizung des Gefäßes und seiner Einbauteile nicht notwendig ist, sofern in an sich bekannter Weise im Lampengefäß ein Getterkörper, beispielsweise aus Tantal, untergebracht ist, weil bei geeigneter Anordnung dieses Getterkörpers dann bei der Inbetriebsetzung der fertigen Lampe dieser Getterkörper die frei werdenden Verunreinigungen sofort für dauernd in sich aufnimmt.
  • In den meisten Fällen empfiehlt es sich jedoch, vor der Spülung mit dem wasserstoff-bzw. stickstoffhaltigen Gasgemisch zuerst das Entladungsgefäß mit Edelgas zu spülen und. dabei in an sich bekannter Weise mittels der Flamme, durch Wirbelstromerhitzurig oder durch eine Entladung zwischen den Elektroden auszuheizen, so daß die frei werdenden Verunreinigungen aus dem Entladungsgefäß hinausgespült werden. Das Entladungsgefäß kann aber auch während der Spülung mit dem wasserstoff- bzw. stickstoffhaltigen Gasgemisch oder nach dem Zuschmelzen der Stutzen des Entladungsgefäßes besonders ausgeheizt werden. Im letztgenannten Fall kann die Bindung der Verunreinigungen durch einen vorzugsweise aus Tantal bestehenden Getterkörper erfolgen, der beispielsweise in einem später abzuschmelzendenAnsatzrohr des Entladungsgefäßes untergebracht ist.
  • Die Zeichnung veranschaulicht, wie das neue Verfahren beispielsweise ausgeführt werden kann.
  • Die kleine kugelförmige Ouarzglaslampe i ist mit einem Einlaßrohr a versehen, das in einer Erweiterung 3 einen Tantalkörper .I enthält und mit seinem Endteil 5 an den nicht dargestellten Überdruckgasbehälter angeschlossen wird, der ein Gemisch aus Wasserstoff und etwa 2 bis 3% Argon enthält. Das Auslaßrohr 6 der Quarzglaslampe i mündet bei 7 ins Freie und enthält in einem seitlichen Ansatz Lg den Ouecksilbervorrat g. Zu Beginn des Verfahrens wird das Ausströmventil am Cberdruckgashehälter geöffnet, worauf das Wasserstoff-Argon-Gemisch unter überwindung des atmosphärischen Gegendruckes durch die Ouarzglaslampe i strömt und die darin enthaltene Luft herausspült. Die Ouarzglaslampe i wird nunmehr bei hindurchströmendem Gasgemisch durch eine Entladung zwischen ihren Elektroden io ausgeheizt, so daß die frei werdenden Verunreinigungen vom Gasstrom aus dem Lampengefäß hinweggeführt werden. Nach dem Zuschmelzen des Auslaßrohres bei a und des Einlaßrohres bei b wird jetzt der Tantalkörper,I auf eine Temperatur von etwa 500 bis 700° erhitzt, wobei der Wasserstoffanteil des eingeschlossenen Gasgetnisches völlig absorbiert wird und eine Argonfüllung mit einem niedrigen Druck von einigen Torr im Lampengefäß zurückbleibt.
  • Darauf wird der in einem Ansatzrohr des Auslaßrohres untergebrachte Quecksilbervorrat g in das Entladungsgefäß übergekippt, und die Lampe ist nach dem Abschmelzen des Ein-und Auslaßrohres an den Stellen c betriebsfertig.
  • Die Strömungsgeschwindigkeit des Gasgemisches läßt sich ohne Schwierigkeit passend einstellen, :beispielsweise durch mehr oder weniger weites Öffnen des Ventils am überdruckgasbehälter. Beim Zuschmelzen des Ein-und Auslaßrohres an den Stellen a und b darf die Strömungsgeschwindigkeit nicht zu groß sein, da sonst das Zuschmelzen Schwierigkeiten macht. Man geht am besten so vor, daß man das aus dem Auslaßrohr bei 7 frei ausströmende Gas anzündet und die Strömungsgeschwindigkeit so einstellt, daß nur eine schwache Flamme brennt. Man kann aber auch das Auslaßrohr, wie in der Zeichnung punktiert angedeutet ist, in einen kleinen Quecksilberbehälter i i eintauchen lassen, so daß das Wasserstoff-Argon-Gemisch aus dem Queck- i silber emporsprudelt. Nach dem Spülen und Ausheizen der Lampe kann man dann das Ventil des Überdruckgasbehälters vollkommen abstellen und das Ein- und Auslaßrohr bei c, und b ohne Überdruck zuschmelzen.
  • Es ist bekannt, daß z. B. Tantal etwa die 7oofache Menge seines eigenen Volumens absorbieren kann. Das bedeutet also, daß man mit i cm3 Tantal etwa 5oo bis 700 cm3 Wasserstoff absorbieren kann. Bei dem dargestellten Beispiel beträgt das Volumen der Lampe etwa 0,3 cm3 und das Volumen der Rohre zusammen etwa 4 cm3, so daß also im ganzen etwa 4,3 cm3 Wasserstoff zu absorbieren sind. Dies bedeutet, daß mit nur i cm3 Tantal etwa ioo bis i4o Lampen hergestellt werden können. In der Praxis liegen die Verhältnisse nicht ganz so günstig, da das Tantal normalerweise auch bei tiefen Temperaturen schon etwas absorbiertes Gas enthält. Das verwendete Tantal kann leicht wieder betriebsfähig gemacht werden, indem man es kurze Zeit bei sehr hohen Temperaturen ausglüht, beispielsweise durch Hochfrequenzeinwirkung, wobei es den Wasserstoff zu 7o bis 8o % wieder abgibt.
  • Die angestellten Versuche haben gezeigt, daß das neue, ohne Zuhilfenahme einer Hochvakuumpumpe durchzuführende Verfahren vollkommen saubere Lampen ergibt, die bei günstiger Lichtausbeute hohe Lebensdauern erreichen.
  • Man hat zwar bereits verschiedentlich vorgeschlagen, bei der Herstellung von Entladungslampen unerwünschte Gase und sonstige Verunreinigungen durch Vorsehung eines Absorptionskörpers und Erhitzen desselben zu absorbieren. Dabei wurde aber immer das Entladungsgefäß mittels einer Hochvakuumpumpe entlüftet und in einem besonderen Arbeitsgang mit einer Füllung von geeignet eingestelltem Unterdruck versehen, auf die dann der Tantalkörper einwirkt.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zum Entlüften einer elektrischen Entladungslampe und Einbringen einer Edelgasfüllung mit einem Druck von weniger als i Atmosphäre ohne Verwendung einer Pumpe, dadurch gekennzeichnet, daß die mit einem Einlaßrohr und einem Auslaßrohr versehene, gegebenenfalls einen Getterkörper zur Bindung von Ausheizverunreinigungen enthaltende Entladungslampe aus einem' Überdruckgasbehälter mit einem Gemisch von Edelgas und Wasserstoff oder Stickstoff gespült und dann nach dem Zuschmelzen der Rohre aus dem in der Entladungslampe eingeschlossenen Gasgemisch der Wasserstoff oder Stickstoff durch Erhitzen eines im Entladungsgefäß oder in einem abtrennbaren Ansatzrohr untergebrachten Körpers aus Tantal, Titan, Palladium oder Zirkon absorbiert wird. s. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Entladungslampe während einer Vorspülung mit Edelgas oder während der Spülung mit dem wasserstoff- bzw. stickstoffhaltigen Gasgemisch in an sich bekannter Weise ausgeheizt wird, vorzugsweise durch eine elektrische Entladung zwischen ihren Elektroden. 3. Verfahren nach den Ansprüchen i und a zur Herstellung einer Hochdruckdampfentladungslampe unter Einbringen eines zusätzlichen, verdampfbaren Metallvorrats, insbesondere aus Quecksilber, dadurch gekennzeichnet, daß nach der Fertigstellung der Entladungslampe das in einem später abzuschmelzenden Ansatzrohr der Entladungslampe untergebrachte Metall durch Kippen oder Überdampfen in das Entladungsgefäß gebracht wird. 4. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das den Absorptionskörper enthaltende Rohr einen Teil des Einlaßrohres bildet und der Quecksilbervorrat in einem mit dem Ausläßrohr in Verbindung stehenden Ansatzrohr untergebracht ist.
DEP82798D 1941-07-24 1941-07-24 Verfahren und Anordnung zum Entlueften einer elektrischen Entladungslampe und Einbringen einer Edelgasfuellung Expired DE754572C (de)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1186557B (de) * 1962-03-28 1965-02-04 Hivac Ltd Verfahren zur Herstellung einer Quecksilber enthaltenden Kaltkathoden-Gasentladungsroehre

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE1186557B (de) * 1962-03-28 1965-02-04 Hivac Ltd Verfahren zur Herstellung einer Quecksilber enthaltenden Kaltkathoden-Gasentladungsroehre

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