DE750242C - Verfahren zum photomechanischen Herstellen von Flach- und Offsetdruckformen - Google Patents
Verfahren zum photomechanischen Herstellen von Flach- und OffsetdruckformenInfo
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- DE750242C DE750242C DEO23868D DEO0023868D DE750242C DE 750242 C DE750242 C DE 750242C DE O23868 D DEO23868 D DE O23868D DE O0023868 D DEO0023868 D DE O0023868D DE 750242 C DE750242 C DE 750242C
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/04—Chromates
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
- Verfahren zum photomechanischen Herstellen von Flach und Offsetdruckformen
- Das Entwickeln geschieht in folgender Weise: i. Waschen .der Kopierschicht mit Spiritus, Trocknen, 2. Überbürsten der Kopierschicht mit Chlorcalcium-Milchsäureentwickler bis zur völligen Freilegu ,g des Plattenmetalls an den unbelichteten Stellen, 3. Abwaschen der Entwicklerreste mit Spiritus, Überbürsten der Kopierschicht mit Eisenchlorid in konzentrierter Lösung (Entwicklungsdauer mit dieser Lösung etwa 2 bis 3 Minuten), Abwischen der Ätzlösung; 4. Nachentwickeln mit Chlorcalcium-Milchsäureentwiekler zur Chloridschlamrnentfernung an den Bildstellen, 5. Waschen der Schicht mit Spiritus bis zur restlosen Entfernung von Entwickler und Chromatresten, Trockenreiben, 6. Belegender entwickelten Bildstellen mit Lack und danach aufzutragender Kopierfarbe, die zu talkumieren ist, 7. Entschichten der Platte .durch Bürsten unter Wasserstrahl und Nachguß einer Entschichtungslösung aus roo Teilen Wasser und z Teil chemisch reiner Salz- bzw. Schwefelsäure, B. Druckfertigmachen der Platte; wie oben angegeben..
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH: - Verfahren zum photomechanischen Herstellen von Flach- und Offsetdruckformen unter Verwendung von Dextrin als Kopierschicht, dadurch gekennzeichnet, daB die mit Bichromat in :bekannter Weise lichtempfindlich gemachte Lösung eines .aus Kartoffelstärke erzeugten hochmolekularen D.extrins .mit einem Gemisch von Magnesium- und Mangansulfat versetzt wird. Zur Abgrenzung des Anmeldungsgegenstandes vom Stand der Technik sind im Erteilungsverfahren folgende Druckschriften in Betracht gezogen worden: Klimsch, Handbuch der modernen Reproduktionstechnik, Band 3 (z938), S. 86, Abs. 2; Band 5 (r936), S. 67, Abs. 3; S. 74, Abs. 5 ; Eder, Ausführliches Handbuch der Photographie, Band 4, Teil 2 (i926), S. 14, Zeile 9 bis 2o; Engelmann, Der Offsetdruck in der Praxis (z938), S. 7o, Abs.3.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEO23868D DE750242C (de) | 1938-10-18 | 1938-10-19 | Verfahren zum photomechanischen Herstellen von Flach- und Offsetdruckformen |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEO0023868 | 1938-10-18 | ||
DEO23868D DE750242C (de) | 1938-10-18 | 1938-10-19 | Verfahren zum photomechanischen Herstellen von Flach- und Offsetdruckformen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE750242C true DE750242C (de) | 1945-01-03 |
Family
ID=25989657
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEO23868D Expired DE750242C (de) | 1938-10-18 | 1938-10-19 | Verfahren zum photomechanischen Herstellen von Flach- und Offsetdruckformen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE750242C (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2211674A1 (de) * | 1972-12-22 | 1974-07-19 | Eastman Kodak Co |
-
1938
- 1938-10-19 DE DEO23868D patent/DE750242C/de not_active Expired
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
None * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2211674A1 (de) * | 1972-12-22 | 1974-07-19 | Eastman Kodak Co |
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