DE750242C - Verfahren zum photomechanischen Herstellen von Flach- und Offsetdruckformen - Google Patents

Verfahren zum photomechanischen Herstellen von Flach- und Offsetdruckformen

Info

Publication number
DE750242C
DE750242C DEO23868D DEO0023868D DE750242C DE 750242 C DE750242 C DE 750242C DE O23868 D DEO23868 D DE O23868D DE O0023868 D DEO0023868 D DE O0023868D DE 750242 C DE750242 C DE 750242C
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
offset printing
paragraph
volume
printing forms
flat
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DEO23868D
Other languages
English (en)
Inventor
Martin Ohlsberg
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to DEO23868D priority Critical patent/DE750242C/de
Application granted granted Critical
Publication of DE750242C publication Critical patent/DE750242C/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/04Chromates

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Description

  • Verfahren zum photomechanischen Herstellen von Flach und Offsetdruckformen
    Die Beschichtung der Platten erfolgt in der üblichen Weise mittels der Schleuder. Die Belichtung unter dem Diapositiv muB -gegenüber der Belichtungszeit, wie oben beschrieben, um 50 % gesteigert werden, gegenüber dem mit Dextrin arbeitenden Positivkopierverfahren ohne Tieflegung.
  • Das Entwickeln geschieht in folgender Weise: i. Waschen .der Kopierschicht mit Spiritus, Trocknen, 2. Überbürsten der Kopierschicht mit Chlorcalcium-Milchsäureentwickler bis zur völligen Freilegu ,g des Plattenmetalls an den unbelichteten Stellen, 3. Abwaschen der Entwicklerreste mit Spiritus, Überbürsten der Kopierschicht mit Eisenchlorid in konzentrierter Lösung (Entwicklungsdauer mit dieser Lösung etwa 2 bis 3 Minuten), Abwischen der Ätzlösung; 4. Nachentwickeln mit Chlorcalcium-Milchsäureentwiekler zur Chloridschlamrnentfernung an den Bildstellen, 5. Waschen der Schicht mit Spiritus bis zur restlosen Entfernung von Entwickler und Chromatresten, Trockenreiben, 6. Belegender entwickelten Bildstellen mit Lack und danach aufzutragender Kopierfarbe, die zu talkumieren ist, 7. Entschichten der Platte .durch Bürsten unter Wasserstrahl und Nachguß einer Entschichtungslösung aus roo Teilen Wasser und z Teil chemisch reiner Salz- bzw. Schwefelsäure, B. Druckfertigmachen der Platte; wie oben angegeben..

Claims (1)

  1. PATENTANSPRUCH: - Verfahren zum photomechanischen Herstellen von Flach- und Offsetdruckformen unter Verwendung von Dextrin als Kopierschicht, dadurch gekennzeichnet, daB die mit Bichromat in :bekannter Weise lichtempfindlich gemachte Lösung eines .aus Kartoffelstärke erzeugten hochmolekularen D.extrins .mit einem Gemisch von Magnesium- und Mangansulfat versetzt wird. Zur Abgrenzung des Anmeldungsgegenstandes vom Stand der Technik sind im Erteilungsverfahren folgende Druckschriften in Betracht gezogen worden: Klimsch, Handbuch der modernen Reproduktionstechnik, Band 3 (z938), S. 86, Abs. 2; Band 5 (r936), S. 67, Abs. 3; S. 74, Abs. 5 ; Eder, Ausführliches Handbuch der Photographie, Band 4, Teil 2 (i926), S. 14, Zeile 9 bis 2o; Engelmann, Der Offsetdruck in der Praxis (z938), S. 7o, Abs.3.
DEO23868D 1938-10-18 1938-10-19 Verfahren zum photomechanischen Herstellen von Flach- und Offsetdruckformen Expired DE750242C (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEO23868D DE750242C (de) 1938-10-18 1938-10-19 Verfahren zum photomechanischen Herstellen von Flach- und Offsetdruckformen

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEO0023868 1938-10-18
DEO23868D DE750242C (de) 1938-10-18 1938-10-19 Verfahren zum photomechanischen Herstellen von Flach- und Offsetdruckformen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE750242C true DE750242C (de) 1945-01-03

Family

ID=25989657

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEO23868D Expired DE750242C (de) 1938-10-18 1938-10-19 Verfahren zum photomechanischen Herstellen von Flach- und Offsetdruckformen

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE750242C (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2211674A1 (de) * 1972-12-22 1974-07-19 Eastman Kodak Co

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
None *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2211674A1 (de) * 1972-12-22 1974-07-19 Eastman Kodak Co

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE938233C (de) Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen
DE2834958A1 (de) Verfahren zum entwickeln von belichteten lichtempfindlichen druckplatten
DE750242C (de) Verfahren zum photomechanischen Herstellen von Flach- und Offsetdruckformen
DE530337C (de) Verfahren zur Herstellung direkter Positive unter Verwendung von zwei Schichten
DE925206C (de) Verfahren zum Beschichten von Druckplatten fuer Kopierzwecke
US2220252A (en) Method of preparing planographic plates
DE895246C (de) Verfahren zur Herstellung photographischer Positivbilder nach dem Reflexkopierverfahren
DE947852C (de) Verfahren zur Herstellung von Druckplatten auf photomechanischem Wege durch Beschichten von Aluminiumfolien oder -platten mit lichtempfindlichen Substanzen
DE600494C (de) Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen
DE1124978B (de) Verfahren zur Herstellung von hektographischen Abzuegen
US2407290A (en) Lithographic plate and process for making same
DE493834C (de) Verfahren zum Verstaerken und Faerben von Bildern
DE400663C (de) Verfahren zur Herstellung direkter Positive
DE522636C (de) Verfahren zur Herstellung von Gerbbildern, die durch Bichromat oder aehnlich wirkende Stoffe hervorgerufen werden
DE679470C (de) Verfahren zum Herstellen von Auswaschreliefs durch gerbende Entwicklung von Halogensilberkolloidschichten
DE406514C (de) Verfahren zur Erzeugung von vom Traeger abziehbaren Hautnegativen
DE543963C (de) Verfahren zur Herstellung von Druckformen fuer den Stein- und Offsetdruck durch unmittelbares Kopieren von positiven Vorlagen
AT160133B (de) Verfahren zur Herstellung von Auswaschreliefs.
DE433044C (de) Verfahren zur Herstellung von Kopiervorlagen zur Anfertigung von lithographischen Druckformen
DE430134C (de) Verfahren zur Herstellung lichtpausfaehiger Strichzeichnungen durch Gravieren in einer urspruenglich lichtempfindlichen Schicht
DE117829C (de)
DE488017C (de) Positive Bilder nach dem Amin-Entwicklungsverfahren ergebendes lichtempfindliches Papier
US2393821A (en) Method and composition of producing fine lines photographically
DE123292C (de)
DE743716C (de) Verfahren zum photomechanischen Herstellen von Druckformen