DE709293C - Verfahren zum Herstellen einkristalliner Spaltflaechen - Google Patents

Verfahren zum Herstellen einkristalliner Spaltflaechen

Info

Publication number
DE709293C
DE709293C DEA87172D DEA0087172D DE709293C DE 709293 C DE709293 C DE 709293C DE A87172 D DEA87172 D DE A87172D DE A0087172 D DEA0087172 D DE A0087172D DE 709293 C DE709293 C DE 709293C
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
cleavage
vessel
cleavage surfaces
producing single
crystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DEA87172D
Other languages
English (en)
Inventor
Dr-Ing Habil Werner Kluge
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AEG AG
Original Assignee
AEG AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by AEG AG filed Critical AEG AG
Priority to DEA87172D priority Critical patent/DE709293C/de
Application granted granted Critical
Publication of DE709293C publication Critical patent/DE709293C/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22FCHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
    • C22F1/00Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

  • Verfahren zum Herstellen einkristalliner Spaltflächen Massive metallische Oberflächenschichten von optimaler Reinheit werden heute meist durch thermische Verdampfung im Hochvakuum hergestellt. Dieses Verfahren versagt bei schwer verdampfbaren Metallen. Hier arbeitet man dann mit kathodisch zerstäubtem Material oder mit Folien bzw. Drähten, die im Hochvakuum elektrisch ausgeglüht werden können. In der Regel liegen dann vielkristalline Oberflächenschichten vor, wenn man van Folien mit Walzstruktur oder von einkristallinen Drähten einzelner Metalle absieht. Dieser vielkristalline Zustand ,erschwert durch die Mitwirkung der KomgTenzflächen die Untersuchung und Ausnutzung verschiedener physikalischer, insbesondere @elektronischer und optischer Vorgänge an der Oberflächenschicht. Er macht die vorliegenden Bedingungen unübersichtlich und kann unter Umständen das Vorhandensein einfach gearteter Elementarvorgänge verdecken und ihre Verwertung unmöglich machen. Das Streben nach einer Ordnung an der unmittelbaren Oberfläche kann nun dadurch verwirklicht werden, daß nian die einkristallinen Spaltflächen vorn Metallkristallen nutzbar macht.
  • Nach der Erfindung werden solche Spaltflächen in einem hochevakuierten Gefäß durch Zug- oder Bi gungskräfte bloßgelegt. Dieses Verfahren ist besonders gut für stabförmige zylindrische Einkristalle verwendbar. Man hat bisher die Spaltflächen von Einkristallen dadurch freizulegen versucht, daß man den Einkristallkörper durch Sägen teilte. Die entstehende Trennungsfläche ist, mikroskopisch gesehen, ein Gebirge mit Stufen von vielen hunderttausend Atomlagen. Auch das Ätzen kann dieses Gebirge nur zum Teil glätten. Demgegenüber bedeutet die Trennung durch Zug- oder Biegungskräfte einen Übergang von der makroskopischen zur mikroskopischen Teilung, da hier.die äußeren Kräfte. in innere molekulare Kräfte übertragen werden, ohne daß wie bei der Teilung durch Sägen eine Deformation des Kristalles infolge des dabei auftretenden mechanischen Druckes erfolgt. Es ist zwar einmal die Teilung des Wismuteinkristalles im Vakuum mit Hilfe einer Rasierklinge beschrieben worden. Indessen ist dieses Verfahren bei den meisten Stoffen nicht anwendbar, da diese nicht spröde genug sind. Das Verfahren nach der Erfiildung hat demgegenüber einen Zweitaus größeren Anwendungsbereich.
  • In der Abbildung ist ein Gefäß zur Ausübung des Verfahrens nach der Erfindung schematisch dargestellt, wobei eine Beschränkung auf das Prinzipielle vorgenommen ist. Die zu verwendenden einkristallinen zylindrischen Stäbe, z. B. aus Zink, werden vorher in einer gesonderten Hoclivakuumapparatur hergestellt. Die Stäbe besitzen beispielsweise einen Durchmesser von 5 bis 6 mm, können aber auch mit größeren Querschnitten hergestellt sein. Der einkristalline Metallstab i wird an seinen Enden im Hochvakuumgefäß durch die Teile 2 fest gehaltert. Nach Evakuierung des Gefäßes kann dieser Stab vermöge der an beiden Enden vorgesehenen elastischen Einschmelzungen 3 durch Zug an den Stangen .1 gespalten werden. Die hierzu von außen wirkenden Zugkräfte können dabei stetig durch ein Hebelsystem vermittelt und gesteigert werden. Der Charakter der verwendeten Einschmelzung läßt dabei sehr hohe Zugkräfte zu. Die nach der erfolgten Spaltung möglicherweise auftretenden mechanischen Schwingungen des Vakuumgefä Pses werden von den elastischen Einschmelzungen aufgenommen und ausgeglichen. An dem gezeichneten Vakuumgefäß ist in Höhe der zu erwartenden Spaltung (Bruchfläche 5) ein planes Lichteintritts- und -austrittsfenster 6 für lichtelektrische und metalloptische Messungen an der Spaltfläche voargesehen. Ein schachtförmiger Ansatz 7, der mit Adsorptionskohle 8 gefüllt ist und der dauernd in flüssige Luft taucht, sorgt für die Aufrechterhaltung eines optimalen Vakuums. Dieses kann schließlich noch mit einem Ionisationsmanometer 9 laufend beobachtet werden.
  • Mit einem Gefäß der geschilderten Bauart, in dem noch eine Anode i o vorgesehen ist, können bereits lichtelektrische und metalloptische Messungen an einkristallinen metallischen Spaltflächen ausgeführt werden. Ebenso sind Messungen über Adsorptions.-erscheinungen möglich. Einen etwas erhöhten apparativen Aufwand innerhalb des Gefäßes würden Untersuchungen über Sekundärelektronenemission und Elektronenbeugung erfordern.
  • Wünscht man nach dem beanspruchten Verfahren z. B. eine Kristallfläche des Zinks freizulegen, so kann man je nach Wahl der Kristallisationsrichtung des stabförmigen Einkristalls (i in der Abbildung) erreichen, daß entweder die Basis- oder die Prismenfläche des hexagonalen Gitters als Bruchfläche 5 entsteht. In ähnlicher Weise gelingt dies bei anderen Metallen, wie z. B. Wismut oder Kadmium. Das Verfahren ist indessen nicht auf Metalleinkristalle beschränkt, sondern auch beispielsweise bei isolierenden Zonenkristallen anwendbar. Eine Einschränkung ist allerdings insofern gegeben, als z. B. bei Kupfer unter dem Einfluß von Zugkräften keine Spaltung, sondern eine Härtung des Materials erzielt wird. Allerdings kann man bei wenig spröden Kristallen so vorgehen, daß man die Spaltung nicht bei Zinunertemperatur, sondern bei niedrigen und u. U. sogar extrem tiefen Temperaturen (z. B. der der flüssigen Luft oder des flüssigen Heliums) vornimmt.
  • Bei der Herstellung oder Wahl des Einkristalls, an dein die Spaltfläche freizulegen ist, hat man darauf zu achten, daß die Spaltfläche nicht zu schräg liegt, d. h. daß ihre Normale keinen zu großen Winkel mit der Zugrichtung einschließt. Sonst könnte es vorkommen, daß das Material zu sehr auf Scherung beansprucht wird, so daß eine Gleiturig der fraglichen Flächen aneinander erfolgt, ohne daß der gewünschte Bruch eintritt.
  • Von besonderer Reinheit sind die erzielten Spaltflächen, wenn sie dauernd unter höchstem Vakuum gehalten werden. Handelt es sich also darum, sie in ihrem physikalischen Verhalten zu untersuchen (optisches Verhalten, Adsorptionserscheinungen,Oberflächenphotaeffekt,.Sekundärelektronenemission, Elektronenbeugung), so wird zweckmäßig das gleiche Gefäß, wie es z. B. in der Abbildung dargestellt ist, erst zum Herstellen und dann zum Untersuchen der Spaltfläche verwendet, wodurch der Vorteil erzielt wird, daß die Untersuchung sich der Spaltung zeitlich unmittelbar anschließen kann. Für die Anwendung derartiger Flächen extremster Reinheit und von außerordentlich wohldefinierten physikalischen Eigenschaften (Austrittsarbeit bzw. Kontaktpotential) in Präzisionsgeräten (Photozellen, Kontaktgleichrichtern u. dgl.) ist es jedoch im allgemeinen unvermeidlich, die Bruchflächen in andere Gefäße zu überführen, wie es in an sich bekannter Weise im Vakuum geschehen kann. Gegebenenfalls genügt es aber auch, Teile des Herstellungsgefäßes abzuschmelzen, z. B. die Ansätze der elastischen Einschmelzungen 3, die Ansätze für Adsorptionskohle 8 und Manometer 9, und das so abgeänderte Gefäß als Photozelle mit der Spaltfläche als Kathode, als Detektor mit der Spaltfläche als Kontaktfläche oder in ähnlicher Weise zu verwenden. In vielen Fällen ist ,es möglich und sogar zweckmäßig, die eine der Spaltflächen als Kathode, die andere als Anode des Gefäßes zu verwenden. Man hat - dann den Vorteil, daß, zwischen beiden das Kontaktp,oltential Null ist.

Claims (1)

  1. PATENTANSPIZÜCIIE: i. Verfahren zum Herstellen @einkristallin,er Spaltflächen von Einkristallen, vorzugsweise von zylindrischer Form, dadurch gekennzeichnet, daß die Spaltflächen in einem hochevakuierten Gefäß durch Zug- oder Biegungskräfte bloßgelegt werden. a. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Spaltflächen bei niedrigen oder extrem tiefen Temperaturen (wie der des flüssigen Heliums) bloß gelegt werden. 3. Durchführung des Verfahrens nach Anspruch i oder a in einem solchen hochevakuierten Gefäß, das in der Höhe der zu erwartenden Spaltflächen eine oder zwei vorzugsweise plane Fenster für den Ein- 'bzw. Austritt des Lichtes besitzt.
DEA87172D 1938-06-17 1938-06-17 Verfahren zum Herstellen einkristalliner Spaltflaechen Expired DE709293C (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEA87172D DE709293C (de) 1938-06-17 1938-06-17 Verfahren zum Herstellen einkristalliner Spaltflaechen

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEA87172D DE709293C (de) 1938-06-17 1938-06-17 Verfahren zum Herstellen einkristalliner Spaltflaechen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE709293C true DE709293C (de) 1941-08-12

Family

ID=6949986

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEA87172D Expired DE709293C (de) 1938-06-17 1938-06-17 Verfahren zum Herstellen einkristalliner Spaltflaechen

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE709293C (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE966387C (de) * 1942-10-02 1957-08-01 Erich Holz Elektrische Gleichrichteranordnung mit Germanium als Halbleiter und Verfahren zur Herstellung von Germanium fuer eine solche Gleichrichteranordnung

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE966387C (de) * 1942-10-02 1957-08-01 Erich Holz Elektrische Gleichrichteranordnung mit Germanium als Halbleiter und Verfahren zur Herstellung von Germanium fuer eine solche Gleichrichteranordnung

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2141860A1 (de) Dispersionsverfestigte Zircomumer Zeugnisse und Verfahren zu ihrer Her stellung
DE1764681A1 (de) Drehanode fuer Roentgenroehren
DE2412573A1 (de) Verfahren zur herstellung eines unterteilten supraleitenden drahtes
DE709293C (de) Verfahren zum Herstellen einkristalliner Spaltflaechen
DE69804497T2 (de) Verfahren und vorrichtung zum kühlen durch veränderung der kristallfeldinteraktion
DE3021074C2 (de) Thermodiffusionsverfahren zur Herstellung von Oberflächenschichten aus Hg↓1↓↓-↓↓x↓Cd↓x↓Te
DE1807945C3 (de) Radioaktive Strahlenquelle zur Warmeerzeugung
DE69214032T2 (de) Supraleitendes Material und Verfahren zu dessen Herstellung
DE3603449A1 (de) Dehnungsmessstreifen mit einer duennen diskontinuierlichen metallschicht
DE2052170A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Wandlersystemen
DE2117801A1 (de) Josephson-Verbindung und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE1275221B (de) Verfahren zur Herstellung eines einen Tunneleffekt aufweisenden elektronischen Festkoerperbauelementes
DE1256995B (de) Verfahren zur Erzeugung supraleitender Schichten fuer Lochspeicherelemente durch Vakuumaufdampfen
DE2100789A1 (de) Thermistor und Verfahren zu seiner Herstellung
DE69504557T2 (de) Verfahren zum Herstellen eines supraleitenden Hochtemperaturdrahtes
DE3413175C2 (de)
DE2025376C3 (de) Einkristall-Züchtungsverfahren für Bariumnatriumniobat und verwandte Verbindungen
DE1907971A1 (de) Halbleiterdetektor
DE2101870A1 (de) Metall Glas Keramik Abdichtung, ins besondere fur einen Kondensator, sowie Ver fahren zur Herstellung einer solchen Ab dichtung
DE2709802A1 (de) Verfahren zur entfernung von bei ionenimplantationsprozessen in halbleitersystemen entstehenden verunreinigungen
DE2603863A1 (de) Verfahren zum hemmen des verlustes der reversibilitaet zwischen den martensitischen und austenitischen zustaenden in einer metallzusammensetzung
DE759357C (de) Verfahren zur Herstellung einer sekundaeremittierenden Elektrode grosser Oberflaeche
DE1208820B (de) Verfahren zum Herstellen eines mit hoher Stromdichte belastbaren pn-UEberganges
DE2023436A1 (de) Halbleiteranordnung mit mindestens einem Druckkontakt
DE19643039A1 (de) Verfahren zur Veränderung der Kristallstruktur dünner Zonen sowie zur Kristallisation amorpher Schichten durch Druckwellen