DE1907971A1 - Halbleiterdetektor - Google Patents
HalbleiterdetektorInfo
- Publication number
- DE1907971A1 DE1907971A1 DE19691907971 DE1907971A DE1907971A1 DE 1907971 A1 DE1907971 A1 DE 1907971A1 DE 19691907971 DE19691907971 DE 19691907971 DE 1907971 A DE1907971 A DE 1907971A DE 1907971 A1 DE1907971 A1 DE 1907971A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- semiconductor
- crystal
- detector
- practically
- parallel side
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 28
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 41
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 24
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 claims description 3
- 238000001730 gamma-ray spectroscopy Methods 0.000 claims 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014277 Clidemia hirta Nutrition 0.000 description 1
- 206010011469 Crying Diseases 0.000 description 1
- 241000069219 Henriettea Species 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 235000009508 confectionery Nutrition 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- KEBHLNDPKPIPLI-UHFFFAOYSA-N hydron;2-(3h-inden-4-yloxymethyl)morpholine;chloride Chemical compound Cl.C=1C=CC=2C=CCC=2C=1OCC1CNCCO1 KEBHLNDPKPIPLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N iron nickel Chemical group [Fe].[Ni] UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/08—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
- H01L31/10—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
- H01L31/115—Devices sensitive to very short wavelength, e.g. X-rays, gamma-rays or corpuscular radiation
- H01L31/117—Devices sensitive to very short wavelength, e.g. X-rays, gamma-rays or corpuscular radiation of the bulk effect radiation detector type, e.g. Ge-Li compensated PIN gamma-ray detectors
- H01L31/1175—Li compensated PIN gamma-ray detectors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Description
/ v:jk.
Die Erfindung betrifft einen Halbleiterdetektor zua
Messen und/oder Detektieren ionisierender Strahlung Bit einen grossen
empfindlichen Volueen, insbesondere für Qaama-Spektroattri·.
BekanntIioh lassen sich die YerveadungSftagllohktite*
von Strahlungsdetektor« durch Vergrösserung des' Tolueens des eepfind-Iichen
Dctektorteiles ausdehnen. Ihiroh Verdrosselung der EinfallsfllA·
und des nützlichen Querschnittes des Halbleiterkristall es kann die Km-
*P ^e der Einfallsstrahlung vergr6'ssert werden, während durch Vergrosae-
^ rung der Dicke des empfindlichen Teiles die Strahlungsabsorptloii er*
«ο höht werden kann, insbesondere wenn die Strahlung eine grosse BLndrina-
-* tiefe aufweist.
ο
ο
^ In der Oaxoea-Spektronetrie sind z.B. lithiua-koapen-
sierte Oereaniumdstektoren alt flaohen Uberga'ngen und diok«n ««pfiai-
1S07971
PIHI. 3448.
- 2 -
- 2 -
liohen Zonen bekannt. Bekanntlich ist Lithium ein interstitionellea
Donatorelement mit einem sehr liohen Diffusionskoeffizienten, das bei Einführung al· Verunreinigung Ln einen p-Typ Halbleiterkristall die
Wirkung der im Kristall Torhandenin Ikseptoratome z.B. Bor zu neutralisieren euoÄt. SLn* passende Wahl der Konzentrationen der p-Typ Verunreinigungen und de· Lithiums ermöglicht, eine kompensierte Halbleite.x— zone mit einer praktisch intrineiken Leitfähigkeit und einem hohen spezifischen Widerstand zu erzielen, die eine dicke empfindliche Zone for die Detektion ionisierender Strahlung bilden kann. Die Dicke solcher kompensierten empfindlichen Zonen, die durch Zufuhr von Lithium-Ionen von einer Oberfläche des Krist&lles ab untor der Wirkung eines elektrischen Feldes erhalten werden können, ist jedoch beschränkt. Dickere kompensierte Äonen sind bereite dadurch erhalten worden, dass gleichzeitig von zwei einander gegenüber liegenden Flächen eines Kristalles her Lithium in den Kristall eindiffundiert wurde. Durch die bekannten Techniken lassen »ich empfindliche Zonen erzielen, deren Dicke auf
.maximal etwa 20 mm beschränkt istt wobei das empfindliche Volumen maximal etwa 15 ca betragt.
Donatorelement mit einem sehr liohen Diffusionskoeffizienten, das bei Einführung al· Verunreinigung Ln einen p-Typ Halbleiterkristall die
Wirkung der im Kristall Torhandenin Ikseptoratome z.B. Bor zu neutralisieren euoÄt. SLn* passende Wahl der Konzentrationen der p-Typ Verunreinigungen und de· Lithiums ermöglicht, eine kompensierte Halbleite.x— zone mit einer praktisch intrineiken Leitfähigkeit und einem hohen spezifischen Widerstand zu erzielen, die eine dicke empfindliche Zone for die Detektion ionisierender Strahlung bilden kann. Die Dicke solcher kompensierten empfindlichen Zonen, die durch Zufuhr von Lithium-Ionen von einer Oberfläche des Krist&lles ab untor der Wirkung eines elektrischen Feldes erhalten werden können, ist jedoch beschränkt. Dickere kompensierte Äonen sind bereite dadurch erhalten worden, dass gleichzeitig von zwei einander gegenüber liegenden Flächen eines Kristalles her Lithium in den Kristall eindiffundiert wurde. Durch die bekannten Techniken lassen »ich empfindliche Zonen erzielen, deren Dicke auf
.maximal etwa 20 mm beschränkt istt wobei das empfindliche Volumen maximal etwa 15 ca betragt.
groesen empfindlichen Volumen bekannt, wobei der Kristall die Form eines
Zylinders oder eines Prismas mit trapezförmiger Basis aufweist. Letztere Form ist der Form von Einkristallen angepasst, die durch Kristallisierung
in einem horizontalen Schiffchen erhalten werden. Diese koaxi-
-* bei die Achse parallel zu den erzeugenden Linien des Detektors verläuft.
^ Daa Volumen des empfindlichen Teiles dieses Koaxialen
Detektors wird 4urch da3 Volumen der erzielbaren Einkristalle begrenzt,
BAD ORfGJNAL
PHN.· 344t.
wobei bemerkt wird, dass bekanntlich die Wahrscheinlichkeit von Kristall«
fehlern sich schnell mit den Abmessungen der Einkristalle erhöht. Obgleich e3 möglich ist, Detektoren dieser Art mit einem Volumen der Orössenordnung
von z.B. 50 cm 'herzustellen* bringt das Ziehen der Einkristalle
zu viele Schwieri^ceiten bei der industriellen Herstellung alt
sich. Ausserdem beschränkt die maximal erzielbare Tiefe der lithiuakompensierten
Zone, die durch Diffusion von der Aussenfla'ohe des Zylinders und/oder von d*er Oberfliehe einer Höhlung darin her erhalten wird,
. die Abmessungen des Detektors, wodurch auch die Bearbeitungen kompliziert
werden.
Ss fügt sich noch hinzu, dass in diesen zylindrischen
oder prismatisohen Detektoren die Verteilung des elektrischen Felde* veniger gleichnässig ist als in einem Detektor mit flachem Übergang. Die
Sammelzeiten der Ladungen und die Anstiegzeiten der Impulse sind TerCnderlich
und da3 Auflösungsvermögen ist weniger gut. Ausserdem ist die
Kapazität dieser Detektoren'sehr gros3.
Weiterhin zum Erleichtern der Beförderung und Speicherung und zum Aufrechterhalten der Qualität des Detektors «oll der Detektor
vorzugsweise mi$ einer geschlossenen Hülle versehen werden, die ihn
vor Verschmutzung schützt. Dies ist umso mehr notwendig bei lithiuekompensierten
Gernaniumdetektoren, da diese bei einer Temperatur £hnllek
der des flüssigen Stickstoffs verwendet werden müssen und auch bei nied-
(O rigen Temperaturen aufbewahrt werden sollen.
*** Um einen hohen Detektion3wirkungsgrad und ein hohes
^ AuflösungBvermößen zu erzielen, ist es vorteilhaft, einen Detektor Bit
oder mehrere flache übergänge aufweist, die ein gleichsa'saige* Feld be-
BAD ORiOiNAL
■ΓΗΚ. 3443. - 4 -
grenzen, wobei der Einkristall minimal bemessen uni mit einer zweckdienlichen
Abschirmung versehen ist. ,
Sie Erfinduni: bezireckt, einen Detektor zu schaffen, der
die3e Bedingungen erfüllt und gründet eich auf die Erkenntnis, dass die·
dadurch erzielt werden kann, dasq der Detektor aus mehreren Detektionoelementen
nit flachen tTbercängen aufgebaut wird« wodurch die Fora der
DeteVttionselemente vorteilhaft derart gewählt werden kann, dasa ein Detektor
mit koaxialer Struktur erhalten vrerden kann, wobei einerseits
die Vorteile der mit flachen Übergängen versehenen Detektoren mit denen
der koaxialen Detektoren mit grossen Volunen kombiniert und andererseits
die Schutzanforderungen und die vorerwähnten Wirkungsbedingungen erfüllt
werden.
Nach der Erfindung ist «in Halbleiterdetektor eingang«
erwähnter Art dadurch gekennzeichnet} dass er eine Aneahl von Halbleiter»
detektionaelementen enthalt, deren Halbleiterkristall die Fora eine«
Prismas mit gleichschenkliger, trapesfuralger Baeie mufweiet und ninde·-
tens einen zu den beiden parallelen 3eitenflaOhen des Kristallee praktisch
parallelen Ealbleiterübergang beaitstf welche Detektiotweleaente
in einen regelnlesigen Vieleck angeordnet sind wobei die kleinere der
erwähnten parallelen Seitenflächen jede« Kristalle· dem Zentrus de« Vielecks zugewandt ist.
to Der Detektor nach der Erfindung hat soait die Struktur
(O eines koaxialen Detektor·. Die nützlichen, empfindlichen Zonen bilden
^ einen re^e!massigen, rieleckigen Ring, ^fobei jode empfindliche Zone und
_» jeder Halbleiterffbergang eine flache Struktur aufweisen.
halt jedes üetektionseletaent einen Oeroaniuehaibleiterkrietall, wobei
, , ΡϊΠί. 3445.
die an die beiden parallelen Seitenflächen grenzenden Kristallteile de«
einen Leitfähigceitstyps sind und zwischen diesen Teilen »ve! praktisch
vollständig kompensierte Zonen vorhanden sind, die duroh «in· eohiohtenartige
Zone des anderen Leitfähi^ceitstyps voneinander getrennt sind.
Vorzugsweise sind die beiden Teile des ointn Leitfa*higkeit3typs
mit Lithium dotiert, wobei die beiden Zonen durch Diffusion von Lithium unter der Virkung eines angelegten elektrischen Feldes koepensiert
sind. Die Fora jedes Elementes sohliesst sich an die Einkristallen
an, die durch die bekannte Technik der horizontalen Kristallisierung·
erhalten werden und daher lassen sich dies· Kristalle praktisch ohne Materialverlust verwenden.
Alle Detektionaelemente sind einander gleich, so dass
eine Möglichkeit eines Austausches dieser Elemente vorliegt und jede*
ochadhafte Element einfach ersetzt werden kann, so dass ein Defekt nicht
sofort den ganzen Detektor unbrauchbar macht.
einem gleichen empfindlichen Volumen hat der Detektor nach der Erfindung
höhere Zuverlässigkeit, da die Qualität der gesonderten, kleineren Einkristalle
häufig besser sein wird als di.o des einsigen, groesen Einkristallen
des bekannten Detektors.
CO lassen sich im Innern einer gemeinsamen, abgeschlossenen Hülle asua&men-O
£? fügen oder ohne Hülle in Geräten unterbringen wie Cryostaten,. Valsuue-
(O räumen, usw.
-* Vorzugsweise ist jedes Detektionselement nit einer »b-
° geschlossenen Hülle versehen, die die Form eines den Einkristall
•ohliessenden Prismas mit trapezförmiger Basis aufweist.
TEN. 344C. - 6 -
Bei lithium-koapensierten QermaniuBdctektoreti buss
oft während der letzten Herstellungsstufe oder w£hrsnd deo Qtbraucha
eine Neuverteilung der Lithium-Ionen durchgeführt werden, um dl« Kompensation in der empfindlichen Zone wiederhersuateile». Der Zusammenbau
des Detektors nach der Erfindung, wobei die Betektionselestente gesondert in einer prismatischen Hülle mit trapezförmiger Basis unterge-
■k bracht sind, mach dieso Neuverteilung einfaoh durohfuhrbar.
Die ringförmige Struktur des Detektors nach der Erfindung
schafft ia der Aoha· de« Detektor« eines vsx&SltnlsaXasig gposaen,
freien 3aun» wodurch der Detektor al» Detektor des "Orubentyps" ssur As»-*
lyse eines im Zentrum des' Singes angebrachten Master* T<mre»&«t
kann.
bau des Detektors na ah der Erfindung ist nicht begrenst* Xn eine?
teilhaften Auofuhrungafor* bstra'gt diese Ansahl 3 bis 12 und der
zwischen den nicht parallelen 3eit*nflft'oheu j«dex>
Hüll® oder jedes KrIs-
Jedes Detektionsel««9B$ as «iofe ie% ein Setsistor alt
einem flachen Übergang und einen gleicha&'33if@äi Feld ismä ®lm®
trischen Struktur., wodurch sehr hohe Aufl5suag!SV«$sägGn ©raialt
<O können, wobei Impulse kursier Anstiegseit «ntstehesj da die
O
^ der ladungsträger sehr kurz sind..
to Ein Vorteil der Mehrfachstruktur dsm Oet&ktors
der Erfindung iot weiterhin der, dass den
eine elektronische VeratSrkungsvorriohtung oder ml®A®m%«m ©4®
stsjrtcer zugeordnet werden kann» so dass holt«
PHlI. 3443. t
- 7
Ferner ist di· Struktur jedes Detektionselement lerart,
da·· ein besserer Detektionsfaktor duroa die Verringerung de« Sisflu····
de· Ckmpton-Äffekt·· ersielt wird. Venn Strahlung durch die kleinere
der beiden parallelen Seitenflächen eindringt, ergibt die Trapezform
ein besserer Verlüültnis dta Spitzenwert·« infolge der Oeaamtenergle
euB Spitzenwert infolge de· Ceaptoa-Effektea, Wenn einander gegenüber liegende Elemente eines Detehtors mit gesonderten Vorverstärkervorrichtungen
verbunden sind, l£sst eioh mittels Koinzidenzschaltung
eine Trennung zvisohen den Signal infolge dor photo-elektrischen Wirkung
und dem Signal infolge des Compton-Effekts durchführen.
Die Abmessungen jedes Detektionselementea und des Detektors
nach der Erfindung lassen sich an die verlangte Verwendung anpassen.
Für Oamna-Spektronetri· einer Strahlung von etwa 2 MeV ist lie
grössere der beiden parallelen Seitenflächen jedes Elementes vorzugsweise
annähernd quadratisch.
einen aermaniumkristall, der la'hgs der £11J~ Fläche kristallisiert ist
und der lithiuB-kompeneierte Zonen aufweist und in einer abgeschlossenen
Hülle vorzugsweise aus Aluminium untergebracht iat, welche Hülle
eine der Elektroden des Detektionoelementes bildet. Zwei andere Elektroden
können mittels einer isolierten Durchführung durch die Vand ge-
*° führt sind, wahrend innerhalb der Hülle ein erniedrigter Gasdruck o<£er
O0 nahezu Vakuum geschaffen werden kann.
(D Solche Hüllen lassen sich vollständig in üblicher Weise
""* herstellen. 3er Verschluss jeder Hülle kann s.3. durch Kalt3cliweis3en
O
^ an der Boden oder der oberen Fläche aes Prismas hergestellt werden.
nterscbiedlicken Elemente einea Deiters nach
BAD ORlGiNAL
■ ΊΠί. 344c.
-β-
der Erfindung lassen sich selbstverständlich auch gesondert verwenden
oder zu einem Ringteil zusammenfügen. ,
In gewissen Fällen kann es vorteilhaft sein, das Volumen
den Detektore weiter zu vergrösaern, indem in den sentralen freien
Haum ein koaxialer Detektor untergebracht wird, der eich ,ijeraeinsam
mit den ringförmigen Elementen verwenden la'sst.
Die Erfindung wird an Hand der Zeichnung nSher erläu-P
tert, in der
Fig. 1 senemati«eh eine perspektivische' Aneicht eines
Detektionselementes nach der Erfindung,
Fig. 2 3chenatieoh einen Sohnitt durch «inen Halbleiterdetektor
nach der Erfindung, der aus einer Anzahl von Detektion·- elementen nach Fig. 1 zusammengebaut iat,
Fi ,ς. 3 schematisoh eine Seitenansicht ein·· Detefct
ions el einen tee reit einer abgeschlossenen Hull« und
Fig. 4 sohematiech einen Schnitt 1finge der Ebene
IV-IV in Pig. 3 zeigen.
Bas in Fig. 1 dargestellte Detektioneelement enthält
einen Einkristall 1 in Fona eines Prismas mit gleichschenkliger, trapezförmiger
Basis. Dieses Element hat somit sivei parallele Seitenflachen
2 und 3 und zwei schräg« Seitenflächen 4 und 5· Der Kristall 1
hat z.B. dine zentrale p-Typ Zone 5, an der auf beiden Seiten eine
dicke, praktisch intrinsike Zone 7 bzw. S und eine n-i^jrp Zone 9 "bew..
U) 10 angebracht sind. Diese unterschiedlichen Zonen Bind durch flache
**· Oberflächen begrenxt, die praktisch parallel zu den Flüchen 2 und 3
Ξ? verlaufen und HalbleiterübergSage bilden.
Die praktisch intrinsiken Zonen lassen «loh In
- PHN.; 344c.
- 9-
Weise durch Diffusion unter der Wirkung eines elektrischen Feldes den zwei Oberflächen 2 und 3 von Lithium-Ionen in den Halbleiterkristall
z.B. aus p-Typ Germanium bilden.
Der schematisch in Fig. 2 dargestellte Detektor enthält acht prismatische Elements 11 bis 13 mit gleichseitiger, trapssförmiger
Basis. Diese Elemente 11 bis 18 können denen nach Fig. 1 a"hn-Iich
sein. Sie lassen sich direkt zusammenfügen odsr jiit einer gesonderten,
prismatischen, abgeschlossenen Hülle rersshen. Jedss prismatisohs
Element 11 bis 18 ist derart angeordnet, dass ssins schräge Seitenfläche
19 (entsprechend der Fläche 4 des Kristalles 1) der Seitenfläche
(entsprechend der Fläche 5 des Kristallss 1) sines anderen, benachbarten
Kristalles zugewandt ist und dass die zwei Seitenflächen 21 (entsprechend
der Fläche 3 des Kristalles 1) zweier benachbarter Elemente Ton 11 bis 18 der gleichen Seite zugewandt sind, so dass dis Elemente gemeinsam eis
regelmäsaiges Vieleck bilden, wobei dis kleineren (21) der parallelen
Seitenflächen der DstsktionsslsmWte de* Zentrum des Visleoks sugsvaaat
sind.
JQmIioh vie in Flg. 1 sind dis p*fyp Zonen 6, dl· pMk>
tisch intrinsiksn Zsnsn 7 und 6 und dis n-fyp Zonen 9 und 10 durch gsstriohelts
Linien angedeutet. Diese Zonen bilden suss**»« konssntrisoas,
praktisch ringförmig« Sätze.
co In Fig. 2 ist dsutliohkeitshalbsr die die Qestent« 11
*° bis 18 zusammenhaltende Vorrichtung, welohe dis Steifheit des Qanzstt
^ ergibt, nicht dargestellt. Es genügt dazu, sin einfaches Mtallisons*
__» . oder nötigenfalls isolierendes Band zu rerwenden, wobsi ferner
ο gema'38 die Vorrichtung, in der der Detektor Tsrvendet viid, s.B. d
Cryostat, an dem oder in dem er befestigt ist, slns Soll· ipislt.
IF-CI. 344-. - 10 - .
Die Pig. 3 und 4 aeigen einen Halbleiterglas tall in
einer gesonderten priematisehen Hülle.
Der Einkristall 1 wird in einer Hüll« 22 durch Blöde·
23 bie 27 aus Isoliermaterial z.B. Polytetrafluorethylen festgehalten.
Die Blöcke 27 werden durch Rücken in der Wand der Hülle festgehalten,
während 3ie an der Stelle der p-Ityp Zone 6 auf den Seitenflächen 4 und
5 des Einkristalles ruhen. Die Blöcke 27 können ait einer Metallschicht
vorzugsweise aus Aluminium versehen sein, so dass sie eine elektrische
Verbindung zwischen den Zonen ό und der Hülle herstellen können.
Die Hülle 22. i3t mit einem Deckel 29 versehen, der an
dem Kragen 30 der Hülle befestigt ist "mittels einer Kaltsehweisse 31.
2>a diese Verbindung, die luftdicht aein muss, den Tesnperaturunterschieden widerstandsfähig sein soll, denen der Detektor ausgesetzt wird, uat©r
anderem wenn er auf die Temperatur flüssigen Stickstoffs gebracht wird,
ist der Deckel mit einer tiefen Nut 32 versehen, die unerwünscht© 3pa»°»
nungen verhütet.
Die Verbindungen mit den n-Ί^ρ Zonan 9 und 10 werden
durch zwei Durchführungen 38 und 50 hergestellt.
"Diese Durchführungen sind luftdicht. Sie werden z.3»
durch ein Metallrohr 40, vorzugsweise aus Kupfer, gebildet, das in eines=
Eisen-HicXel-Muffe 41 festgelötet und durch einen isolierenden Ring 43
gegen einen Eisen-Nickel-Ring 42 isoliert ist. Ber Ring 42 ist
-_ gestanzten Kupferteil 44 festgelötet, der durch eine Kaltschweisss 45
U) an der Hülle befestigt ist, die meistens aus Aluminium besteht.
CO
**» An einem der ftöhre 40 ist eine elastisch® Zunge feat-
geschv/ais3t, die nit der Zone 9 einen Druckkontakt herstellt. Am d®sa
anderen Rohr iat ein in Fig. 4 nicht dargestellter, isolierter Leiter
• " -' PHH; 344c.
- 1.1 -
befestigt, der einen Kontakt mit der Zone 10 herstellt.
Im Innern der Hülle in Baum 47 awisohen der Hülle und
dem Kristall 1 herrscht Vakuum vor, das durch die Rohre 40 erhalten ist, die nachher durch Zusamicenpressung' geschlossen.werden können* In
etie Hülle kann auch «in neutrales Gas niedrigen Drucks zugelassen werden.
Die vorstehend beschriebene Hülle besteht vorzugsweise au3 Aluminium mit einer Dicke von »twa 0,5 am·
Die Verbindungen der verschiedenen Oebiete eines BLnkristalles
können anders sein als in den Fig. 3 und 4* Der Deckel 29 am Boden der Hülle 49 kann z.B. alt einer isolierten Durchführung Ähnlich der Durchführung 59 oder eines anderen Typs versehen sein. In bestimmten Fällen kann eine OberflSohensone z.B. die Zone 10 oder die
Zone 9 (Fij. 4) nit der Hülle durch einen direkten Druckkontakt verbunden sein.
onaelemente in Reihenfolge in einer Richtung und in der entgegengesetzten Sichtung angeordnet werden, so dass die SeitenfHohen 19 und 20
zweier aufeinanderfolgender Hüllen einander gegenüber liegen können,
ohne dass die Deckel und die Flansche 30 zweier benachbarter Hüllen
sich gegenseitig hindern.
,O * Die Ausführungsform nach Flg. 2 enthalt aoht Elemente
(D und ist besonders vorteilhaft, wenn Einkristalle vorhanden sind, deren
22° 30* aufweinen. Bs ist selbstverständlich vorteilhaft, den
schnitt des Halbleiterftristallee eines Elementes an die Anzahl to*
nenten des Detel. »s oder uagekehrt anzupassen.
rm.T. 3443. - 12 -
Eb wird einleuchten, dass die Erfindung eich nicht auf
die "beschriebenen Ausführung3formen be3claränkt und dass dem Fachmann
innerhalb dee Rahmens der Erfindung viele Abarten sur 7ei*fügung stehen.
Ill V Es können z.3. die Halblei terkrisftalle aus Silicium odor einer A ά
Verbindung bestehen, während die "Kristalle statt awei z.B. eine einzige
kompensierte Zone enthalten können. Kompensation durch Lithium kann
vollständig vermieden werden, wenn alo Ausgangsmaterial für die Detefctionselemente
Kalbleiterkri3tallo mit hohem spezifischem Widerstand verwendet werden, in denen z.B. diffundierte Zonen entgegengesetzten Leitfähiglceitatyps
untergebracht werden können.
909839/1001
Claims (3)
1. Halbleiterdetektor zum Messen und/oder Detektieren
ionisierender Strahlung insbesondere für Gamma-Spektrometrie nit einem
groasen enpfindlichen Volumen dadurch gekennzeichnet! dass der Detektor
eine Anzahl von Halbleiterdetektionaelementen enthält, deren Halbleiterkristall
die Form eines Prismas mit gleichseitiger, trapesformiger Basis
aufweist und mindestens einen su den beiden parallelen Seitenflächen
des Kristallee praktieoh parallelen Halbleiterübergang beaitst, welcke
Detektionselemente in einem eleicbaassigen Vieleck angeordnet DiBd9 se
dass die kleinere der erwähnten parallelen Seitenfläche jede» Kristalle·
den Zentrum des Vieleol:s su gewandt ist.
2. Halbleiterdetektor nach Anapruoh 1 dadurch gekennseloknet.
dass jedes der Detektionselemente alt einer HSlIe rersehen ist, die
auch die Form eines Prisaas alt gleichseitiger trapesf artiger Basis
aufweist.
3. Halbleiterdetektor naoa Anspruch \ oder 2 dadurch, ca*
kennzeichnet, dass der Halbleiterkrietall jedes der Detektioaseleaeate
ein Qenr.aniuakri stall istj bei dem die an die beiden parallelen Seiteo»
' t
fla'chen grensenden Teile des Kristallee des einen Leitffhigkeitstype
sind, und zwischen diesen Teilen ssvei praktisch kofipensierte Zoaen vor*
^ handon sind, die durch eine Sohicht des anderen Leitflhigkeitatjrpa tva*
Ot, einander getrennt sind, welche Zonen fünf aufeinanderfolgende Zonen
co
CO bilden.
-* 4. Halbleiterdetektor nach einem oder mehreren der torker·
^ gehenden Ansprüche dadurch gekennseiohnet, dass die Anaalil worn Detektionselementen
mindestens 3 und höchstens 12 betrifft·
ΓΗΝ. - 14 -
gehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, diss die grossere der beiden
parallelen Seitenflächen .jede· Detek-tionselenentes praktisch quadratisch ist.
. Halbleiterdetektor nach Anspruch 2 dadurch gekennzeichnet, dass die Hüll· praktisch vollständig aus Aluminium besteht
und eine der Elektroden des Detektionseleeentes bildet.
7. Halbleiterdetektionselement geeignet zur Verwendung
in einen Halbleiterdetektor nach einem oder mehreren der rorhergehendes
Ansprüche dadureh gekennzeichnet, da·· ·· «inen Halbleiterkristall enthält,
der die Fons eines Prisma· »it einer gleicheeitigen, trapesf©*»=
raigen Basis aufweist» und in den sioh ei« Halbleiterüfeersanff praktisch
parallel zu den beiden parallelen Seitehfllohen de« Kristalle« rerlXuft«
909839/1001 U^
Leerseite
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR140341 | 1968-02-19 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1907971A1 true DE1907971A1 (de) | 1969-09-25 |
DE1907971B2 DE1907971B2 (de) | 1978-10-12 |
DE1907971C3 DE1907971C3 (de) | 1979-06-13 |
Family
ID=8646158
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1907971A Expired DE1907971C3 (de) | 1968-02-19 | 1969-02-18 | Halbleiterdetektorelement und Halbleiterdetektor |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3621256A (de) |
BE (1) | BE728562A (de) |
DE (1) | DE1907971C3 (de) |
FR (1) | FR1564686A (de) |
GB (1) | GB1253873A (de) |
NL (1) | NL6902316A (de) |
SE (1) | SE356825B (de) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1120616A (en) * | 1979-06-19 | 1982-03-23 | Montreal Neurological Institute | Detector shape and arrangement for positron annihilation imaging device |
US4377747A (en) * | 1980-12-08 | 1983-03-22 | Ford Aerospace And Communication Corporation | Non-uniform thermal imaging detector |
US4688067A (en) * | 1984-02-24 | 1987-08-18 | The United States Of America As Represented By The Department Of Energy | Carrier transport and collection in fully depleted semiconductors by a combined action of the space charge field and the field due to electrode voltages |
US5361272A (en) * | 1992-09-18 | 1994-11-01 | Stephen Krissman | Semiconductor architecture and application thereof |
JP2005516228A (ja) * | 2002-02-01 | 2005-06-02 | ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム | 非対称に配置された交差接続型シンチレーション結晶 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3233102A (en) * | 1962-07-27 | 1966-02-01 | Lyle E Packard | Apparatus relating to the detection and measurement of radioactivity in relatively large bodies |
US3293435A (en) * | 1963-02-12 | 1966-12-20 | Gen Electric | Semiconductor charge multiplying radiation detector |
-
1968
- 1968-02-19 FR FR140341A patent/FR1564686A/fr not_active Expired
-
1969
- 1969-02-13 NL NL6902316A patent/NL6902316A/xx unknown
- 1969-02-17 SE SE02173/69A patent/SE356825B/xx unknown
- 1969-02-17 BE BE728562D patent/BE728562A/xx unknown
- 1969-02-18 DE DE1907971A patent/DE1907971C3/de not_active Expired
- 1969-02-18 GB GB8708/69A patent/GB1253873A/en not_active Expired
- 1969-02-19 US US800405A patent/US3621256A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1907971B2 (de) | 1978-10-12 |
NL6902316A (de) | 1969-08-21 |
SE356825B (de) | 1973-06-04 |
FR1564686A (de) | 1969-04-25 |
BE728562A (de) | 1969-08-18 |
GB1253873A (en) | 1971-11-17 |
DE1907971C3 (de) | 1979-06-13 |
US3621256A (en) | 1971-11-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2542174B2 (de) | Halbleiterlaservorrichtung | |
DE1764401B2 (de) | Feldeffekttransistor mit isolierter Steuerelektrode und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE1614148B2 (de) | Verfahren zum herstellen einer elektrode fuer halbleiter bauelemente | |
DE2248068A1 (de) | Optisch-elektronische anordnung | |
DE1907971A1 (de) | Halbleiterdetektor | |
DE2025476A1 (de) | Photodiode | |
DE3853172T2 (de) | Festkörperbildsensor. | |
DE2904424A1 (de) | Thyristor mit steuerung durch feldeffekttransistor | |
DE2526116C2 (de) | Vorrichtung zur Kontrolle der Homogenität der Intensitätsverteilung eines Bündels ionisierender Strahlung | |
DE2104726A1 (de) | Halbleiterbauelement | |
DE1614250B2 (de) | Halbleiteranordnung mit gruppen von sich kreuzenden verbindungen | |
DE2103626A1 (de) | Strahlungsdetektor | |
DE3308389C2 (de) | ||
DE1130525B (de) | Flaechentransistor mit einem scheibenfoermigen Halbleiterkoerper eines bestimmten Leitungstyps | |
DE2239953A1 (de) | Detektoranordnung | |
DE1813551B2 (de) | Planartransistor | |
AT202600B (de) | Feldeffekt-Transistor und Verfahren zur Herstellung eines solchen Transistors | |
DE1266510B (de) | Halbleitervorrichtung mit einem Halbleiterkoerper mit mindestens einem Kontakt und Verfahren zum Herstellen | |
DE1094886B (de) | Halbleiteranordnung mit Kollektorelektrode, insbesondere Transistor fuer hohe Frequenzen und grosse Verlustleistung | |
DE2131755C3 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Halbleiter-Teilchendetektors mit NIP-Struktur und Verwendung von danach hergestellten Detektoren | |
DE1218621B (de) | Siliziumgleichrichterelement mit einem kreisscheibenfoermigen Siliziumplaettchen | |
DE1564956C3 (de) | Solarzelle | |
DE2134647A1 (de) | Halbleiterbauelement | |
DE4210643A1 (de) | Kuehlvorrichtung fuer ein halbleiter-bauelement | |
DE2356934C3 (de) | Hochsperrendes Leistungshalbleiterbauelement |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
EHJ | Ceased/non-payment of the annual fee |