DE69939413D1 - Verfahren zur Herstellung einer nichtlinearen optischen Dünnschicht aus Siliziumdioxid und nichtlineares optisches Element aus Siliziumdioxid - Google Patents

Verfahren zur Herstellung einer nichtlinearen optischen Dünnschicht aus Siliziumdioxid und nichtlineares optisches Element aus Siliziumdioxid

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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2281265C (en) * 1998-09-22 2003-12-16 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Method for manufacturing a nonlinear optical thin film
WO2000049459A1 (fr) * 1999-02-16 2000-08-24 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Materiau a non linearite optique et son procede de production
DE102006041738A1 (de) * 2006-09-04 2008-03-06 Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh Zusammensetzung zur Beschichtung elektrischer Leiter und Verfahren zur Herstellung einer solchen Zusammensetzung
US7486432B2 (en) * 2007-03-08 2009-02-03 Hc Photonics Corp. Method for preparing a periodically poled structure
JP6273762B2 (ja) * 2013-10-18 2018-02-07 ウシオ電機株式会社 波長変換素子の製造方法
EP3751339A4 (de) * 2018-02-08 2021-03-24 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Optischer wellenlängenwandler und verfahren zur herstellung eines optischen wellenlängenwandlers
CN111989615A (zh) * 2018-04-26 2020-11-24 住友电气工业株式会社 波长转换光学器件和用于制造波长转换光学器件的方法

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2553685C2 (de) * 1975-11-28 1985-05-09 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur Herstellung eines optischen Richtkopplers
DE3138960A1 (de) * 1981-09-30 1983-04-14 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur erzeugung elektrisch leitender schichten
JPH0642003B2 (ja) * 1983-09-20 1994-06-01 オリンパス光学工業株式会社 光学部品の反射防止膜とその形成方法
US4521443A (en) * 1984-05-07 1985-06-04 Northrop Corporation Integrated optical waveguide fabrication by ion implantation
ATE207662T1 (de) * 1985-08-13 2001-11-15 Btg Int Ltd Faser-laser und -verstärker
IT1211939B (it) * 1987-11-27 1989-11-08 Siv Soc Italiana Vetro Procedimento per la fabbricazione di vetri con caratteristiche energetiche modificate e prodotto cosi'ottenuto
US4962051A (en) * 1988-11-18 1990-10-09 Motorola, Inc. Method of forming a defect-free semiconductor layer on insulator
JP3005225B2 (ja) 1989-01-17 2000-01-31 ソニー株式会社 ドメイン反転構造部を有する非線形強誘電体光学素子の製造方法
DE3912400C1 (de) * 1989-04-15 1990-01-11 Schott Glaswerke, 6500 Mainz, De
US4934774A (en) * 1989-06-08 1990-06-19 Northern Telecom Limited Optical waveguide and method for its manufacture
JPH0823645B2 (ja) * 1989-11-24 1996-03-06 松下電器産業株式会社 非線形光学薄膜及びその製造方法
JPH03202461A (ja) * 1989-12-29 1991-09-04 Nissin Electric Co Ltd 高絶縁酸化ケイ素薄膜の形成方法
US5637353A (en) * 1990-09-27 1997-06-10 Monsanto Company Abrasion wear resistant coated substrate product
US5303318A (en) * 1991-11-01 1994-04-12 Nippon Telegraph & Telephone Corporation High power acceptable optical fiber and fabrication method thereof
EP0579018B1 (de) * 1992-07-02 1998-09-30 Balzers Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung einer Metalloxidschicht, Vakuumbehandlungsanlage hierfür sowie mit mindestens einer Metalloxidschicht beschichteter Teil
JPH06242480A (ja) 1993-02-18 1994-09-02 Fuji Photo Film Co Ltd 強誘電体のドメイン反転構造形成方法
US5358890A (en) * 1993-04-19 1994-10-25 Motorola Inc. Process for fabricating isolation regions in a semiconductor device
AU2914095A (en) * 1994-06-28 1996-01-25 Fei Company Charged particle deposition of electrically insulating films
JP3119131B2 (ja) * 1995-08-01 2000-12-18 トヨタ自動車株式会社 シリコン薄膜の製造方法及びこの方法を用いた太陽電池の製造方法
JPH1090546A (ja) * 1996-09-17 1998-04-10 Toyota Motor Corp 平面導波路の製造方法及び平面導波路
US5824584A (en) * 1997-06-16 1998-10-20 Motorola, Inc. Method of making and accessing split gate memory device
JP2000098436A (ja) * 1998-09-22 2000-04-07 Toyota Motor Corp 非線形光学薄膜の製造方法
JP2000206578A (ja) * 1999-01-11 2000-07-28 Toyota Motor Corp 非線形光学シリカ薄膜の製造方法
JP2000258810A (ja) * 1999-03-08 2000-09-22 Shin Etsu Chem Co Ltd 二次光非線形性ガラス材料及びその製造方法
JP2001013535A (ja) * 1999-06-29 2001-01-19 Toyota Motor Corp 非線形光学薄膜の製造方法

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