DE69934384T2 - Verfahren zur herstellung von seitlich dielektrisch isolierten halbleiterbauelementen - Google Patents

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Description

  • Gebiet der Erfindung
  • Diese Erfindung bezieht sich im Allgemeinen auf Verfahren, gemäß dieser Verfahren hergestellte Halbleiterbauelemente und Vorrichtungen, und im Besonderen auf Verfahren, dielektrisch isolierte (Siliziumdioxid) seitliche Isolierungsregionen in einem Halbleitersubstrat und einem MOS Halbleiterbauelement auszuformen, die gemäß diesem Verfahren hergestellt wurden.
  • Hintergrund zum Stand der Technik
  • In der Vergangenheit wurden (integrierte) in Halbleitersubstraten hergestellte Halbleiterbauelemente im Allgemeinen in demselben Halbleitersubstrat von einander isoliert durch irgendeine Form von elektrischer Isolierung, häufig durch Isolierung mittels PN Übergängen oder durch dielektrische Isolierung.
  • Eine dielektrische Isolierung als Mittel zur elektrischen Isolierung von Halbleiterbauelementen in einem Halbleitersubstrat wird von Halbleiterherstellern im Allgemeinen wegen der Vermeidung eines Sperrschichtdurchbruchs bevorzugt, der auftreten kann, wenn eine Isolierung mittels PN Übergang verwendet wird. Weiterhin war wegen der seitlichen Diffusion, die während verschiedener Wärmebehandlungsvorgänge auftritt, die Verwendung von mittels PN Übergang isolierten Regionen nicht sehr wünschenswert, da Zunahmen in der seitlichen Breite von mittels PN Übergang isolierten Regionen für jeden Halbleiterchip zu einer Verminderung der Dichte der Vorrich tung geführt haben. Der Flächenbedarf an Silizium ist sehr wichtig bei der Reduktion von Kosten, und der Verlust an Siliziumfläche auf Grund von sich seitlich ausdehnenden, mittels PN Übergang isolierten Regionen war sehr unerwünscht.
  • Folglich wird es von Halbleiterherstellern und besonders von Herstellern integrierter Schaltungen bevorzugt, bei der Herstellung von Vorrichtungen aus integrierten Schaltungen, wie zum Beispiel von Complementary MOS (CMOS) Vorrichtungen, besonders für die Seitenwandisolierung dielektrische Isolierungen zu verwenden. Der wesentlichste Vorzug der Verwendung von an der Seitenwand dielektrisch isolierten Regionen ist die Tatsache, dass diese eine viel bessere elektrische Isolierung zwischen Vorrichtungen zur Verfügung stellen, wie zum Beispiel für MOS oder Complementary MOS Vorrichtungen.
  • Um jedoch eine maximale Packungsdichte der (MOS oder CMOS) Vorrichtung in einem Halbleiterchip zu erzielen, ist es äußerst wichtig einen Weg zu finden, wie man die Breite der Seitenwand der dielektrischen Isolierungsregionen beschränken oder eingrenzen kann. Dielektrische Isolierungsregionen mit geringer Breite der Seitenwand erlauben eine gesteigerte Verdichtung der (MOS oder CMOS) Vorrichtung und eine daraus resultierende Zunahme in der Anzahl von Schaltungen, die in jedem Halbleiterchip hergestellt werden können.
  • Daher bedeutet eine erhöhte Verdichtung der Vorrichtung eine größere Nutzung von Siliziumfläche und eine entsprechende Reduktion von Herstellungskosten, da mehr MOS und/oder CMOS Vorrichtungen in jedem Halbleiterchip hergestellt werden können.
  • EP 424 011 und US 5 707 899 offenbaren Seitenwandisolierungsregionen für Vorrichtungen aus integrierten Halbleiterschaltkreisen.
  • Dementsprechend besteht ein Bedarf für ein verbessertes Verfahren oder einen verbesserten Prozess, eng begrenzte thermische, seitliche Isolierungsregionen aus Siliziumdioxid in einem Halbleitersubstrat und MOS (oder CMOS) Halbleiterbauelementen auszuformen, die gemäß diesem Verfahren oder diesem Prozess hergestellt werden.
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Es ist ein Ziel dieser Erfindung, ein verbessertes Halbleiterverfahren zur Verfügung zu stellen, um integrierte Schaltungen herzustellen.
  • Es ist ein weiteres Ziel dieser Erfindung, ein verbessertes Halbleiterverfahren zur Verfügung zu stellen, um dielektrisch an den Seitenwänden isolierte Halbleiterbauelemente herzustellen.
  • Es ist ein noch weiteres Ziel dieser Erfindung, ein verbessertes Halbleiterverfahren zur Verfügung zu stellen, um an den Seitenwänden eng begrenzt dielektrisch isolierte Halbleiterbauelemente herzustellen.
  • Es ist noch ein weiteres Ziel dieser Erfindung, ein verbessertes Halbleiterverfahren zur Verfügung zu stellen, um an den Seitenwänden eng begrenzt dielektrisch isolierte Halbleiterbauelemente wie zum Beispiel MOS und CMOS Vorrichtungen herzustellen.
  • Kurze Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen
  • Entsprechend dieser Erfindung wird ein Verfahren nach Anspruch 1 zur Ausformung von thermischen seitlichen Isolierungsregionen aus Siliziumdioxid in einem Halbleitersubstrat offenbart.
  • Entsprechend einem Beispiel wird ein MOS Halbleiterbauelement offenbart, das gemäß dem Verfahren dieser Erfindung hergestellt wird.
  • Entsprechend einem noch weiteren Beispiel wird ein CMOS Halbleiterbauelement offenbart, das gemäß dem Verfahren dieser Erfindung hergestellt wird.
  • Die vorhergehenden und andere Ziele, Merkmale und Vorzüge dieser Erfindung werden offensichtlich aus der folgenden genaueren Beschreibung der bevorzugten Ausführungsform der Erfindung, wie sie in den begleitenden Zeichnungen veranschaulicht sind.
  • Beschreibung der Ausführungsformen
  • Mit Bezug auf 1 bezeichnet das Bezugszeichen 10 im Allgemeinen ein Ausgangshalbleitersubstrat, welches in der als ein Beispiel für die Ausführung des Verfahrens dieser Erfindung gezeigten Figur ein Siliziumhalbleitersubstrat vom P Typ (mit Verunreinigungen vom P Typ dotiertes Silizium) ist. Die Dicke des Ausgangssubstrats vom P Typ 10 kann wie erwünscht variiert werden. Wenn erwünscht, kann das Ausgangssubstrat ein Substrat vom N Typ sein und deshalb werden die darin ausgeformten Halbleiterregionen, angefangen von 12 bis 15, vom entgegen gesetzten Typ der Leitfähigkeit sein wie die in den 12 bis 15 gezeigten Typen der Leitfähigkeit.
  • Mit Bezug auf 2 wird eine vorzugsweise dünne Schicht 12 aus Oxinitrid auf einer Oberfläche des Ausgangshalbleitersubstrats vom P Typ 10 gezüchtet. Zum Beispiel weist die dünne Schicht 12 aus Oxinitrid eine Dicke von etwa 100 Angström auf und wird zum Beispiel unter Verwendung von N2O als das oxidierende Mittel ausgeformt. Die Oxinitridschicht 12 stellt eine Funktion zum Spannungsabbau und als Ätzstopp für das Halbleitersubstrat 10 zur Verfügung.
  • Mit Bezug auf 3 wird eine vorzugsweise dickere Schicht 14 aus amorphem Polysilikon auf der dünnen Schicht 12 aus Oxinitrid aufgebracht. Zum Beispiel weist die dickere Schicht 14 aus amorphem Polysilikon eine Dicke von etwa 400 Angström auf und wird zum Beispiel aufgebracht unter Verwendung eines CVD (Chemical Vapor Deposition) Verfahrens. Es wird beabsichtigt, dass der Begriff amorphes Polysilikon bedeutet, dass die Schicht 14 im Wesentlichen eine Polysilikonschicht ist, die nicht mit Körnern dotiert ist, die einen durchschnittlichen Durchmesser von weniger als 300 Angström aufweisen.
  • Mit Bezug auf 4 wird eine Schicht 16 aus Siliziumdioxid auf der amorphen Polysilikonschicht 14 aufgebracht. Vorzugsweise weist die Siliziumdioxidschicht 16 eine Dicke von etwa 100 Angström auf und wird zum Beispiel unter Verwendung eines CVD Verfahrens aufgebracht.
  • Mit Bezug auf 5 wird eine Schicht 18 aus Siliziumnitrid auf der Siliziumdioxidschicht 16 aufgebracht. Die Siliziumnitridschicht 18 kann zum Beispiel durch Verwendung eines CVD Verfahrens mit einer Dicke wie erwünscht aufgebracht werden, jedoch wird eine Dicke von mindestens 1000 Angström bevorzugt.
  • Mit Bezug auf 6 wird eine Schicht 20 aus Photolack aufgebracht, in dem vorzugsweise konventionelle Photolackaufbringungsverfahren verwendet werden. Mit Bezug auf 7 wird die Photolackschicht 20 photolithographisch belichtet und entwickelt, um die bemusterte Photolackschicht 20 zu belassen, wie sie in 7 gezeigt wird, die Öffnungen 22 aufweist, die sich in der Photolackschicht 20 befinden.
  • Mit Bezug auf 8 werden die Öffnungen 22 in der Photolackschicht 20 auch als in der Siliziumnitridschicht 18, der Siliziumdioxidschicht 16 und der amorphen Polysilikonschicht 14 ausgeformte Öffnungen dargestellt. Die Teile der Siliziumnitridschicht 18, die in 8 als entfernt oder weggeätzt gezeigt werden, werden vorzugsweise durch Verwenden eines Siliziumnitridätzmittels erzielt. Die Teile des Siliziumdioxids 16, die in 8 als entfernt oder weggeätzt gezeigt werden, werden durch vorzugsweise Verwendung eines Ätzmittels erzielt, das Siliziumdioxidmaterial entfernt. Die Teile des amorphen Polysilikons 14, die in 8 als entfernt oder weggeätzt gezeigt werden, werden erzielt durch vorzugsweise Verwendung eines Ätzmittels, das Polysilikonmaterial entfernt.
  • Mit Bezug auf 9 wird die Photolackschicht 20 (wie in 8 gezeigt) entfernt und dann werden Teile der Oxinitridschicht 12 der Öffnungen 22 vorzugsweise durch ein Ätzmittel entfernt, das Oxinitridmaterial entfernt, wobei die Siliziumnitridschicht 18 als eine Maske dient für das Entfernen des Oxinitridmaterials durch ein Ätzmittel. Dem Entfernen der Teile der Oxinitridschicht 12 am unteren Ende der Öffnungen 22 durch ein Ätzmittel folgend, wird ein thermischer Oxidationsvorgang oder Prozess ausgeführt, um sehr eng begrenzte, dielektrische Regionen 24 aus Siliziumdioxid (im Wesentlichen senkrecht geformt) auszuformen, die sich im Wesentli chen senkrecht nach innen in die Oberfläche des Halbleitersubstrat 10 und über eine im Wesentlichen senkrechte Distanz oberhalb der Oberfläche des Halbleitersubstrats 10 in den Öffnungen 22 erstrecken, wie in 10 gezeigt. Auf Grund der Dicke der Spannungsentlastungsschicht 12, die direkt auf der Oberfläche des Halbleitersubstrats 10 liegt, wird eine seitliche Ausdehnung oder ein Wachstum der thermisch gezüchteten Siliziumdioxidregionen 24 in einer Richtung über die Öffnungen 22 in der Oxinitridschicht 12 hinaus verhindert, was dazu dient, das Wachstum oder die Ausdehnung der thermisch gezüchteten Siliziumdioxidregionen 24 auf eine im Wesentlichen senkrechte Richtung nach unten in das Substrat 10 des Siliziumhalbleiters zu beschränken und in eine im Wesentlichen senkrechte Richtung aufwärts gerichtet über die Oberfläche des Substrats 10 des Siliziumhalbleiters. Die versiegelnde Schnittstelle der Schicht aus Oxinitridmaterial 12 stellt eine seitliche Diffusionsbarriere gegenüber Sauerstoff zur Verfügung während des anschließenden (siehe 10) Verfahrens der Feldoxidation, während die amorphe Pufferschicht aus Polysilikon 14 die Verdünnung der Diffusionssperrschicht für Oxinitridsauerstoff zur Spannungsentlastung 12 ermöglicht. Die Eigenschaften der Polypufferschicht 14 (amorphes Polysilikon) zur Spannungsentlastung erlauben auch die anschließende Ausformung einer dickeren Siliziumnitridschicht 18, die verwendet wird, um die aktiven Regionen des Halbleiterbauelements während des Feld-(SiO2)Oxidationsprozesses zu schützen. Als Folge davon ist das thermische Wachstum der nach unten gerichteten Siliziumdioxidregionen 24 in das Halbleitersubstrat 10 sehr eng begrenzt und erlaubt deshalb eine größere Dichte von dielektrisch (Seitenwand) isolierten MOS und CMOS Halbleitervorrichtungen in jedem Halbleiterchip. Die unerwünschte seitliche Ausdehnung der Seitenwandisolierungsbereiche aus Siliziumdioxid in Halbleiterbau elementen nach dem Stand der Technik ist in der Technik der Halbleiterverarbeitung als „Bird Beak" Übergriff bekannt. Daher hemmt die Verwendung der dünnen Oxinitridschicht 12 im Prozess oder Verfahren der vorliegenden Erfindung diese unerwünschte seitliche „Bird Beak" Ausdehnung der thermischen Siliziumdioxidregionen 24.
  • Mit Bezug auf 11 werden die verbleibenden Teile der Siliziumnitridschicht 18 (die als eine aktive Definitions- oder Maskierungsschicht wirkt), die Siliziumdioxidschicht 16, die als eine Oxidabdeckung wirkt und auch dazu dient, unerwünschte Narbenbildung in der amorphen Polysilikonschicht 14 zu verhindern und eine unerwünschte Interaktion zwischen der Siliziumnitridschicht 18 und der amorphen Polysilikonschicht 14 in Regionen oder Bereichen von hoher Spannung zu verhindern, die amorphe Polysilikonschicht 14 (die eine Polypufferschicht ist), und die Oxid- oder Oxinitridschicht zur Spannungsentlastung 12 und die Schicht, die die unerwünschte seitliche Ausdehnung der thermisch gezüchteten Siliziumdioxid-(Seitenwandisolierung)Regionen verhindert, alle wie in 8 gezeigt entfernt, so dass auf diese Weise das Halbleitersubstrat aus Silizium 10 mit seinen thermisch gezüchteten Siliziumdioxidregionen 24 belassen wird.
  • Mit Bezug auf die 12 bis 15 wird ein Beispiel zur Ausformung von MOS Vorrichtungen im Halbleitersubstrat 10 und zur Ausformung von sowohl P Kanal wie auch N Kanal MOS Vorrichtungen (CMOS oder Complementary MOS Vorrichtungen) gezeigt. Es sollte verstanden werden, dass andere Verfahren oder Prozessschritte angewandt werden können als die in den 12 bis 15 gezeigten, um verschiedene Halbleiterbauelemente wie zum Beispiel MOS und CMOS Vorrichtungen herzustellen, die an der Seitenwand dielektrisch isoliert sind.
  • Gemäß 12 werden Source beziehungsweise Drain Halbleiterregionen 26 und 28 vom N Typ im P Halbleitersubstrat 10 ausgeformt durch Verwendung von Maskierungsverfahren und entweder Diffusions- oder Ionenimplantationsverfahren, um eine Verunreinigung vom Typ N oder P in das Halbleitersubstrat 10 einzubringen und um die Source- und Drainregionen 26 und 28 zu erzeugen. Wenn erwünscht, wird durch Verwendung eines separaten N Diffusions- oder Ionenimplantationsprozesses zu einem früheren Zeitpunkt eine Wannenregion 30 vom N Typ im Halbleitersubstrat 10 ausgeformt. Die Source- und Drainregionen 26 und 28 können, wenn erwünscht, N+ oder P+ Regionen sein (wenn das Substrat 10 vom Typ N ist anstatt vom Typ P), während die N Wannenregion 30 eine N oder eine N- Region sein kann.
  • Mit Bezug auf 13 wird eine Siliziumdioxidschicht 32 auf dem Halbleitersubstrat 10 ausgeformt oder abgelagert und dann werden durch Verwendung von photolithographischen und ätzenden Verfahren Öffnungen in dem Teil der Siliziumdioxidschicht 32 ausgeformt, der (nach der Durchführung des Ätzens) oberhalb der Wanne vom N Typ 30 verbleibt.
  • Mit Bezug auf 14 werden diese Öffnungen in den verbleibenden Teilen der Siliziumdioxidschicht 32 und der Oxidisolierungsregionen für die Ausformung der vorzugsweise P+ und/oder N+ (wenn die Wanne vom P Typ ist und das Substrat vom N Typ ist) Source- und Drainregionen 34 und 36 verwendet (das Maß an Verunreinigungen für die P oder N Dotierung zur Ausformung der Source- und Drainregionen 34 und 36 kann wie erwünscht variiert werden).
  • Mit Bezug auf 15 beschreibt oder veranschaulicht diese 15 das vervollständigte integrierte CMOS Halbleiterbauelement mit N Kanal MOS Vorrichtungen, gezeigt auf ge genüber liegenden Seiten einer zentralen (zwischen den seitlichen Isolierungsregionen aus Siliziumdioxid 24) P Kanal MOS Vorrichtung (wodurch eine CMOS Anordnung ausgeformt wird). Gatelektroden (wie zum Beispiel dotierte Gateelektroden aus Polysilikon 40) werden (auf Oxidregionen 38) für die N Kanal beziehungsweise die P Kanal MOS Vorrichtungen zur Verfügung gestellt. Es sollte verstanden werden, dass, wenn erwünscht, Gateelektroden aus Metall verwendet werden können. Vorzugsweise werden Elektroden aus Aluminiumsiliziumkupfer ausgeformt als elektrische Kontakte 42 an die Source- und Drainregionen der P und N Kanal MOS Vorrichtungen. Wenn erwünscht, können andere Metallelektrodenkontakte wie Aluminium- oder Aluminiumsilizium an Stelle der Elektroden aus Aluminiumsiliziumkupfer 42 verwendet werden.

Claims (12)

  1. Verfahren zur Ausformung von seitlichen thermischen Isolierungsbereichen aus Siliziumdioxid in einem Halbleitersubstrat, das die nachfolgenden Schritte umfasst: Bereitstellen eines Halbleitersubstrats; Ausformen einer Oxinitridschicht auf einer Oberfläche des besagten Halbleitersubstrats; Ablagern einer amorphen Polysilikonschicht auf einer Oberfläche der besagten Oxinitridschicht; Ablagern einer Siliziumdioxidschicht auf einer Oberfläche der besagten amorphen Polysilikonschicht; Ablagern einer Siliziumnitridschicht auf einer Oberfläche der besagten Siliziumdioxidschicht; Ausformen einer bemusterten Photolackschicht mit darin angeordneten Durchtrittsöffnungen auf einer Oberfläche der besagten Siliziumnitridschicht; Entfernen von Teilen besagter Siliziumnitridschicht, besagter Siliziumdioxidschicht und besagter amorpher Polysilikonschicht unterhalb der besagten Durchtrittsöffnungen in besagter bemusterter Photolackschicht; Entfernen besagter bemusterter Photolackschicht, die auf besagter Siliziumnitridschicht liegt; Entfernen von frei liegenden Teilen der besagten Oxinitridschicht, die nach dem Schritt des Entfernens von Teilen von besagter Siliziumnitridschicht freigelegt wurden, wobei die besagte Siliziumdioxidschicht und die besagte amorphe Polysilikonschicht die besagte Siliziumnitridschicht als Maske verwenden; thermisches Aufwachsen lassen von Siliziumdioxidseitenwandisolierungsbereiche in besagtem Halbleitersubstrat durch die in der besagten Oxinitridschicht ausgeformten Durchtrittsöffnungen; Entfernen der auf besagtem Halbleitersubstrat angeordneten verbleibenden Teile von besagter Siliziumnitridschicht, besagter Siliziumdioxidschicht, besagter amorpher Polysilikonschicht und besagter Oxinitridschicht, um besagtes Halbleitersubstrat mit einer unisolierten Oberfläche zu belassen, die in Oberflächenteilen von besagtem Halbleitersubstrat angeordnete besagte Siliziumdioxidseitenwandisolierungsbereiche aufweist; und anschließendes Ausformen von MOS Halbleiterbauelementen in dem besagten Halbleitersubstrat zwischen den besagten Siliziumdioxidseitenwandisolierungsbereichen in dem besagten Halbleitersubstrat.
  2. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei die Schritte besagtes Oxinitrid auszuformen den Schritt umfassen, die besagte Oxinitridschicht unter Verwendung von N2O als Oxidationsmittel aufwachsen zu lassen.
  3. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei der Schritt besagte amorphe Polysilikonschicht abzulagern den Schritt umfasst, die besagte amorphe Polysilikonschicht unter Verwendung eines Chemical Vapor Deposition (CVD) Verfahrens abzulagern.
  4. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei der Schritt besagte Siliziumdioxidschicht abzulagern den Schritt umfasst, die besagte Siliziumdioxidschicht unter Verwendung eines Chemical Vapor Deposition (CVD) Verfahrens abzulagern.
  5. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei der Schritt besagte Siliziumnitridschicht abzulagern den Schritt umfasst, die besagte Siliziumnitridschicht unter Verwendung eines Chemical Vapor Deposition (CVD) Verfahrens abzulagern.
  6. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei der Schritt eine bemusterte Photolackschicht mit darin angeordneten Durchtrittsöffnungen auszuformen den Schritt umfasst, eine Photolackschicht auf besagte Siliziumnitridschicht abzulagern und besagte Photolackschicht photolithographisch freizulegen und zu entwickeln, um die besagten Durchtrittsöffnungen darin auszuformen.
  7. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei der Schritt Teile von besagter Siliziumnitridschicht, besagter Siliziumdioxidschicht und besagter amorpher Polysilikonschicht unterhalb besagter Durchtrittsöffnungen in besagter bemusterter Photolackschicht zu entfernen den Schritt umfasst, besagte Teile von besagter Siliziumnitridschicht, besagter Siliziumdioxidschicht und besagter amorpher Polysilikonschicht wegzuätzen.
  8. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei der Schritt des Entfernens von frei liegenden Teilen der besagten Oxinitridschicht nach dem Entfernen von Teilen von besagter Siliziumnitridschicht, besagter Siliziumdioxidschicht und besagter amorpher Polysilikonschicht unter Verwendung besagter Siliziumnitridschicht als Maske den Schritt umfasst, besagte frei gelegte Teile der besagten Oxinitridschicht wegzuätzen.
  9. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei der Schritt des Entfernens verbleibender Teile der besagten Siliziumnitridschicht, der besagten Siliziumdioxidschicht, der besagten amorphen Siliziumschicht und der besagten Oxinitridschicht den Schritt umfasst, der Reihe nach die besagte Siliziumnitridschicht, die besagte Siliziumdioxidsicht, die besagte amorphe Siliziumschicht und die besagte Oxinitridschicht wegzuätzen.
  10. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei der Schritt anschließend MOS Halbleiterbauelemente in besagtem Halbleitersubstrat zwischen den besagten Siliziumdioxidseitenwandisolierungsbereichen auszuformen die Schritte umfasst, Source- und Drainbereiche in einer bestimmten Art von Leitfähigkeit auszuformen in besagtem Halbleitersubstrat, welches eine entgegen ge setzte Art von Leitfähigkeit aufweist, Source- und Drainbereiche in der besagten entgegen gesetzten Art von Leitfähigkeit in einem Teil von besagtem Halbleitersubstrat ausformen, das die besagte eine bestimmte Leitfähigkeit aufweist, und Gateelektroden und Source- und Drainkontakte auszuformen, um dielektrisch seitenwandisolierte komplementäre MOS (CMOS) Bauelemente zur Verfügung zu stellen.
  11. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei die Schritte des Ausformens der besagten Oxinitridschicht den Schritt umfassen, die besagte Oxinitridschicht unter Verwendung von N2O als Oxidationsmittel aufwachsen zu lassen, der Schritt des Ablagerns der besagten amorphen Polysilikonschicht den Schritt des Ablagerns der besagten amorphen Polysilikonschicht unter Verwendung eines Chemical Vapor Deposition (CVD) Verfahrens umfasst, der Schritt des Ablagerns der besagten Siliziumdioxidschicht den Schritt des Ablagerns der besagten Siliziumdioxidschicht unter Verwendung eines Chemical Vapor Deposition (CVD) Verfahrens umfasst, der Schritt des Ablagerns der besagten Siliziumnitridschicht den Schritt des Ablagerns der besagten Siliziumnitridschicht unter Verwendung eines Chemical Vapor Deposition (CVD) Verfahrens umfasst, der Schritt des Ausformens einer bemusterten Photolackschicht mit darin angeordneten Durchgangsöffnungen den Schritt umfasst, eine Photolackschicht auf besagter Siliziumnitridschicht abzulagern und die besagte Photolackschicht photolithographisch frei zu legen und zu entwickeln, um die besagten Durchgangsöffnungen darin auszuformen, der Schritt des Entfernens von Teilen der besagten Siliziumnitridschicht, der besagten Siliziumdioxidschicht und der besagten amorphen Polysilikonschicht unterhalb besagter Durchgangsöffnungen in besagter bemusterter Photolackschicht den Schritt umfasst, die besagten Teile der besagten Siliziumnitridschicht, der besagten Siliziumdioxidschicht und der besagten amorphen Polysilikonschicht wegzuätzen, einschließlich des Schritts des Entfernens der besagten Photolackschicht, einschließlich des Schritts des Entfernens von frei gelegten Teilen von besagter Oxinitridschicht unter Verwendung besagter Siliziumnitrid schicht als eine Maske und einschließlich des Schritts des Ausformens besagter Isolierungsbereiche aus thermisch aufwachsen gelassenem Oxid unter Verwendung besagter Siliziumnitridschichten, Siliziumdioxidschichten, amorphen Polysilikonschichten und Oxinitridschichten als Maske, der Schritt des Entfernens verbleibender Teile der besagten Siliziumnitridschicht, der besagten Siliziumdioxidschicht, der besagten amorphen Polysilikonschicht und der besagten Oxinitridschicht den Schritt umfasst, der Reihe nach die besagte Siliziumnitridschicht, die besagte Siliziumdioxidschicht, die besagte amorphe Polysilikonschicht und die besagten Oxinitridschicht wegzuätzen, der Schritt des anschließenden Ausformens der MOS Halbleiterbauelemente in besagtem Halbleitersubstrat zwischen den besagten Siliziumdioxidseitenwandisolierungsbereichen die Schritte umfasst, Source- und Drainbereiche in einer bestimmten Art von Leitfähigkeit in besagtem Halbleitersubstrat auszuformen, das eine entgegen gesetzte Art von Leitfähigkeit aufweist, Source- und Drainbereiche in der besagten entgegen gesetzten Art von Leitfähigkeit in einem Teil von besagtem Halbleitersubstrat ausformen, das die besagte eine bestimmte Leitfähigkeit aufweist, und Gateelektroden und Source- und Drainkontakte auszuformen, um dielektrisch seitenwandisolierte komplementäre MOS (CMOS) Bauelemente zur Verfügung zu stellen.
  12. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei besagte Oxinitridschicht eine Spannungsentlastungsfunktion für besagtes Halbleitersubstrat ausübt.
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