DE69934186T2 - Wärmeentwickelbares Material - Google Patents

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Description

  • Gebiet der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein wärmeentwickelbares Material mit hervorragender Übertragbarkeit und hervorragender Stabilität im Zeitverlauf sowie stabilem Entwicklungsvermögen, insbesondere ein wärmeentwickelbares lichtempfindliches Schwarzweißaufzeichnungsmaterial.
  • Hintergrund der Erfindung
  • Üblicherweise verursacht auf dem Gebiet der Medizin Behandlungslösungsabwasser, das mit dem Nassverfahren für Bilderzeugungsmaterialien erzeugt wird, Probleme im Hinblick auf die Verarbeitbarkeit, und in den letzten Jahren wurde eine Verringerung des Behandlungslösungsabwassers im Hinblick auf Umweltschutz und Raumeinsparung stark gefordert. Daher wird eine Technik für photographisches Licht-Wärme-Aufzeichnungsmaterial zur technischen photographischen Verwendung gefordert, wobei eine Belichtung in ausreichender Weise unter Verwendung einer Laserbilderstellungsvorrichtung oder Laserbilderzeugungsvorrichtung so durchgeführt werden kann, dass scharfe und helle Bilder mit hohem Auflösungsvermögen erreicht werden können. Einige bekannte Techniken sind beispielsweise in US-Patent 3 152 904 und 3 487 075 und D. Morgan, "Dry Silver Photographic Materials" (Handbook of Imaging Materials, Marvel Dekker, Inc., Seite 48, 1991) beschrieben. Diese photographischen Aufzeichnungsmaterialien werden als wärmeentwickelbare lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterialien, die einen Schichtträger mit einem darauf befindlichen organischen Silbersalz, lichtempfindlichen Silberhalogenid und Reduk tionsmittel umfassen, bezeichnet. Es ist bekannt, dass eine automatische Behandlungsvorrichtung für die wärmeentwickelbaren Aufzeichnungsmaterialien insofern vorteilhaft ist, als sie keine Behandlungstanks eines relativ großen Maßstabs, die bei den meisten Nassverfahren verwendet werden, benötigt, sondern nur einen kompakten Maßstab einer normalen Behandlungsvorrichtung benötigt.
  • Die EP-A-0803766 stellt ein photothermographisches Aufzeichnungsmaterial bereit, das einen Schichtträger, der eine lichtempfindliche Schicht und eine leitende Polymerschicht, die als äußerste Schicht angebracht ist, mit einem Beck-Glättewert von bis zu 4000 Sekunden trägt, aufweist.
  • Die JP-08314061 stellt ein infrarotempfindliches, wärmeentwickelbares photographisches Silberhalogenidaufzeichnungsmaterial bereit, bei dem eine zu der der lichtempfindlichen Schicht entgegengesetzte Oberfläche einen Beck-Glättewert von 10 bis 250 s aufweist.
  • Die JP-10207001 stellt ein wärmeentwickelbares, lichtempfindliches Silberhalogenidaufzeichnungsmaterial mit einer Bilderzeugungsschicht auf mindestens einer Seite eines Schichtträgers bereit, wobei die Beck-Glätte der Oberfläche der Bilderzeugungsschichtseite 10 bis 3000 s beträgt.
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • In den letzten Jahren können auf dem Gebiet der Medizin beispielsweise Daten durch Photographieren mit einer Digitalvorrichtung, wie einem CT(Computertomographie)-Bild und MRI(Magnetic Resonance Imaging), erhalten werden und Bilder können unter Verwendung einer Bildgebungsvorrichtung auf einem Film bereitgestellt werden, der in herkömmlicher photographischer Behandlung behandelt wird, und der auf diese Weise behandelte Film wird zur medizinischen Diagnose verwendet.
  • Die Verwendung des oben genannten wärmeentwickelbaren Aufzeichnungsmaterials zur Ausgabe der Bildgebungsvorrichtung zeigt einige Vorteile, wie Platzeinsparung bei der Aufstellung einer Behandlungsvorrichtung, Einfachheit der Behandlungsoperation und Umweltschutz. Jedoch gibt es, da das wärmeentwickelbare Aufzeichnungsmaterial üblicherweise bei einer hohen Temperatur von 120 °C oder mehr behandelt wird, einige Probleme, die im Folgenden detailliert angegeben sind:
    • (i) Transportversagen tritt teilweise auf, wenn das wärmeentwickelbare Aufzeichnungsmaterial mit einer automatischen Behandlungsvorrichtung, die einen Wärmentwicklungsbereich aufweist, wärmeentwickelt wird;
    • (ii) eine deutliche Dichtevariation wird häufig nach der Entwicklung eines wärmeentwickelbaren Materials beobachtet, insbesondere wenn ein unbelichtetes wärmeentwickelbares Aufzeichnungsmaterial über einen langen Zeitraum aufbewahrt wird;
    • (iii) photographische Eigenschaften, wie Empfindlichkeit, Schleierbildung und dergleichen, variieren in großem Maße, wenn die Thermoentwicklungsbedingungen variieren, insbesondere wenn die Behandlungstemperatur niedrig ist.
  • Im Hinblick auf die im Vorhergehenden angegebenen Feststellungen wurde die vorliegende Erfindung gemacht. Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist Bereitstellung eines wärmeentwickelbaren Aufzeichnungsmaterials mit geringem Transportversagen bei der Behandlung des wärmeentwickelbaren Aufzeichnungsmaterials in einer automatischen Behandlungsvorrichtung, mit geringer Dichtevariation nach dem Thermoentwicklungsverfahren und ferner mit geringer Variation von Empfindlichkeit und Schleierbildung unabhängig von der Behandlungstemperatur.
  • Die folgenden zwei Punkte sind in der vorliegenden Erfindung sehr wichtig, um die Aufgabe der vorliegenden Erfindung zu lösen.
    • (Punkt 1) Ein wärmeentwickelbares Material, das einen Schichtträger mit einer darauf befindlichen mindestens einen lichtempfindlichen Schicht, die lichtempfindliche Silberhalogenidkörner und Organosilberkörner enthält, umfasst, und wobei das wärmeentwickelbare Material ferner ein Reduktionsmittel in einer auf der lichtempfindlichen Schichtseite angebrachten photographischen Komponentenschicht enthält, wobei der Smooster-Wert auf der Oberfläche einer auf der lichtempfindlichen Schichtseite angebrachten äußersten Schicht nicht mehr als 40 mm Hg beträgt und die auf der lichtempfindlichen Schichtseite angebrachte photographische Komponentenschicht ein fluorhaltiges grenzflächenaktives Mittel umfasst.
    • (Punkt 2) Ein wärmeentwickelbares Material, das einen Schichtträger mit einer darauf befindlichen mindestens einen lichtempfindlichen Schicht, die lichtempfindliche Silberhalogenidkörner und Organosilberkörner enthält, umfasst, und wobei das wärmeentwickelbare Material ferner ein Reduktionsmittel in einer auf der lichtempfindlichen Schichtseite angebrachten photographischen Komponentenschicht enthält, wobei der Smooster-Wert auf der Oberfläche einer entgegengesetzt zu der lichtempfindlichen Schicht mit dazwischenliegendem Schichtträger angebrachten äußersten Schicht nicht weniger als 80 mm Hg beträgt und eine entgegengesetzt zu der lichtempfindlichen Schicht mit dem Schichtträger dazwischenlegend angebrachte photographische Komponentenschicht ein fluorhaltiges grenzflächenaktives Mittel enthält.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnung
  • 1 ist eine Skizze einer Schnittdarstellung einer Vorrichtung zur Ermittlung des Smooster-Werts auf der Oberfläche eines wärmeentwickelbaren photographischen Aufzeichnungsmaterials gemäß der vorliegenden Erfindung.
  • Detaillierte Beschreibung der Erfindung
  • Die oben genannte Aufgabe der vorliegenden Erfindung wird durch den im Folgenden angegebenen Aufbau gelöst.
    • (1) Ein wärmeentwickelbares Aufzeichnungsmaterial, das einen Schichtträger, eine organische Silbersalze enthaltende Bilderzeugungsschicht und eine auf der Bilderzeugungsschichtseite angebrachte Komponentenschicht umfasst, wobei der Smooster-Wert auf der Oberfläche der Bilderzeugungsschichtseite des wärmeentwickelbaren Aufzeichnungsmaterials nicht mehr als 40 mm Hg beträgt und die Bilderzeugungsschicht der Komponentenschicht ein fluorhaltiges grenzflächenaktives Mittel enthält.
    • (2) Das wärmeentwickelbare Aufzeichnungsmaterial bzw. Material nach Punkt 1, wobei die Bilderzeugungsschicht oder die Komponentenschicht ein Reduktionsmittel oder eine Vorstufe des Reduktionsmittels enthält.
    • (3) Das wärmeentwickelbare Material nach Punkt 1, wobei die Bilderzeugungsschicht lichtempfindliche Silberhalogenidkörner enthält und das wärmeentwickelbare Material ein wärmeentwickelbares lichtempfindliches Material ist.
    • (4) Das wärmeentwickelbare Material nach Punkt 1, wobei der Smooster-Wert auf der Oberfläche der Bilderzeugungsschichtseite des wärmeentwickelbaren Materials zwischen 0,1 mm Hg und 35 mm Hg liegt.
    • (5) Das wärmeentwickelbare Material nach Punkt 1, wobei das wärmeentwickelbare Material eine zweite Komponenten schicht, die entgegengesetzt zur Bilderzeugungsschichtseite angebracht ist, umfasst, und der Smooster-Wert auf der zur Bilderzeugungsschicht des Bilderzeugungsmaterials entgegengesetzten Oberfläche nicht weniger als 80 mm Hg beträgt und die zweite Komponentenschicht ein fluorhaltiges grenzflächenaktives Mittel enthält.
    • (6) Das wärmeentwickelbare Material nach Punkt 5, wobei der Smooster-Wert auf der zur Bilderzeugungsschichtseite des Bilderzeugungsmaterials entgegengesetzten Oberfläche 85 mm Hg bis 400 mm Hg beträgt.
    • (7) Das wärmeentwickelbare Material nach Punkt 1, wobei der Gehalt an tafelförmigen Körnern in den gesamten, in der Bilderzeugungsschicht enthaltenen organischen Silberkörnern nicht weniger als 60 Mol-% beträgt.
  • Die vorliegende Erfindung bietet die Bereitstellung einer Verringerung von Transportversagen bei Behandlung eines wärmeentwickelbaren Materials bei hoher Temperatur, einer Verbesserung der Dichtevariation nach Entwicklung des wärmeentwickelbaren Materials, wenn das entwickelte wärmeentwickelbare Material über einen langen Zeitraum aufbewahrt wird, und einer Verbesserung der Variation photographischer Eigenschaften, wie Empfindlichkeit und Schleierbildung oder dergleichen, bei der Behandlung des wärmeentwickelbaren Materials bei relativ niedriger Temperatur. Es wurde ermittelt, dass diese Verbesserungen dadurch erhalten werden können, dass der Smooster-Wert auf der Oberfläche einer auf einer Bilderzeugungsschichtseite aufgetragenen äußersten Schicht und/oder der Smooster-Wert auf der Oberfläche einer entgegengesetzt zur Bilderzeugungsschicht mit dazwischenliegendem Schichtträger angebrachten äußersten Schicht in einem spezifizierten Bereich eingestellt wird, und ferner ein fluorhaltiges grenzflächenaktives Mittel mindestens einer photographischen Komponentenschicht zugesetzt wird. Das heißt, wenn der Smooster-Wert auf jeder und/oder beiden Oberflächen der beiden äußersten Schichten mit dem dazwischenliegenden Schichtträger spezifiziert ist und ferner ein fluorhaltiges grenzflächenaktives Mittel verwendet wird, sind bei der Thermoentwicklung eines wärmeentwickelbaren Materials Probleme wie die oben genannten verringert, was dazu führt, dass ein hervorragendes Bild erhalten wird.
  • Im Hinblick auf die Verwendung eines fluorhaltigen grenzflächenaktiven Mittels bei einem wärmeentwickelbaren lichtempfindlichen Material ist ein Verfahren zur Verbesserung der Beschichtbarkeit und statischen Beständigkeit in der offengelegten japanischen Patentveröffentlichung (im Folgenden als JP-A bezeichnet) Nr. 60-244945, 7-173225 und 7-233268 beschrieben. Ferner ist ein Verfahren zur Verringerung einer Schleiervariation bei der Thermoentwicklung eines wärmeentwickelbaren Materials, in dem ein spezifiziertes fluorhaltiges grenzflächenaktives Mittel verwendet wird, in JP-A-9-281636 beschrieben.
  • Die vorliegende Erfindung wird nun detailliert angegeben.
  • Ein wärmeentwickelbares Material gemäß der vorliegenden Erfindung wurde durch den folgenden Aufbau erreicht: Das wärmeentwickelbare Material umfasst einen Schichtträger mit einer darauf befindlichen Bilderzeugungsschicht und einer auf der Bilderzeugungsschichtseite angebrachten Komponentenschicht und der Smooster-Wert auf der Oberfläche der auf der Bilderzeugungsschichtseite angebrachten äußersten Schicht beträgt nicht mehr als 40 mm Hg und ferner enthält die Komponentenschicht oder Bilderzeugungsschicht ein fluorhaltiges grenzflächenaktives Mittel.
  • Das wärmeentwickelbare Material gemäß der vorliegenden Erfindung ist für ein lichtempfindliches Material nicht nur zur Verwendung auf dem Gebiet der Medizin, sondern auch zur Verwendung im Druckbereich verwendbar.
  • Das wärmeentwickelbare Material ist bei Raumtemperatur stabil und es wird durch Erhitzen desselben bei hoher Temperatur nach einer Belichtung entwickelt. Ein Silberbild wird durch eine Redoxreaktion zwischen einem organischen Silbersalz (das als Oxidationsmittel fungiert) und einem Reduktionsmittel, die durch Erhitzen verursacht wird, gebildet. Die Reaktion erfolgt ohne die Bereitstellung einer Behandlungsflüssigkeit, wie Wasser, von außen. Die Heiztemperatur beträgt vorzugsweise 80 bis 200 °C, noch besser 100 bis 150 °C. Um eine stabilere Bilddichte zu erhalten, kann das wärmeentwickelbare Material durch Vorerhitzen desselben auf eine Temperatur, die 5 °C oder mehr höher als die Thermoentwicklungstemperatur ist, unmittelbar vor der Thermoentwicklung behandelt werden. Die Zeit für die Entwicklung beträgt vorzugsweise 10 bis 60 s. Die Zeit für das Vorerhitzen beträgt vorzugsweise 5 bis 60 s.
  • Das wärmeentwickelbare Material wird auf die folgende Weise wärmeentwickelt. Das wärmeentwickelbare Material wird zur Wärmebehandlung zwischen einer Heiztrommel, die eine Heizvorrichtung umfasst, mit einem Durchmesser von nicht weniger als 200 mm und einem Transportband, das gegen die Trommel angebracht ist, oder zwischen der Heiztrommel und einer Vorrichtung, die mehrere Hilfstransporttrommeln mit einem Durchmesser von 10 bis 50 mm umfasst, die zusammen mit der Heiztrommel in einer adiabatischen Kammer angebracht sind, wobei die Bilderzeugungsschichtseite in Kontakt mit der Heiztrommel gehalten wird, transportiert. Alternativ wird das wärmeentwickelbare Material zur Wärmebehandlung über eine Vorrichtung, die mehrere Walzen abwechselnd zueinander positioniert aufweist oder eine Mehrzahl von Walzen einander gegenüberliegend positioniert aufweist, die das wärmeentwickelbare Material geradewegs in einer durch eine Heizvorrichtung erhitzen adiabatischen Kammer transportieren kann, oder über eine Vorrichtung, die die oben genannten Walzen, die selbst Heizmittel umfassen, umfasst, transportiert.
  • In der vorliegenden Erfindung ist ein Smooster-Wert auf der Oberfläche der äußersten Schicht einer Bilderzeugungsschichtseite eines unbelichteten, nicht entwickelten wärmeentwickelbaren lichtempfindlichen Materials oder ein Smooster-Wert auf der Oberfläche einer äußersten Schicht, die entgegengesetzt zur Bilderzeugungsschichtseite angebracht ist, eines unbelichteten wärmeentwickelbaren Materials als Saugdruck, der unter den im Folgenden angegebenen Bedingungen messbar ist, definiert.
  • Die Messung eines Saugdrucks wird durch Verwendung der Smooster-SM-6B-Vorrichtung, die von Toa Electric Kogyo Co. produziert wurde, durchgeführt. Wie in 1 erläutert ist, werden durch Verwendung der Vorrichtung, die ein Vakuum-Luftmikrometer verwendet, Variationen der über einen Messkopf eingesaugten Luftmenge entsprechend der Rauheit einer gemessenen Oberfläche als Variation des Drucks festgestellt (mm Hg). Hoher Druck entspricht einer großen Ungleichmäßigkeit der Oberfläche und/oder hoher Rauheit der Oberfläche. Wie in 1 erläutert ist, wurde der Messkopf auf die Oberfläche eines zu messenden Prüflings gesetzt und die Luft im Inneren des Kopfs durch eine Apparatur mit einer Öffnung fixierter Größe abgezogen und dann der atmosphärische Druck festgestellt. Der auf diese Weise festgestellte atmosphärische Druck wird als der Smooster-Wert angegeben. Vor der Messung des Smooster-Werts wird ein Messprüfling 2 h unter den Bedingungen von 23 °C und einer relativen Luftfeuchtigkeit von 48 % stehengelassen.
  • Als eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beträgt
    • (a) der Smooster-Wert auf der Oberfläche einer auf einer Bilderzeugungsschichtseite bereitgestellten äußersten Schicht nicht mehr als 40 mm Hg, vorzugsweise 0,1 mm Hg bis 35 mm Hg und noch günstiger 1 mm Hg bis 32 mm Hg, noch besser 2 mm Hg bis 32 mm Hg.
  • Als weitere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beträgt
    • (b) der Smooster-Wert auf der Oberfläche einer entgegengesetzt zur Bilderzeugungsschicht mit dazwischenliegendem Schichtträger angebrachten äußersten Schicht nicht weniger als 80 mm Hg, vorzugsweise 85 bis 400 mm Hg, noch besser 90 bis 250 mm Hg.
  • Als bevorzugte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beträgt
    • (c) der Smooster-Wert auf der Oberfläche einer auf der Bilderzeugungsschichtseite angebrachten äußersten Schicht nicht mehr als 40 mm Hg und der Smooster-Wert auf der Oberfläche einer entgegengesetzt zur Bilderzeugungsschicht angebrachten äußersten Schicht nicht weniger als 80 mm Hg.
  • Der Smooster-Wert wird durch die Menge eines Bindemittels, wie Polyvinylbutyral, Celluloseacetatbutylat, ein Polyester und Polymerlatex, die Teilchengröße, die Form und die zusätzliche Menge eines Mattiermittels, die zusätzliche Menge und Art einer Verbindung, die die physikalische Eigenschaft des Bindemittels variieren kann, sowie Beschichtungs- und Trocknungsbedingungen geregelt. In dieser Erfindung kann durch Kombination der oben genannten Faktoren der optimale Smooster-Wert erhalten werden.
  • Das wärmeentwickelbare Material gemäß der vorliegenden Erfindung umfasst einen Schichtträger mit einer darauf befindlichen Bilderzeugungsschichtseite, die organische Silbersalze enthält, und einer auf der Bilderzeugungsschichtseite angebrachten Komponentenschicht. In der vorliegenden Erfindung bedeutet die Komponentenschicht eine andere Schicht als die Bilderzeugungsschicht. Beispiele für die Komponentenschicht umfassen eine eine Bilderzeugungsschicht schützende Schutzschicht, (die üblicherweise eine auf der Oberfläche einer äußersten Schicht angebrachte Schicht ist), eine Haftgrundschicht, eine zwischen einer Unterschicht und einer Bilderzeugungsschicht angebrachte Adhäsionsschicht, eine Antilichthofschicht oder dergleichen. Ferner kann eine Mehrzahl von Bilderzeugungsschichten und Haftgrundschichten verwendet werden.
  • Ferner kann eine zweite Komponentenschicht entgegengesetzt zur Bilderzeugungsschicht mit dazwischenliegendem Schichtträger angebracht werden. Beispiele für die zweite Komponentenschicht umfassen eine Haftgrundschicht, eine Rückenschicht, die zum Zwecke einer Verstärkung der antistatischen Eigenschaft angebracht wird, und dergleichen.
  • Die Bilderzeugungsschicht kann ein Reduktionsmittel oder eine Vorstufe des Reduktionsmittels außer organischen Silbersalzen umfassen. Das oben genannte Reduktionsmittel oder die Vorstufe des Reduktionsmittels kann in eine Komponentenschicht, wie eine Schutzschicht und dergleichen, eingearbeitet werden. Im Falle der Einarbeitung des Reduktionsmittels oder der Vorstufe des Reduktionsmittels in die Komponentenschicht, werden diese Mittel vorzugsweise in eine der Bilderzeugungsschicht benachbarte Schicht eingearbeitet.
  • Wenn das wärmeentwickelbare Material ein wärmeentwickelbares lichtempfindliches Material ist, können lichtempfindliche Silberhalogenidkörner in die Bilderzeugungsschicht eingearbeitet werden.
  • Die Dicke der Bilderzeugungsschicht und einer lichtempfindlichen Bilderzeugungsschicht beträgt vorzugsweise zwischen 1,0 und 20,0 μm und noch besser zwischen 1,5 und 10,0 μm.
  • Die Glasübergangstemperatur eines zur Bildung einer Schutzschicht verwendeten Bindemittels ist vorzugsweise höher als die eines Bindemittels zur Bildung einer Bilderzeugungsschicht. Ferner kann die Schutzschicht vorzugswei se ein Mattiermittel enthalten und ferner kann die Schutzschicht ein Gleitmittel, wie ein Wachs und Paraffin, enthalten. Die Dicke der Schutzschicht beträgt vorzugsweise zwischen 0,5 und 20,0 μm und noch besser zwischen 1,5 und 10,0 μm.
  • Ein fluorhaltiges grenzflächenaktives Mittel kann in jede der Bilderzeugungsschicht, Komponentenschicht oder zweiten Komponentenschicht eingearbeitet werden, jedoch wird das fluorhaltige grenzflächenaktive Mittel vorzugsweise in eine auf der Bilderzeugungsschichtseite angebrachten oder in einer zur Bilderzeugungsschicht entgegengesetzten äußersten Schicht, beispielsweise einer Schutzschicht, eingearbeitet.
  • Als das fluorhaltige grenzflächenaktive Mittel kann beliebig ein anionisches, kationisches oder nicht-ionisches grenzflächenaktives Mittel verwendet werden und von diesen ist ein nicht-ionisches grenzflächenaktives Mittel bevorzugt. Beispiele für die nicht-ionische Verbindung umfassen nicht nur eine niedermolekulare Verbindung, sondern auch eine hochmolekulare Verbindung. Beispiele für diese Verbindungen sind in JP-A-60-244945, 63-306437, 7-233268 und 7-173225 beschrieben. Von diesen ist das bevorzugte fluorhaltige grenzflächenaktive Mittel ein (Meth)acrylatpolymer, das eine fluorierte Alkylgruppe an dessen Seitenkette aufweist und das vorzugsweise ein anzahlgemitteltes Molekulargewicht von nicht mehr als 30000 in Form der Standardpolystyrolumwandlung und vorzugsweise von 2000 bis 10000 aufweist.
  • Als chemische Struktureinheit eines Acrylats oder Methacrylats, das eine fluorierte Alkylgruppe an dessen Seitenkette aufweist, werden beispielsweise die folgende Formel (A-a) oder die Formel (A-b) angeführt.
  • Formel (A-a)
    Figure 00130001
  • Formel (A-b)
    Figure 00130002
  • In der Formel (A-a) steht R für eine Methylgruppe, n für eine ganze Zahl von 0 bis 20, a für eine ganze Zahl von 0 bis 2 und b für eine ganze Zahl von 0 oder 1. In der Formel (A-b) steht R für ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, n für eine ganze Zahl von 0 bis 10, m für eine ganze Zahl von 0 bis 2 und a für eine ganze Zahl von 0 bis 2. Spezielle Beispieleinheiten sind im Folgenden angegeben. Jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht auf diese Beispiele beschränkt.
  • Figure 00140001
  • Figure 00150001
  • Figure 00160001
  • Figure 00170001
  • Figure 00180001
  • Figure 00190001
  • Figure 00200001
  • Figure 00210001
  • Figure 00220001
  • Figure 00230001
  • Ein (Meth)acrylatpolymer mit einer fluorierten Alkylgruppe an dessen Seitenkette enthält vorzugsweise ferner eine Alkylenoxidgruppe oder eine Alkylgruppe an dessen Seitenkette.
  • Als (Meth)acrylat-Struktureinheit des (Meth)acrylatpolymers mit der Alkylenoxidgruppe an dessen Seitenkette kann die folgende Formel (B) angeführt werden.
  • Formel (B)
    Figure 00230002
  • In der Formel (B) steht R für ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, n für eine ganze Zahl von 1 bis 6 und m für eine ganze Zahl von 1 bis 10. Spezielle Beispielverbindungen sind im Folgenden angegeben. Jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht auf diese Beispiele beschränkt.
  • Figure 00250001
  • Figure 00260001
  • Als (Meth)acrylat-Struktureinheit des (Meth)acrylatpolymers mit der Alkylgruppe an dessen Seitenkette wird die folgende Formel (C) angeführt.
  • Formel (C)
    Figure 00270001
  • In der Formel (C) steht R für ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe und n für eine ganze Zahl von 1 bis 22. Spezielle Beispielverbindungen sind im Folgenden angegeben. Jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht auf diese Beispiele beschränkt.
  • Figure 00280001
  • Figure 00290001
  • Ein (Meth)acrylatpolymer mit einer fluorierten Alkylgruppe an dessen Seitenkette kann eine Arylgruppe, Allylengruppe oder dergleichen an dessen Seitenkette enthalten. Chemische Struktureinheiten mit der Arylgruppe, einer Allylengruppe oder dergleichen sind beispielsweise im Folgenden angegeben.
  • Figure 00310001
  • Ein (Meth)acrylatpolymer mit einer fluorierten Alkylgruppe an dessen Seitenkette kann ferner andere chemische Struktureinheiten als die oben genannten chemischen Struktureinheiten enthalten. Beispielsweise sind die folgenden Einheiten verfügbar.
  • Figure 00320001
  • Spezielle Beispiele für (Meth)acrylatpolymere, die aus den oben genannten chemischen Struktureinheiten bestehen, sind in der folgenden Tabelle 1 aufgelistet. Jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht auf diese Beispielpolymere beschränkt.
  • Tabelle 1
    Figure 00330001
    • (Der Monomergehalt ist in Form des Prozentsatzes angegeben)
  • Ein weiterer Typ eines bevorzugten fluorhaltigen grenzflächenaktiven Mittels wird durch die folgende Formel (F-A) oder (F-B) dargestellt. Rf-(A)n Formel (F-A) Rf-(A)n-Rf' Formel (F-B)worin Rf und Rf' jeweils für mindestens eine fluorhaltige aliphatische Gruppe stehen, A für mindestens eine Alkylenoxidgruppe steht, n für eine ganze Zahl von 1 oder mehr steht und Rf und Rf' gleich oder verschieden sein können.
  • Die Formel (F-A) und (F-B) wird nun detailliert angegeben.
  • Die durch Rf oder Rf' dargestellte fluorhaltige aliphatische Gruppe ist eine gerade, verzweigte und cyclische aliphatische Gruppe oder eine Kombination dieser aliphatischen Gruppen (beispielsweise eine alkylcyclische aliphatische Gruppe). Beispiele für eine bevorzugte fluorhaltige aliphatische Gruppe umfassen eine Fluoralkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen (beispielsweise -C4F9, -C8F17), eine Sulfofluoralkylgruppe [beispielsweise (C7F15SO3)-, (-C8F17SO3-)] und eine Gruppe CnF2n+1SO2N(R1)R2- mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen [hierin steht R1 für ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Alkoxygruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Alkylcarboxylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe, R2 für eine Alkylengruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen oder eine Alkylencarboxylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, n für eine ganze Zahl von 1 bis 20, beispielsweise C7F15SO2N(C2H5)CH2-, C8F17SO2N(CH2COOH)C3H6-] und diese fluorhaltigen aliphatischen Gruppen und eine Sulfofluoralkylgruppe enthalten ferner eine Substituentengruppe. A steht für eine Gruppe, die eine Alkylenoxidgruppe, beispielsweise eine Ethylenoxidgruppe, Propylenoxidgruppe oder Isopropylenoxidgruppe, enthält, und diese Alkylenoxidgruppen enthalten ferner eine Substituentengruppe, wie eine Aminogrupe, an deren terminalen Positionen. Spezielle Beispielverbindungen sind im Folgenden aufgelistet. Jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht hierauf beschränkt.
    • (F-1) C8F17SO2N(C2H5)CH2(CH2CH2O)12H
    • (F-2) C8F17(CH2CH2O)8C8F17
    • (F-3) C8F17(CH2CH2O)12C8F17
    • (F-4) C7F15(CH2CH2O)10C7F15
    • (F-5) C12F25(CH2CH2O)10C12F25
    • (F-6) C8F17(CH2CH2O)17C8F17
    • (F-7) C7F15SO3 –+NH3(CH2CH2O)12CH2CH2NH3 +–O3SC7H15
    • (F-8) C7F15SO2N(C2H5)CH2(CH2CH2O)12CH2(CH3)NO2SC7F15
  • Als weitere bevorzugte Verbindungen sind Verbindungen (1) bis (81) in JP-A-2-82247 auf Seite 4, obere linke Spalte, bis Seite 8, obere linke Spalte, beschrieben.
  • Einzelheiten eines wärmeentwickelbaren lichtempfindlichen Materials sind wie oben beschrieben in beispielsweise US-Patent 3 152 904 und 3 457 075 und D. Morgan, "Dry Silver Photographic Material" und D. Morgan und B. Shely, "Thermally Processed Silver Systems" (Imaging Processes and Materials) Neblette, 8. Auflage, herausgegeben von Sturge, V. Walworth und A. Shepp, Seite 2, 1969, und dergleichen offenbart. In der vorliegenden Erfindung wird ein wärmeentwickelbares lichtempfindliches Material bei Temperaturen von 80 bis 140 °C wärmeentwickelt, so dass Bilder ohne Fixierung erhalten werden, so dass das Silberhalogenid und das organische Silbersalz in einem unbelichteten Teil nicht entfernt werden und in dem lichtempfindlichen Material verbleiben.
  • In der vorliegenden Erfindung verwendete Silberhalogenidkörner fungieren als Lichtsensor. In der vorliegenden Erfindung ist, um das Durchscheinen nach der Bilderzeugung zu minimieren und eine hervorragende Bildqualität zu erhalten, die durchschnittliche Korngröße vorzugsweise winzig. Die durchschnittliche Korngröße beträgt vorzugsweise nicht mehr als 0,1 μm, noch günstiger zwischen 0,01 und 0,1 μm und noch besser zwischen 0,02 und 0,08 μm. Die hierin beschriebene durchschnittliche Korngröße impliziert die Gratlinienlänge eines Silberhalogenidkorns, wenn es ein sogenannter regelmäßiger Kristall ist, der entweder kubisch oder oktaedrisch ist. Wenn das Korn kein regelmäßiger Kristall ist, wenn es beispielsweise ein kugelförmiges, zylindrisches oder tafelförmiges Korn ist, ist die Korngröße der Durchmesser einer Kugel mit dem gleichen Volumen wie die einzelnen Körner. Ferner ist das Silberhalogenid vorzugsweise monodispers. Das hierin beschriebene monodispers bedeutet, dass der Monodispersitätsgrad, der durch die im Folgenden beschriebene Formel erhalten wird, nicht mehr als 40 % beträgt. Die stärker bevorzugten Körner sind solche, die einen Monodispersitätsgrad von nicht mehr als 30 % zeigen, und besonders bevorzugte Körner sind solche, die einen Monodispersitätsgrad von zwischen 0,1 und 20 % zeigen. Monodispersitätsgrad = (Standardabweichung des Korndurchmessers)/(Mittelwert des Korndurchmessers) × 100
  • In der vorliegenden Erfindung beträgt der durchschnittliche Korndurchmesser vorzugsweise nicht mehr als 0,1 μm und die Körner sind vorzugsweise monodispers. Wenn Körner in diesem Bereich gebildet werden, ist die Körnigkeit von Bildern ebenfalls verbessert.
  • Es besteht keine spezielle Beschränkung im Hinblick auf die Silberhalogenidkornform. Jedoch ist ein hoher Anteil, der eine Miller-Index-[100]-Fläche belegt, bevorzugt. Dieser Anteil beträgt vorzugsweise mindestens 50 %, noch günstiger mindestens 70 % und noch besser mindestens 80 %. Der Anteil, der die Miller-Index-[100]-Fläche belegt, kann auf der Basis von T. Tani, J. Imaging Sci., 29, 165 (1985), erhalten werden, wobei die Adsorptionsabhängigkeit einer [111]-Fläche und einer [100]-Fläche genutzt wird.
  • Ferner ist eine weitere bevorzugte Silberhalogenidform ein tafelförmiges Korn. Das tafelförmige Korn, das hierin beschrieben wird, ist ein Korn mit einem durch r/h dargestellten Aspektverhältnis von nicht weniger als 3, wobei r für den Korndurchmesser in μm, der als die Quadratwurzeln der Projektionsfläche erhalten wurde, steht und h für die Dicke in μm in vertikaler Richtung steht. Von diesen beträgt das Aspektverhältnis vorzugsweise zwischen 3 und 50. Der Korndurchmesser beträgt vorzugsweise nicht mehr als 0,1 μm und noch besser zwischen 0,01 und 0,08 μm. Diese und andere sind in US-Patent 5 264 337, 5 314 789, 5 320 958 beschrieben, wodurch gewünschte tafelförmige Körner ohne weiteres hergestellt werden können. Wenn diese tafelförmigen Körner verwendet werden, wird die Bildschärfe weiter verbessert.
  • Die Zusammensetzung eines Silberhalogenids ist nicht speziell beschränkt und sie kann beliebig ein Silberchlorid, Silberchlorbromid, Silberchloriodbromid, Silberbromid, Silberiodbromid oder Silberiodid sein. Die in der vorliegenden Erfindung verwendete photographische Emulsion kann unter Verwendung von Verfahren gemäß der Beschreibung in P. Glafkides, "Chimie et Physique Photographique" (veröffentlicht von Paul Montel, 1967), G. F. Duffin, "Photographic Emulsion Chemistry" (veröffentlicht von The Focal Press, 1966), V. L. Zelikman et al., "Making and Coating Photographic Emulsion" (veröffentlicht von The Focal Press, 1964) hergestellt werden. Das heißt, eine beliebige von mehreren sauren Emulsionen, neutralen Emulsionen, Ammoniakemulsionen und dergleichen kann verwendet werden. Ferner kann, wenn Körner dadurch hergestellt werden, dass lösliche Silbersalze mit löslichen Halogenidsalzen zur Reaktion gebracht werden, ein Einstrahlverfahren, ein Doppelstrahlverfahren oder Kombinationen derselben verwendet werden. Das gebildete Silberhalogenid kann in einer Bilderzeugungsschicht unter Verwendung jedes praktikablen Verfahrens eingearbeitet werden und an diesem Zeitpunkt wird ein Silberhalogenid einer reduzierbaren Silberquelle benachbart platziert. Ferner kann ein Silberhalogenid durch Umwandlung eines Teils des Silbers oder des gesamten Silbers in einem gebildeten organischen Silbersalz durch die Reaktion eines organischen Silbersalzes mit Halogenionen in Silberhalogenid hergestellt werden. Ein Silberhalogenid kann zuvor hergestellt werden und das gebildete Silberhalogenid kann einer Lösung zugesetzt werden, um das organische Silbersalz herzustellen, oder es können Kombinationen derselben verwendet werden, jedoch ist das Letztere bevorzugt. Allgemein be trägt der Gehalt an Silberhalogenid in einem organischen Silbersalz vorzugsweise zwischen 0,75 und 30 Gew.-%.
  • Um den Intensitätsreziprozitätsgesetzfehler zu verbessern, umfasst in der vorliegenden Erfindung verwendetes Silberhalogenid vorzugsweise Ionen von Metallen oder Komplexen derselben von Übergangsmetallen, die zu den Gruppen 6 bis 10 des Periodensystems gehören. Als die oben genannten Metalle sind W, Fe, Co, Ni, Cu, Ru, Rh, Pd, Re, Os, Ir, Pt und Au bevorzugt.
  • Diese Metalle können in Silberhalogenid in der Form von Komplexen eingearbeitet werden. In der vorliegenden Erfindung sind im Hinblick auf die Übergangsmetallkomplexe sechsfach koordinierte Komplexe der im Folgenden beschriebenen allgemeinen Formel bevorzugt.
  • Allgemeine Formel
    • (ML6)n worin M für ein Übergangsmetall steht, das aus Elementen in den Gruppen 6 bis 10 des Periodensystems ausgewählt ist; L für einen koordinierenden Ligand steht und m für 0, –1, –2 oder –3 steht. Durch L dargestellte spezielle Beispiele umfassen Halogenide (Fluoride, Chloride, Bromide und Iodide), Cyanide, Cyanate, Thiocyanate, Selenocyanate, Tellurocyanate, jeweils Azido- und Aquoliganden, Nitrosyl, Thionitrosyl und dergleichen, von denen Aquo, Nitrosyl und Thionitrosyl bevorzugt sind. Wenn de Aquoligand vorhanden ist, sind vorzugsweise ein oder zwei Liganden koordiniert. L kann gleich oder verschieden sein.
  • Ein besonders bevorzugtes spezielles Beispiel für M ist Rhodium (Rh), Ruthenium (Ru), Rhenium (Re) oder Osmium (Os).
  • Spezielle Beispiele für Übergangsmetall-Liganden-Komplexe sind im Folgenden beschrieben.
    • 1: [RhCl6]3–
    • 2: [RuCl6]3–
    • 3: [ReCl6]3–
    • 4: [RuBr6]3–
    • 5: [OSCl6]3–
    • 6: [IrCl6]3–
    • 7: [Ru(NO)Cl5]2–
    • 8: [RuBr4(H2O)]2–
    • 9: [Ru(NO)(H2O)Cl4]–
    • 10: [RhCl5(H2O)]2–
    • 11: [Re(NO)Cl5]2–
    • 12: [Re(NO)CN5]2–
    • 13: [Re(NO)ClCN4]2–
    • 14: [Rh(NO)2Cl4]–
    • 15: [Rh(NO)(H2O)Cl4]–
    • 16: [Ru(NO)CN5]2–
    • 17: [Fe(CN)6]3–
    • 18: [Rh(NS)Cl5]2–
    • 19: [Os(NO)Cl5]2–
    • 20: [Cr(NO)Cl5]2–
    • 21: [Re(NO)Cl5]–
    • 22: [Os(NS)Cl4(TeCN)]2–
    • 23: [Ru(NS)Cl5]2–
    • 24: [Re(NS)Cl4(SeCN)]2–
    • 25: [Os(NS)Cl(SCN)4]2–
    • 26: [Ir(NO)Cl5]2–
    • 27: [Ir(NS)Cl5]2–
  • Eine Art dieser Metallionen oder Komplexionen kann verwendet werden und die gleiche Art von Metallen oder eine verschiedene Art von Metallen kann in Kombinationen von zwei oder mehreren Arten verwendet werden. Allgemein beträgt der Gehalt an diesen Metallionen oder Komplexionen günstigerweise zwischen 1 × 10–9 und 1 × 10–2 mol pro mol Silberhalogenid und vorzugsweise zwischen 1 × 10–8 und 1 × 10–4 mol. Verbindungen, die diese Metallionen oder Komplexionen liefern, werden vorzugsweise in Silberhalogenidkörner durch Zugabe während der Silberhalogenidkornbildung eingearbeitet. Diese können während einer beliebigen Herstellungsstufe der Silberhalogenidkörner zugegeben werden, d. h. vor oder nach der Keimbildung, dem Wachstum, der physikalischen Reifung und der chemischen Reifung. Jedoch werden diese vorzugsweise in der Stufe der Keimbildung, des Wachstums und der physikalischen Reifung zugesetzt; ferner werden sie vorzugsweise in der Stufe der Keimbildung und des Wachstums zugesetzt; und noch besser werden sie in der Stufe der Keimbildung zugesetzt. Die Zugabe kann mehrere Male durch Teilen der Zugabemenge durchgeführt werden. Ein gleichförmiger Gehalt im Inneren eines Silberhalogenidkorns kann ermöglicht werden. Gemäß der Beschreibung in JP-A-63-29603, 2-306236, 3-167545, 4-76534, 6-110146, 5-273683 und dergleichen kann die Einarbeitung so durchgeführt werden, dass eine Verteilungsbildung im Inneren eines Korns erfolgt. Diese Metallverbindungen können in Wasser oder einem geeigneten organischen Lösemittel (beispielsweise Alkohole, Ether, Glykole, Ketone, Ester, Amide und dergleichen) gelöst und dann zugegeben werden. Ferner gibt es Verfahren, wobei beispielsweise eine wässrige Lösung eines Metallverbindungspulvers oder eine wässrige Lösung, in der eine Metallverbindung zusammen mit NaCl und KCl gelöst ist, zu einer Lösung eines wasserlöslichen Silbersalzes während der Kornbildung oder zu einer Lösung eines wasserlöslichen Halogenids gegeben wird; wenn eine Silbersalzlösung und eine Halogenidlösung gleichzeitig zugegeben werden, eine Metallverbindung als dritte Lösung zur Bildung von Silberhalogenidkörnern zugegeben wird, während drei Lösungen gleichzeitig gemischt werden; während der Kornbildung eine wässrige Lösung, die die notwendige Menge einer Metallverbindung umfasst, in ein Reaktionsgefäß gegeben wird; oder während der Silberhalogenidherstellung eine Auflösung durch Zugabe anderer Silberhalogenidkörner, die zuvor mit Metallionen oder Komplexionen dotiert wur den, durchgeführt wird. Speziell ist das bevorzugte Verfahren eines, wobei eine wässrige Lösung eines Metallverbindungspulvers oder eine wässrige Lösung, in der eine Metallverbindung zusammen mit NaCl und KCl gelöst ist, zu einer Lösung eines wasserlöslichen Halogenids gegeben wird. Wenn die Zugabe auf Kornoberflächen durchgeführt wird, kann eine wässrige Lösung, die die notwendige Menge einer Metallverbindung umfasst, in ein Reaktionsgefäß unmittelbar nach der Kornbildung oder während der physikalischen Reifung oder nach der Beendigung derselben oder während der chemischen Reifung gegeben werden.
  • In der Erfindung können die lichtempfindlichen Silberhalogenidkörner nach der Bildung der Körner nicht entsalzt werden, doch können in Fällen, in denen ein Entsalzen durchgeführt wird, die Körner unter Verwendung von auf diesem Gebiet bekannten Waschverfahren, beispielsweise ein Nudelverfahren und ein Flockungsverfahren und dergleichen, entsalzt werden.
  • Die in der vorliegenden Erfindung verwendeten lichtempfindlichen Silberhalogenidkörner werden vorzugsweise einer chemischen Sensibilisierung unterzogen. Als bevorzugte chemische Sensibilisierungen sind auf diesem Gebiet bekannte chemische Sensibilisierungen, wie eine Schwefelsensibilisierung, Selensensibilisierung und Tellursensibilisierung, verwendbar. Ferner ist eine Edelmetallsensibilisierung unter Verwendung von Gold-, Platin-, Palladium- und Iridiumverbindungen und eine Reduktionssensibilisierung verfügbar. Als Verbindungen, die vorzugsweise bei der Schwefelsensibilisierung, Selensensibilisierung und Tellursensibilisierung verwendet werden, können bekannte Verbindungen verwendet werden und die Verbindungen gemäß der Beschreibung in JP-A-7-128768 sind verwendbar. Beispiele für bei der Edelmetallsensibilisierung verwendete Verbindungen umfassen Chlorogoldsäure, Kaliumchloroaurat, Kaliumaurithiocyanat, Goldsulfid, Goldselenid, Verbindun gen gemäß der Beschreibung in US-Patent 2 448 060 und dem britischen Patent 618 061. Beispiele für die bei der Reduktionssensibilisierung verwendeten Verbindungen umfassen Ascorbinsäure, Thioharnstoffdioxid, Zinn(II)-chlorid, Aminoiminomethansulfinsäure, Hydrazinderivate, Boranverbindungen, Silanverbindungen und Polyaminverbindungen. Die Reduktionssensibilisierung kann durch Reifung einer Emulsion, deren pH-Wert und pAg-Wert bei nicht weniger als 7 bzw. nicht mehr als 8,3 gehalten werden, durchgeführt werden. Ferner kann die Reduktionssensibilisierung durch Einführen eines einzigen Zugabeteils von Silberionen während der Bildung der Körner durchgeführt werden.
  • In der vorliegenden Erfindung sind organische Silbersalze Quellen für reduzierbares Silber und bevorzugt sind organische Säuren und Silbersalze von heteroorganischen Säuren, die eine Quelle für reduzierbare Silberionen aufweisen, insbesondere langkettige (mit 10 bis 30 Kohlenstoffatomen, jedoch vorzugsweise 15 bis 25 Kohlenstoffatomen) aliphatische Carbonsäuren und stickstoffhaltige heterocyclische Ringe. Organische oder anorganische Silbersalzkomplexe, bei denen der Ligand eine Gesamtstabilitätskonstante für Silberionen von 4,0 bis 10,0 aufweist, sind ebenfalls verwendbar. Beispiele für bevorzugte Silbersalze sind in Research Disclosure (als RD abgekürzt), Item 17029 und 29963, beschrieben und sie umfassen die folgenden: Salze organischer Säuren (beispielsweise Salze von Gallussäure, Oxalsäure, Behensäure, Arachinsäure, Stearinsäure, Palmitinsäure, Laurinsäure und dergleichen); Carboxyalkylthioharnstoffsalze [beispielsweise 1-(3-Carboxypropyl)thioharnstoff, 1-(3-Carboxypropyl)-3,3-dimethylthioharnstoff und dergleichen]; Silberkomplexe von Polymerreaktionsprodukten eines Aldehyds mit einer hydroxysubstituierten aromatischen Carbonsäure [beispielsweise Aldehyde (Formaldehyd, Acetaldehyd, Butylaldehyd und dergleichen), hydroxysubstituierte Säuren (beispielsweise Salicylsäure, Benzoesäure, 3,5-Dihydroxybenzoesäure, 5,5-Thiodisalicylsäure], Silbersalze oder Kom plexe von Thioenen [beispielsweise 3-(2-Carboxyethyl)-4-hydroxymethyl-4-(thiazolin-2-thioen und 3-Carboxymethyl-4-thiazolin-2-thioen)], Komplexe von Silber mit einer Stickstoffsäure, die aus Imidazol, Pyrazol, Urazol, 1,2,4-Thiazol und 1H-Tetrazol, 3-Amino-5-benzylthio-1,2,4-triazol und Benzotriazol oder Salzen derselben ausgewählt ist; Silbersalze von Saccharin, 5-Chlorsalicylaldoxim und dergleichen; und Silbersalze von Mercaptiden. Von diesen sind die bevorzugten Silbersalze Silberbehenat, Silberarachidinat und Silberstearat.
  • Organische Silbersalze können durch Mischen einer wasserlöslichen Silberverbindung mit einer Verbindung, die mit Silber einen Komplex bildet, hergestellt werden und vorzugsweise werden eine normale Fällung, eine Umkehrfällung, eine Doppelstrahlfällung, eine gesteuerte Doppelstrahlfällung gemäß der Beschreibung in JP-A-9-127643 und dergleichen verwendet. Beispielsweise werden nach der Herstellung einer organischen Alkalimetallsalzseife (beispielsweise Natriumbehenat, Natriumarachidinat und dergleichen) durch Zugabe einer organischen Säure zu einem Alkalimetallsalz (bei Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid und dergleichen) die oben genannte Seife und Silbernitrat gemischt, wobei Kristalle des organischen Silbersalzes produziert werden. Die Herstellung des organischen Silbersalzes kann in Gegenwart eines Silberhalogenids durchgeführt werden.
  • In der vorliegenden Erfindung weisen organische Silbersalze einen durchschnittlichen Korndurchmesser von nicht mehr als 2 μm auf und sie sind monodispers. Der durchschnittliche Durchmesser des organischen Silbersalzes gemäß der Beschreibung hierin ist, wenn das Korn des organischen Salzes beispielsweise ein kugelförmiges, zylindrisches oder tafelförmiges Korn ist, der Durchmesser einer Kugel mit dem gleichen Volumen wie die einzelnen Körner. Der durchschnittliche Korndurchmesser beträgt vorzugsweise zwischen 0,05 und 1,5 μm und noch besser zwischen 0,05 und 1,0 μm. Ferner ist das hierin beschriebene monodispers das gleiche wie Silberhalogenidkörner und eine bevorzugte Monodispersität beträgt zwischen 1 und 30 %. Ferner machen die tafelförmigen Körner vorzugsweise nicht weniger als 60 Mol-% des gesamten organischen Silbersalzes aus. In der vorliegenden Erfindung ist ein tafelförmiges Korn ein Korn, dessen Verhältnis der durchschnittlichen Größe zur Dicke, d. h. das Aspektverhältnis (als AR abgekürzt), nicht weniger als 3 beträgt. AR = (durchschnittliche Größe (μm)/(Dicke (μm))
  • Um die oben genannten Formen des organischen Silbersalzes zu erhalten, ist es möglich, die im Vorhergehenden genannten Kristalle des organischen Silbersalzes in Gegenwart eines grenzflächenaktiven Mittels und dergleichen unter Verwendung einer Kugelmühle und dergleichen zu dispergieren und pulverisieren. Wenn Körner innerhalb dieses Bereichs hergestellt werden, können Bilder mit hoher Dichte und hervorragender Stabilität erhalten werden.
  • In der vorliegenden Erfindung beträgt, um ein Entglasen des lichtempfindlichen Materials zu verhindern, die Gesamtsumme von Silber, das in sowohl dem lichtempfindlichen Silberhalogenid als auch dem organischen Silbersalz enthalten ist, vorzugsweise 0,5 bis 2,2 g pro m2. Wenn Silberkörner innerhalb dieses Bereichs hergestellt werden, können Bilder hohen Kontrasts erhalten werden. Das Verhältnis der Menge des lichtempfindlichen Silberhalogenids zur Gesamtsumme von Silber beträgt vorzugsweise nicht mehr als 50 Gew.-%, noch günstiger nicht mehr als 25 Gew.-% und besonders bevorzugt zwischen 0,1 Gew.-% und 15 Gew.-%.
  • Ein Reduktionsmittel wird vorzugsweise in das wärmeentwickelbare lichtempfindliche Material, für das die vorliegende Erfindung verwendet wird, eingearbeitet. Beispiele für geeignete Reduktionsmittel sind in US-Patent 3 770 448, 3 773 512 und 3 593 863 und RD Item 17029 und 29963 beschrieben und sie umfassen die im Folgenden angegebenen.
  • Aminohydroxycycloalkenonverbindungen (beispielsweise 2-Hydroxypiperidino-2-cyclohexan); Ester von Aminoreduktonen als Vorstufe von Reduktionsmitteln (beispielsweise Piperidinohexosereduktonmonoacetat); N-Hydroxyharnstoffderivate (beispielsweise N-p-Methylphenyl-N-hydroxyharnstoff); Hydrazone von Aldehyden oder Ketonen (beispielsweise Anthracenaldehydphenylhydrazon); Phosphamidophenole; Phosphamidoaniline; Polyhydroxybenzole (beispielsweise Hydrochinon, tert-Butylhydrochinon, Isopropylhydrochinon und (2,5-Dihydroxyphenyl)methylsulfon); Sulfohydroxamsäuren (beispielsweise Benzolsulfohydroxamsäure); Sulfonamidaniline (beispielsweise 4-(N-Methansulfonamid)anilin); 2-Tetrazolylthiohydrochinone (beispielsweise 2-Methyl-5-(1-phenyl-5-tetrazolylthio)hydrochinon); Tetrahydrochinoxaline (beispielsweise 1,2,3,4-Tetrahydrochinoxalin); Amidoxine; Azine (beispielsweise Kombinationen von aliphatische-Carbonsäure-Arylhydrazid mit Ascorbinsäure); Kombinationen von Polyhydroxybenzolen und Hydroxylaminen, Reduktonen und/oder Hydrazin; Hydroxamsäuren; Kombinationen von Azinen mit Sulfonamidphenolen; α-Cyanophenylessigsäurederivate; Kombinationen von Bis-β-Naphthol mit 1,3-Dihydroxybenzolderivaten; 5-Pyrazolone, Sulfonamidphenol-Reduktionsmittel, 2-Phenylindan-1,3-dion und dergleichen; Chroman; 1,4-Dihydropyridine (beispielsweise 2,6-Dimethoxy-3,5-dicarboethoxy-1,4-dihydropyridin); Bisphenole (beispielsweise Bis(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)methan, Bis(6-hydroxy-m-tri)mesitol, 2,2-Bis(4-hydroxy-3-methylphenyl)propan, 4,5-Ethyliden-bis(2-tert-butyl-6-methyl)phenol], UV-empfindliche Ascorbinsäurederivate und 3-Pyrazolidone. Von diesen sind besonders bevorzugte Reduktionsmittel gehinderte Phenole. Als gehinderte Phenole werden Verbindungen der im Folgenden beschriebenen allgemeinen Formel (A) aufgelistet. Allgemeine Formel (A)
    Figure 00460001
    worin R für ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen (beispielsweise -C4H9, 2,4,4-Trimethylpentyl) steht und R' und R'' jeweils für eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen (beispielsweise Methyl, Ethyl, tert-Butyl) stehen.
  • Spezielle Beispiele für die Verbindungen der allgemeinen Formel (A) sind im Folgenden beschrieben. Jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht auf diese Beispiele beschränkt.
  • Figure 00470001
  • Figure 00480001
  • Die Verwendungsmenge von Reduktionsmitteln, die als erstes durch die oben genannte allgemeine Formel (A) dargestellt wurde, beträgt vorzugsweise zwischen 1 × 10–2 und 10 mol pro mol Silber und noch besser zwischen 1 × 10–2 und 1,5 mol.
  • Bindemittel, die für das wärmeentwickelbare lichtempfindliche Material, für das die vorliegende Erfindung verwendet wird, geeignet sind, sind transparent oder durchscheinend und allgemein farblos. Bindemittel sind natürliche Polymere, Kunstharze und Polymere und Copolymere, andere filmbildende Medien; beispielsweise Gelatine, Gummi arabicum, Polyl(vinyalkohol), Hydroxyethylcellulose, Celluloseacetat, Celluloseacetatbutylat, Poly(vinylpyrrolidon), Kasein, Stärke, Poly(acrylsäure), Poly(methylmethacrylsäure), Poly(vinylchlorid), Poly(methacrylsäure), Copoly(styrolmaleinsäureanhydrid), Copoly(styrol-acrylnitril), Copoly(styrol-butadien), die Poly(vinylacetal)-Serie [beispielsweise Poly(vinylformal) und Poly(vinylbutyral)], die Poly(ester)-Serie, Poly(urethan)-Serie, Phenoxyharze, Poly(vinylidenchlorid), die Poly(epoxid)-Serie, die Poly(carbonat)-Serie, die Poly(vinylacetat)-Serie, Celluloseester, die Poly(amid)-Serie. Diese können hydrophil oder hydrophob sein. Jedoch ist in der vorliegenden Erfindung das Bindemittel vorzugsweise transparent, um eine Schleierbildung nach der Thermoentwicklung zu verringern. Als bevorzugtes Bindemittel werden Poly(vinylbutyral), Celluloseacetat, Celluloseacetatbutylat, Polyester, Polycarbonat, Polyacrylsäure, Polyurethan und dergleichen angeführt. Von diesen werden Poly(vinylbutyral), Celluloseacetat, Celluloseacetatbutylat und Polyester vorzugsweise verwendet.
  • Zum Schützen der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials und zur Verhinderung von Abriebmarken ist es möglich, eine nicht-lichtempfindliche Schicht auf einer lichtempfindlichen Schicht aufzutragen. Die Art eines für die nicht-lichtempfindliche Schicht verwendeten Bindemittels kann die gleiche wie die für die lichtempfindliche Schicht verwendete sein oder verschieden von der für die lichtempfindliche Schicht verwendeten sein.
  • In der vorliegenden Erfindung beträgt zum Zwecke einer Beschleunigung der Thermoentwicklungsgeschwindigkeit die Menge des Bindemittels in einer lichtempfindlichen Schicht vorzugsweise zwischen 1,5 und 10 g/m2 und noch besser zwischen 1, 7 und 8 g/m2. Wenn die Menge unter 1, 5 g/m2 liegt, nimmt Dichte eines unbelichteten Teils deutlich zu, was fallweise keine kommerzielle Verwendbarkeit bewirkt.
  • In der vorliegenden Erfindung wird ein Mattiermittel vorzugsweise in die lichtempfindliche Schichtseite eingearbeitet. Um den Bildabrieb nach der Thermoentwicklung zu minimieren, wird das Mattiermittel auf der Oberfläche eines lichtempfindlichen Materials angebracht und das Mattiermittel vorzugsweise in einer Menge von 0,5 bis 30 Gew.-%, bezogen auf das gesamte Bindemittel, in der Emulsionsschichtseite eingearbeitet. Ferner wird, wenn eine nicht-lichtempfindliche Schicht entgegengesetzt mit dazwischenliegendem Schichtträger angebracht wird, ein Mattiermittel vorzugsweise in mindestens eine auf der nicht-lichtempfindlichen Schichtseite angebrachte Schicht eingearbeitet. Zur Verbesserung der Gleiteigenschaft des wärmeentwickelbaren lichtempfindlichen Materials und zur Verhinderung der Adhäsion eines Fingerabdrucks des wärmeentwickelbaren lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials wird das Mattiermittel vorzugsweise in die Oberfläche des wärmeentwickelbaren lichtempfindlichen Materials eingearbeitet. Das Mattiermittel wird vorzugsweise in einer Menge von 0,5 bis 40 Gew.-%, bezogen auf das gesamte Bindemittel, in der entgegengesetzt zur lichtempfindlichen Schicht angebrachten nicht-lichtempfindlichen Schicht eingearbeitet.
  • Materialien für die in der vorliegenden Erfindung verwendeten Mattiermittel können entweder organische Substanzen oder anorganische Substanzen sein. Im Hinblick auf anorga nische Substanzen können beispielsweise solche als Mattiermittel verwendet werden, die Siliciumdioxid gemäß der Beschreibung im Schweizer Patent 330 158 und dergleichen, Glaspulver gemäß der Beschreibung im französischen Patent 1 296 995 und dergleichen und Carbonate von Erdalkalimetallen oder Cadmium, Zink und dergleichen gemäß der Beschreibung in GB-Patent 1 173 181 und dergleichen sind. Im Hinblick auf organische Substanzen können als organische Mattiermittel solche verwendet werden, die Stärke gemäß der Beschreibung in US-Patent 2 322 037 und dergleichen, Stärkederivate gemäß der Beschreibung im belgischen Patent 625 451, GB-Patent 981 198 und dergleichen; Polyvinylalkohole gemäß der Beschreibung in der geprüften japanischen Patentveröffentlichung 44-3643 und dergleichen; Polystyrole oder Polymethacrylate gemäß der Beschreibung im Schweizer Patent 330 158 und dergleichen; Polyacrylnitrile gemäß der Beschreibung in US-Patent 3 079 257 und dergleichen; und Polycarbonate gemäß der Beschreibung in US-Patent 3 022 169 sind.
  • Die Form des Mattiermittels kann kristallin oder amorph sein. Jedoch wird eine kristalline und kugelförmige Form vorzugsweise verwendet. Die Größe eines Mattiermittels wird als Durchmesser einer Kugel, die das gleiche Volumen wie das Mattiermittel hat, ausgedrückt.
  • Das in der vorliegenden Erfindung verwendete Mattiermittel weist vorzugsweise einen durchschnittlichen Teilchendurchmesser von 0,5 bis 10 μm und noch besser 1,0 bis 8,0 μm auf. Ferner beträgt der Variationskoeffizient der Größenverteilung vorzugsweise nicht mehr als 50 %, noch günstiger nicht mehr als 40 % und noch besser nicht mehr als 30 %.
  • Der hierin beschriebene Variationskoeffizient der Größenverteilung ist ein Wert, der durch die im Folgenden beschriebene Formel dargestellt wird. (Standardabweichung des Korndurchmessers)/(durchschnittlicher Korndurchmesser) × 100
  • Das Mattiermittel gemäß der vorliegenden Erfindung kann in beliebige Aufbauschichten eingearbeitet werden. Um die Aufgabe der vorliegenden Erfindung zu lösen, wird das Mattiermittel vorzugsweise in eine andere Komponentenschicht als die lichtempfindliche Schicht eingearbeitet und noch besser in die von der Schichtträgeroberfläche am weitesten entfernte Schicht eingearbeitet.
  • Weitere Verfahren für das Mattiermittel gemäß der vorliegenden Erfindung umfassen solche, in denen ein Mattiermittel zuvor in eine Beschichtungszusammensetzung dispergiert wird und dann aufgetragen wird und vor der Beendigung des Trocknens ein Mattiermittel aufgesprüht wird. Wenn eine Mehrzahl von Mattiermitteln zugegeben wird, können beide Verfahren in Kombination verwendet werden.
  • Das wärmeentwickelbare lichtempfindliche Material gemäß der Erfindung umfasst einen Schichtträger mit mindestens einer darauf befindlichen lichtempfindlichen Schicht und die lichtempfindliche Schicht kann allein auf dem Schichtträger gebildet sein. Ferner wird mindestens eine nicht-lichtempfindliche Schicht auf der lichtempfindlichen Schicht gebildet. Um die Menge oder Wellenlängenverteilung von Licht, das durch die lichtempfindliche Schicht durchgelassen wird, zu steuern, kann eine Filterschicht auf der gleichen Seite wie die lichtempfindliche Schicht und/oder eine Antilichthofbildungsschicht, d. h. eine Rückenschicht, auf der entgegengesetzten Seite angebracht werden. Farbstoffe oder Pigmente können ebenfalls in die lichtempfindliche Schicht eingearbeitet werden. Als verwendbare Farbstoffe können solche, die eine angestrebte Wellenlänge in einem gewünschten Wellenlängenbereich absorbieren können, verwendet werden, wobei Verbindungen gemäß der Beschreibung in JP-A-59-6481, 59-182436, US-Patent 4 271 263, 4 594 312, der europäischen Patentveröffentlichung 533 008, 652 473, JP-A-2-216140, 4-348339, 7-191432, 7-301890 bevorzugt sind.
  • Ferner können diese nicht-lichtempfindlichen Schichten das oben genannte Bindemittel, ein Mattiermittel und ein Gleitmittel, wie ein Polysiloxanverbindung, ein Wachs und ein flüssiges Paraffin, enthalten.
  • Die lichtempfindliche Schicht kann aus einer Mehrzahl von Schichten bestehen. Ferner können zur Gradationseinstellung im Hinblick auf die Empfindlichkeit Schichten in der Form schnelle Schicht/langsame Schicht oder langsame Schicht/schnelle Schicht aufgebaut werden.
  • An dem wärmeentwickelbaren lichtempfindlichen Material, für das die vorliegende Erfindung verwendet wird, wird die Erzeugung photographischer Bilder unter Verwendung einer Thermoentwicklungsbehandlung durchgeführt und es umfasst vorzugsweise eine Quelle von reduzierbarem Silber (organisches Silbersalz), ein Silberhalogenid mit einer katalytisch aktiven Menge, ein Hydrazinderivat, ein Reduktionsmittel und, falls gewünscht, ein Bildfarbensteuerungsmittel zur Einstellung des Silbertons, wobei diese allgemein in einer (organischen) Bindemittelmatrix dispergiert sind. Das wärmeentwickelbare lichtempfindliche Material, für das die vorliegende Erfindung verwendet wird, ist bei normalen Temperaturen stabil und es wird nach der Belichtung, wenn es auf hohe Temperaturen (beispielsweise zwischen 80 und 140 °C) erhitzt wird, entwickelt. Beim Erhitzen wird Silber durch eine Redoxreaktion zwischen dem organischen Silbersalz (das als Oxidationsmittel fungiert) und dem Reduktionsmittel gebildet. Diese Redoxreaktion wird durch die katalytische Wirkung eines in dem Silberhalogenid durch Belichtung gebildeten Latentbildes beschleunigt. Silber, das durch die Reaktion mit dem organischen Silbersalz in einem belichteten Bereich gebildet wurde, ergibt ein schwarzes Bild, das in Kontrast zu dem nicht-belichteten Bereich steht, wobei ein Bild erzeugt wird. Dieser Reaktionsprozess erfolgt ohne die weitere Zufuhr einer Behandlungslösung, wie Wasser und dergleichen, von außen.
  • Bildfarbensteuerungsmittel werden vorzugsweise in das wärmeentwickelbare lichtempfindliche Material, für das die vorliegende Erfindung verwendet wird, eingearbeitet. Beispiele für geeignete Bildfarbensteuerungsmittel sind in RD Item 17029 offenbart und sie umfassen die im Folgenden angegebenen:
    Imide (beispielsweise Phthalimid), cyclische Imide, Pyrazolin-5-one und Chinazolinon (beispielsweise Succinimid, 3-Phenyl-2-pyrazolin-5-on, 1-Phenylurazol, Chinazolin und 2,4-Thiazolidion); Naphthalimide (beispielsweise N-Hydroxy-1,8-naphthalimid); Cobaltkomplexe (beispielsweise Cobalthexamintrifluoracetat); Mercaptane (beispielsweise 3-Mercapto-1,2,4-triazol); N-(Aminomethyl)aryldicarboxyimide [beispielsweise N-(Dimethylaminomethyl)phthalimid]; blockierte Pyrazole, Isothiuroniumderivate und Kombinationen von bestimmten Arten von Lichtbleichmitteln [beispielsweise eine Kombination von N,N'-Hexamethylen(1-carbamoyl-3,5-dimethylpyrazol), 1,8-(3,6-Dioxaoctan)bis(isothiuroniumtrifluoracetat) und 2-(Tribrommethylsulfonyl)benzothiazol]; Merocyaninfarbstoffe [beispielsweise 3-Ethyl-5-((3-ethyl-2-benzothiazolinyliden(benzothiazolinyliden))-1-methylethyliden-2-thio-2,4-oxazolidindion]; Phthalazinon, Phthalazinonderivate oder Metallsalze derselben (beispielsweise 4-(1-Naphthyl)phthalazinon, 6-Chlorphthalazinon, 5,7-Dimethylphthalazinon und 2,3-Dihydro-1,4-phthalazindion]; Kombinationen von Phthalazinon und Sulfinsäurederivaten (beispielsweise 6-Chlorphthalazinon + Benzolsulfinsäurenatrium oder 8-Methylphthalazinon + p-Trisulfonsäurenatrium); Kombinationen von Phthalazin + Phthalsäure; Kombinationen von Phthalazin (das Phthalazinadditionsprodukte umfasst) mit mindestens einer Verbindung, die aus Maleinsäu reanhydrid und Phthalsäure, 2,3-Naphthalendicarbonsäure oder o-Phenylensäurederivaten und Anhydriden derselben ausgewählt ist (beispielsweise Phthalsäure, 4-Methylphthalsäure, 4-Nitrophthalsäure und Tetrachlorphthalsäureanhydrid); Chinazolindione, Benzoxazin, Nartoxazinderivate, Benzoxazin-2,4-dione (beispielsweise 1,3-Benzoxazin-2,4-dion); Pyrimidine und asymmetrische Triazine (beispielsweise 2,4-Dihydroxypyrimidin) und Tetraazapentalenderivate (beispielsweise 3,6-Dimercapto-1,4-diphenyl-1H,4H-2,3a,5,6a-tetraazapentalen). Bevorzugte Bildfarbensteuerungsmittel umfassen Phthalazon oder Phthalazin.
  • In der vorliegenden Erfindung können zum Beschränken oder Beschleunigen einer Entwicklung zum Zwecke der Steuerung der Entwicklung, zur Verstärkung der spektralen Sensibilisierungseffizienz und zur Verstärkung der Konservierungsstabilität vor und nach der Entwicklung eine Mercaptoverbindung, eine Disulfidverbindung und eine Thionverbindung in das lichtempfindliche Material eingearbeitet werden.
  • In Fällen, in denen die Mercaptoverbindung in der vorliegenden Erfindung verwendet wird, kann jede Verbindung mit einer Mercaptogruppe verwendet werden, doch werden bevorzugte Verbindungen durch die folgenden Formeln Ar-SM und Ar-S-S-Ar dargestellt.
  • In den oben genannten Formeln steht M für ein Wasserstoffatom oder ein Alkalimetallatom, Ar für eine aromatische Ringverbindung oder eine kondensierte aromatische Ringverbindung mit mindestens einem Stickstoff, Schwefel, Sauerstoff, Selen oder Tellur. Bevorzugte heteroaromatische Ringverbindungen umfassen Benzimidazol, Naphthimidazol, Benzothiazol, Naphthothiazol, Benzoxazol, Naphthoxazol, Benzoselenazol, Benzotellurazol, Imidazol, Oxazol, Pyrazol, Triazol, Thiadiazol, Tetrazol, Triazin, Pyrimidin, Pyridazin, Pyrazin, Pyridin, Purin, Chinolin oder Chinazolin. Diese heteroaromatischen Ringverbindungen können einen Sub stituenten enthalten, der aus einem Halogenatom (beispielsweise Br und Cl), einer Hydroxygruppe, einer Aminogruppe, einer Carboxygruppe, einer Alkylgruppe (beispielsweise eine Alkylgruppe mit mindestens einem Kohlenstoffatom, vorzugsweise 1 bis 4 Kohlenstoffatomen) und einer Alkoxygruppe (beispielsweise eine Alkoxygruppe mit mindestens einem Kohlenstoffatom, vorzugsweise 1 bis 4 Kohlenstoffatomen) ausgewählt ist. Beispiele für mercaptosubstituierte heteroaromatische Ringverbindungen umfassen 2-Mercaptobenzimidazol, 2-Mercaptobenzoxazol, 2-Mercaptobenzothiazol, 2-Mercapto-5-methylbenzothiazol, 3-Mercapto-1,2,4-triazol, 2-Mercaptochinolin, 8-Mercaptopurin, 2,3,5,6-Tetrachlor-4-pyridinthiol, 4-Hydroxy-2-mercaptopyrimidin und 2-Mercapto-4-phenyloxazol, doch sind die Beispielverbindungen gemäß der vorliegenden Erfindung nicht auf diese beschränkt.
  • Antischleiermittel können in das wärmeentwickelbare lichtempfindliche Material, für das die vorliegende Erfindung verwendet wird, eingearbeitet werden. Die Substanz, die als wirksamstes Antischleiermittel bekannt ist, ist ein Quecksilberion. Die Einarbeitung von Quecksilberverbindungen als Antischleiermittel in lichtempfindliche Materialien wird beispielsweise in US-Patent 3 589 903 offenbart. Jedoch sind Quecksilberverbindungen in Bezug auf die Umwelt nicht bevorzugt. Als quecksilberfreie Antischleiermittel sind die Antischleiermittel gemäß der Offenbarung in US-Patent 4 546 075 und 4 452 885 und JP-A-59-57234 bevorzugt.
  • Besonders bevorzugte quecksilberfreie Antischleiermittel sind heterocyclische Verbindungen mit mindestens einem Substituenten, der durch -C(X1)(X2)(X3) dargestellt wird (worin X1 und X2 jeweils für Halogen stehen und X3 für Wasserstoff oder Halogen steht) gemäß der Offenbarung in US-Patent 3 874 946 und 4 756 999. Als Beispiele für geeignete Antischleiermittel werden vorzugsweise Verbindungen und dergleichen gemäß der Beschreibung in den Absätzen der Ziffern [0030] bis [0036] der JP-A-9-288328 verwendet. Weitere Bei spiele für geeignete Antischleiermittel, die vorzugsweise verwendet werden, sind Verbindungen und dergleichen gemäß der Beschreibung in den Absätzen der Ziffern [0062] und [0063]. Ferner sind recht günstige Antischleiermittel in US-Patent 5 028 523 und der GB-Patentanmeldung 92221383.4, 9300147.7 und 9311790.1 offenbart.
  • In dem wärmeentwickelbaren lichtempfindlichen Material, für das die vorliegende Erfindung verwendet wird, können Sensibilisierungsfarbstoffe gemäß der Beschreibung in beispielsweise JP-A-63-159841, 60-140335, 63-231437, 63-259651, 63-304242 und 63-15245, US-Patent 4 639 414, 4 740 455, 4 741 966, 4 751 175 und 4 835 096 verwendet werden. Verwendbare Sensibilisierungsfarbstoffe, die in der vorliegenden Erfindung verwendet werden, sind beispielsweise in Veröffentlichungen gemäß der Beschreibung oder Angabe in RD Item 17643, Abschnitt IV-A (Seite 23, Dezember 1978), 1831, Abschnitt X (Seite 437, August 1978) beschrieben. Insbesondere können vorteilhafterweise Sensibilisierungsfarbstoffe ausgewählt werden, die eine für die spektralen Eigenschaften von Lichtquellen verschiedener Scannerarten geeignete spektrale Empfindlichkeit aufweisen. Beispielsweise werden vorzugsweise Verbindungen verwendet, die in JP-A-9-34078, 9-54409 und 9-80679 beschrieben sind.
  • Verschiedene Arten Additive können in eine lichtempfindliche Schicht, nicht-lichtempfindliche Schicht oder andere Komponentenschichten eingearbeitet werden. Außer für die oben genannten Verbindungen können oberflächenaktive Mittel, Antioxidationsmittel, Stabilisierungsmittel, Weichmacher, UV(Ultraviolettstrahlung)-Absorber, Deckhilfsstoffe und dergleichen in dem wärmeentwickelbaren lichtempfindlichen Material gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet werden. Diese Additive sind zusammen mit den oben genannten Additiven in RD Item 17029 (auf Seite 9 bis 15, Juni 1978) beschrieben und diese können verwendet werden.
  • Als bevorzugte Schichtträger werden hierbei vorzugsweise Kunststofffilme [beispielsweise Polyethylenterephthalat (PET), Polycarbonat, Polyimid, Nylon, Cellulosetriacetat, Polyethylennaphthalat] verwendet. Die Dicke des Schichtträgers beträgt zwischen etwa 50 und etwa 300 μm und vorzugsweise zwischen 70 und 180 μm. Ferner können wärmebehandelte Kunststoffträger verwendet werden. Als akzeptable Kunststoffe werden die oben beschriebenen aufgelistet. Die Thermobehandlung des Schichtträgers, die hierin beschrieben ist, besteht darin, dass diese Schichtträger nach dem Filmgießen und vor der Auftragung der lichtempfindlichen Schicht auf eine Temperatur von mindestens 30 °C, vorzugsweise mindestens 35 °C und noch besser mindestens 40 °C höher als der Glasübergangspunkt erhitzt werden. Wenn jedoch die Schichtträger auf eine höhere Temperatur als der Schmelzpunkt erhitzt werden, werden keine Vorteile der vorliegenden Erfindung erhalten.
  • Als das Basisgießverfahren des Schichtträgers und Haftgrundproduktionsverfahren, die mit der vorliegenden Erfindung verbunden sind, können beliebige der einschlägig bekannten verwendet werden. Jedoch werden die Verfahren gemäß der Beschreibung in den Absätzen [0030] bis [0070] der JP-A-9-50094 vorzugsweise verwendet.
  • In der vorliegenden Erfindung können, um die Elektrisierungseigenschaft des wärmeentwickelbaren lichtempfindlichen Materials zu verbessern, eine elektrisch leitende Verbindung, wie ein Metalloxid und/oder ein elektrisch leitendes Polymer, in eine photographische Komponentenschicht eingearbeitet werden. Diese Verbindungen können in eine beliebige der photographischen Komponentenschicht eingearbeitet werden. Jedoch können diese Verbindungen vorzugsweise in eine Unterschicht, Rückenschicht und eine Schicht zwischen einer lichtempfindlichen Schicht und einer Unterschicht eingearbeitet werden. Die in der vorliegenden Erfindung vor zugsweise verwendeten elektrisch leitenden Verbindungen sind in US-Patent 5 244 773, in den Spalten 14 bis 20 beschrieben.
  • Wenn das wärmeentwickelbare Material der vorliegenden Erfindung für ein Druckmaterial verwendet wird, wird eine Hydrazinverbindung vorzugsweise in das wärmeentwickelbare Material und noch besser in das wärmeentwickelbare Material eingearbeitet. Bevorzugte Beispiele für diese Hydrazinverbindung umfassen solche gemäß der Beschreibung in Research Disclosure Item 23515 (November, 1983, Seite 346) und anderen darin angeführten Literaturstellen, wie US-Patent 4 080 207, 4 269 929, 4 276 364, 41278 748, 4 385 108, 4 459 347, 4 478 928, 41560 638, 4 686 167, 4 912 016, 4 988 604, 4 994 365, 5 041 355 und 5 104 769, BP 2 011 1391 B , EP 217 310, 301 799 und 356 898, JP-A-60-179734, 61-170733, 61-270744, 62-178246, 62-270948, 63-29751, 63-32538, 63-104047, 63-121838, 63-129337, 63-223744, 63-234244, 63-234245, 63-234246, 63-294552, 63-306438, 64-10233, 1-90439, 1-100530, 1-105941, 1-105943, 1-276128, 1-280747, 1-283548, 1-283549, 1-285940, 2-2541, 2-77057, 2-139538, 2-196234, 2-196235, 2-198440, 2-198441, 2-198442, 2-220042, 2-221953, 2-221954, 2-285342, 2-285343, 2-289843, 2-302750, 2-304550, 3-37642, 3-54549, 3-125134, 3-184039, 3-240036, 3-240037, 3-259240, 3-280038, 3-282536, 4-51143, 4-56842, 4-84134, 2-230233, 4-96053, 4-216544, 5-45761, 5-45762, 5-45763, 5-45764, 5-45765, 6-289524 und 9-160164; ferner Verbindungen gemäß der Beschreibung in (Chemical 1), konkret solche gemäß der Beschreibung auf Seite 3 und 4 in der geprüften japanischen Patentanmeldung 6-77138, diejenigen der Formel (1), konkret die Verbindungen 1-38 gemäß der Beschreibung auf den Seiten 8 bis 18 der geprüften japanischen Patentveröffentlichung 6-93082, diejenigen der Formeln (4), (5) und (6), konkret die Verbindungen 4-1 bis 4-10 gemäß der Beschreibung auf den Seiten 25 und 26, diejenigen der Formeln (4), (5) und (6), konkret die Verbindungen 5-1 bis 5-42 gemäß der Beschreibung auf den Sei ten 28 bis 36 und diejenigen der Formeln (4), (5) und (6), konkret die Verbindungen 6-1 bis 6-7 gemäß der Beschreibung auf den Seiten 39 und 40 von JP-A-6-23049, diejenigen der Formeln (1) und (2), konkret die Verbindungen (1-1) bis (1-17) und (2-1) gemäß der Beschreibung auf den Seiten 5 bis 7 der JP-A-6-289520, diejenigen gemäß der Beschreibung in (Chemical 2) und (Chemical 3), konkret die Verbindungen gemäß der Beschreibung auf den Seiten 6 bis 19 der JP-A-6-313936, diejenigen gemäß der Beschreibung in (Chemical 1), konkret die Verbindungen gemäß der Beschreibung auf den Seiten 3 bis 5 der JP-A-6-313951, diejenigen der Formel (1), konkret die Verbindungen 1-1 bis 1-38 gemäß der Beschreibung in JP-A-7-5610, diejenigen der Formel (11), konkret die Verbindungen 11-1 bis 11-102 gemäß der Beschreibung auf den Seiten 10 bis 27 in JP-A-7-77783 und diejenigen der Formeln (H) und (Ha), konkret die Verbindungen H-1 bis H-44 gemäß der Beschreibung auf den Seiten 8 bis 15 in JP-A-7-104426.
  • Konkreter können Hydrazinderivate der Formel (Z) verwendet werden.
  • Formel Z
    Figure 00600001
  • In der Formel Z stehen R1 für eine aliphatische, aromatische oder heterocyclische Gruppe, R2 für eine Alkyl-, Aralkyl- oder Arylgruppe, A1 und A2 jeweils für ein Wasserstoffatom, eine Alkylsulfonyl-, Arylsulfonyl- oder Acylgruppe, wobei sowohl A1 als auch A2 ein Wasserstoffatom ist oder ein Rest von A1 und A2 ein Wasserstoffatom und der andere eine Alkylsulfonyl-, Arylsulfonyl oder Acylgruppe ist.
  • Das Belichten des wärmeentwickelbaren lichtempfindlichen Materials der vorliegenden Erfindung wird vorzugsweise unter Verwendung eines Ar-Ionlasers (488 nm), eines He-Ne- Lasers (633 nm), eines Halbleiterlasers roter Farbe (670 nm), eines Infrarot-Halbleiterlasers (760 nm, 780 nm und 820 nm) und dergleichen durchgeführt. Der Infrarot-Halbleiterlaser wird im Hinblick auf hohe Leistung, Transparenz des lichtempfindlichen Materials oder dergleichen vorzugsweise verwendet.
  • Die Belichtung wird vorzugsweise durch Laserabtastbelichtung durchgeführt. In diesem Fall ist es bevorzugt, eine Belichtungsvorrichtung zu verwenden, wobei der zwischen der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials und dem Laserlicht gebildete Winkel während der Belichtung nicht im Wesentlichen senkrecht ist. Der Winkel beträgt vorzugsweise 55-88°, noch günstiger 60-86°, noch günstiger 65-84° und noch besser 70-82°.
  • Der Fleckdurchmesser des Laserstahls beim Abtasten auf dem lichtempfindlichen Material beträgt vorzugsweise nicht mehr als 200 μm und noch besser nicht mehr als 100 μm. Ein kleinerer Fleckdurchmesser ist bevorzugt, da die Winkeldifferenz von einem Umfangspunkt bezüglich des Einfallswinkels verringert wird.
  • Die Untergrenze des Fleckdurchmessers des Laserstahls beträgt etwa 10 μm. Durch Verwendung einer derartigen Laserabtastbelichtung kann eine Bildbeeinträchtigung, wie eine Marmorierung mit Interferenzstreifen, die durch Reflektieren des Lichts bei Belichtung durch Laserabtastung verursacht wird, verringert werden.
  • Es ist auch bevorzugt, eine Laserabtastbelichtungsvorrichtung zu verwenden, die Abtastlaserlicht mit mehreren longitudinalen Moden emittiert. In diesem Fall kann keine Bildbeeinträchtigung, wie Marmorierung mit Interferenzstreifen, im Vergleich zu Laserlicht eines einzigen longitudinalen Modus verringert werden.
  • Um das Licht longitudinal zu multiplizieren, wird ein Verfahren wie die Synthese von Wellen unter Verwendung von zurücklaufendem Licht, wobei Hochfrequenzwellen überlagert werden, verwendet. Das longitudinal mehrfache Licht bedeutet, dass die Belichtungswellenlänge keine einfache ist und eine Wellenlängenverteilung von nicht weniger als 5 nm, vorzugsweise 10 nm aufweist. Die Obergrenze der Wellenlängenverteilung beträgt üblicherweise beispielsweise 60 nm.
  • Beispiele
  • Die vorliegende Erfindung wird im Folgenden unter Bezug auf spezielle Beispiele erklärt. Jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht auf diese Beispiele beschränkt.
  • Beispiel 1
  • Herstellung eines wärmeentwickelbaren lichtempfindlichen Materials
  • Herstellung eines photographischen haftgrundbeschichteten PET-Schichtträgers
  • Ein im Handel erhältlicher, biaxial gereckter thermofixierter, blau gefärbter 175-μm-PET-Film wurde einer Coronaentladungsbehandlung mit 8 W/m2·min auf beiden Seiten unterzogen. Auf die Oberfläche einer Seite wurde die im Folgenden beschriebe Haftgrundschichtbeschichtungszusammensetzung a-1 so appliziert und getrocknet, dass eine Trockendicke von 0,8 μm gebildet wurde, und die erhaltene Beschichtung wurde als Haftgrundschicht A-1 bezeichnet. Ferner wurde auf die Oberfläche der entgegengesetzten Seite die im Folgenden beschriebene Haftgrundschichtbeschichtungszusammensetzung einer antistatischen Behandlung b-1 so appliziert, dass eine Trockendicke von 0,8 μm gebildet wurde, und die erhaltene Beschichtung wurde als Haftgrundschicht einer antistatischen Behandlung B-1 bezeichnet. Haftgrundschichtbeschichtungszusammensetzung a-1
    Latexzusammensetzung (fester Teil von 30 % eines Copolymers, das aus Butylacrylat (30 Gew.-%), tert-Butylacrylat (20 Gew.-%), Styrol (25 Gew.-%) und 2-Hydroxyethylacrylat (25 Gew.-%) besteht) 270 g
    (C-1) 0,6 g
    Hexamethylen-1,6-bis(ethylenharnstoff) 0,8 g
    Wasser zum Auffüllen auf 1 l
    antistatische Haftgrundschichtbeschichtungszusammensetzung b-1
    Latexzusammensetzung (fester Teil von 30 % eines Copolymers, das aus Butylacrylat (40 Gew.-%), Styrol (20 Gew.-%) und Glycidylacrylat (40 Gew.-%) besteht) 270 g
    (C-1) 0,6 g
    Hexamethylen-1,6-bis(ethylenharnstoff) 0,8 g
    Wasser zum Auffüllen auf 1 l
  • Anschließend wurden die Oberflächen der Haftgrundschichten A-1 und B-1 einer Coronaentladung mit 8 W/m2·min unterzogen und auf die Haftgrundschicht A-1 wurde die im Folgenden beschriebene obere Haftgrundschichtbeschichtungszusammensetzung a-2 zur Bildung der Haftgrundschicht A-2 so aufgetragen, dass eine Trockendicke von 0,1 μm erhalten wurde, und auf die Haftgrundschicht B-1 wurde die im Folgenden beschriebene obere Haftgrundschichtbeschichtungszusammensetzung b-2 unter Bildung der die antistatische Funktion zeigenden oberen Haftgrundschicht B-2 so aufgetragen, dass eine Trockendicke von 0,8 μm erhalten wurde. Obere Haftgrundschichtbeschichtungszusammensetzung a-2
    Gelatine Gewicht zur Bildung von 0,4 g/m2
    (C-1) 0,2 g
    (C-2) 0,2 g
    (C-3) 0,1 g
    Siliciumdioxidteilchen (durchschnittlicher Durchmesser 3 μm) 0,1 g
    Wasser zum Auffüllen auf 1 l
    Obere Haftgrundschichtbeschichtungszusammensetzung b-2
    (C-4) 60 g
    Latexzusammensetzung, die (C-5) als Komponente umfasst (Feststoffanteil von 20 %) 80 g
    Ammoniumsulfat 0,5 g
    (C-6) 12 g
    Polyethylenglykol (massegemitteltes Molekulargewicht 600) 6 g
    Wasser zum Auffüllen auf 1 l
  • Figure 00650001
    • (Mn ist das anzahlgemittelte Molekulargewicht)
    • x : y = 75 : 25 (Gewichtsverhältnis)
  • Figure 00650002
    • p:q:r:s:t = 40:5:10:5:40 (Gewichtsverhältnis)
  • Figure 00660001
    Gemisch der obigen drei Verbindungen
  • Wärmebehandlung des Schichtträgers
  • In dem Haftgrundierungs- und Trocknungsverfahren für den oben genannten haftgrundierten Schichtträger wurde der Schichtträger auf 140 °C erhitzt und dann stufenweise abgekühlt.
  • Herstellung der Silberhalogenidemulsion A
  • In 900 ml Wasser wurden 7,5 g inerte Gelatine und 10 mg Kaliumbromid gelöst. Nach Einstellen der Temperatur auf 35 °C und des pH-Werts auf 3,0 wurden 370 ml einer wässrigen Lösung, die 74 g Silbernitrat enthält, eine wässrige Lösung, die Kaliumbromid und Kaliumiodid in einem Molverhältnis von 98/2, 1 × 10–6 mol des Salzes Ir(NO)Cl6 pro mol Silber und 1 × 10–6 mol eines Rhodiumchloridsalzes pro mol Silber enthält, unter Verwendung eines gesteuerten Doppel strahlverfahrens unter Halten des pAg-Werts bei 7,7 zugegeben. Die auf diese Weise erhaltene wässrige Lösung wurde einer Reduktionssensibilisierung unterzogen, während der pH-Wert bei 8,7 und der pAg-Wert bei 6,5 gehalten wurden. Anschließend wurde 4-Hydroxy-6-methyl-1,3,3a,7-tetraazainden zugegeben und der pH-Wert unter Verwendung von NaOH auf 5 eingestellt. Auf diese Weise wurden kubische Silberiodbromidkörner mit einer durchschnittlichen Korngröße von 0,06 μm, einer Monodispersität von 10 %, einem Projektionsflächendurchmesservariationskoeffizienten von 8 % und einem [100]-Flächenanteil von 87 % erhalten. Die gebildete Emulsion wurde einem Entsalzen durch Koagulationsfällung unter Verwendung eines Koagulationsmittels unterzogen. Danach wurden 0,1 g Phenoxyethanol zugegeben und der pH-Wert und der pAg-Wert auf 5,9 bzw. 7,5 eingestellt, wobei eine Silberhalogenidemulsion erhalten wurde. Auf diese Weise wurde die Silberhalogenidemulsion A erhalten.
  • Herstellung einer Natriumbehenatlösung
  • 32,4 g Behensäure, 9,9 g Arachinsäure und 5,6 g Stearinsäure wurden in 945 ml entionisiertem Wasser bei 90 °C gelöst. Zu der auf diese Weise erhaltenen Lösung wurden 98 ml einer wässrigen 1,5 M Natriumhydroxidlösung unter Rühren mit hoher Geschwindigkeit gegeben. Anschließend wurden zu der oben erhaltenen Lösung 0,93 ml konzentrierte Salpetersäure gegeben und danach wurde die Lösung auf 55 °C gekühlt und 30 min gerührt, so dass eine Natriumbehenatlösung erhalten wurde.
  • Herstellung einer Voremulsion, die von Silberbehenat und der Silberhalogenidemulsion A abgeleitet wurde.
  • Zu der oben erhaltenen Natriumbehenatlösung wurden 15,1 g der oben angegebenen Silberhalogenidemulsion A gegeben, wonach der pH-Wert der auf diese Weise erhaltenen Lösung auf 8,1 unter Verwendung einer wässrigen Natriumhydroxidlösung eingestellt wurde und zu der auf diese Weise erhaltenen Lösung langsam 147 ml einer wässrigen 1 M Salpetersäurelösung über einen Zeitraum von 7 min gegeben wurden. Nachdem die auf diese Weise erhaltene Lösung weitere 20 min gerührt wurde, wurden wasserlösliche Salze unter Verwendung eines Ultrafiltrationsverfahrens entfernt. Auf diese Weise wurde ein Silberbehenat mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 0,8 μm und einer Monodispersität von 8 % erhalten. Dispersionsblöcke wurden dann gebildet, wonach Wasser von den Dispersionsblöcken entfernt wurde, und ferner wurde Waschen mit Wasser und Entfernen von Wasser weitere 6 Male durchgeführt und danach wurden die Dispersionsblöcke getrocknet.
  • Herstellung einer lichtempfindlichen Emulsion
  • Zu der auf diese Weise erhaltenen Voremulsion wurden langsam 544 g einer Methylethylketonlösung, die Polyvinylbutyral enthielt (die Polyvinylbutyral in einer Menge von 17 Gew.-% enthielt, durchschnittliches Molekulargewicht 3000), und 107 g Toluol gegeben und die auf diese Weise erhaltene Lösung wurde ausreichend mit 4000 psi gemischt und dispergiert. Nach dem Dispergieren wurde die dispergierte Lösung durch Elektromikrographie betrachtet. Die Teilchengröße und Dicke von 300 organischen Silberkörnern wurde ermittelt und als Ergebnis der Messung wurde ermittelt, dass 205 Körner tafelförmige organische Silberkörner mit einem AR von nicht weniger als 3 zeigten. Ferner betrug die durchschnittliche Teilchengröße der organischen Silberkörner 0,7 μm. Nach dem Auftragen und Trocknen der Dispersionslösung wurden die gleichen organischen Silberkörner betrachtet.
  • Beschichtungsverfahren
  • Beschichtung einer Rückenschichtseite
  • Eine Rückenschichtbeschichtungslösung, die aus der im Folgenden angegebenen Zusammensetzung bestand, wurde auf der Seite der Haftgrundschicht B-2 unter Verwendung einer Extrusionsbeschichtungsvorrichtung so appliziert, dass eine Nassdicke von 30 μm erhalten wurde, und die Beschichtung wurde dann 3 min bei 60 °C getrocknet. Rückenschichtbeschichtungslösung 1
    Celluloseacetatbutylat (10 %ige Methylethylketonlösung) 15 ml/m2
    Farbstoff A 7 mg/m2
    Farbstoff B 7 mg/m2
    Mattiermittel (monodisperses Siliciumdioxid mit einer Monodispersität von 15 % und einer durchschnittlichen Teilchengröße von 8 μm) 30 mg/m2
  • Beschichtung einer lichtempfindlichen Schichtseite
  • Eine Beschichtungslösung einer lichtempfindlichen Schicht, die aus der im Folgenden angegebenen Zusammensetzung bestand, sowie eine Schutzschichtbeschichtungslösung, die ebenfalls in der folgenden Zusammensetzung angegeben ist, die auf der Beschichtungslösung der lichtempfindlichen Schicht aufzutragen ist, wurden unter Verwendung einer Extrusionsbeschichtungsvorrichtung auf der Seite der Haftgrundschicht A-2 mit einer Beschichtungsrate von 20 m/min gleichzeitig appliziert. Gleichzeitig wurde die Menge an aufgetragenem Silber auf 2,4 g/m2 eingestellt. Nach der Auftragung wurden die aufgetragene lichtempfindliche Schicht und die Schutzschicht bei 55 °C 15 min getrocknet. Beschichtungslösung der lichtempfindlichen Schicht
    Voremulsion 240 g
    Sensibilisierungsfarbstoff 1 (0,1 %ige Methanollösung) 1,7 ml
    Pyridiniumbromidperbromid (6 %ige Methanollösung) 3 ml
    Kaliumbromid (0,1 %ige Methanollösung) 1,7 ml
    Hexamethylendiisocyanat (10 %ige Methanollösung) 3 ml
    2-(4-Chlorbenzoyl)benzoesäure (12 %ige Methanollösung) 9,2 ml
    2-Mercaptobenzimidazol (1 %ige Methanollösung) 11 ml
    Tribrommethylsulfopyridin (5 %ige Methanollösung) 17 ml
    Entwickler 1 (20 %ige Methanollösung) 29,5 ml
    Phthaladin 0,6 g
    4-Methylphthalsäure 0,25 g
    Tetrachlorphthalsäure 0,2 g
    Farbstoff A
    Figure 00710001
    Farbstoff B
    Figure 00710002
    Sensibilisierungsfarbstoff 1
    Figure 00710003
    Entwickler 1
    Figure 00710004
    Oberflächenschutzschichtbeschichtungslösung 1
    Aceton 5 ml/m2
    Methylethylketon 21 ml/m2
    Celluloseacetatbutylat 2,3 g/m2
    Methanol 7 ml/m2
    Phthalazin 250 mg/m2
    CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2 35 mg/m2
    fluorhaltiges grenzflächenaktives Mittel Gewicht, das in Tabelle 2 angegeben ist
  • Ferner wurden als Mattiermittel monodisperse Siliciumdioxidteilchen mit einer Monodispersität von 10 % und einer durchschnittlichen Teilchengröße von 3 μm kombiniert mit kugelförmigen PMMA-Teilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 5 μm verwendet. Gleichzeitig wurde die Zugaberate der Siliciumdioxidteilchen und von PMMA so variiert, dass der Smooster-Wert jedes Prüflings, der in Tabelle 2 angegeben ist, erhalten wurde.
  • Auf diese Weise wurden wärmeentwickelbare lichtempfindliche Materialien erhalten, wobei die Prüflinge 101 bis 111 gebildet wurden.
  • Unbelichtete Prüflinge wurden bei 23 °C und 48 % RH 2 h stehengelassen und der Smooster-Wert auf der Oberfläche der Seite der lichtempfindlichen Schicht jedes Prüflings wurde dann unter den oben genannten Bedingungen (bei 23 °C und 48 RH) unter Verwendung von SM-6B, hergestellt von Toei Electric Industry Co., Ltd. ermittelt.
  • Belichtungs- und Entwicklungsverfahren
  • Das oben erhaltene wärmeentwickelbare lichtempfindliche Material wurde in Bögen von 5 × 15 cm zerschnitten und die auf diese Weise erhaltenen Bögen wurden bei 23 °C und 50 RH 12 h stehengelassen, wonach 10 aufeinander gelegte Bö gen in einen Schutzbeutel gelegt wurden, der kein Eindringen von Luft und Wasser ermöglicht, der dann bei 40 °C 3 Tage erhitzt wurde. Danach wurden die auf diese Weise behandelten Bögen unter Verwendung eines Halbleitersensitometers, das Laserlicht von 810 nm erzeugen kann, über einen Keil mit Laserlicht von 810 nm belichtet. Die auf diese Weise behandelten Bögen wurden dann einer Thermoentwicklung bei 110 °C während 15 s unter Verwendung einer automatischen Entwicklungsbehandlungsvorrichtung mit einer zylindrischen Heiztrommel eines Radius von 20 cm unterzogen. Hierbei wurden Belichtung und Entwicklung in einem bei 23 °C und 50 RH geregelten Raum durchgeführt.
  • Beurteilung
  • Übertragbarkeitstest
  • 100 Bögen wurden kontinuierlich einer Thermoentwicklung unterzogen und danach wurden Übertragbarkeitsfehler festgestellt.
  • Dichtevariation nach Thermoentwicklung
  • Die oben genannten Bögen des wärmeentwickelbaren lichtempfindlichen Materials, die belichtet und wärmeentwickelt wurden, wurden in zwei Gruppen geteilt. Die erste Gruppe wurde in einen Thermostat unter den Bedingungen von 50 °C und 60 % RH während 5 Tagen gegeben. Ein Unterschied der Dichte von 2,5 zwischen dem Zustand vor dem Platzieren derselben in dem Thermostaten und nach dem Platzieren derselben in dem Thermostaten wurde unter Verwendung eines Densitometers ermittelt.
  • Eigenschaftenvariation bei Variation der Thermoentwicklungsbedingungen
  • Das oben erhaltene wärmeentwickelbare lichtempfindliche Material wurde belichtet und unter Verwendung einer automati schen Entwicklungsbehandlungsvorrichtung 15 s bei 105 °C entwickelt. Der Unterschied zwischen der bei 105 °C während 15 s erhaltenen Empfindlichkeit und der bei 110 °C während 15 s erhaltenen Empfindlichkeit wird als Prozentsatz, bezogen auf die bei 110 °C während 15 s erhaltene Empfindlichkeit, ausgedrückt. Hierbei ist die Empfindlichkeit ein Relativwert des Kehrwerts der Belichtungsmenge, die eine Dichte von 1,0 ergibt.
  • Die erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle 2 angegeben.
  • Figure 00750001
  • Wie aus Tabelle 2 ersichtlich ist, zeigen die erfindungsgemäßen Prüflinge 104 bis 111 mehr von den gewünschten Eigenschaften als die Vergleichsprüflinge 101 bis 103, da beim Testen der erfindungsgemäßen Prüflinge keine Übertragbarkeit beobachtet wurde und die Dichtevariation nach Thermoentwicklung und die Eigenschaftenvariation bei Entwicklung der erfindungsgemäßen Prüflinge unter variierter Thermoentwicklungsbedingung minimal waren.
  • Beispiel 2
  • Wärmeentwickelbare lichtempfindliche Materialien, die die Prüflinge 201 bis 203 waren, wurden auf die gleiche Weise wie bei der Gewinnung der wärmeentwickelbaren lichtempfindlichen Materialien in Beispiel 1 erhalten, wobei jedoch die Herstellungsbedingungen zu den im Folgenden angegebenen Bedingungen geändert wurden.
    • (1) Als Rückenschichtbeschichtungslösung, die auf der Rückenschichtseite appliziert wurde, wurde eine Rückenschichtbeschichtungslösung 2 verwendet, die aus den im Folgenden angegebenen Komponenten bestand.
    Rückenschichtbeschichtungslösung 2
    Celluloseacetatbutylat (10 %ige Methylethylketonlösung) 15 ml/m2
    Polyester (hergestellt von Good Year Co., Ltd.) 0,3 g/m2
    Farbstoff C 7 mg/m2
    fluorhaltiges grenzflächenaktives Mittel Gewicht, das in Tabelle 2 angegeben ist
    • (2) Als Oberflächenschutzbeschichtungslösung, die auf der Seite der lichtempfindlichen Schicht appliziert wurde, wurde die in Beispiel 1 verwendete Oberflächenschutzbeschichtungs lösung verwendet.
    • (3) Die Beschichtungsrate für die Seite der photographi schen Schicht wurde auf 30 m/min geregelt.
  • Die Rückenschichtrezepturnummern und Oberflächenschutzschichtrezepturnummern sind in Tabelle 3 angegeben.
  • Tabelle 3
    Figure 00770001
  • Wie aus Tabelle 3 ersichtlich ist, werden die erfindungsgemäßen Prüflinge 201 bis 203 als hervorragend betrachtet, da kein Transportversagen beobachtet wird (die Übertragbarkeit hervorragend ist) und Eigenschaftsvariationen, wenn die erfindungsgemäßen Prüflinge unter der variierten Thermoentwicklungsbedingung entwickelt werden, sehr gering sind.
  • Wirkung der Erfindung
  • Wenn ein wärmeentwickelbares lichtempfindliches Material in einer automatischen Behandlungsvorrichtung behandelt wird, können Transportfehler verhindert werden und ein Bild mit einer geringen Dichtevariation nach einem Thermoentwicklungsverfahren erhalten werden, auch wenn das Bild über einen längeren Zeitraum aufbewahrt wird, und ferner ein Bild mit einer geringen Variation von Empfindlichkeit und Schlei erbildung unabhängig von der Behandlungstemperatur erhalten werden.
  • Die offenbarte Ausführungsform kann durch einen Fachmann ohne Abweichung von der Idee und dem Umfang der Erfindung variiert werden.

Claims (6)

  1. Wärmeentwickelbares Material, das einen Schichtträger, eine Bilderzeugungsschicht, die organische Silbersalze umfasst, und eine Komponentenschicht, die auf der Bilderzeugungsschichtseite angebracht ist, und eine zweite Komponentenschicht, die entgegengesetzt zur Bilderzeugungsschichtseite angebracht ist, umfasst, wobei der Smooster-Wert auf der Oberfläche der Bilderzeugungsschichtseite des wärmeentwickelbaren Materials nicht mehr als 40 mm Hg beträgt und die Bilderzeugungsschicht oder die Komponentenschicht ein fluorhaltiges grenzflächenaktives Mittel umfasst und der Smooster-Wert auf der zur Bilderzeugungsschichtseite entgegengesetzten Oberfläche des Bilderzeugungsmaterials nicht weniger als 80 mm Hg beträgt und die zweite Komponentenschicht ein fluorhaltiges grenzflächenaktives Mittel umfasst.
  2. Wärmeentwickelbares Material nach Anspruch 1, wobei die Bilderzeugungsschicht oder die Komponentenschicht ein Reduktionsmittel oder eine Vorstufe eines Reduktionsmittels umfasst.
  3. Wärmeentwickelbares Material nach Anspruch 1, wobei die Bilderzeugungsschicht lichtempfindliche Silberhalogenidkörnchen umfasst und das wärmeentwickelbare Material ein wärmeentwickelbares lichtempfindliches Material ist.
  4. Wärmeentwickelbares Material nach Anspruch 1, wobei der Smooster-Wert auf der Oberfläche der Bilderzeugungsschichtseite des wärmeentwickelbaren Materials zwischen 0,1 mm Hg und 35 mm Hg beträgt.
  5. Wärmeentwickelbares Material nach Anspruch 1, wobei der Smooster-Wert auf der zur Bilderzeugungsschichtseite entgegengesetzten Oberfläche des Bilderzeugungsmaterials 85 mm Hg bis 400 mm Hg beträgt.
  6. Wärmeentwickelbares Material nach Anspruch 3, wobei der Gehalt an tafelförmigen Körnchen in den gesamten organischen Silberkörnchen in der Bilderzeugungsschicht nicht weniger als 60 Mol-% beträgt.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6485898B2 (en) * 2000-01-05 2002-11-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photothermographic material
US6548240B2 (en) * 2000-09-27 2003-04-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photothermographic material
JP4135450B2 (ja) * 2002-09-24 2008-08-20 コニカミノルタホールディングス株式会社 銀塩光熱写真ドライイメージング材料
JP2007004070A (ja) * 2005-06-27 2007-01-11 Fujifilm Holdings Corp 熱現像感光材料および画像形成方法
JP2007233097A (ja) * 2006-03-01 2007-09-13 Fujifilm Corp 熱現像感光材料
US7622247B2 (en) * 2008-01-14 2009-11-24 Carestream Health, Inc. Protective overcoats for thermally developable materials

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2517343B2 (ja) * 1988-01-26 1996-07-24 富士写真フイルム株式会社 熱現像感光材料
JP3628020B2 (ja) * 1993-11-06 2005-03-09 アグファ・ゲヴェルト・ナームロゼ・ベンノートチャップ 保護感熱性記録材料を用いる直接熱像形成方法
US5582966A (en) * 1994-04-27 1996-12-10 Konica Corporation Method for producing a silver halide photographic light-sensitive material
DE69505605T2 (de) * 1994-07-13 1999-05-27 Agfa Gevaert Nv Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial
US5532121A (en) * 1995-03-24 1996-07-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Mottle reducing agent for photothermographic and thermographic elements
US5750328A (en) * 1995-04-13 1998-05-12 Eastman Kodak Company Thermally processable imaging element comprising polymeric matte particles
JP3922734B2 (ja) * 1995-05-23 2007-05-30 富士フイルム株式会社 感赤外線性熱現像ハロゲン化銀感光材料
US6203972B1 (en) 1996-04-26 2001-03-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photothermographic material
JP3841317B2 (ja) * 1997-01-24 2006-11-01 富士写真フイルム株式会社 画像形成方法
US6387604B2 (en) 1998-01-28 2002-05-14 Konica Corporation Processing method of thermally developable photosensitive material

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