DE69933692T2 - Keimschicht für nickeloxid pinning-schicht zur erhöhung desr magnetwiderstands eines spinventilfühlers - Google Patents
Keimschicht für nickeloxid pinning-schicht zur erhöhung desr magnetwiderstands eines spinventilfühlers Download PDFInfo
- Publication number
- DE69933692T2 DE69933692T2 DE69933692T DE69933692T DE69933692T2 DE 69933692 T2 DE69933692 T2 DE 69933692T2 DE 69933692 T DE69933692 T DE 69933692T DE 69933692 T DE69933692 T DE 69933692T DE 69933692 T2 DE69933692 T2 DE 69933692T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- magnetic
- pinned
- spin valve
- gap
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y25/00—Nanomagnetism, e.g. magnetoimpedance, anisotropic magnetoresistance, giant magnetoresistance or tunneling magnetoresistance
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/02—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
- G01R33/06—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
- G01R33/09—Magnetoresistive devices
- G01R33/093—Magnetoresistive devices using multilayer structures, e.g. giant magnetoresistance sensors
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
- G11B5/3906—Details related to the use of magnetic thin film layers or to their effects
- G11B5/3929—Disposition of magnetic thin films not used for directly coupling magnetic flux from the track to the MR film or for shielding
- G11B5/3932—Magnetic biasing films
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
- G11B5/3967—Composite structural arrangements of transducers, e.g. inductive write and magnetoresistive read
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/32—Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
- H01F10/324—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer
- H01F10/3268—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer the exchange coupling being asymmetric, e.g. by use of additional pinning, by using antiferromagnetic or ferromagnetic coupling interface, i.e. so-called spin-valve [SV] structure, e.g. NiFe/Cu/NiFe/FeMn
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B2005/3996—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects large or giant magnetoresistive effects [GMR], e.g. as generated in spin-valve [SV] devices
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
- G11B5/3906—Details related to the use of magnetic thin film layers or to their effects
- G11B5/3945—Heads comprising more than one sensitive element
- G11B5/3948—Heads comprising more than one sensitive element the sensitive elements being active read-out elements
- G11B5/3951—Heads comprising more than one sensitive element the sensitive elements being active read-out elements the active elements being arranged on several parallel planes
- G11B5/3954—Heads comprising more than one sensitive element the sensitive elements being active read-out elements the active elements being arranged on several parallel planes the active elements transducing on a single track
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
- Y10T29/49021—Magnetic recording reproducing transducer [e.g., tape head, core, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
- Y10T29/49021—Magnetic recording reproducing transducer [e.g., tape head, core, etc.]
- Y10T29/49027—Mounting preformed head/core onto other structure
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
- Y10T29/49021—Magnetic recording reproducing transducer [e.g., tape head, core, etc.]
- Y10T29/49032—Fabricating head structure or component thereof
- Y10T29/49036—Fabricating head structure or component thereof including measuring or testing
- Y10T29/49041—Fabricating head structure or component thereof including measuring or testing with significant slider/housing shaping or treating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
- Y10T29/49021—Magnetic recording reproducing transducer [e.g., tape head, core, etc.]
- Y10T29/49032—Fabricating head structure or component thereof
- Y10T29/49036—Fabricating head structure or component thereof including measuring or testing
- Y10T29/49043—Depositing magnetic layer or coating
- Y10T29/49044—Plural magnetic deposition layers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
- Y10T29/49021—Magnetic recording reproducing transducer [e.g., tape head, core, etc.]
- Y10T29/49032—Fabricating head structure or component thereof
- Y10T29/49036—Fabricating head structure or component thereof including measuring or testing
- Y10T29/49043—Depositing magnetic layer or coating
- Y10T29/49046—Depositing magnetic layer or coating with etching or machining of magnetic material
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
- Y10T29/49021—Magnetic recording reproducing transducer [e.g., tape head, core, etc.]
- Y10T29/49032—Fabricating head structure or component thereof
- Y10T29/49048—Machining magnetic material [e.g., grinding, etching, polishing]
- Y10T29/49052—Machining magnetic material [e.g., grinding, etching, polishing] by etching
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Hall/Mr Elements (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Magnetic Ceramics (AREA)
- Measuring Magnetic Variables (AREA)
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft eine Keimschicht für eine Pinning-Schicht aus Nickeloxid (NiO) zur Erhöhung des Magnetwiderstands eines Spinventilsensors und im Besonderen eine Keimschicht zwischen der ersten Spaltschicht und der Pinning-Schicht aus Nickeloxid (NiO) eines unteren Spinventilsensors zur Erhöhung des Magnetwiderstands des Sensors.
- Ein Spinventilsensor wird von einem Lesekopf zum Abfühlen der Magnetfelder auf einem beweglichen Magnetmedium, etwa einer sich drehenden Magnetplatte, verwendet. Der Sensor umfasst eine erste nicht-magnetische, elektrisch leitfähige Abstandsschicht, die zwischen einer ferromagnetischen Pinning-Schicht und einer freien ferromagnetischen Schicht zwischengeschichtet ist. Eine antiferromagnetische Pinning-Schicht bildet eine Grenzfläche mit der gepinnten Schicht zum Pinnen des magnetischen Moments der Pinning-Schicht in einem Winkel von 90° zu einer Luftlagerfläche (ABS), die eine ungeschützte, dem Magnetmedium gegenüberliegende Oberfläche des Sensors ist. Erste und zweite Zuleitungen sind mit dem Spinventilsensor zum Leiten eines Abfühlstroms durch denselben verbunden. Das magnetische Moment der freien Schicht ist in positiven und negativen Richtungen von einer Nullarbeitspunkt-Position als Reaktion auf positive und negative Magnetfelder von einem beweglichen Magnetmedium frei drehbar. Die Nullarbeitspunkt-Position ist die Position des magnetischen Moments der freien Schicht, wenn der Sensor sich in einem Ruhezustand befindet und zwar dann, wenn der Abfühlstrom durch den Sensor geleitet wird, ohne dass irgendwelche Magnetfeldeinflüsse von einer drehenden Magnetplatte auftreten. Das magnetische Moment ist vorzugsweise parallel zur ABS im Ruhezustand des Sensors. Wenn das magnetische Moment der freien Schicht nicht im Wesentlichen parallel zur ABS im Ruhezustand ist, wird eine Lesesignalasymmetrie nach dem Auftreten positiver und negativer Magnetfeldeinflüsse von einer drehenden Magnetplatte auftreten.
- Die Dicke der Abstandsschicht wird so gewählt, dass diese weniger als die mittlere freie Weglänge der durch den Sensor geleiteten Elektronen beträgt. Durch diese Anordnung wird ein Teil der leitfähigen Elektronen durch die Grenzflächen der Abstandsschicht mit gepinnten und freien Schichten gestreut. Wenn die magnetischen Momente der gepinnten und freien Schichten in Bezug auf einander parallel angeordnet sind, ist die Streuung minimal und wenn deren magnetische Momente antiparallel sind, ist die Streuung maximal. Veränderungen der Streuung ändern den Widerstand des Spinventilsensors in Bezug auf cos q, wobei q den Winkel zwischen den magnetischen Momenten der gepinnten Schicht und der freien Schicht darstellt. Ein Spinventilsensor weist einen erheblich höheren Magnetwiderstand auf als ein anisotroper Magnetwiderstandssensor (AMR-Sensor). Daher wird er manchmal auch als Riesen-Magnetwiderstandssensor (GMR-Sensor) bezeichnet.
- Die Position des Arbeitspunktes auf dem Übergangsverlauf wird von vier Kräften auf der freien Schicht beeinflusst, nämlich einem ferromagnetischen Kopplungsfeld (HFC) zwischen der gepinnten und der freien Schicht, einem Entmagnetisierungsfeld (Hdemag) von der gepinnten Schicht, Abfühlstromfeldern (HSC) von allen leitfähigen Schichten des Spinventilsensors, mit Ausnahme der freien Schicht, sowie von einem AMR-Effekt beeinflusst. Der Einfluss des AMR-Effekts auf den Arbeitspunkt entspricht dem des magnetischen Einflusses und kann hinsichtlich Größenordnung und Richtung definiert werden.
- Ein unterer Spinventilsensor (Bottom Spin Valve) verwendet üblicherweise eine Pinning-Schicht aus Nickeloxid (NiO) zum Pinnen des magnetischen Moments der gepinnten Schicht senkrecht zur ABS. Die Pinning-Schicht wird direkt auf der ersten Spaltschicht aus Aluminium (Al2O3) ausgebildet. Nachfolgende, ausgebildete Schichten sind die Abstandsschicht, die freie Schicht, die zweite Spaltschicht und die zweite Abschirmschicht. Zu diesem Zeitpunkt weist der Spinventilsensor einen Magnetwiderstand von dR/R auf, wobei R der Widerstand des Sensors und dR die Änderung des Sensorwiderstands nach dem Anlegen eines angelegten Feldes ist. Im Zuge der Bildung des Schreibkopfs werden die Mehrfach-Fotoresistschichten des Isolierstapels bei 225° bis 250° für 6 bis 11 Stunden hartgebacken. Durch das Hartbacken wird der zuvor erwähnte Magnetwiderstand des Sensors verringert. Das Ausmaß der Reduktion bestimmt die Wärmebeständigkeit des Sensors.
- Die Bestrebungen gehen weiterhin in Richtung der Bildung eines Spinventilsensors mit einem hohen Magnetwiderstand, der die Hartbackzyklen des Schreibkopfs unbeschadet übersteht. Hoher Magnetwiderstand ist mit einer erhöhten Empfindlichkeit des Spinventilsensors auf Magnetflusseinflüsse einer drehenden Platte gleichzusetzen. Eine weitere Überlegung gilt jedoch dem ferromagnetischen Kopplungsfeld (HC) zwischen der gepinnten und der freien Schicht. Es ist wünschenswert, das ferromagnetische Kopplungsfeld zu minimieren, da das ferromagnetische Kopplungsfeld den Arbeitspunkt des Sensors beeinflusst. Eine ferromagnetische Kopplung muss durch ein anderes Magnetfeld aufgehoben werden, um einen Null-Arbeitspunkt zu erreichen. Die auf der freien Schicht angelegten Abfühlstromfelder müssen ebenfalls aufgehoben werden. Da die Erhöhung des Magnetwiderstands weiterhin angestrebt wird, ist es wichtig, dass der Spinventilsensor nicht durch einen anderen Faktor negativ beeinflusst wird, wie etwa durch eine hohe ferromagnetische Kopplung zwischen den gepinnten und den freien Schichten.
- Das US-Patent Nr. 5-793-207 offenbart einen Spinventilsensor und harte Vormagnetisierungsschichten, die von einer Oberflächenunebenheiten-Ausgleichsschicht durch eine antiferromagnetische Schicht aus isolierendem Material elektrisch isoliert sind.
- Durch die Verwendung spezifischer Keimschichten für die Pinning-Schicht aus Nickeloxid (NiO) in einem unteren Spinventilsensor kann der Magnetwiderstand des Spinventils erhöht werden. In einer bevorzugten Ausführungsform wird die Keimschicht aus Tantaloxid (TayOX) direkt auf der ersten Spaltschicht ausgebildet und die Pinning-Schicht aus Nickeloxid (NiO) wird direkt auf der Keimschicht aus Tantaloxid gebildet. Darauf folgend befinden sich die Abstands- und die freie Schicht und schließlich der Schreibkopf. Nur ein normaler Abfall tritt im Magnetwiderstand nach dem Backschritt beim Ausbilden des Schreibkopfs auf. Die Erfindung ist auf einen antiparallelen (AP), gepinnten unteren Spinventilsensor sowie auf den zuvor erwähnten, einfachen unteren Spinventilsensor anwendbar. Der AP-gepinnte, untere Spinventilsensor verwendet eine gepinnte Schicht, die einen zwischen einem ersten und einem zweiten Magnetfilm befindlichen Ruthenium-(Ru)-Film aufweist, der aus Kobalt (Co) bestehen kann.
- Ein Ziel der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines Spinventilsensors mit verbessertem Magnetwiderstand.
- Ein anderes Ziel ist die Bereitstellung eines unteren, einfachen oder AP-gepinnten Spinventilsensors mit verbessertem Magnetwiderstand, ohne dabei andere Leistungsfaktoren des Sensors zu verschlechtern.
- Ein weiteres Ziel ist die Bereitstellung einer Keimschicht für eine Pinning-Schicht aus Nickeloxid (NiO) eines unteren, einfachen oder AP-gepinnten Spinventilsensors, die den Magnetwiderstand des Sensors erhöht, ohne die ferromagnetische Kopplung zwischen der gepinnten Schicht und der freien Schicht über einen akzeptablen Pegel hinaus zu erhöhen.
- Andere Ziele und Vorteile der Erfindung werden nach dem Studieren der folgenden Beschreibung in Bezug auf die beigefügten Zeichnungen ersichtlich.
-
1 ist eine planare Ansicht eines beispielhaften Magnetplattenlaufwerks; -
2 ist eine Stirnansicht eines Gleitstücks, geschnitten entlang einer 2-2-Ebene, mit einem Magnetkopf (angedeutet durch verdeckte Linien); -
3 ist eine Seitenansicht des Magnetplattenlaufwerks, worin mehrere Platten und Magnetköpfe verwendet werden; -
4 ist eine dreidimensionale Darstellung eines beispielhaften Aufhängungssystems zum Halten des Gleitstücks und des Magnetkopfs; -
5 ist eine ABS-Ansicht des Gleitstücks, verlaufend entlang der 5-5-Ebene von2 ; -
6 ist eine teilweise Seitenansicht des Gleitstücks und des Magnetkopfs, geschnitten entlang einer 6-6-Ebene von2 ; -
7 ist eine teilweise ABS-Ansicht des Gleitstücks entlang einer 7-7-Ebene von6 , um die Lese- und Schreibelemente des Magnetkopfs zu veranschaulichen; -
8 ist eine Ansicht entlang der 8-8-Ebene von6 , wobei die gesamte Teile oberhalb der Spulenschicht entfernt sind; -
9 ist eine ABS-Ansicht eines einfachen, unteren Spinventilsensors mit einer Keimschicht aus Tantaloxid der vorliegenden Erfindung für die antiferromagnetische Schicht; -
10 ist eine dreidimensionale Darstellung von9 ; -
11 ist eine ABS-Ansicht eines AP-gepinnten, unteren Spinventilsensors mit einer Keimschicht aus Tantaloxid für die antiferromagnetische Schicht; -
12 ist eine dreidimensionale Darstellung von11 ; -
15A ,15B und15C veranschaulichen ein erstes Verfahren zur Herstellung einer Keimschicht aus Tantaloxid der vorliegenden Erfindung; und -
16A und16B stellen ein zweites Verfahren zur Herstellung einer Keimschicht aus Tantaloxid der vorliegenden Erfindung dar. - Magnettplattenlaufwerk
- Nun wird näher auf die Zeichnungen eingegangen, worin dieselben Bezugszeichen die gleichen oder ähnliche Teile in den verschiedenen Ansichten kennzeichnen; in den
1 bis3 wird ein Magnetplattenlaufwerk30 abgebildet. Das Laufwerk30 umfasst eine Spindel32 , die eine Magnetplatte34 lagert und dreht. Die Spindel32 wird von einem Motor36 gedreht, der von einer Motorsteuerung38 gesteuert wird. Ein kombinierter Lese- und Schreibmagnetkopf40 ist auf einem Gleitstück42 befestigt, der wiederum von einer Aufhängung44 und einem Aktuatorarm46 getragen wird. Eine Vielzahl an Platten, Gleitstücken und Aufhängungen können in einer Direktzugriffsspeichervorrichtung (DASD) mit großer Kapazität verwendet werden, wie in3 abgebildet. Die Aufhängung44 und der Aktuatorarm46 positionieren das Gleitstück42 , so dass der Magnetkopf40 in einer Wandlerbeziehung mit der Oberfläche der Magnetplatte34 steht. Wenn die Platte34 vom Motor36 gedreht wird, wird das Gleitstück von einem dünnen (üblicherweise 0,5 μm) Luftpolster (Luftlagerung) zwischen der Oberfläche der Platte34 und der Luftlagerfläche (ABS)48 getragen. Der Magnetkopf40 kann dann zum Schreiben der Informationen in den vielen, kreisförmigen Spuren auf der Oberfläche einer Platte34 sowie zum Ablesen der Informationen davon einsetzt werden. Die Verarbeitungsschaltung50 tauscht Signale aus, die derartige Informationen darstellen, mit dem Kopf40 , stellt Motorsteuerungssignale zum Drehen der Magnetplatte34 und Kontrollsignale zum Bewegen des Gleitstücks zu den verschiedenen Spuren bereit. In4 wird das Gleitstück42 als auf der Aufhängung44 befestigt dargestellt. Die oben beschriebenen Komponenten können auf einem Rahmen54 eines Gehäuses55 , wie in3 zu sehen, angebracht sein. -
5 ist eine ABS-Ansicht des Gleitstücks42 und des Magnetkopfs40 . Das Gleitstück weist eine Mittelschiene56 , die den Magnetkopf40 trägt, sowie Seitenschienen58 und60 auf. Die Schienen56 ,58 und60 erstrecken sich von einer Querschiene62 aus. In Bezug auf die Drehung der Magnetplatte34 , befindet sich die Querschiene62 an einer Vorderkante64 des Gleitstücks und der Magnetkopf40 befindet sich an einer Hinterkante66 des Gleitstücks. - Magnetkopf
-
6 ist eine Seitenquerschnittsansicht des Magnetkopfs40 , der einen Schreibkopfabschnitt70 und einen Lesekopfabschnitt72 umfasst, wobei der Lesekopfabschnitt einen Spinventilsensor74 gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet.7 ist eine ABS-Ansicht von6 . Der Sensor74 befindet sich zwischen einer ersten und einer zweiten Spaltschicht76 und78 und die Spaltschichten befinden sich wiederum zwischen einer ersten und einer zweiten Abschirmschicht80 und82 . - Als Reaktion auf externe Magnetfelder ändert sich der Widerstand des Sensors
74 . Ein durch den Sensor geleiteter Abfühlstrom (siehe9 ) bewirkt, dass diese Widerstandsänderungen sich als potentielle Veränderungen zeigen. Diese potentiellen Veränderungen werden dann als Abrufsignale durch die Verarbeitungsschaltung50 , wie in3 zu sehen, verarbeitet. - Schreibkopfabschnitte nach bekanntem Stand der Technik von Magnetköpfen umfassen eine Spulenschicht
84 , die zwischen der ersten und der zweiten Isolierschicht86 und88 platziert ist. Eine dritte Isolierschicht90 kann zur Planarisierung des Kopfs eingesetzt werden, um Unebenheiten zu beseitigen, die in der zweiten Isolierschicht durch die Spulenschicht84 hervorgerufen werden. Die erste, zweite und dritte Isolierschicht werden auf dem Gebiet der Technik als „Isolierstapel" bezeichnet. Die Spulenschicht84 und die erste, zweite und dritte Isolierschicht86 ,88 und90 sind zwischen der ersten und der zweiten Polschuhschicht92 und94 positioniert. Die erste und die zweite Polschuhschicht92 und94 sind mit einem hinterem Spalt96 magnetisch gekoppelt und verfügen über eine erste und eine zweite Polspitze98 und100 , die durch eine Schreibspaltschicht102 getrennt an der ABS vorliegen. Wie in den2 und4 abgebildet, verbinden eine erste und eine zweite Lötverbindung104 und106 die Zuleitungen vom Sensor74 mit den Zuleitungen112 und124 an der Aufhängung44 . Dritte und vierte Lötverbindungen118 und106 verbinden die Zuleitungen120 und122 von der Spule84 (siehe8 ) mit den Zuleitungen126 und114 auf der Aufhängung. Es ist dabei zu anzumerken, dass der Magnetkopf40 eine Einfach-Schicht82 /92 verwendet, um gleich zwei Funktionen auszufüllen und zwar dient diese als eine zweite Abschirmschicht für den Lesekopf und als einen ersten Polschuh für den Schreibkopf. Dieser Magnetkopftyp wird auf dem Gebiet der Erfindung als „integrierter Kopf" bezeichnet. Ein Huckepackkopf verwendet zwei getrennte Schichten zur Durchführung dieser Funktionen. - Die Erfindung
-
9 und10 sind schematische Darstellungen des vorliegenden Spinventilsensors200 eines Lesekopfs, der eine nicht-magnetische, elektrisch leitfähige Ab standsschicht202 umfasst, die zwischen einer freien ferromagnetischen Schicht204 und einer gepinnten ferromagnetischen Schicht206 zwischengeschichtet ist. Die gepinnte Schicht206 , die über einen ersten gepinnten Film207 aus Nickeleisen (NiFe) und einen zweiten gepinnten Film208 aus Kobalt (Co) verfügen kann, weist ein magnetisches Moment209 (siehe10 ) auf, das vorzugsweise senkrecht zur ABS210 durch eine antiferromagnetische Schicht (AFM)212 gepinnt ist. Jeder Kreis mit einem ⨂ deutet an, dass die Richtung des magnetischen Moments vom Leser wegführt. Im Ruhezustand (Abfühlstrom wird durch den Sensor200 geleitet, aber ohne jedwede magnetische Einflüsse von einer sich drehenden Magnetplatte) ist ein magnetisches Moment214 der freien Schicht204 vorzugsweise parallel zur ABS210 . Demgemäß dreht sich das magnetische Moment214 der freien Schicht von der parallelen, in10 abgebildeten Position nach oben bzw. nach unten, wenn positive und negative Einflüsse auf den Spinventilsensor200 von einer sich drehenden Magnetplatte angelegt werden. Die parallele Position des magnetischen Moments214 ist im Allgemeinen der Nullarbeitspunkt auf dem Transferkurve des Spinventilsensors und wenn dieser im Ruhezustand von dieser parallelen Position nach oben und nach unten platziert wird, beträgt der Arbeitspunkt des Spinventilsensors nicht Null, aber einen anderen, positiven oder negativen Wert je nach Nullposition. Wenn das magnetische Moment214 sich in der Nullarbeitspunkt-Position befindet, weist das Lesesignal eine Symmetrie um den Arbeitspunkt herum auf, wenn jedoch das magnetische Moment von der parallelen Position winkelig nach oben oder unten verläuft, wie in10 zu sehen, ist das Lesesignal asymmetrisch. Demzufolge ist es wünschenswert, dass das magnetische Moment214 der freien Schicht am Nullarbeitspunkt positioniert wird, der die in10 dargestellte, parallele Position ist, wenn der Lesesensor200 sich im Ruhezustand befindet, also wenn der Abfühlstrom IS fließt, jedoch keine magnetischen Einflüsse von der sich drehenden Magnetplatte ausgehen. - Wie oben erwähnt, wirken verschiedene Kräfte auf das magnetische Moment
214 der freien Schicht, wenn der Spinventil-Lesesensor sich im Ruhezustand befindet. Die Kräfte umfassen ein ferromagnetisches Kopplungsfeld zwischen der freien Schicht204 und der gepinnten Schicht206 , ein Entmagnetisierungsfeld von der gepinnten Schicht206 , Abfühlstromfelder, wenn der Abfühlstrom IS durch den Sensor von allen leitfähigen Platten des Spinventilsensors mit Ausnahme der freien Schicht204 geleitet wird, sowie Beeinflussungen durch einen AMR-Effekt. Am stärksten von diesen Einflüssen sind die Abfühlstromfelder von der Abstandsschicht202 und der gepinnten Schicht206 . Die AFM-Schicht212 ist auf der ersten Spaltschicht216 ausgebildet, wobei die erste Spaltschicht auch in6 , gekennzeichnet mit Ziffer76 , abgebildet ist. Eine Deckschicht218 , die aus Tantal (Ta) sein kann, wird auf der freien Schicht204 ausgebildet, bevor die zweite Spaltschicht78 , in6 dargestellt, gebildet wird. - Die AFM-Schicht kann 425 Å aus Nickeloxid (NiO), die gepinnte Schicht
207 8 Å aus Nickeleisen (NiFe), die gepinnte Schicht208 12 Å aus Kobalt (Co), die Abstandsschicht 22 Å aus Kupfer (Cu), die freie Schicht204 70 Å aus Nickeleisen (NiFe) und die Deckschicht218 50 Å aus Tantal (Ta) sein. Während der Herstellung des Schreibkopfs wird der Sensor200 10 Stunden lang einer Temperatur von 230°C ausgesetzt. Nach der Herstellung des Kopfes wird die AFM-Schicht212 durch Anlegen einer Temperatur von 200°C bis 250°C 10 Minuten lang in Gegenwart eines Feldes, das senkrecht zur ABS verläuft, rückgestellt. Dies bringt die magnetischen Spins der AFM-Schicht212 in eine senkrechte Ausrichtung, die durch Austauschkopplung die magnetischen Momente der gepinnten Filme207 und208 in die gleiche Richtung pinnt, nämlich senkrecht zur ABS. - In der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird eine Keimschicht
201 aus Tantaloxid (TayOx) zwischen der ersten Spaltschicht216 und der AFM-Schicht212 verwendet, wie in den9 und10 abgebildet. Die Keimschicht aus Tantaloxid erhöht den Magnetwiderstand (dR/R) des Sensors200 im Vergleich zu einem einfachen, unteren Spinventilsensor ohne die Keimsicht mit Tantaloxid und zwar in den Fällen des abgeschiedenen Zustands des Sensors, nach der Durchführung des Rückstellens der AFM-Schicht212 und des Hartbackens der Isolierschichten des Schreibkopfs. Die Keimschicht201 aus Tantaloxid erhöht das ferromagnetische Kopplungsfeld zwischen der gepinnten Schicht208 und der freien Schicht204 nicht wesentlich. Da Tantaloxid nichtleitend ist, wird ferner kein Abfühlstrom durch dieses geshuntet und es wird auch kein Abfühlstromfeld auf die freie Schicht204 angelegt, um deren Arbeitspunkt zu beeinflussen. - In den
11 und12 ist ein antiparallel (AP) gepinntes, unteres Spinventil300 zu sehen, das eine Keimschicht301 aus Tantaloxid (TayOx) aufweist. In dieser Ausführungsform ist eine Abstandsschicht302 zwischen einer freien Schicht304 und einer AP-gepinnten Schicht306 positioniert. Die AP-gepinnte Schicht306 , die im US-Patent Nr. 5-701-223 beschrieben wird, kann eine Abstandsschicht308 aus 8 Å Ruthenium (Ru) enthalten, die zwischen den gepinnten Filmen310 und311 auf der einen Seite, die wiederum mit der antiferromagnetischen Schicht (AFM-Schicht) austauschgekoppelt sind, und einer antiparallel gepinnten Schicht317 auf der anderen Seite, die gegenüber der Abstandsschicht302 liegt, angeordnet ist. Die AFM-Schicht312 pinnt das magnetische Moment318 der gepinnten Filme310 in einer senkrecht zur ABS befindlichen Richtung und das magnetische Moment320 des AP-gepinnten Films317 wird in einer gegensätzlichen Richtung senkrecht zur ABS gepinnt. Jeder Kreis mit einem Punkt darin deutet an, dass die Richtung des magnetischen Moments zum Leser hin verläuft. Der gepinnte Film310 kann 10 Å aus Nickeleisen (Ni-Fe), der gepinnte Film311 24 Å aus Kobalt (Co), die Abstandsschicht308 8 Å aus Ruthenium (Ru) und der AP-gepinnte Film317 24 Å aus Kobalt (Co) sein. Das magnetische Moment322 der freien Schicht304 ist parallel zur ABS abgebildet. Eine Deckschicht324 wird auf der freien Schicht304 vor der Bildung der zweiten Spaltschicht78 und des Schreibkopfs70 , wie in6 dargestellt, ausgebildet. - Die Keimschicht
301 kann 35 Å aus Tantaloxid (TayOx), die AFM-Schicht 425 Å aus Nickeloxid, die Abstandsschicht302 22 Å aus Kupfer (Cu), die freie Schicht304 70 Å aus Nickeleisen (NiFe) und die Deckschicht324 50 Å aus Kobalt (Co) sein. Der Magnetwiderstand des Spinventilsensors300 wird durch die Verwendung einer Keimschicht aus Tantaloxid (TayOx) im Vergleich zu einem AP-gepinnten, unteren Spinventilsensor erhöht, der eine derartige Keimschicht in den Fällen eines im abgeschiedenen Zustand befindlichen Sensors, also nach dem Rückstellen der AFM-Schicht212 und dem Hartbacken der Isolationsschichten des Schreibkopfs, nicht verwendet. Ferner ist die Erhöhung des ferromagnetischen Kopplungsfelds zwischen der gepinnten Schicht208 und der freien Schicht204 durch Keimschicht aus Tantaloxid nicht wirklich beträchtlich. Außerdem ist die Keimschicht aus Tantaloxid nicht leitfähig und wird weder einen Abfühlstrom abzweigen, noch wird sie ein Abfühlstromfeld auf der freien Schicht304 anlegen, welches deren Arbeitspunkt beeinflusst. - Ein Verfahren zur Herstellung einer Keimschicht
401 aus Tantaloxid (TayOx), wie in den11 und12 zu sehen, wird in den15A ,15B und15C dargestellt. In15A wird eine Tantal-Keimschicht401 auf der ersten Spaltschicht (G1) abgeschieden. Danach wird die Keimschicht401 Sauerstoff ausgesetzt, was das Oxidieren eines oberen Oberflächenabschnitts bewirkt. Diese Schritte können in einer Sputterkammer (nicht abgebildet) durchgeführt werden, worin die Tantal-(Ta)-Keimschicht auf die erste Spaltschicht (G1) gesputtert wird, wie in15 dargestellt, gefolgt von der Einführung von Sauerstoff durch einen Einlass in die Kammer, so dass die Keimschicht oxidiert. Daraufhin wird die AFM-Schicht412 aus Nickeloxid (NiO) abgeschieden, wie in15C abgebildet. Das dR/R in dieser Ausführungsform betrug 4,53 % und das ferromagnetische Kopplungsfeld (HC) von der AP-gepinnten Schicht316 zur freien Schicht304 war 4,0 Oe oder 4,0 x 10–4T. - In
16A wurde die Keimschicht aus Tantaloxid (Ta) in Gegenwart von Sauerstoff (O2) mittels Sputtern abgeschieden, was auf dem Gebiet als Abscheidung durch Ionenstrahlsputtern bezeichnet wird. Als Nächstes wird die AFM-Schicht aus Nickeloxid (NiO)412 auf der Keimschicht401 abgeschieden, wie in16B dargestellt. Das dR/R in dieser Ausführungsform betrug 4,65 % und das ferromagnetische Kopplungsfeld (HC) wies 4,0 Oe oder 4,0 x 10–4T auf. - Es ist ersichtlich, dass eine Keimschicht aus Tantaloxid (TayOx) für eine AFM-Schicht aus Nickeloxid (NiO) in einem unteren, AP-gepinnten Spinventilsensor das dR/R erhöht. Es wird angenommen, dass die Keimschicht aus Tantaloxid die Pinning-Schicht aus Nickeloxid (NiO) verbessert, indem es deren Mikrostruktur von oben nach unten einheitlicher macht. Weiters wird darüber spekuliert, ob es die Korngröße und deren Textur verbessert. Es ist verständlich, dass andere Dicken für die verschiedene, oben beschriebenen Schichten verwendet werden können. Ungeachtet der Dicke der Keimschicht aus Tantaloxid wird dies die Mikrostruktur der AFM-Pinning-Schicht aus Nickeloxid (NiO) verbessern, um das dR/R des Sensors zu erhöhen. Die Erfindung umfasst ebenfalls die Verwendung von Tantaloxid in einem Spinventilsensor, der keine AP-gepinnte Schicht, wie in den
9 und10 zu sehen, verwendet.
Claims (12)
- Spinventilsensor mit einer Luftlagerfläche (ABS), umfassend: eine antiferromagnetische Pinning-Schicht (
212 ) aus Nickeloxid (NiO); eine nicht-magnetische, elektrisch leitfähige Abstandsschicht (202 ), eine gepinnte Schicht (206 ) und eine freie ferromagnetische Schicht (204 ); wobei die Abstandsschicht (202 ), zwischen der Pinning-Schicht (212 ) und der freien Schicht (204 ) zwischengeschichtet und mit diesen in Grenzflächeneingriff ist; wobei der Sensor Folgendes umfasst: eine Keimschicht (201 ); wobei die Pinning-Schicht (212 ) zwischen der Keimschicht (201 ) und der gepinnten Schicht (206 ) zwischengeschichtet ist, wobei die Keimschicht (201 ) mit der Pinning-Schicht (212 ) in Grenzflächeneingriff ist; dadurch gekennzeichnet, dass die Keimschicht (201 ) eine Keimschicht aus Tantaloxid ist. - Spinventilsensor nach Anspruch 1, worin die gepinnte Schicht (
206 ) eine antiparallele (AP) gepinnte Schicht ist, die Folgendes umfasst: einen ersten und einen zweiten ferromagnetischen Film (207 ,208 ); einen zwischen dem ersten und dem zweiten ferromagnetischen Film (207 ,208 ) zwischengeschichteten Abstandsfilm aus Ruthenium (Ru); wobei der erste ferromagnetische Film (207 ) eine Grenzfläche mit der Pinning-Schicht (212 ) bildet und sein magnetisches Moment von der Pinning-Schicht (212 ) in eine erste Richtung gepinnt ist; und der zweite ferromagnetische Film (208 ) eine Grenzfläche mit der Abstandsschicht (202 ) bildet und sein magnetisches Moment vom ersten ferromagnetischen Film (207 ) in eine zweite Richtung gepinnt ist, die zur ersten Richtung antiparallel ist. - Spinventilsensor nach Anspruch 1 oder 2, worin die Keimschicht TayOx ist, das in Gegenwart von Sauerstoff (O2) reaktiv ionenstrahlgesputtert wurde.
- Spinventilsensor nach Anspruch 1 oder 2, worin die Keimschicht TayOx umfasst, das oxidiert wurde, in dem es Sauerstoff (O2) ausgesetzt wurde.
- Magnetkopf mit einer Luftlagerfläche (ABS), umfassend: einen Lesekopf, der Folgendes umfasst: einen auf angelegte Magnetfelder responsiven Spinventilsensor nach Anspruch 1; eine erste und eine zweite nicht-magnetische, elektrisch leitfähige Spaltschicht; wobei der Spinventilsensor zwischen der ersten und der zweiten Spaltschicht zwischengeschichtet ist; und eine erste und eine zweite elektrisch leitfähige Leitungsschicht, die zwischen der ersten und der zweiten Spaltschicht zwischengeschichtet und mit dem Spinventilsensor verbunden sind, um einen Abfühlstrom durch den Spinventilsensor zu leiten.
- Magnetkopf nach Anspruch 5, worin die gepinnte Schicht (
206 ) eine antiparallele (AP) gepinnte Schicht ist, die Folgendes umfasst: einen ersten und einen zweiten ferromagnetischen Film; einen zwischen dem ersten und dem zweiten ferromagnetischen Film zwischengeschichteten Abstandsfilm aus Ruthenium (Ru); wobei der erste ferromagnetische Film (207 ) eine Grenzfläche mit der Pinning-Schicht (212 ) bildet und sein magnetisches Moment von der Pinning-Schicht (212 ) in eine erste Richtung gepinnt ist; und der zweite ferromagnetische Film (208 ) eine Grenzfläche mit der Abstandsschicht (202 ) bildet und sein magnetisches Moment vom ersten ferromagnetischen Film (207 ) in eine zweite Richtung gepinnt ist, die zur ersten Richtung antiparallel ist. - Magnetplattenlaufwerk, das zumindest einen Magnetkopf mit einer Luftlagerfläche (ABS) umfasst, wobei das Laufwerk Folgendes umfasst: den Magnetkopf, der einen kombinierten Lesekopf und Schreibkopf umfasst; einen Lesekopf, der Folgendes umfasst: einen auf angelegte Magnetfelder responsiven Spinventilsensor nach Anspruch 1; eine erste und eine zweite nicht-magnetische, elektrisch leitfähige Spaltschicht; wobei der Spinventilsensor zwischen der ersten und der zweiten Spaltschicht zwischengeschichtet ist; und eine erste und eine zweite elektrisch leitfähige Leitungsschicht, die zwischen der ersten und der zweiten Spaltschicht zwischengeschichtet und mit dem Spinventilsensor verbunden sind, um einen Abfühlstrom durch den Spinventilsensor zu leiten; wobei der Lesekopf Folgendes umfasst: eine erste und eine zweite Polschuhschicht und eine Schreibspaltschicht; wobei die erste und die zweite Polschuhschicht durch die Schreibspaltschicht an der ABS getrennt sind und an einem rückwärtigen Spalt, der im Kopf von der ABS nach hinten zurückversetzt ist, verbunden sind; ein Isolierstapel mit zumindest einer ersten und einer zweiten Isolierschicht; zumindest eine im Isolierstapel eingebettete Spulenschicht; und wobei der Isolierstapel und die zumindest eine Spulenschicht zwischen der ersten und der zweiten Polschuhschicht angeordnet sind; die zweite Abschirmschicht und die erste Polschuhschicht eine gemeinsame Schicht sind; ein Gehäuse; eine drehbar im Gehäuse gelagerte Magnetplatte; ein im Gehäuse angeordnetes Lager zum Lagern des Magnetkopfs mit dessen ABS zur Magnetplatte hin gewandt, sodass der Magnetkopf mit der Magnetplatte eine Wandlerbeziehung aufweist; Mittel zum Drehen der Magnetplatte; Positionierungsmittel, die mit dem Lager verbunden sind, um den Magnetkopf in Bezug auf die Magnetplatte zu mehreren Positionen zu bewegen; und Verarbeitungsmittel, die mit dem Magnetkopf, dem Mittel zum Drehen der Magnetplatte und dem Positionierungsmittel verbunden sind, um zur Steuerung der Bewegung der Magnetplatte und zur Steuerung der Position des Magnetkopfs mit dem integrierten Magnetkopf Signale auszutauschen.
- Magnetplattenlaufwerk nach Anspruch 7, worin die gepinnte Schicht (
206 ) eine antiparallele (AP) gepinnte Schicht ist, die Folgendes umfasst: einen ersten und einen zweiten ferromagnetischen Film; einen zwischen dem ersten und dem zweiten ferromagnetischen Film zwischengeschichteten Abstandsfilm aus Ruthenium (Ru); wobei der erste ferromagnetische Film (207 ) eine Grenzfläche mit der Pinning-Schicht (212 ) bildet und sein magnetisches Moment von der Pinning-Schicht (212 ) in eine erste Richtung gepinnt ist; und der zweite ferromagnetische Film (208 ) eine Grenzfläche mit der Abstandsschicht (202 ) bildet und sein magnetisches Moment vom ersten ferromagnetischen Film (207 ) in eine zweite Richtung gepinnt ist, die zur ersten Richtung antiparallel ist. - Verfahren zur Herstellung eines Spinventilsensors, umfassend: das Ausbilden einer Keimschicht (
201 ); das Ausbilden einer antiferromagnetischen Pinning-Schicht (212 ) aus Nickeloxid (NiO) direkt auf der Keimschicht; das Ausbilden einer ferromagnetischen gepinnten Schicht (206 ) direkt auf der Pinning-Schicht; das Ausbilden einer nicht-magnetischen, elektrisch leitfähigen Abstandsschicht (202 ) auf der gepinnten Schicht; das Ausbilden einer freien ferromagnetischen Schicht (206 ) auf der Abstandsschicht; dadurch gekennzeichnet, dass die Keimschicht (201 ) eine Keimschicht aus Tantaloxid ist. - Verfahren zur Herstellung eines Magnetkopfs mit einer Luftlagerfläche (ABS) umfassend: das Ausbilden eines Lesekopfs, der Folgendes umfasst: das Ausbilden einer ersten ferromagnetischen Abschirmschicht; das Ausbilden einer ersten nicht-magnetischen, elektrisch isolierenden Spaltschicht auf der ersten Abschirmschicht; das Ausbilden eines Spinventilsensors gemäß den Schritten aus Anspruch 9 auf der ersten Spaltschicht durch Folgendes: das Ausbilden einer ersten und einer zweiten elektrisch leitenden Leitungsschicht, die auf der ersten Spaltschicht ausgebildet werden und mit dem Sensor verbunden sind; das Ausbilden einer nicht-magnetischen, elektrisch isolierenden zweiten Spaltschicht auf dem Sensor, der Zuleitungen und der ersten Spaltschicht; und das Ausbilden einer zweiten ferromagnetischen Abschirmschicht auf der zweiten Spaltschicht.
- Verfahren nach Anspruch 10, Folgendes umfassend: das Ausbilden eines Schreibkopfes, durch Folgendes: das Ausbilden einer Schreibspaltschicht und eines Isolierstapels mit einer darin eingebetteten Spulenschicht auf der zweiten Abschirmschicht, sodass die zweite Abschirmschicht auch als erster Polschuh für den Schreibkopf wirkt; und das Ausbilden einer zweiten Polschuhschicht auf dem Isolierstapel und dem Schreibspalt, der an einem rückwärtigen Spalt mit dem ersten Polschuh verbunden ist.
- Verfahren nach Anspruch 9 oder 10, worin die gepinnte Schicht (
206 ) eine antiparallele (AP) gepinnte Schicht ist, deren Aufbau Folgendes umfasst: das Ausbilden eines ersten ferromagnetischen Films (207 ); das Ausbilden eines Abstandsfilm aus Ruthenium (Ru) auf dem ersten ferromagnetischen Film (207 ); und das Ausbilden eines zweiten ferromagnetischen Films (207 ) auf dem Ruthenium-(Ru-)Film.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/205,470 US6201671B1 (en) | 1998-12-04 | 1998-12-04 | Seed layer for a nickel oxide pinning layer for increasing the magnetoresistance of a spin valve sensor |
US205470 | 1998-12-04 | ||
PCT/GB1999/003933 WO2000034946A1 (en) | 1998-12-04 | 1999-11-26 | Seed layer for a nickel oxide pinning layer for increasing the magnetoresistance of a spin valve sensor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69933692D1 DE69933692D1 (de) | 2006-11-30 |
DE69933692T2 true DE69933692T2 (de) | 2007-08-23 |
Family
ID=22762316
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69933692T Expired - Fee Related DE69933692T2 (de) | 1998-12-04 | 1999-11-26 | Keimschicht für nickeloxid pinning-schicht zur erhöhung desr magnetwiderstands eines spinventilfühlers |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6201671B1 (de) |
EP (1) | EP1135772B1 (de) |
JP (1) | JP2002532815A (de) |
KR (1) | KR100469533B1 (de) |
CN (1) | CN1254789C (de) |
AT (1) | ATE343201T1 (de) |
AU (1) | AU1285900A (de) |
CA (1) | CA2340094A1 (de) |
DE (1) | DE69933692T2 (de) |
HK (1) | HK1042157A1 (de) |
HU (1) | HUP0104477A3 (de) |
RU (1) | RU2231134C2 (de) |
WO (1) | WO2000034946A1 (de) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6469878B1 (en) * | 1999-02-11 | 2002-10-22 | Seagate Technology Llc | Data head and method using a single antiferromagnetic material to pin multiple magnetic layers with differing orientation |
US6404606B1 (en) * | 1999-11-05 | 2002-06-11 | International Business Machines Corporation | Seed layer structure for a platinum manganese pinning layer in a spin valve sensor |
US6496337B1 (en) * | 2000-03-20 | 2002-12-17 | Headway Technologies, Inc. | Copper alloy GMR recording head |
US6661622B1 (en) * | 2000-07-17 | 2003-12-09 | International Business Machines Corporation | Method to achieve low and stable ferromagnetic coupling field |
US6775903B2 (en) | 2001-09-17 | 2004-08-17 | Headway Technolog | Method for fabricating a top magnetoresistive sensor element having a synthetic pinned layer |
US6636400B2 (en) | 2001-09-18 | 2003-10-21 | International Business Machines Corporation | Magnetoresistive head having improved hard biasing characteristics through the use of a multi-layered seed layer including an oxidized tantalum layer and a chromium layer |
EP1313214B1 (de) * | 2001-11-16 | 2020-02-26 | SnapTrack, Inc. | Verpackungssubstrat, integrierte Schaltungvorrichtung, deren jeweilige Herstellungsverfahren und akustische Oberflächenwellenvorrichtung |
US6581272B1 (en) | 2002-01-04 | 2003-06-24 | Headway Technologies, Inc. | Method for forming a bottom spin valve magnetoresistive sensor element |
US6624985B1 (en) | 2002-01-07 | 2003-09-23 | International Business Machines Corporation | Pinning layer seeds for CPP geometry spin valve sensors |
US7007373B2 (en) | 2002-11-18 | 2006-03-07 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method of manufacturing enhanced spin-valve sensor with engineered overlayer |
US7227727B2 (en) * | 2003-05-07 | 2007-06-05 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method and apparatus for a side-by-side thin film head with minimal separation between the read and write structures |
US6993827B2 (en) | 2003-06-12 | 2006-02-07 | Headway Technologies, Inc. | Method of making a bottom spin valve |
JP2005123412A (ja) * | 2003-10-16 | 2005-05-12 | Anelva Corp | 磁気抵抗多層膜製造方法及び製造装置 |
JP2005353671A (ja) * | 2004-06-08 | 2005-12-22 | Fujitsu Ltd | 磁気抵抗効果膜および磁気抵抗効果ヘッド |
TWI283477B (en) * | 2004-11-16 | 2007-07-01 | Ind Tech Res Inst | Magnetic random access memory with lower switching field |
CN100377868C (zh) * | 2005-03-24 | 2008-04-02 | 中国科学院物理研究所 | 用于磁性/非磁性/磁性多层薄膜的核心复合膜及其用途 |
US8130474B2 (en) | 2005-07-18 | 2012-03-06 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | CPP-TMR sensor with non-orthogonal free and reference layer magnetization orientation |
JP5038117B2 (ja) * | 2007-12-14 | 2012-10-03 | キヤノンアネルバ株式会社 | トンネル型磁気抵抗多層膜製造方法 |
US8760817B2 (en) * | 2009-05-22 | 2014-06-24 | HGST Netherlands B.V. | Three-terminal design for spin accumulation magnetic sensor |
JP2012119613A (ja) * | 2010-12-03 | 2012-06-21 | Alps Electric Co Ltd | 磁気検出素子及びそれを用いた磁気センサ |
TWI449067B (zh) * | 2011-06-01 | 2014-08-11 | Voltafield Technology Corp | 自旋閥磁阻感測器 |
CN102288927A (zh) * | 2011-06-28 | 2011-12-21 | 钱正洪 | 巨磁阻自旋阀磁敏传感器及其制造方法 |
US8822046B2 (en) | 2012-04-30 | 2014-09-02 | Seagate Technology Llc | Stack with wide seed layer |
JP6490591B2 (ja) | 2012-12-10 | 2019-03-27 | バイオジェン・エムエイ・インコーポレイテッドBiogen MA Inc. | 抗血液樹状細胞抗原2抗体およびその使用 |
KR102127043B1 (ko) | 2018-04-17 | 2020-06-25 | 고려대학교 산학협력단 | 자기 소자 |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR960002611B1 (ko) | 1991-09-30 | 1996-02-23 | 가부시키가이샤 도시바 | 강 자성막 |
US5820770A (en) * | 1992-07-21 | 1998-10-13 | Seagate Technology, Inc. | Thin film magnetic head including vias formed in alumina layer and process for making the same |
JPH0766033A (ja) * | 1993-08-30 | 1995-03-10 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気抵抗素子ならびにその磁気抵抗素子を用いた磁性薄膜メモリおよび磁気抵抗センサ |
JP2860233B2 (ja) * | 1993-09-09 | 1999-02-24 | 株式会社日立製作所 | 巨大磁気抵抗効果型磁気ヘッドおよびそれを用いた磁気記録再生装置 |
US5408377A (en) * | 1993-10-15 | 1995-04-18 | International Business Machines Corporation | Magnetoresistive sensor with improved ferromagnetic sensing layer and magnetic recording system using the sensor |
US5841611A (en) * | 1994-05-02 | 1998-11-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetoresistance effect device and magnetoresistance effect type head, memory device, and amplifying device using the same |
US5620574A (en) * | 1994-08-26 | 1997-04-15 | Stormedia, Inc. | Method of fabricating sputter induced, micro-texturing of thin film, magnetic disc media |
US5606478A (en) * | 1994-12-08 | 1997-02-25 | International Business Machines Corporation | Ni45 Fe55 metal-in-gap thin film magnetic head |
SG46731A1 (en) | 1995-06-30 | 1998-02-20 | Ibm | Spin valve magnetoresistive sensor with antiparallel pinned layer and improved exchange bias layer and magnetic recording system using the senor |
US5627704A (en) * | 1996-02-12 | 1997-05-06 | Read-Rite Corporation | Thin film giant magnetoresistive CPP transducer with flux guide yoke structure |
US5909345A (en) * | 1996-02-22 | 1999-06-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetoresistive device and magnetoresistive head |
US5742162A (en) | 1996-07-17 | 1998-04-21 | Read-Rite Corporation | Magnetoresistive spin valve sensor with multilayered keeper |
JP2856165B2 (ja) * | 1996-08-12 | 1999-02-10 | 日本電気株式会社 | 磁気抵抗効果素子及びその製造方法 |
US5793207A (en) | 1996-10-09 | 1998-08-11 | International Business Machines Corporation | Disk drive with a thermal asperity reduction circuitry using a spin valve sensor |
JPH10154311A (ja) * | 1996-11-21 | 1998-06-09 | Nec Corp | 磁気抵抗効果素子およびシールド型磁気抵抗効果センサ |
US5768069A (en) * | 1996-11-27 | 1998-06-16 | International Business Machines Corporation | Self-biased dual spin valve sensor |
AUPO803597A0 (en) * | 1997-07-15 | 1997-08-07 | Silverbrook Research Pty Ltd | Image creation method and apparatus (IJ06) |
US5966800A (en) * | 1997-07-28 | 1999-10-19 | Read-Rite Corporation | Method of making a magnetic head with aligned pole tips and pole layers formed of high magnetic moment material |
US6245450B1 (en) * | 1997-11-17 | 2001-06-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Exchange coupling film magnetoresistance effect device magnetoresistance effective head and method for producing magnetoresistance effect device |
JP2995170B2 (ja) * | 1998-03-12 | 1999-12-27 | ティーディーケイ株式会社 | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
US6204997B1 (en) * | 1998-05-19 | 2001-03-20 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head with a plurality of engaged thin-film coils and method of manufacturing the same |
US6063244A (en) * | 1998-05-21 | 2000-05-16 | International Business Machines Corporation | Dual chamber ion beam sputter deposition system |
US6319728B1 (en) * | 1998-06-05 | 2001-11-20 | Applied Materials, Inc. | Method for treating a deposited film for resistivity reduction |
US6355562B1 (en) * | 1998-07-01 | 2002-03-12 | Advanced Technology Materials, Inc. | Adhesion promotion method for CVD copper metallization in IC applications |
US6185078B1 (en) * | 1998-08-21 | 2001-02-06 | International Business Machines Corporation | Spin valve read head with antiferromagnetic oxide film as longitudinal bias layer and portion of first read gap |
US6185080B1 (en) * | 1999-03-29 | 2001-02-06 | International Business Machines Corporation | Dual tunnel junction sensor with a single antiferromagnetic layer |
-
1998
- 1998-12-04 US US09/205,470 patent/US6201671B1/en not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-11-26 HU HU0104477A patent/HUP0104477A3/hu unknown
- 1999-11-26 JP JP2000587327A patent/JP2002532815A/ja active Pending
- 1999-11-26 AU AU12859/00A patent/AU1285900A/en not_active Abandoned
- 1999-11-26 CN CNB998141038A patent/CN1254789C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-11-26 CA CA002340094A patent/CA2340094A1/en not_active Abandoned
- 1999-11-26 WO PCT/GB1999/003933 patent/WO2000034946A1/en active IP Right Grant
- 1999-11-26 DE DE69933692T patent/DE69933692T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1999-11-26 RU RU2001118464/28A patent/RU2231134C2/ru not_active IP Right Cessation
- 1999-11-26 AT AT99956216T patent/ATE343201T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-11-26 EP EP99956216A patent/EP1135772B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-11-26 KR KR10-2001-7006228A patent/KR100469533B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-11-24 US US09/721,852 patent/US6631549B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-05-27 HK HK02103936.9A patent/HK1042157A1/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
HUP0104477A3 (en) | 2002-05-28 |
CN1329742A (zh) | 2002-01-02 |
RU2231134C2 (ru) | 2004-06-20 |
DE69933692D1 (de) | 2006-11-30 |
KR100469533B1 (ko) | 2005-02-02 |
US6201671B1 (en) | 2001-03-13 |
KR20010089473A (ko) | 2001-10-06 |
WO2000034946A1 (en) | 2000-06-15 |
HK1042157A1 (zh) | 2002-08-02 |
JP2002532815A (ja) | 2002-10-02 |
HUP0104477A2 (hu) | 2002-03-28 |
AU1285900A (en) | 2000-06-26 |
EP1135772A1 (de) | 2001-09-26 |
US6631549B1 (en) | 2003-10-14 |
CA2340094A1 (en) | 2000-06-15 |
EP1135772B1 (de) | 2006-10-18 |
CN1254789C (zh) | 2006-05-03 |
ATE343201T1 (de) | 2006-11-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69933692T2 (de) | Keimschicht für nickeloxid pinning-schicht zur erhöhung desr magnetwiderstands eines spinventilfühlers | |
DE69835410T2 (de) | Magnetoresistiver Lesekopf mit abgeschirmtem magnetischem Tunnelübergang | |
DE19848110B4 (de) | Magnetowiderstandselement | |
DE69534314T2 (de) | Magnetoresistiver Spinventilfühler mit selbstverankernder laminierter Schicht und Benutzung des Fühlers in einem magnetischen Aufzeichnungssystem | |
DE4312040C2 (de) | Magnetisches Speicher-/Lesesystem | |
DE69835650T2 (de) | Magnetische Tunnelübergangsvorrichtungen | |
DE69826090T2 (de) | Magnetische Tunnelübergangseinrichtung mit verbesserten ferromagnetischen Schichten | |
DE69912164T2 (de) | Wechselkupplungsfilm, magnetoresistive Anordnung, magnetoresistiver Kopf und Verfahren zur Herstellung von einem Wechselkupplungsfilm | |
DE19820465B4 (de) | Magnetowiderstandseffektelement, und ein derartiges Element aufweisender Magnetkopf und magnetische Aufzeichnungseinrichtung | |
DE60312748T2 (de) | Magnetoresistives Element | |
DE69728920T2 (de) | Kopf mit magnetoresistivem Effekt | |
DE69731177T2 (de) | Dünnfilm-Magnetkopf und magnetische Aufzeichnungs/Wiedergabevorrichtung | |
DE60218971T2 (de) | Magnetoresistives Element | |
DE10023375A1 (de) | Grundschichtstruktur für Spin Valve-Sensoren | |
DE69233139T2 (de) | Magnetowiderstandseffekt-Element und Magnetowiderstandseffekt-Fühler | |
DE102015015307A1 (de) | Tmr-lesekopf (tunnelungs-magnetoresistiv) mit verringerter lückendicke | |
DE19811857A1 (de) | Magnetoresistiver Kopf | |
DE60034304T2 (de) | Magnetoresistiver Mehrlagenfilm, magnetoresistiver Kopf und Informationswiedergabegerät | |
DE19936378B4 (de) | Magnetowiderstands-Dünnschichtelement vom Spin-Valve-Typ | |
DE102013017836A1 (de) | Current-Perpendicular-to-the-Plane-(CPP)-Magnetowiderstands-(MR)-Sensor mit austauschgekoppelter Seitenabschirmungsstruktur | |
DE19934009A1 (de) | Magnetowiderstands-Dünnschichtelement vom Drehventil-Typ | |
DE10304865A1 (de) | Magnetische Medien mit verbesserter Austauschkopplung | |
DE69727261T2 (de) | Element mit magnetoresistivem Effekt, sein Herstellungsverfahren und Magnetkopf daraus | |
DE102015003630A1 (de) | TMR/CPP-Leser für Anwendungen mit einem schmalen Lesespalt | |
DE60119884T2 (de) | Magnetoresistiver Kopf mit einer Unterschicht aus einer laminierten Struktur einer Schicht eines Wolfram-Gruppen-Metalls auf einer Schicht eines Tantal-Gruppen-Metalls |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |