DE69915147T2

DE69915147T2 - Wärmeempfindliche Zusammensetzung, Flachdruckplatte, die diese Zusammensetzung verwendet, und Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte

Info

Publication number: DE69915147T2
Application number: DE69915147T
Authority: DE
Inventors: Shinji Tatebayashi-shi Shimizu; Yasuyuki Chiba-shi Watanabe; Yasuhiko Konosu-shi Kojima; Koji Kitamoto-shi Oe; Nansei Sodegaura-shi Tasiro
Original assignee: Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Current assignee: DIC Corp
Priority date: 1998-03-20
Filing date: 1999-03-19
Publication date: 2005-01-27
Anticipated expiration: 2019-03-20
Also published as: DE69915147D1; US6503685B1; JPH11268413A; JP3843584B2; US6218073B1; EP0945281A3; EP0945281A2; EP0945281B1

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG
1. Gebiet der Erfindung
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Flachdruckplatte, die auf dem Gebiet des Offset-Drucks verwendet wird, und insbesondere eine Originalplatte vom Positiv- oder Negativ-Typ für eine Flachdruckplatte, die als sogenannte "Computer-to-plate"-Platte (CTP) verwendet wird, die zur direkten Herstellung von Platten, basierend auf digitalen Signalen aus einem Computer oder dergleichen, einsetzbar ist.
2. Beschreibung des Standes der Technik
Als Systeme zur direkten Herstellung von Platten, basierend auf digitalen Signalen aus einem Computer, sind bislang (1) ein System, das Elektrophotographie verwendet, (2) ein System, das Bestrahlen mit einem Ar-Laser und nachträgliches Erwärmen verwendet, (3) ein System, das Bestrahlung mit einem Hochleistungslaser und nachträgliches Erwärmen verwendet, (4) ein System, das Diffusionstransfer eines Silbersalzes verwendet, (5) ein System, das eine Siliconkautschukschicht durch elektrische Entladung oder Bestrahlung mit einem Laserstrahl abträgt, (6) ein System, das eine Maskenschicht auf einer gewöhnlichen vorsensibilisierten Flachdruckplatte (PS-Platte) mit einer lichtempfindlichen, bilderzeugenden Schicht bildet, ein Bild auf der Maskenschicht bildet, eine Vollbelichtung durchführt, entwickelt und Nachbehandlung unter Erhalt einer Druckplatte, und dergleichen, durchführt. Diese besitzen gegenwärtig ihre eigenen Vorzüge und Mängel. Weitere Untersuchungen sind gegenwärtig im Gange. Von den oben beschrie benen Systemen stellt insbesondere das durch die unter (6) beschriebene Technologie erhaltene Plattenmaterial ein Bild mit hoher Auflösung bereit, ist auf eine großdimensionierte Platte anpassbar und stellt eine Druckplatte bereit, die ein endgültiges Produkt ist, das Herkömmlichen ähnlich ist, so dass Drucker durch ihre Erfahrung daran gewöhnt sind. Aus diesem Grund oder aus anderen Gründen ist das System als eine Ersatztechnologie betrachtet worden, die von Betreibern in gegenwärtigen Betriebsstätten leicht angenommen werden kann, wenn ein herkömmliches Herstellungssystem für Platten, das einen Film und eine PS-Platte verwendet, durch ein "Computer-to-plate"-Herstellungsverfahren (CTP) für Platten ersetzt wird.
Als Verfahren zur Erzeugung des Maskenbilds auf einer herkömmlichen PS-Platte waren i) ein von einem Tintenstrahldrucker durchgeführtes Schreibeverfahren, ii) ein thermisches Transferverfahren, iii) ein Verfahren, das Beschichten einer PS-Platte mit einer Silbersalzschicht, bildweises Belichten der Silbersalzschicht und Entwicklung mittels eines Nassverfahrens unter Erhalt eines Maskenbilds, enthält, und iv) ein Verfahren, das Abtragung der auf einer PS-Platte gebildeten Maskenschicht mit einem Hochleistungslaserstrahl unter Bildung eines Bilds enthält, und dergleichen, bekannt.
Von diesen weisen die Verfahren i) und ii) die Probleme auf, dass sie keine hohe Auflösung liefern oder dass die Schreibgeschwindigkeit niedrig ist, während das Verfahren iii) eine hohe Auflösung ergibt, aber eine komplizierte Nachbehandlung oder andere Probleme verursacht.
Das Abtragung mit einem Laserstrahl verwendende Verfahren ist eine bekannte Technologie, wie sie in den nicht-geprüften japanischen Patentveröffentlichungen Nrn. 50-113307, 50-102401, 50-158405, 53-23705, 53-33702, 58-18290, 60-83893, 61-36750, etc., beschrieben ist. Es be sitzt verschiedene praktische Probleme. Eine hohe Auflösung ist wegen der nicht-einheitlichen Abtragungsspuren nämlich schwierig zu erhalten, es bestehen Bedenken bezüglich der Verunreinigung der Vorrichtungen als Folge von Zerstäuben oder Verdampfen zum Zeitpunkt des Schreibens, Schreiben auf eine große Platte beansprucht eine lange Zeit, weil es hohe Energie von gewöhnlicherweise 800 bis 1.200 mJ/cm² erfordert, was die Schreibgeschwindigkeit sehr niedrig macht, und dergleichen. Wenn außerdem Bilder unter Verwendung von Licht hoher Energiedichte erzeugt werden, tritt gewöhnlicherweise ein Problem auf, das "Banding" genannt wird. Banding ist ein Phänomen, das als ein bandförmiges Muster beobachtet wird, das durch eine Schwankung in der Ausgangsleistung einer Laservorrichtung, die als eine optische Quelle verwendet wird, oder durch eine Differenz in der Verteilung der Lichtintensität in einer Einfallsebene, die nahe der Grenze zwischen Abtastlinien erscheinen, wenn mit linearem Abtasten gearbeitet wird, verursacht wird. Dieses Phänomen wird häufig im Falle von direktem Schreiben auf einem Druckmaterial unter Verwendung eines Lasers mit hoher Energiedichte beobachtet.
KURZE ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung wurde mit der Absicht gemacht, die oben beschriebenen Probleme zu vermeiden, und eine erste Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, Originalplatten vom Positiv- und Negativ-Typ für Flachdruckplatten bereitzustellen, die einem Bildschreiben mit hoher Geschwindigkeit bei einer Belichtung mit einer sehr niedrigen, optischen Energie (z. B. 150 bis 200 mJ/cm²) zugänglich sind, die eine saubere Behandlung ermöglichen und die ein direktes Schreiben darauf mit Licht hoher Energiedichte ermöglichen.
Eine zweite Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Originalplatte für eine Flachdruckplatte bereitzustel len, die keine Probleme, wie Banding und dergleichen, aufweist, und durch Relaxation ein qualitativ hochwertiges Bild der Druckplatte und eine einheitliche Homogenisierung während des Vollbelichtungsschritts nach Bildung einer Maske bereitstellt.
Eine dritte Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Originalplatte für eine Flachdruckplatte bereitzustellen, die eine endgültige Druckplatte ergeben kann, die einer herkömmlichen Druckplatte (PS-Platte) entspricht, so dass Druckfachleute beim Drucken ihre Arbeitserfahrung an gegenwärtigen Druckstätten vollständig nutzen können, und die sie ohne ein Gefühl der Ungewohntheit handhaben können.
Eine vierte Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Originalplatte für eine Flachdruckplatte bereitzustellen, die eine mit Licht hoher Energiedichte beschreibbare "Computert-to-plate"-Druckplatte ist, die auf direktes Herstellen der Platten auf Basis digitaler Signale aus einem Computer oder dergleichen gerichtet ist, und die die Verwendung eines herkömmlichen Behandlungsapparats nach der Entwicklungsbehandlung und eines gewöhnlichen Druckers gestattet, wenn mit ihr gedruckt wird.
Es ist eine fünfte Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Originalplatte für eine Flachdruckplatte mit einer verbesserten Verarbeitbarkeit bereitzustellen, mit der bei normalem Raumlicht oder dergleichen, ohne ein besonderes Sicherheitslicht zu erfordern, gearbeitet werden kann, mit der aber eine gute Druckplatte hergestellt werden kann.
Eine sechste Aufgabe der Erfindung ist es, eine wärmeempfindliche Zusammensetzung bereitzustellen, die als eine essentielle Komponente einen anionischen, in Wasser selbstdispergierbaren Harzpartikel umfasst, wobei die Zusammensetzung Licht hoher Energiedichte effizient absor biert, es in thermische Energie umwandelt und als Ergebnis davon ein scharfes latentes Bild hoher Auflösung liefert.
Eine siebte Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine einfache, preiswerte Behandlungsmethode bereitzustellen, die ein latentes, in einer Schicht einer wärmeempfindlichen Zusammensetzung gebildetes Bild mit einer alkalischen wässrigen Lösung unter Bildung eines scharfen Maskenbilds behandelt, und zwar derart, dass nach der Entwicklungsbehandlung der lichtempfindlichen bilderzeugenden Schicht als eine Nachbehandlung die Maskenbildschicht, ebenso wie ein Nicht-Bild-Bereich der lichtempfindlichen bilderzeugenden Schicht, entfernt werden kann.
Eine achte Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte bereitzustellen, das die Originalplatte vom Positiv- oder Negativ-Typ für eine Flachdruckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet, die die oben beschriebenen Aufgaben erreicht hat und mit der eine gute Druckplatte mit der zum Drucken erforderlichen hohen Auflösung hergestellt werden kann.
Die vorliegende Erfindung ist basierend auf dem Auffinden eines neuartigen Verfahrens vervollständigt worden, das als einen Mechanismus zur Bildung eines geschriebenen Bildes auf einer Schicht einer lichtempfindlichen Zusammensetzung mit Licht hoher Energiedichte die Bildung eines latenten Bildes durch gegenseitiges Schmelzen und Verbinden von Harzpartikeln im Bildbereich aufgrund der durch Absorption von Lichtenergie gebildeten Wärme und nachfolgende Entwicklung des latenten Bildes durch Entfernen des nicht-modifizierten Nicht-Bild-Bereichs durch ein Nassverfahren, das eine Behandlungsflüssigkeit verwendet, im Gegensatz zu einem Mechanismus, der eine chemische Reaktion, wie eine Polymerisationsreaktion, auf einer sogenannten negativen PS-Platte oder dergleichen, verwendet, was Lichtenergie und ein Monomer involviert, oder Modifi zierung, die von einer partiellen Zersetzungsreaktion eines Polymers mit Lichtenergie (PS-Platte vom positiven Typ) begleitet ist, einsetzt, verwendet. Der erfindungsgemäße bilderzeugende Schritt für die Maskenschicht besteht aus einem Mechanismus, der physikalische Änderungen einer Substanz verwendet, aber auf einem Prinzip beruht, das von der herkömmlichen Technologie ziemlich verschieden ist.
Um nämlich die oben beschriebenen Aufgaben zu erfüllen, ist ein erster Gesichtspunkt der vorliegenden Erfindung eine wärmeempfindliche Zusammensetzung, die eine Substanz, die Licht absorbiert und Wärme entwickelt, anionische, in Wasser selbstdispergierbare Harzpartikel mit einer Säurezahl von 10 bis 300 und einem durchschnittlichen Partikeldurchmesser von 0,005 bis 15 μm, sowie ein Tensid auf Fluorbasis umfasst.
Ein zweiter Gesichtspunkt der vorliegenden Erfindung ist eine Originalplatte für eine Flachdruckplatte, die ein bekanntes Trägermaterial mit einer hydrophilen Oberfläche, eine lichtempfindliche, bilderzeugende Schicht vom negativen oder positiven Typ, die auf das Trägermaterial beschichtet ist, und die oben beschriebene Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung umfasst.
Ein dritter Gesichtspunkt der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zur Bildung einer Flachdruckplatte, das die Stufen

(1) der bildweisen Belichtung mit Licht hoher Energiedichte,
(2) des Entfernens des Nicht-Bild-Bereichs durch ein Nassverfahren unter Bildung eines Maskenbilds (nachfolgend als "erste Entwicklung" bezeichnet),
(3) der Vollbelichtung mit aktivem Licht der lichtempfindlichen bilderzeugenden Schicht vom Negativ- oder Positiv-Typ unter Bildung eines latenten Bildes, basierend auf dem Maskenbild,
(4) des Entwickelns der resultierenden lichtempfindlichen bilderzeugenden Schicht vom Negativ-Typ mit einem Entwickler für ein Negativ unter Bildung eines Bilds auf einer Druckplatte (nachfolgend als "zweite Entwicklung" bezeichnet) oder des Entwickelns der resultierenden lichtempfindlichen bilderzeugenden Schicht vom Positiv-Typ mit einem Entwickler für ein Positiv unter Bildung eines Bilds auf einer Druckplatte (ebenso als "zweite Entwicklung" bezeichnet), und
(5) des Waschens, Gummierens und Trocknens umfasst.

Wie oben beschrieben, kann die Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung, die eine gewöhnliche PS-Platte vom Negativ- oder Positiv-Typ mit einer darauf aufgetragenen wärmeempfindlichen Zusammensetzung, die eine Substanz, die Licht absorbiert und Wärme entwickelt, anionische, in Wasser selbstdispergierbare Harzpartikel mit einer Säurezahl von 10 bis 300 und einem durchschnittlichen Partikeldurchmesser von 0,005 bis 15 μm und ein Tensid auf Fluorbasis enthält, enthält, eine Druckplatte mit im Wesentlichen denselben Druckeigenschaften wie eine Druckplatte bereitstellen, die durch bildweises Belichten mit Licht hoher Energiedichte aus einer herkömmlichen PS-Platte, basierend auf digitaler Information aus einem Computer, einer ersten Entwicklung mit einer wässrigen alkalischen Lösung, Vollbelichtung mit aktivem Licht, einer zweiten Entwicklung mit einem Entwickler für ein Negativ oder Positiv, Nachbehandlungen, etc., hergestellt wurde.
DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung ist durch eine Schicht einer wärmeempfindlichen Zusammensetzung mit einer sehr hohen Sensibilität gegenüber Licht hoher Energiedichte, die auf einer lichtempfindlichen bilderzeugenden Schicht einer herkömmlichen PS-Platte gebildet wurde, ausgezeichnet. Nachfolgend wird die Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung im Detail beschrieben.
In der vorliegenden Erfindung ist es wesentlich, dass die Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung eine Substanz enthält, die Licht absorbiert und Wärme entwickelt. Als eine derartige Substanz können verschiedene Pigmente verwendet werden.
Gleichzeitig muss das verwendete Pigment während der vollbelichtung mit aktivem Licht während der Verarbeitungsschritte aktives Licht in ausreichendem Maße abschirmen um einen maskierenden Effekt für die darunterliegende, lichtempfindliche, bilderzeugende Schicht zu zeigen.
Als das Pigment, das erfindungsgemäß verwendet werden kann, können kommerziell erhältliche Pigmente und diejenigen Pigmente verwendet werden, die im Color Index-Handbuch "Saishin Ganryou Binran" (Neuestes Pigment-Handbuch) (herausgegeben von der Japan Pigment Technology Association, 1977), "Saishin Ganryou Ouyou Gijutsu" (Neueste Pigment-Anwendungstechnologie) (CMC Publishing, 1986), "Insatsu Inki Gijutsu" (Drucktinten-Technologie) (CMC Publishing, 1984), etc., beschrieben sind. Die Arten von Pigmenten enthalten schwarze Pigmente, gelbe Pigmente, orange Pigmente, braune Pigmente, rote Pigmente, violette Pigmente, blaue Pigmente, grüne Pigmente, fluoreszierende Pigmente und zusätzlich Polymer-gebundene Färbepigmente. Spezieller können unlösliche Azopigmente, Azolackpigmente, konden sierte Azopigmente, Chelatazopigmente, Pigmente auf Phthalocyanin-Basis, Pigmente auf Anthrachinon-Basis, Pigmente auf Perylen- und Perinon-Basis, Pigmente auf Thioindigo-Basis, Pigmente auf Chinacridon-Basis, Pigmente auf Dioxazin-Basis, Pigmente auf Isoindolinon-Basis, Pigmente auf Chinophthalon-Basis, Farblackpigmente, Azinpigmente, Nitrosopigmente, Nitropigmente, natürliche Pigmente, fluoreszierende Pigmente, anorganische Pigmente, Ruß, etc., verwendet werden. Unter diesen speziellen Beispielen ist Ruß als eine Substanz, die einen Laserstrahl im nahen Infrarot- bis Infrarot-Bereich unter effizienter Wärmeentwicklung absorbiert, aktives Licht effizient abschirmt und ökonomisch wettbewerbsfähig ist, besonders bevorzugt.
Diese Pigmente können ohne Oberflächenbehandlung verwendet oder einer bekannten Oberflächenbehandlung unterzogen werden. Als bekanntes Oberflächenbehandlungsverfahren kann ein Verfahren verwendet werden, das oberflächliches Beschichten mit einem Harz oder Wachs enthält, ein Verfahren, das ein Tensid anlagert, ein Verfahren, in dem eine reaktive Substanz (beispielsweise ein Silankupplungsmittel oder eine Epoxyverbindung, ein Polyisocyanat, etc.) auf die Oberfläche eines Pigments gebunden wird, etc., verwendet werden. Diese Oberflächenbehandlungsverfahren sind in "Kinzoku Sekken no Seishitsu to Ouyou" (Eigenschaften von Metallseifen und ihre Anwendung) (Saiwai Shobo), "Saishin Ganryou Ouyou Gijutsu" (Neueste Pigment-Anwendungstechnologie) (CMC Publishing, 1986) und "Insatsu Inki Gijutsu" (Drucktinten-Technologie) (CMC Publishing, 1984) beschrieben. Was in der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung bevorzugt verwendet wird, ist insbesondere gepfropfter Ruß, der eine durch Pfropfpolymerisation verbesserte Dispergierbarkeit in einem Dispergiermittel besitzt.
Der in der vorliegenden Erfindung verwendete gepfropfte Ruß kann durch ein Verfahren, das Polymerisation eines Vi nylmonomers unter Verwendung eines Polymerisationsinitiators in Gegenwart von Ruß und Sammeln einer wachsenden Polymerkette auf der Oberfläche der Partikel beinhaltet, ein Verfahren, das eine Pfropfkette aus einer Polymerisationinitiierenden Gruppe, die auf der Rußoberfläche eingeführt wurde, wachsen lässt, ein Verfahren, das eine Reaktion zwischen einer funktionellen Gruppe auf der Rußoberfläche mit einem reaktiven Polymer beinhaltet, oder dergleichen, hergestellt werden. Gegenwärtig sind gepfropfte Ruße mit verschiedenen funktionellen Gruppen und ausgezeichneter Dispergierbarkeit kommerziell erhältlich, und diese können in der vorliegenden Erfindung verwendet werden. Diese gepfropften Ruße sind detailliert in "Carbon Black Manual, 3. Ausgabe, (herausgegeben durch die Carbon Black Association) 1995, S. 167", "Characteristics of Carbon Black and Optimal Formulation and Applied Technology (Technical Information Association) 1997, S. 111", etc. beschrieben. Sie alle können in der vorliegenden Erfindung vorteilhaft eingesetzt werden.
Spezielle Beispiele, des gepfropften Rußes enthalten diejenigen, die durch Aufpfropfen eines ungesättigten Polyesters auf Ruß und nachfolgender radikalischer Polymerisation mit verschiedenen Vinylmonomeren erhalten wurden, Produkte einer radikalischen Polymerisation zwischen einer durch Umsetzung von Ruß mit Lauroylperoxid erhaltenen CB-Peroxidgruppe und verschiedenen Vinylmonomeren, Produkte einer radikalischen Polymerisation zwischen Ruß mit einer darauf eingeführten Azogruppe und verschiedenen Vinylmonomeren, Produkte einer kationischen, ringöffnenden Polymerisation zwischen Acyliumperchlorat und Vinylmonomer, Lacton, cyclischem Ether, cyclischem Acetal, oder dergleichen, Produkte einer kationischen, ringöffnenden Isomerisationspolymerisation zwischen einer auf Ruß eingeführten Chlormethylgruppe und einem 2-Oxazolin, Produkte einer kationischen Pfropfpolymerisation zwischen auf Ruß eingeführtem Benzyliumperchlorat und einem Vinylmonomer, einem Lacton und einem cylischen Ether, etc., Produkte einer anionischen, ringöffnenden Polymerisation zwischen einer auf Ruß eingeführten Kaliumcarboxylatgruppe und β-Propiolacton, einer anionischen, ringöffnenden, alternierenden Copolymerisation zwischen einer auf Ruß eingeführten Kaliumcarboxylatgruppe und einem Epoxid und einem cyclischen Säureanhydrid, Produkte einer anionischen Pfropfpolymerisation zwischen einem Ruß/Butyllithium-Komplex und Methylmethacrylat oder Acrylnitril, Produkte einer ringöffnenden Polymerisation zwischen einer auf Ruß eingeführten Aminogruppe und einem α-Aminosäure-N-carboxylanhydrid, Produkte einer Pfropfpolymerisation zwischen einer hochreaktiven funktionellen Gruppe, beispielsweise einer Isocyanatgruppe, einer Acylazidgruppe, einer Acylchloridgruppe, einer Epoxygruppe, einer Chlortriazinylgruppe oder einer Aktivestergruppe und einem Polypropylenglykol, einem Polyethylenglykol, einem Silicondiol, einem Silicondiamin oder einem Polyethylenimin, oder dergleichen.
Insbesondere sind unter diesen pfropfpolymerisierten Rußen diejenigen, die geeigneterweise in einer Beschichtungsflüssigkeit dispergierbar sind, was zur Bildung einer Schicht einer wärmeempfindlichen Zusammensetzung notwendig ist, wenn sie mit Harzpartikeln mit einer Säurezahl von 10 bis 300 vermischt werden, gepfropfte Ruße, die eine anionische Gruppe im Produkt der Pfropfpolymerisation enthalten. Als eine derartige anionische Gruppe kann beispielsweise eine Phosphorsäuregruppe, eine Sulfonsäuregruppe, eine Schwefelsäuregruppe, eine Carboxylgruppe angeführt werden, wobei eine Carboxylgruppe besonders bevorzugt ist. Das Verfahren zur Einführung einer derartigen Carboxylgruppe, die als eine anionische Gruppe bevorzugt ist, auf ein Pfropfharz für den Ruß wird beschrieben.
Produkte einer Pfropfpolymerisation auf Vinyl-Basis mit einer Carboxylgruppe können einfach durch Pfropfpolymerisieren einer polymerisierbaren Monomerzusammensetzung, die ein polymerisierbares Monomer mit einer Carboxylgruppe enthält, oder Aufpfropfen eines Polymers auf Ruß erhalten werden, das durch vorheriges Copolymerisieren einer polymerisierbaren Monomerzusammensetzung erhalten wurde, die ein polymerisierbares Monomer mit einer Carboxylgruppe enthält. Das polymerisierbare Monomer mit einer Carboxylgruppe beinhaltet beispielsweise Acrylsäure, Methacrylsäure, Crotonsäure, Fumarsäure, Itaconsäure, Maleinsäure, Monoalkylmaleate, wie Monobutylmaleat, Monoalkylitaconate, wie Monobutylitaconat, etc.
Zusätzlich können Carboxylgruppen ebenso durch ein Verfahren eingeführt werden, indem ein Monoalkohol, wie Butylalkohol, zu einem eine Säureanhydridgruppe enthaltenden Pfropfpolymer gegeben wird oder eine Verbindung, die eine Säureanhydridgruppe enthält, wie z. B. Maleinsäureanhydrid, Phthalsäureanhydrid oder Trimellitsäureanhydrid, zu einem Pfropfpolymer auf Vinyl-Basis gegeben wird, das eine Hydroxylgruppe enthält und durch Pfropfpolymerisieren eines polymerisierbaren Monomers mit einer Hydroxylgruppe erhalten wurde, oder dergleichen.
Das Polyesterharz mit einer Carboxylgruppe kann durch Auswahl einer Verbindung mit einer Carboxylgruppe, wie z. B. eine einwertige Säure, eine zweiwertige Säure, eine dreiwertige oder höher mehrwertige Säure, und einer Verbindung mit einer Hydroxylgruppe, wie z. B. einem Diol, einem Polyol oder dergleichen, und Kondensieren der Verbindungen unter Wasserabspaltung durch ein bekanntes Verfahren, wie z. B. einem Schmelzverfahren, einem Lösungsmittelverfahren oder dergleichen, auf eine Weise hergestellt werden, dass Carboxylgruppen übrigbleiben können. Die Carboxylgruppen sind hauptsächlich nicht-umgesetzte Carboxylgruppen, die aus der zweiwertigen Säure oder mehrwertigen Säure stammen, die das Polyesterharz bilden. Aufpfropfen des resultierenden Polyesterharzes auf die reaktive Gruppe des Ru ßes führt zu einem Ruß mit einem darauf aufgepfropften Polyesterharz mit einer Carboxylgruppe.
Weitere Verfahren zum Einführen einer Carboxylgruppe in ein Polyesterharz beinhalten ein Verfahren, in dem eine Verbindung mit einer Säureanhydridgruppe, wie Maleinsäureanhydrid, Phthalsäureanhydrid oder Trimellitsäureanhydrid, zu einem linearen oder verzweigten Polyesterharz mit einer Hydroxylgruppe gegeben wird, oder ein Verfahren zum Einführen einer Carboxylgruppe und gleichzeitigem Verlängern der Kette, indem ein Tetracarbonsäuredianhydrid, wie Pyromellitsäureanhydrid, mit einem Polyesterharz umgesetzt wird, vorzugsweise einem linearen Polyesterharz mit einer Hydroxylgruppe.
Ferner kann eine Carboxylgruppe durch weiteres Pfropfpolymerisieren einer polymerisierbaren Monomerzusammensetzung, die ein polymerisierbares Monomer mit einer Carboxylgruppe enthält, auf einen Ruß erhalten werden, auf den ein Polyesterharz aufgepfropft ist.
Ein Ruß, auf den ein Polyurethanharz mit einer Carboxylgruppe aufgepfropft ist, kann leicht durch Umsetzen einer Polyolkomponente, die eine Verbindung sowohl mit einer Carboxylgruppe, als auch einer Hydroxylgruppe, wie Dimethylolpropionsäure, als eine Komponente zur Einführung einer Carboxylgruppe enthält, mit einer Polyisocyanatkomponente hergestellt werden.
Das in der vorliegenden Erfindung verwendete Pigment besitzt vorzugsweise einen Partikeldurchmesser im Bereich von 0,01 bis 15 μm, bevorzugter 0,05 bis 5 μm.
Die zu verwendende Menge des Pigments ist 1 bis 70 Gew.-%, vorzugsweise 10 bis 50 Gew.-%, bezogen auf die gesamten Feststoffe in der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung. Wenn die Zugabemenge weniger als 1 Gew.-% be trägt, dann ist, wenn Licht zur Entwicklung von Wärme absorbiert wird, die entwickelte Wärmemenge zum Schmelzen des daneben vorliegenden Harzes nicht ausreichend. Wenn dagegen die Zugabemenge mehr als 70 Gew.-% beträgt, so wird zuviel Wärme entwickelt, und Phänomene, wie Anbrennen und Zerstörung, treten auf, so dass es schwierig ist, ein in der Schmelze latentes Bild auszubilden, das zur Erzeugung von Bildern geeignet ist.
Die anionischen, in Wasser selbstdispergierbaren Harzpartikel mit einer Säurezahl von 10 bis 300 und einem durchschnittlichen Partikeldurchmesser von 0,005 bis 15 μm, die eine essentielle Komponente bei der Bildung der erfindungsgemäßen Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung sind, werden nachfolgend beschrieben.
In der vorliegenden Erfindung besitzt das Harzmaterial in der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung die folgenden Funktionen: Erstens wandelt das mit Licht hoher Energiedichte bestrahlte Pigment Lichtenergie in thermische Energie um und die Harzpartikel werden thermisch geschmolzen und/oder durch die entwickelte Wärme vereinigt und derart denaturiert, dass sich beispielsweise die Adhäsion mit der darunterliegenden, lichtempfindlichen, bilderzeugenden Schicht stark ändert oder nach Entfernen der Schicht der lichtempfindlichen Zusammensetzung durch ein Nassverfahren (erste Entwicklung) die Löslichkeit in alkalischer, wässriger Lösung aufgrund der thermischen Denaturierung der Harzpartikel stark abnimmt. In diesem Fall müssen die Harzpartikel selbst ihre Eigenschaften aufgrund der thermischen Denaturierung nicht ändern. Es ist aber ausreichend, dass die der thermischen Denaturierung unterworfenen Harzpartikel das dispergierte Pigment einhüllen und die resultierende Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung thermisch denaturiert wird. Um die thermische Denaturierung effizient durchzuführen, muss die durchschnittliche Partikelgröße der Harzpartikel innerhalb des Bereichs von 0,005 bis 15 μm liegen. Eine Partikelgröße von mehr als 15 μm ist für die Harzpartikel unzureichend, die die entwickelte Wärme zum Schmelzen und Vereinigen aufnehmen, während eine Partikelgröße von weniger als 0,005 μm beim praktischen Einsatz im Wesentlichen unökonomisch ist. Die Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung wird zur Bildverarbeitung verwendet, so dass ein anderes Problem darin besteht, dass die Verwendung von Harzpartikeln mit einer zu hohen Partikelgröße, d. h., Partikel mit einer Partikelgröße von mehr als 15 μm, die Auflösung bei der Bildverarbeitung erniedrigt. Bezüglich der Partikelgrößenverteilung der Harzpartikel ist eine engere Partikelgrößenverteilung bevorzugt, weil sie eine schärfere Verteilung der thermischen Vereinigungsreaktion aufgrund des Effektes der Wärmeabsorption verursacht, was zu einer erhöhten Auflösung des restultierenden thermischen Bilds führt.
Andererseits muss der Nicht-Bild-Bereich der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung ausreichend mit einer alkalischen Substanz entfernt werden, so dass die verwendete alkalische, wässrige Lösung während der ersten Entwicklungsbehandlung die darunterliegende PS-Platte vom Negativ- oder Positiv-Typ nicht angreift. Um den Nicht-Bild-Bereich während der ersten Entwicklung effizient zu entfernen, ist es bevorzugt, dass die Harzpartikel eine anionische Gruppe aufweisen, die in einer alkalischen, wässrigen Lösung löslich ist. Die anionische Gruppe beinhaltet eine Carboxylgruppe, eine Phosphorsäuregruppe, eine Sulfonsäuregruppe, eine Schwefelsäuregruppe, etc. Eine Carboxylgruppe wird in besonderem Maße bevorzugt verwendet. Die Menge der im Harzpartikel notwendigen Carboxylgruppen können in Form eines Wertes an KOH in mg ausgedrückt werden, das notwendig ist um 1 g des Harzes zu neutralisieren. Die in der Erfindung verwendeten Harzpartikel müssen eine Säurezahl von 10 bis 300 besitzen. Wenn die Säurezahl niedriger als 10 ist, ist die Auflösung und Entwicklung durch die erste Entwicklung nicht ausreichend, während eine Säurezahl von über 300 Schwierigkeiten verursacht, wie z. B. eine Erhöhung der Viskosität beim Beschichten, eine Erniedrigung der Lagerstabilität während der Lagerung der Originalplatte für eine Druckplatte, etc.
Daher sind die für die Harzpartikel in der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung erforderlichen Eigenschaften eine einheitliche Dispersion in der Beschichtungslösung zusammen mit einer Pigmentkomponente, Bildung eines stabilen Beschichtungsfilms nach dem Trocknen und Auftreten des oben beschriebenen Effekts nach der thermischen Denaturierung. Als Harzpartikel mit derartigen Eigenschaften können die Harzpartikel mit einer Säurezahl von 10 bis 300 und einem durchschnittlichen Partikeldurchmesser von 0,005 bis 15 μm angeführt werden.
Ferner wird im Verfahren der Herstellung einer Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung eine Beschichtungslösung für eine Schicht einer wärmeempfindlichen Zusammensetzung auf eine PS-Platte vom Negativ- oder Positiv-Typ aufgeschichtet und nachfolgend in einem Trocknungsschritt getrocknet. Es ist wünschenswert, dass die Beschichtungslösung wirksam und zweckmäßig im Trocknungsschritt getrocknet wird, ohne thermische Denaturierung, wie z. B. Schmelzen, etc., zu verursachen. Zu diesem Zweck ist es bevorzugt, dass die erfindungsgemäßen Harzpartikel eine Glasübergangstemperatur nicht unterhalb von 50°C besitzen. Bei einer Temperatur unterhalb 50°C ist Trocknen ohne thermische Denaturierung der Harzpartikel möglich, in diesem Fall wird die Trocknungswirksamkeit aber schlecht und nicht zweckmäßig.
Als nächstes wird ein Verfahren zum Erhalt der in der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung verwendeten Harzpartikel der vorliegenden Erfindung beschrieben. Als Verfahren zur Herstellung feiner Harzpartikel sind bislang ein Pulverisierungsverfahren, ein Suspensionspolymerisationsverfahren, eine Emulsionspolymerisation und ein Emulgierungsverfahren unter Phasenumkehr bekannt. Das Pulverisierungsverfahren ist für das Verfahren zur Herstellung feiner Harzpartikel, die in der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung verwendet werden, ungeeignet, weil ein hohes Maß an Pulverisierung zur Herstellung feiner Harzpartikel notwendig ist und es praktisch schwierig ist, feine Partikel mit einem Partikeldurchmesser von nicht über 1 μm mit guter Präzision zu erhalten. Die resultierenden feinen Partikel besitzen keine definierte Form, so dass sie beim Mischen/in der Dispersion nachteilig sind. Das Suspensionspolymerisationsverfahren ist ungeeignet, weil es in der Praxis ebenso schwierig ist, feine Partikel mit einem Partikeldurchmesser von nicht über 1 μm zu erhalten, weil der bei der Suspensionspolymerisation verwendete Suspensionsstabilisator auf der Partikeloberfläche verbleibt und schwierig zu entfernen ist, was sich nachteilig auf die Wärmeempfindlichkeit auswirkt, wenn sie zur Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung gegeben werden, die Partikel werden ein Schrumpfen verursachen, wenn sie auf eine PS-Platte beschichtet werden, und so weiter. Das Emulsionspolymerisationsverfahren wird nicht bevorzugt, obwohl es als ein Verfahren zur Herstellung feiner Harzpartikel der vorliegenden Erfindung, soweit es die Partikelgröße anbelangt, annehmbar ist. Jedoch ist es schwierig, den auf der Oberfläche der resultierenden Harzpartikel vorliegenden Emulgierungsstabilisator zu entfernen, und, wenn sie zur Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung gegeben werden, beeinflussen sie die Wärmeempfindlichkeit nachteilig und verursachen ein Schrumpfen, wenn sie auf eine PS-Platte beschichtet werden, usw..
Andererseits stellt das Emulgierungsverfahren unter Phasenumkehr ein Verfahren zur Bildung feiner Partikel unter Verwendung sogenannter in Wasser selbstdispergierbarer Harze mit einer derartigen Dispergierbarkeit dar, dass sie sich durch sich selbst derart dispergieren, dass der durchschnittliche Partikeldurchmesser einige μm oder weniger beträgt. Dies wird durch den Effekt eines wässrigen Mediums bewirkt, wenn feine Harzpartikel, die eine wasserunlösliche Flüssigkeit und/oder eine feste Substanz umfassen, erzeugt werden, d. h., ein Verfahren, das Emulgierung und Emulsionsphasenumkehr im Wesentlichen gleichzeitig durchführt, wie es in den ungeprüften japanischen Patentveröffentlichungen Nrn. 3-221137 und 5-66600 beschrieben ist. Das Emulgierungsverfahren mit gleichzeitiger Phasenumkehr kann zu feinen Partikeln führen, ohne einen speziellen Dispersionsstabilisator oder ein spezielles Hilfsmittel zu erfordern, und besitzt die Besonderheit, dass es feine Harzpartikel erzeugen kann, die als eine größere Komponente ein Polyesterharz umfassen, die durch ein Suspensionspolymerisations- oder Emulsionspolymerisationsverfahren schwierig zu erzeugen sind, und ist als ein Verfahren zur Herstellung der in der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung verwendeten feinen Harzpartikel der vorliegenden Erfindung ganz ausgezeichnet geeignet.
D. h., die vorliegende Erfindung stellt unter anderem anionische, in Wasser selbstdispergierbare Harzpartikel mit einer Säurezahl von 10 bis 300 und einem durchschnittlichen Partikeldurchmesser von 0,005 bis 15 μm bereit, die geeigneterweise in der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, und stellt ebenso ein Verfahren zur Herstellung der Partikel bereit, das einen ersten Schritt, in dem ein anionisches, in Wasser selbstdispergierbares Harz in einem organischen Lösungsmittel gelöst oder dispergiert wird, einen zweiten Schritt, in dem die gelöste oder dispergierte Zusammensetzung einer Emulgierung mit gleichzeitiger Phasenumkehr unter Bildung feiner Partikel in einem wässrigen Medium unterworfen wird, und einen dritten Schritt umfasst, in dem gegebenenfalls das organische Lösungsmittel und ein Überschuss Wasser entfernt werden.
In dem erfindungsgemäßen, in Wasser selbstdispergierbaren Harz vom anionischen Typ ist die Säuregruppe, die als eine hydrophile Gruppe dient, durch eine chemische Bindung in das Harz eingeführt und, wenn sie mit einer organischen Base oder einer anorganischen Base neutralisiert wird, wird die Säuregruppe in ein Anion in einem wässrigen Medium umgewandelt, wodurch es Hydrophilie zeigt. Spezielle Beispiele der Säuregruppe enthalten eine Carboxylgruppe, eine Phosphorsäuregruppe, eine Sulfonsäuregruppe oder eine Schwefelsäuregruppe. Nach dem Neutralisieren einer organischen, kontinuierlichen Phase (O-Phase), die eine Lösung eines Harzes mit einer derartigen Säuregruppe in einem organischen Lösungsmittel umfasst, durch Zugabe einer Base verursacht die Beimischung eines wässrigen. Mediums (W-Phase) eine Phasenumkehr (eine sogenannte Emulgierung unter Phasenumkehr; "phase reversal of emulsion") von W/Ö nach Ö/W, wodurch das wässrige Medium in eine diskontinuierliche Phase umgewandelt wird, so dass das Harz in dem wässrigen Medium in Form feiner Partikel unter Bildung einer stabilisierten Dispersion dispergiert wird.
Daher dient in der vorliegenden Erfindung das in Wasser selbstdispergierbare Harz vom anionischen Typ als feine Harzpartikel, die die Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung bilden. Als erfindungsgemäß verwendete, in Wasser selbstdispergierbare Harze vom anionischen Typ kann ein Polymerisationsprodukt angeführt werden, das durch Polymerisieren eines polymerisierbaren Monomers mit einer Säuregruppe mit einem polymerisierbaren Monomer, das vom polymerisierbaren Monomer mit einer Säuregruppe verschieden ist, in Gegenwart eines Polymerisationsinitiators erhalten wurde. Spezielle Beispiele des Säuregruppe-enthaltenden, polymerisierbaren Monomers enthalten beispielsweise Acrylsäure, Methacrylsäure, Crotonsäure, Ita consäure, Maleinsäure, Fumarsäure, Monobutylitaconat, Monobutylmaleat, protoniertes Phosphoroxyethylmethacrylat, protoniertes Phosphoroxypropylmethacrylat, 3-Chlor-2-acrylamid-2-methylpropansulfonat, 2-Sulfoethylmethacrylat, etc.
Polymerisierbare Monomere, die von den Säuregruppen-enthaltenden, polymerisierbaren Monomeren verschieden sind, beinhalten beispielsweise Monomere auf Styrol-Basis (aromatische Vinylmonomere), wie Styrol, Vinyltoluol, 2-Methylstyrol, t-Butylstyrol und Chlorstyrol, verschiedene Acrylester, wie Methylacrylat, Ethylacrylat, Isopropylacrylat, n-Butylacrylat, Isobutylacrylat, n-Octylacrylat, Decylacrylat und Dodecylacrylat, verschiedene Methacrylester, wie Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Isopropylmethacrylat, n-Butylmethacrylat, Isobutylmethacrylat, n-Butylmethacrylat, Isobutylmethacrylat, n-Amylmethacrylat, Isoamylmethacrylat, n-Hexylmethacrylat, 2-Ethylhexylmethacrylat, n-Octylmethacrylat, Decylmethacrylat und Dodecylmethacrylat, verschiedene Hydroxylgruppen-enthaltende Monomere, wie Hydroxyethylacrylat oder Hydroxypropylmethacrylat, N-substituierte Acrylmonomere, wie N-Methyl(meth)acrylamid und N-Butoxy(meth)acrylamid.
Die Copolymere, die aus Kombinationen der oben beschriebenen Monomeren stammen, können, wenn es gewünscht ist, Copolymere eines polymerisierbaren Monomers und eines polymerisierbaren Oligomers sein, das ungesättigte Gruppen enthält. Ferner kann ein derartiges polymerisierbares Oligomer, das ungesättigte Gruppen und eine Säuregruppe enthält, zum Einsatz kommen. Ein derartiges polymerisierbares Oligomer, das ungesättigte Gruppen enthält, beinhaltet beispielsweise einen Vinyl-modifizierten Polyester, ein Vinyl-modifiziertes Polyurethan oder eine Vinyl-modifizierte Epoxyverbindung, etc. Als ein spezielles Beispiel kann eine polymerisierbare, ungesättigte Bindung (eine Vinylgruppe) durch Polykondensation oder Addition verschie dener Verbindungen, wie Maleinsäureanhydrid, Fumarsäure, Tetrahydrophthalsäureanhydrid, Endomethylentetrahydromaleinsäureanhydrid, ein α-Terpinen-Addukt von Maleinsäureanhydrid, ein Monoalkylester eines Triols, Pentaerythritdiallylether oder Allylglycidylether, etc., eingeführt werden.
Ferner kann eine zweiwertige Säure, wie Phthalsäure, zum Einbau einer Säuregruppe in einen Polyester im Überschuss verwendet werden, wobei ein Polyester mit einer terminalen Carboxylgruppe erhalten wird. Alternativ dazu kann ein Polyester mit einer Säuregruppe in seiner Hauptkette durch Verwendung von Trimellitsäureanhydrid erhalten werden.
Außerdem kann das Vinyl-modifizierte Polyurethan, wie es oben beschrieben worden ist, durch Additionspolymerisation verschiedener Polyole, wie Glycerinmonoallylether oder eines eine 1,2-Bindung enthaltenden Butadienpolyols mit Diisocyanat erhalten werden. Alternativ dazu kann eine Vinylbindung durch Additionsreaktion zwischen einem Urethan mit einer Isocyanatgruppe an seinem Terminus und einem Hydroxylgruppen-enthaltenden, polymerisierbaren Monomer erhalten werden. Außerdem kann eine Säurekomponente in ein Polyurethan durch Addition von Dimethylolpropionsäure als eine Polyolkomponente eingeführt werden.
Als Monomethacrylat von Polyethylenglykol können beispielsweise diejenigen mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht der Polyoxyethylenkette innerhalb des Bereiches von 1.000 bis 4.000 angeführt werden.
Als Vinyl-modifizierte Epoxyverbindung können beispielsweise diejenigen angeführt werden, die durch Umsetzung terminaler Epoxyradikale eines Epoxyharzes mit Carboxylradikalen von Acrylsäure oder Methacrylsäure erhalten werden. Ferner kann ein Oligomer eines polymerisierbaren Monomers mit einer polymerisierbaren Vinylgruppe durch Addi tion eines Glycidylgruppen-enthaltenden, polymerisierbaren Monomers an ein Carboxylgruppen-enthaltendes Vinylcopolymer erhalten werden. Die hierin verwendeten polymerisierbaren Monomere können unter den oben Beschriebenen ausgewählt werden.
Zusätzlich können mit terminalen Vinylgruppen modifizierte Oligomere, die als ein Makromonomer kommerziell erhältlich sind, beispielsweise hergestellt von Toa Gosei Kagaku Kogyo, zum Einsatz kommen. Unnötig zu erwähnen, dass es keine Beschränkung bezüglich der Art oder des Verfahrens gibt, soweit Oligomere mit einer Vinylgruppe verwendet werden.
Die Polymerisation zum Erhalt dieser Copolymere wird gewöhnlicherweise unter einer anaeroben Atmosphäre und unter Verwendung eines Polymerisationsinitiators durchgeführt. Als Polymerisationsinitiator können allgemein bekannte verwendet werden. Spezielle Beispiele davon beinhalten verschiedene Peroxide, wie Benzoylperoxid, Di-t-butylperoxid, Cumolhydroperoxid, t-Butylperoxid und t-Butylperoxy-2-ethylhexanoat, und verschiedene Azoverbindungen, wie Azobisisobutyronitril und Azobisisovaleronitril.
Als Reaktionslösungsmittel können verschiedene organische Lösungsmittel zum Einsatz kommen, wie beispielsweise aromatische Kohlenwasserstoffe, wie Toluol, Xylol und Benzol, verschiedene Alkohole, wie Methanol, Ethanol, Propanol und Butanol, verschiedene Etheralkohole, wie Cellosolve und Carbitol, verschiedene Ketone, wie Methylethylketon und Methylisobutylketon, verschiedene Ester, wie Ethylacetat und Butylacetat, verschiedene Ether, wie Butylcellosolveacetat, und so weiter.
Vorzugsweise tritt in der nachfolgend beschriebenen zweiten Stufe leicht eine Phasenumkehr auf, und es ist zweckmäßig, im dritten Schritt ein sogenanntes niedrigsiedendes organisches Lösungsmittel, wie Aceton, Methylethylketon oder Ethylacetat, zu verwenden, das leicht entfernt werden kann.
Die Polymerisation wird unter den Bedingungen von gewöhnlicherweise 50 bis 150°C in einer Stickstoffatmosphäre durchgeführt; sie sind jedoch nicht darauf beschränkt. Die geeignete Menge an Säuregruppen im resultierenden Copolymer ist 10 bis 300, vorzugsweise 15 bis 200, und bevorzugter 20 bis 150, jeweils als Säurezahl.
Unter dem Gesichtspunkt der Notwendigkeit des Bewahrens einer ausreichenden Härte als feine Harzpartikel ist das Säuregruppen-enthaltende Copolymer vorzugsweise eines, das ein Molekulargewicht über einem bestimmten Wert besitzt:
Gewöhnlicherweise ein zahlenmittleres Molekulargewicht innerhalb des Bereichs von 3.000 bis 100.000, vorzugsweise 5.000 bis 50.000. Bei einem Molekulargewicht von weniger als 3.000 besitzt das Partikel eine geringe Festigkeit, so dass die Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung eine ungenügende physikalische Festigkeit aufweist, während bei einem Molekulargewicht oberhalb von 100.000 die Viskosität zum Zeitpunkt der Emulgierung unter Phasenumkehr hoch wird, was zu einem Problem bei der Kontrolle des Teilchendurchmessers und einer breiteren Teilchendurchmesserverteilung führt. Beide Fälle sind nicht erwünscht.
Um ein Verschmelzen beim Trocknen oder ein Aneinanderhaften bei hohen Temperaturen zu verhindern, ist es zweckmäßig, dass das in Wasser selbstdispergierbare Harz vom anionischen Typ eine Glasübergangstemperatur von 50°C oder darüber besitzt.
Zusätzlich zu den oben beschriebenen Harzen beinhalten die in Wasser selbstdispergierbaren Harze vom anionischen Typ, die in der vorliegenden Erfindung verwendet werden, Urethanharze, beispielsweise eine Urethanharzdispersion, die in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 1-287183 beschrieben ist, Epoxyharze, beispielsweise verschiedene Epoxyverbindungen, die in den ungeprüften japanischen Patentveröffentlichungen Nr. 53-1228, 55-03481 oder 55-9433 beschrieben sind.
Bei der Herstellung des in Wasser selbstdispergierbaren Harzes vom anionischen Typ der vorliegenden Erfindung ist der erste Schritt, das oben beschriebene, in Wasser selbstdispergierbare Harz vom anionischen Typ in einem organischen Lösungsmittel zu lösen oder zu dispergieren. Für dieses Verfahren kann eine herkömmliche Rührvorrichtung verwendet werden. Wenn es gewünscht ist, kann das Gemisch erhitzt oder erwärmt werden um das Auflösen oder Dispergieren zu beschleunigen.
Der zweite Schritt ist ein Schritt, in dem, nachdem das in einem organischen Lösungsmittel gelöste oder dispergierte, in Wasser selbstdispergierbare Harz vom anionischen Typ mit einer Base neutralisiert worden ist, eine Emulgierung unter Phasenumkehr in ein wässriges Medium durchgeführt wird. Das in einem organischen Lösungsmittel gelöste oder dispergierte, in Wasser selbstdispergierbare Harz vom anionischen Typ erfährt, nachdem es mit einer Base neutralisiert worden ist, einen sofortigen Übertritt der Harzphase von W/Ö nach Ö/W durch Zugabe eines wässrigen Mediums, und Harzpartikel werden in dem wässrigen Medium gebildet. Ein herkömmliches Polymerisationsverfahren umfasst zwei Schritte, d. h., zunächst Bildung roher Einheitspartikel feiner Partikel, d. h. Einheitspartikel (von denen viele flüssig sind), die noch kein Harzpartikel sind, aber nach einer Polymerisationsreaktion durch die Polymerisationsreaktion feine Harzpartikel werden können, und nachfolgende Bildung feiner Harzpartikel (Polymerisationsreaktion). Jeder von diesen wird als ein getrennter Schritt unabhängig durchgeführt. Im Gegensatz dazu besitzt die vorliegende Erfindung die Besonderheit, dass die Schritte nicht ge trennt sind, sondern beide gleichzeitig und sofort unter Verwendung einer Emulgierung unter Phasenumkehr ablaufen.
Die im zweiten Schritt verwendete Base beinhaltet als eine anorganische basische Verbindung Hydroxide von Alkalimetallen, wie Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid, Carbonate und Acetate davon, sowie Ammoniak. Als organische basische Verbindungen können Alkylamine, wie Methylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Ethylamin, Diethylamin und Triethylamin, Alkanolamine, wie Diethanolamin, und so weiter, zum Einsatz kommen. Die basischen Verbindungen können in unveränderter Form eingesetzt werden, werden aber gewöhnlicherweise in Form einer wässrigen Lösung eingesetzt.
Der zweite Schritt in der vorliegenden Erfindung beinhaltet dann zusätzlich zur Bildung feiner Harzpartikel die Kontrolle des Partikeldurchmessers, was einen weiteren wichtigen Faktor darstellt. Grundsätzlich wird die Kontrolle des Partikeldurchmessers durch Kontrolle der Menge einer Base bewerkstelligt, die die Säuregruppe neutralisiert, die in dem in Wasser selbstdispergierbaren Harz vom anionischen Typ enthalten ist. In dem erfindungsgemäßen Verfahren wird die mit Base neutralisierte Menge (zur Neutralisation erforderliche Menge an Base) innerhalb der Spanne von 10 bis 100 Mol-% entsprechend variiert, so dass Partikeldurchmesser, die sich zwischen dem Submikrometerbereich (unter 1 μm) und 30 μm bewegen, frei erhalten werden können. Die Erleichterung der Kontrolle des Partikeldurchmessers ist daher auch eines der Merkmale der vorliegenden Erfindung. Da die Partikelbildung im wässrigen Medium im Wesentlichen unter Ausnützen der Selbstdispergierbarkeit eines Harzes in Wasser, was Emulgierung unter Phasenumkehr genannt wird, bewerkstelligt wird, kann Anlegen einer Scherwirkung zu einem solchen Ausmaß, dass verschiedene Lösungsmittel und gelöste Stoffe gleichmäßig ver mischt werden, feine Harzpartikel mit normaler Größenverteilung ohne eine besondere Maßnahme zur Folge haben.
Eine Vorrichtung, die zur Emulgierung unter Phasenumkehr im zweiten Schritt verwendet werden kann, ist ein herkömmlicher Rührer. Insbesondere wenn der Partikeldurchmesser im Submikrometerbereich oder kleiner gehalten werden soll, ist die Verwendung einer Emulgier-Dispergier-Vorrichtung, oder dergleichen, bevorzugter. Beispielsweise kann eine Vorrichtung verwendet werden, die allgemein als eine Hochgeschwindigkeits-Dispergiervorrichtung vom Scherturbinen-Typ bezeichnet wird, wie beispielsweise ein Homomixer (hergestellt von Tokushu Kika Kogyo Co.), Disper (hergestellt durch Tokushu Kika Kogyo Co.), Ultra Tarax (Deutschland), Chedimill (U.S.A.), Shear Flow (U.S.A.), Silverson Mixer (Vereinigtes Königreich), Haller Homogenizer (Deutschland), etc. Darüber hinaus kann eine kontinuierliche Emulgier-Dispergier-Vorrichtung angeführt werden, die einen Hochgeschwindigkeitsrotor und einen damit in Eingriff befindlichen Stator umfasst, wie beispielsweise einen Slasher (hergestellt von Mitsui Mining Co., Ltd.) oder Cavitron (hergestellt durch Eurotech Co., Ltd.), eine Emulgier-Dispergier-Vorrichtung, die die Wechselwirkung einer speziell geformten Kammer und von einer Pumpe zugeführter Energie nutzt, wie z. B. ein Microfluidizer (hergestellt von Mizuho Kogyo Co., Ltd.), ein Microhomogenisator (hergestellt von Mizuho Kogyo Co., Ltd.), Munton-Golin Homogenisator (hergestellt von Golin Co.), Nanomizer (hergestellt von Nanomizer Co., Ltd.), und eine stationäre, kontinuierliche Eingangsleitungs-Mischvorrichtung ohne Antriebsteil, wie z. B. ein Static Mixer (hergestellt von Noritake Co.), angeführt werden.
Hier führt eine zu schwache Scherung bis zur Phasenumkehr tendentiell zu einer verbreiterten Partikelgrößenverteilung. Eine zu starke Scherung zerstört die gebildeten Teilchen unter Bildung von Agglomeraten oder äußerst fei nen Partikeln oder verbreitert die Partikelgrößenverteilung. Da jedoch eine normale Teilchengrößenverteilung der erfindungsgemäßen feinen Partikel erhalten werden kann, ist in solchen Fällen, wenn nötig, das Separieren nur eines Teils davon zur weiteren Anpassung der Partikelgrößenverteilung ausreichend. Die separierten feinen Harzpartikel werden in den ersten Schritt zurückgeführt und erneut in einem organischen Lösungsmittel gelöst oder dispergiert, bevor sie erneut verwendet werden können.
Die erfindungsgemäßen feinen Harzpartikel können verwendet werden wie sie sind. Jedoch ist es wünschenswert, das organische Lösungsmittel im Vakuum zu entfernen. Es ist selbstverständlich möglich, das wässrige Medium unter Bildung pulverförmiger, trockener, feiner Harzpartikel zu entfernen.
Die dritte Stufe ist die Entfernung des organischen Lösungsmittels oder des wässrigen Mediums unter Erhalt pulverförmiger, trockener, feiner Harzpartikel. Die im zweiten Schritt erhaltenen feinen Harzpartikel werden in einem wässrigen Medium so dispergiert, dass zunächst ein feuchter Kuchen der Harzpartikel durch Saugfiltration erhalten wird und dann mit einer Jet-Mühle, etc., oder durch ein gebräuchliches Verfahren unter Verwendung eines Sprühtrockners, etc., getrocknet wird, wobei pulverförmige, feine Harzpartikel erhalten werden.
Die wie oben beschrieben durch Emulgierung unter Phasenumkehr erhaltenen Harzpartikel können in einem Anteil von 20 bis 90 Gew.-%, vorzugsweise 30 bis 70 Gew.-%, als Anteil einer Komponente der Harzpartikel in der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung verwendet werden. Wenn der Anteil der Komponente der Harzpartikel niedriger als 20 Gew.-% ist, wird die Änderung in den physikalischen Eigenschaften aufgrund thermischer Denaturierung übermäßig, was Probleme mit der Qualität des Bildbereichs verursacht, während ein Anteil der Komponente von mehr als 90 Gew.-% zu einer unzureichenden Änderung in den physikalischen Eigenschaften führt und Probleme mit der Entwickelbarkeit und dergleichen bei der ersten Entwicklung entstehen.
Ein Tensid auf Fluorbasis wird zur Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung gemäß der vorliegenden Erfindung gegeben. Die Wirkung des Tensids auf Fluorbasis besteht vor allem in der Wirkung als Verlaufmittel, das die Beschichtungsqualität nach Auftragen einer Beschichtungslösung einer Schicht einer wärmeempfindlichen Zusammensetzung auf die Oberfläche einer PS-Platte verbessert. Seine zweite Wirkung liegt in der Verbesserung der Dispergierbarkeit durch Neutralisieren der Kohäsion, die auf der Wechselwirkung zwischen den Partikeln, wie Harzpartikeln und Ruß, die in der Beschichtungslösung der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung enthalten sind, beruht. Die dritte Wirkung liegt in der Adhäsion zwischen der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung nach dem Auftragen und dem Trocknen und einer lichtempfindlichen, bilderzeugenden Schicht vom Negativ- oder Positiv-Typ um eine Wirkung auf die Freisetzbarkeit der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung zu besitzen. Die vierte Wirkung besteht in der Wirkung auf die Löslichkeit der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung in einem Entwickler bei der ersten und/oder zweiten Entwicklung.
Spezielle Beispiele des Tensids auf Fluorbasis beinhalten anionische Tenside auf Fluorbasis, wie z. B. Perfluoralkylgruppen-enthaltende Carbonsäuresalze, Perfluoralkylgruppen-enthaltende Sulfonsäuresalze, Perfluoralkylgruppen-enthaltende Schwefelsäureester und Perfluoralkylgruppen-enthaltende Phosphorsäuresalze, kationische Tenside auf Fluorbasis, wie z. B. Perfluoralkylgruppen-enthaltende Aminsalze und Perfluoralkylgruppen-enthaltende, quaternäre Ammoniumsalze, amphotere Tenside auf Fluorbasis, wie z. B. Perfluoralkylgruppen-enthaltende Carboxybetaine und Per fluoralkylgruppen-enthaltende Aminocarbonsäuresalze, nicht-ionische Tenside auf Fluorbasis, wie z. B. Perfluoralkylgruppen-enthaltende Oligomere, Perfluoralkylgruppen-enthaltende Polymere und Perfluoralkylgruppen-enthaltende Addukte von Sulfonamiden und Polyethylenglykol, usw.
Diese Tenside auf Fluorbasis können einzeln verwendet werden oder es können zwei oder mehr von ihnen in Kombination verwendet werden. Darüber hinaus beträgt die Menge des Tensids auf Fluorbasis in der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung 0,001 bis 20 Gew.-%, vorzugsweise 0,01 bis 10 Gew.-%, bezogen auf die Feststoffe in der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung. Wenn die Menge weniger als 0,001 Gew.-% beträgt, kann ein ausreichender Verlaufeffekt nicht erhalten werden, wenn eine Beschichtungslösung der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung auf eine PS-Platte geschichtet wird. Wenn mehr als 20 Gew.-% des Tensids zugegeben werden, tritt ein Problem hinsichtlich der Entwickelbarkeit bei der ersten Entwicklung auf, wie Abblättern der gesamten Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung.
Bereitstellung der erfindungsgemäßen Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung auf der lichtempfindlichen, bilderzeugenden Schicht kann durch Auftragen einer Beschichtungslösung der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung auf die lichtempfindliche, bilderzeugende Schicht einer PS-Platte vom Negativ- oder Positiv-Typ und Trocknen erzielt werden. Die Beschichtungslösung der Schicht der lichtempfindlichen Zusammensetzung wird beispielsweise durch Dispergieren eines Pigments in Wasser oder einem Mischlösungsmittel aus Wasser und einem organischen Lösungsmittel hergestellt. Als Dispergierungsapparat kann eine Ultraschall-Dispergiervorrichtung, eine Sandmühle, eine Reibmühle, eine Trommelmühle, eine Hochleistungsmühle, eine Kugelmühle, ein Kreiselmischer, eine Disper giervorrichtung, eine KD-Mühle, eine Kolloidmühle, ein Dynatron, eine Drei-Walzen-Mühle, eine Druckknetvorrichtung, etc., verwendet werden. Das zu diesem Zeitpunkt verwendete organische Lösungsmittel ist ein organisches Lösungsmittel mit einem niedrigen Siedepunkt, das Wasser einheitlich lösen kann. Spezielle Beispiele davon beinhalten Methanol, Ethanol, Isopropanol, n-Propanol, Butanol, sek.-Butanol, t-Butanol, Aceton, Methylethylketon, Ethylenglykol, Propylenglykol, Propylentriol, Essigsäure, Propionsäure, etc.
Ferner ist es im Falle eines gepfropften Rußes bevorzugt, gleichzeitig mit der Dispersion ein Additiv zu verwenden um ihn im Dispersionslösungsmittel zu stabilisieren. Als Kationen, die Gegenionen für das Pfropfmittel bilden, beinhaltet das Additiv verschiedene niedere organische primäre Amine, sekundäre Amine, tertiäre Amine, quaternäre Ammoniumsalze, anorganische Ionen, wie Alkalimetalle, Erdalkalimetalle, und als Anionen verschiedene organische Carbonsäuren, organische Sulfonsäuren, organische Phosphorsäuren, Aminocarbonsäuren, usw. Als andere Additive zur Stabilisierung können verschiedene Tenside angeführt werden. Als Tenside können diejenigen ausgewählt werden, die die Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung auf einer PS-Platte nicht angreifen oder nach Auftragen auf eine PS-Platte, wie nachfolgend beschrieben, Schrumpfen verursachen. Spezieller werden anionische Tenside, wie verschiedene Carbonsäuresalze, Sulfonsäuresalze, Schwefelsäureester, Phosphorsäuresalze, usw., kationische Tenside, wie aliphatische Aminsalze und quaternäre Ammoniumsalze davon, aromatische quaternäre Ammoniumsalze, heterocyclische quaternäre Ammoniumsalze, usw., vorzugsweise Tenside auf Fluorbasis, verwendet.
Falls die feinen Harzpartikel des in Wasser selbstdispergierbaren Harzes vom anionischen Typ der vorliegenden Erfindung in einem wässrigen Medium dispergiert sind und eine erforderliche Menge Harz enthalten, wird das wässrige Medium, das die feinen Harzpartikel enthält, nach dem zweiten Schritt zur Herstellung feiner Harzpartikel des oben beschriebenen, in Wasser selbstdispergierbaren Harzes vom anionischen Typ, wie es ist, durch Zugabe zu einer Flüssigkeit zur Herstellung eines vorher hergestellten Pigments verwendet.
Wenn andererseits die Harzpartikel als pulverförmige, feine Partikel erhalten werden, werden sie kräftig in Wasser und/oder einem wasserlöslichen organischen Lösungsmittel dispergiert um eine einheitliche Lösung zu bilden, und danach zu einer vorher hergestellten Flüssigkeit zur Herstellung eines Pigments gegeben. Zu dieser Zeit kann die Verwendung einer gewaltsam erzeugten Dispersion eine Agglomeration zwischen den Partikeln verursachen, wenn die Base nicht ausreichend neutralisiert worden ist. Als Base, die in diesem Fall vorzugsweise verwendet wird, können verschiedene niedere organische primäre Amine, sekundäre Amine, tertiäre Amine, quaternäre Ammoniumsalze und anorganische Ionen, wie Alkalimetalle und Erdalkalimetalle, angeführt werden.
Als nächstes kann eine vorbestimmte Menge des Tensids auf Fluorbasis, wie es ist, direkt oder nach Auflösen in Wasser und/oder in einem wasserlöslichen organischen Lösungsmittel zu der vorher hergestellten, gemischten Lösung des Pigments und der Harzpartikel gegeben werden.
Die Reihenfolge der Zugabe der Dispersion des Pigments, der Harzpartikeldispersion und der Lösung des Tensids auf Fluorbasis kann auf verschiedene Arten erfolgen, und es besteht keine Notwendigkeit, dem hierin Beschriebenen zu folgen. Jegliche Mischmethode kann verwendet werden.
Die Beschichtungslösung der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung kann ferner eine Beschichtungshilfe zur Verbesserung der Auftragbarkeit enthalten. Um beispiels weise die Viskosität einzustellen, können verschiedene natürliche, wasserlösliche Polymere oder synthetische wasserlösliche Polymere, wasserlösliche organische Lösungsmittel (Methanol, Ethanol, Isopropanol, n-Propanol, Butanol, sek.-Butanol, t-Butanol, Aceton, Methylethylketon, Ethylenglykol, Propylenglykol, Propylentriol, Essigsäure, Propionsäure, etc.), Entschäumungsmittel (auf Siliconbasis und auf Fluorbasis, usw.), verschiedene Tenside (anionische, nicht-ionische, kationische), usw., zugegeben werden.
Die auf diese Weise hergestellte Beschichtungslösung der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung wird auf die lichtempfindliche, bilderzeugende Schicht einer PS-Platte vom Negativ- oder Positiv-Typ aufgebracht, die vom Oberflächenmattierungsmittel befreit worden ist, vorzugsweise nach Einstellen des Feststoffgehalts der Beschichtungslösung auf 1 bis 50 Gew.-%. Als Beschichtungsmethode können ein Rotations-Beschichtungsverfahren, ein Auftragsstangen-Beschichtungsverfahren, ein Tauch-Beschichtungsverfahren, ein Luftbürsten-Beschichtungsverfahren, ein Walzen-Beschichtungsverfahren, ein Rakel-Beschichtungsverfahren, ein Vorhang-Beschichtungsverfahren, ein Sprüh-Beschichtungsverfahren, usw., angeführt werden.
Die Beschichtungsflüssigkeit der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung, die auf die PS-Platte vom Negativ- oder Positiv-Typ aufgebracht worden ist, wird bei 30 bis 150°C für 10 Sekunden bis 10 Minuten unter Verwendung eines Heißlufttrockners, Infrarottrockners, usw., getrocknet. Die Auftragsmenge der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung nach dem Trocknen beträgt 0,5 bis 3,5 g/m². Wenn die Auftragsmenge weniger als 0,5 g/m² beträgt, ist der maskierende Effekt durch die Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung bei der Vollbelichtung mit aktivem Licht unzureichend. Wenn dagegen die Auftragmenge mehr als 3,5 g/m² beträgt, kann keine ausreichende thermi sche Energie beim Beschreiben durch Licht hoher Energiedichte erzielt werden, und die gesamte Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung kann sich bei der ersten Entwicklung abschälen.
Die Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung, wie sie zuvor beschrieben worden ist, besitzt eine derartige Struktur, dass die Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung als eine maskierende Schicht auf eine PS-Platte aufgetragen worden ist, was in der Druckindustrie bekannt ist. Auf der Originalplatte für eine Flachdruckplatte, die mit einer Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung auf die lichtempfindliche, bilderzeugende Schicht einer "PS-Platte vom Negativ-Typ" beschichtet worden ist, schmilzt ein Bildbereich, auf den das Einschreiben mit Licht hoher Energiedichte durchgeführt wird, und dient als ein Nicht-Bildbereich, wenn sie als eine Druckplatte verwendet wird. Der Bildbereich der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung, auf den ein Bild mit Licht hoher Energiedichte eingeschrieben worden ist, fungiert nach der nachfolgenden Vollbelichtung mit UV-Licht als eine Maske. Die lichtempfindliche, bilderzeugende Schicht der PS-Platte, von der die Maske entfernt worden ist, härtet bei der Vollbelichtung mit UV-Licht unter Bildung eines Bildbereichs nach dem Drucken. In diesem Fall kann die Originalplatte für eine Druckplatte als eine "Originalplatte vom Positiv-Typ für eine Flachdruckplatte" unter dem Gesichtspunkt des Einschreibens mit Licht hoher Energiedichte bezeichnet werden.
Im Fall der Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung mit darauf aufgetragener Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung auf die lichtempfindliche, bilderzeugende Schicht einer "PS-Platte vom Positiv-Typ" dient der Bildbereich, auf dem das Einschreiben mit Licht hoher Energiedichte erfolgt ist, andererseits als ein Bildbereich, auf dem Druckfarbe abgeschieden wird, wenn sie als eine Druckplatte verwendet wird. In diesem Fall kann sie als eine "Originalplatte vom Negativ-Typ für eine Flachdruckplatte" bezeichnet werden.
Darüber hinaus kann durch den maskierenden Effekt der obersten Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung das Phänomen des Eintrübens, das durch ultraviolette Strahlen auf der PS-Platte vom Negativ- oder Positiv-Typ verursacht wird, verhindert werden, so dass die Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung bezüglich der Handhabung vorteilhaft ist. Es sind keine zusätzlichen Vorrichtungen, wie ein besonderes Sicherheitslicht, erforderlich, sondern es kann bei gewöhnlicher Raumbeleuchtung gearbeitet werden.
Es wird eine PS-Platte vom Negativ-Typ, die als ein Substrat für die Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann, beschrieben. Es liegt keine besondere Begrenzung auf der PS-Platte vom Negativ-Typ, und es kann irgendeine kommerziell erhältliche PS-Platte vom Negativ-Typ verwendet werden, die eine Unterlage mit einer hydrophilen Oberfläche (die gegenwärtig gängigste ist ein Aluminiumsubstrat, dessen Oberfläche einer Hydrophilisierungsbehandlung unterworfen worden ist), auf die Oberfläche eine lichtempfindliche, bilderzeugende Schicht vom Negativ-Typ aufgetragen wurde (der bildweise belichtete Bereich dient als Bereich zur Aufnahme der Druckfarbe).
Typische Beispiele der lichtempfindlichen Zusammensetzung, die in der lichthärtenden, lichtempfindlichen Schicht einer derartigen lichtempfindlichen Flachdruckplatte vom Negativ-Typ enthalten ist, enthalten die Folgenden:

1) eine lichtempfindliche Zusammensetzung, die ein lichtempfindliches Diazoharz und ein Bindemittelharz umfasst: typische Beispiele des lichtempfindlichen Diazohar zes enthalten ein Salz eines Kondensationsprodukts eines Diazodiarylamins und einer aktiven Carbonylverbindung. Ein wasserunlösliches und in organischen Lösungsmitteln lösliches Diazoharz ist bevorzugt. Besonders bevorzugte Diazoharze enthalten Salze organischer Säuren oder Salze anorganischer Säuren von Kondensationsprodukten zwischen 4-Diazodiphenylamin, 4-Diazo-3-methyldiphenylamin, 4-Diazo-4'-methyldiphenylamin, 4-Diazo-3'-methyldiphenylamin, 4-Diazo-3-methyl-4'-ethoxydiphenylamin, 4-Diazo-3-methoxydiphenylamin, usw., und Formaldehyd, Paraformaldehyd, Acetaldehyd, Benzaldehyd, 4,4'-Bis(methoxymethyl)diphenylether, usw. Die organische Säure schließt beispielsweise Methansulfonsäure, Benzolsulfonsäure, Toluolsulfonsäure, Xylolsulfonsäure, Mesitylensulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, Naphthalinsulfonsäure, Propylnaphthalinsulfonsäure, 1-Naphthol-5-sulfonsäure, 2-Nitrobenzolsulfonsäure, 3-Chlorbenzolsulfonsäure, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure, 2,4-Dihydroxybenzophenon, Benzolphosphinsäure, usw. ein. Die anorganische Säure enthält Hexafluorphosphorsäure, Tetrafluorborsäure, usw.

Als andere lichtempfindliche Diazoharze können diejenigen Diazoharze verwendet werden, die eine Polyestergruppe in ihrer Hauptkette aufweisen, wie es in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung Nr. 54-30121 beschrieben ist, Diazoharze, die durch Umsetzen eines Polymers mit einem Carbonsäureanhydridrest mit einer Diazoverbindung mit einer Hydroxylgruppe erhalten worden sind, wie es in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung Nr. 61-273538 beschrieben ist, erhalten wurden, Diazoharze, die durch Umsetzen einer Polyisocyanatverbindung mit einer Diazoverbindung mit einer Hydroxylgruppe erhalten wurden, und dergleichen.
Als Bindemittelharz können beispielsweise (Meth)acrylsäure (nachfolgend werden Acrylsäure und Methacrylsäure gemeinsam als "(Meth)acrylsäure" bezeichnet), Copolymere, wie (Meth)acrylsäureester-Copolymere, Hydroxyalkyl(meth)acrylat- und (Meth)acrylnitril-enthaltende Copolymere mit einer Säurezahl von 10 bis 100, wie sie in der US-PS 4 123 267 beschrieben sind, Copolymere mit einer aromatischen Hydroxylgruppe, wie sie in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 57-43890 beschrieben sind, Polymere mit einer 2-Hydroxy-3-phenoxypropyl(meth)acrylat-Einheit, wie sie in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 57-51656 beschrieben sind, Epoxyharze, Polyamidharze, Vinylhalogenide, besonders Polyvinylchlorid, Polyvinylidenchlorid, Polyvinylacetat, Polyester, Acetalharze, wie Formaldehydharze und Butyralharze, lösliche Polyurethanharze, die von U.S. Goodrich unter der Warenbezeichnung ESTAL kommerziell erhältlich sind, Polystyrole, Styrol/Maleinsäureanhydrid-Copolymere oder Halbester davon, Cellulosederivate, Schellack, Kollophonium oder seine modifizierten Produkte, usw., verwendet werden.

2) Eine lichtempfindliche Zusammensetzung, die ein Harz vom lichtvernetzbaren Typ enthält: als lichtvernetzbares Harz ist ein lichtvernetzbares Harz mit einer Affinität zu einem wässrigen, alkalischen Entwickler bevorzugt. Es können beispielsweise ein Copolymer mit einer Zimtsäuregruppe und einer Carboxylgruppe, wie es in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 54-15711 beschrieben ist, ein Polyesterharz mit einem Phenylendiacrylsäurerest und einer Carboxylgruppe, wie es in der ungeprüften Patentveröffentlichung Nr. 60-165646 beschrieben ist, ein Poly-esterharz mit einem Phenylendiacrylsäurerest und einer phenolischen Hydroxylgruppe, wie es in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung Nr. 60-203630 beschrieben ist, ein Polyesterharz mit einem Phenylendiacrylsäurerest und einer Natriumiminodisulfonylgruppe, wie es in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 57-42858 beschrieben ist, ein Polymer mit einer Azidgruppe und einer Carboxylgruppe in den Seitenketten davon, wie es in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung Nr. 59-208552 beschrieben ist, ein Polymer mit einer Maleimidgruppe in den Seitenketten davon, wie es in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung Nr. 62-78544 beschrieben ist, usw., verwendet werden.
3) Eine lichtempfindliche Zusammensetzung, die eine additionspolymerisierbare, ungesättigte Verbindung und einen Photopolymerisationsinitiator enthält: als lichtempfindliche Zusammensetzung gibt es beispielsweise Zusammensetzungen, die eine additionspolymerisierbare, ungesättigte Verbindung mit zwei oder mehr terminalen Ethylengruppen und einen Lichtpolymerisationsinitiator umfassen, wie es in den US-PS 2 769 863 und 3 060 023 sowie in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung Nr. 62-121448 usw. beschrieben ist. Darüber hinaus kann als Bindemittelharz das oben unter Punkt 1) beschriebene Bindemittelharz verwendet werden, ein Copolymer mit einer ungesättigten Gruppe in seiner Seitenkette, wie es in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung Nr. 61-285449 beschrieben ist. Die oben beschriebene lichtempfindliche Zusammensetzung wird, wenn es gewünscht ist, nach Zugabe einer oder mehrerer der folgenden Substanzen: Färbemittel, Pigmente, Stabilisatoren, Füllstoffe, Vernetzungsmittel, usw., in einem geeigneten Lösungsmittel gelöst, und die resultierende Lösung wird auf eine Unterlage aufgetragen und unter Bildung einer lichtempfindlichen Flachdruckplatte vom Negativ-Typ mit einer lichtempfindlichen Schicht von gewöhnlicherweise 0,5 bis 5 g/m² getrocknet.

Als Unterlage bzw. Substrat für die oben beschriebene lichtempfindliche, bilderzeugende Schicht vom Negativ-Typ können beispielsweise Metallbleche, wie Aluminium, Zink, Kupfer, Edelstahl, Eisen, usw., Kunststofffilme, wie Polyethylenterephthalat, Polycarbonat, Polyvinylacetal, Polyethylen, usw., ein Verbundmaterial, wie Papier oder ein Kunststofffilm, das/der mit einer synthetischen Harzlösung beschichtet ist, und durch Vakuumabscheidung, Laminierung, oder einer ähnlichen Technologie mit einer Metallschicht ausgestattet ist, und dergleichen, angeführt werden. Von diesen sind eine Aluminiumunterlage und eine Verbundunterlage, die mit Aluminium bedeckt ist, besonders bevorzugt.
Die Oberfläche der Aluminiumunterlage bzw. des Aluminiumsubstrats ist wünschenswerterweise zum Zweck einer erhöhten Wasserabweisung und einer verbesserten Adhäsion mit der lichtempfindlichen Schicht oberflächenbehandelt. Beispielsweise enthalten Verfahren zum Aufrauen der Oberfläche ein Bürstenpolierverfahren, ein Kugelpolierverfahren, elektrolytisches Ätzen, chemisches Ätzen, Flüssigkeits-Honen, Sandstrahlen, und Kombinationen dieser Verfahren. Ein Verfahren zum Aufrauen der Oberfläche, das die Verwendung von elektrolytischem Ätzen enthält, ist besonders bevorzugt.
Das zum elektrolytischen Ätzen verwendete elektrolytische Bad schließt wässrige Lösungen, die eine Säure, eine Lauge oder deren Salze enthalten, oder eine wässrige Lösung, die ein organisches Lösungsmittel enthält, ein. Von diesen sind diejenigen Elektrolyte besonders bevorzugt, die Salzsäure, Salpetersäure, oder deren Salze, enthalten. Darüber hinaus können Aluminiumbleche, die einer Behandlung zum Aufrauen der Oberfläche unterzogen worden sind, wenn es gewünscht ist, einer Reinigungsbehandlung mit einer wässrigen Lösung einer Säure oder Lauge unterzogen werden. Das auf diese Weise erhaltene Aluminiumblech wird wünschenswerterweise eloxiert, und ein Verfahren ist wünschenswert, das zur Behandlung ein Schwefelsäure- oder Phosphorsäure-enthal-tendes Bad verwendet.
Wenn es gewünscht ist, können darüber hinaus verschiedene Behandlungen durchgeführt werden, beispielsweise eine Silicatbehandlung (Natriumsilicat, Kaliumsilicat), wie es in den US-PS 2 714 066 und 3 181 461 beschrieben ist, eine Kaliumzirkoniumfluoridbehandlung, wie es in der US-PS 2 946 638 beschrieben ist, eine Phosphormolybdatbehandlung, wie es in der US-PS 3 201 247 beschrieben ist, eine Alkyltitanatbehandlung, wie es in der UK-PS 1 108 559 beschrieben ist, eine Polyacrylsäurebehandlung, wie es in der deutschen Patentschrift Nr. 1 091 433 beschrieben ist, eine Polyvinylphosphonsäurebehandlung, wie es, in der deutschen Patentschrift Nr. 1 134 093 und der Patentschrift des Vereinigten Königreiches 1 230 447 beschrieben ist, eine Phosphonsäurebehandlung, wie es in der japanischen Patentveröffentlichung 44-6409 beschrieben ist, eine Phytinsäurebehandlung, wie es in der US-PS 3 30 951 beschrieben ist, eine Behandlung mit einem Salz einer hydrophilen, organischen, hochmolekularen Verbindung und einem zweiwertigen Metall, wie es in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung Nr. 58-18291 beschrieben ist, eine hydrophile Behandlung durch Unterschichten eines wasserlöslichen Polymers mit einer Sulfonsäuregruppe, wie es in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung Nr. 59-101651 beschrieben ist, eine Färbebehandlung mit einem sauren Farbstoff, wie es in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung Nr. 60-64352 beschrieben ist, eine Silicat-Elektroabscheidungsbehandlung, wie es in der US-PS 3 658 662 beschrieben ist, usw.
Es ist ebenfalls bevorzugt, dass die Träger bzw. Substrate einer Versiegelungsbehandlung zum Verschließen der Porenhohlräume nach dem Sandstrahlen und Eloxieren unterzogen werden. Die Versiegelungsbehandlung kann durch Eintauchen in eine heiße, wässrige Lösung, die heißes Wasser und ein anorganisches Salz oder organisches Salz enthält, und in ein Dampfbad, usw., durchgeführt werden.
Die in der vorliegenden Erfindung verwendete PS-Platte vom Negativ-Typ kann durch Auftragen einer Schicht vom Negativ-Typ einer lichtempfindlichen Zusammensetzung auf die oben beschriebene Unterlage und Trocknen gemäß herkömmlicher Techniken hergestellt werden. Als Beschichtungsver fahren können ein Rotations-Beschichtungsverfahren, ein Auftragsstangen-Beschichtungsverfahren, ein Tauchbeschichtungsverfahren, ein Luftbürsten-Beschichtungsverfahren, ein Walzen-Beschichtungsverfahren, ein Rakel-Beschichtungsverfahren, ein Vorhangsbeschichtungsverfahren, ein Sprühbeschichtungsverfahren, usw., angeführt werden. Die auf diese Weise aufgebrachte Schicht vom Negativ-Typ einer lichtempfindlichen Zusammensetzung wird bei 40 bis 150°C für 30 Sekunden bis 10 Minuten unter Verwendung eines Heißlufttrockners, Infrarottrockners, usw., getrocknet.
Die PS-Platte vom Positiv-Typ, die als ein Träger für die Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung verwendet wird, wird beschrieben. Es liegen keine besonderen Beschränkungen auf der PS-Platte vom Positiv-Typ, und es kann irgendeine kommerziell erhältliche PS-Platte vom Positiv-Typ verwendet werden, die ein Substrat mit einer hydrophilen Oberfläche (gegenwärtig ist die gängigste ein Aluminiumträger, dessen Oberfläche einer Hydrophilisierungsbehandlung unterzogen worden ist), auf die eine lichtempfindliche, bilderzeugende Schicht vom Positiv-Typ aufgetragen worden ist (Nicht-Bildbereich dient als Aufnahmebereich für die Druckerfarbe).
Typische Beispiele der lichtempfindlichen Zusammensetzung, die in der lichthärtenden, lichtempfindlichen Schicht einer derartigen lichtempfindlichen Flachdruckplatte vom Positiv-Typ enthalten ist, beinhalten das Folgende.
Typische Beispiele der Zusammensetzung der lichtempfindlichen Schicht der PS-Platte vom Positiv-Typ, die in der Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann, beinhalten o-Chinondiazidverbindungen, säurezersetzbare Etherverbindungen und Esterverbindungen. Spezielle Beispiele der o-Chinondiazidverbindungen enthalten diejenigen, die in den ungeprüften japanischen Patentveröffentlichungen Nr. 47-5303, 48-63802, 48-63803, 49-38701, 56-1044 und 56-1045, den japanischen Patentveröffentlichungen Nr. 41-11222, 43-28403, 45-9610 und 49-17481, den US-PS 2 797 213 , 3 046 120 , 3 188 210 , 3 454 400 , 3 544 323 , 3 573 917 , 3 674 495 und 3 785 825 , den Patentschriften des Vereinigten Königreichs 1 227 602, 1 251 345, 1 267 005, 1 329 888 und 1 330 932, der deutschen Patentschrift Nr. 854 890, usw., beschrieben sind. Beispiele der säurezersetzbaren Verbindungen enthalten diejenigen, die in den ungeprüften japanischen Patentveröffentlichungen Nrn. 60-37549, 60-10247 und 60-3625, usw., beschrieben sind. Diese Verbindungen können einzeln oder in Kombination als lichtempfindliche Komponente zur Bildung eines lichtempfindlichen Materials verwendet werden, bei der die vorliegende Erfindung vorteilhaft angewendet werden kann. Die lichtempfindliche Komponente schließt o-Chinondiazidcarbonsäureester, d. h. eine aromatische Hydroxyverbindung, und eine o-Chinondiazidsulfonsäure oder ein o-Chinondiazidcarboxamid, d. h. eine aromatische Aminoverbindung, und ebenso diejenigen, die aus einer o-Chinondiazidverbindung allein bestehen, oder diejenigen mit einer lichtempfindlichen Schicht, die ein Gemisch der o-Chinondiazidverbindung mit einem laugelöslichen Harz umfasst, ein.
Das laugelösliche Harz schließt Phenolharze vom Novolak-Typ, insbesondere Phenol/Formaldehydharze, Cresol/Formaldehydharze, Phenol/Cresol-gemischte Formaldehydharze, Cresol/Xylenol-gemischte Aldehydharze, usw. ein. Darüber hinaus kann ein laugelösliches Harz angewendet werden, das zusammen mit dem oben beschriebenen Phenolharz ein Kondensationsprodukt zwischen Phenol oder Cresol, die mit einer Alkylgruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen substituiert sind, mit einem Formaldehyd, wie t-Butylphenolformaldehyd, wie es in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung Nr. 50-125806 beschrieben ist, umfasst. Die ein o-Chinondiazid als eine lichtempfindliche Komponente enthaltende lichtempfindliche Schicht kann, wenn es gewünscht ist, darüber hinaus Additive, wie einen Farbstoff, Weichmacher, eine Komponente, die Druckeigenschaften verleiht, usw., enthalten. Erfindungsgemäß beträgt die Menge der lichtempfindlichen Schicht, die ein o-Chinondiazid als eine lichtempfindliche Komponente enthält, pro Flächeneinheit vorzugsweise 0,5 bis 7 g/m².
Als Unterlage für die oben beschriebene, lichtempfindliche, bilderzeugende Schicht vom Positiv-Typ kann ein Träger bzw. Substrat verwendet werden, der demjenigen ähnlich ist, dessen Oberfläche einer Hydrophilisierungsbehandlung unterzogen worden ist, und der als eine Unterlage für die lichtempfindliche bilderzeugende Schicht vom Negativ-Typ hergestellt worden ist. Es wird nämlich vorzugsweise Aluminium oder eine Oberfläche einer Verbundunterlage, die mit Aluminium beschichtet ist, zum Zweck der Erhöhung der Wasserretention und der Verbesserung der Adhäsion mit der lichtempfindlichen Schicht oberflächenbehandelt. Beispielsweise enthalten die Verfahren zum Aufrauen der Oberfläche ein Bürstenpolierverfahren, ein Kugelpolierverfahren, elektrolytisches Ätzen, chemisches Ätzen, Flüssigkeits-Honen, Sandstrahlen, und Kombinationen von diesen. Ein Verfahren zum Aufrauen der Oberfläche, das die Verwendung von elektrolytischem Ätzen enthält, ist besonders bevorzugt. Aluminiumbleche, die einer Behandlung zum Aufrauen der Oberfläche unterzogen worden sind, können, wenn es gewünscht ist, ferner vorzugsweise einer Reinigungsbehandlung mit einer wässrigen Lösung, einer Säure oder Lauge unterzogen und eloxiert werden. Insbesondere ist ein Verfahren wünschenswert, das zur Behandlung ein Bad verwendet, das Schwefelsäure oder Phosphorsäure enthält. Wenn es gewünscht ist, ist es darüber hinaus bevorzugt, die Behandlungen durchzuführen, die bezüglich der Unterlagenbehandlung der oben beschriebenen PS-Platte vom Negativ-Typ beschrieben worden sind. Dies sind beispielsweise eine Silicatbehandlung, eine Kaliumzirkoniumfluoridbehandlung, eine Phosphomolybdatbehandlung, eine Alkyltitanatbehand lung, eine Polyacrylsäurebehandlung, eine Polyvinylphosphonsäurebehandlung, eine Phosphonsäurebehandlung, eine Phytinsäurebehandlung, eine Behandlung mit einem Salz einer hydrophilen, organischen, hochmolekularen Verbindung und einem zweiwertigen Metall, eine hydrophile Behandlung durch Unterschichten eines wasserlöslichen Polymers mit einer Sulfonsäuregruppe, eine Färbebehandlung mit einem sauren Farbstoff, ein Silicatelektroabscheidungsverfahren, etc. Es ist ebenfalls bevorzugt, dass die Unterlage einer Versiegelungsbehandlung zum Schließen der Porenhohlräume nach dem Sandstrahlen und Eloxieren unterzogen werden. Die Versiegelungsbehandlung kann durch Eintauchen in eine heiße, wässrige Lösung, die heißes Wasser und ein anorganisches Salz oder ein organisches Salz enthält, durch ein Dampfbad, usw., durchgeführt werden.
Die in der vorliegenden Erfindung verwendete PS-Platte vom Positiv-Typ kann durch Aufbringen einer Schicht vom Positiv-Typ einer lichtempfindlichen Zusammensetzung auf die oben beschriebene Unterlage und Trocknen durch herkömmliche Techniken hergestellt werden. Als Beschichtungsverfahren können ein Rotations-Beschichtungsverfahren, ein Auftragsstangen-Beschichtungsverfahren, ein Tauch-Beschichtungsverfahren, ein Luftbürsten-Beschichtungsverfahren, ein Walzen-Beschichtungsverfahren, ein Rakel-Beschichtungsverfahren, ein Vorhang-Beschichtungsverfahren, ein Sprüh-Beschichtungsverfahren, usw., angeführt werden. Die auf diese Weise aufgetragene Schicht vom Positiv-Typ der lichtempfindlichen Zusammensetzung wird bei 40 bis 150°C für 30 Sekunden bis 10 Minuten unter Verwendung eines Heißlufttrockners, eines Infrarottrockners, usw., getrocknet.
Als nächstes wird das Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte unter Verwendung der Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung beschrieben.
Die Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung ist eine sogenannte Computer-to-plate-Platte (CTP), die direktes Bildschreiben auf die Platte unter Verwendung von Licht hoher Energiedichte auf Basis digitaler Bildinformation aus einem Computer oder dergleichen, gestattet. Die Quelle des Lichts hoher Energiedichte, die Bilder auf der Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung erzeugen kann, schließt verschiedene Halbleiterlaser mit Laserwellenlängen von 300 bis 950 nm, Kohlendioxid-Laser (Laserwellenlänge: 10,6 nm), YAG-Laser (Laserwellenlänge: 532 nm, 1064 nm), Excimer-Laser (Laserwellenlänge: 193 nm, 308 nm, 351 nm), Argon-Laser (Laserwellenlänge: 488 nm), usw. ein. In jedem Fall kann eine derartige optische Quelle durch Auswahl eines Pigments, das Licht mit einer speziellen Wellenlänge der optische Quelle absorbieren kann und es in Wärme umwandelt, aus den oben beschriebenen Pigmenten und Zugabe des ausgewählten Pigments zur Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung verwendet werden.
Die Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung wird durch ein Nassverfahren in der ersten Entwicklung von ihrem Nicht-Bildbereich abgelöst, nachdem Bilder mit Licht hoher Energiedichte eingeschrieben worden sind. Der Entwickler (nachfolgend als "der erste Entwickler" bezeichnet) ist eine alkalische, wässrige Lösung, die ein alkalisches Mittel enthält.
Der in der ersten Entwicklung in der vorliegenden Erfindung verwendete erste Entwickler ist geeigneterweise eine wässrige Lösung eines anorganischen, alkalischen Mittels, wie Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid, tertiäres Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat, sekundäres Ammoniumphosphat, Natriummetasilicat, Natriumhydrogencarbonat, ammoniakalisches Wasser, usw., sowie ein organisches, alkalisches Mittel, wie ein Tetraalkylammoniumhydrid. Sie werden so zugegeben, dass ihre Konzentration 0,005 bis 20 Gew.-%, vorzugsweise 0,01 bis 5 Gew.-%, beträgt.
Der erste Entwickler kann gegebenenfalls verschiedene Tenside, wie anionische Tenside, nicht-ionische Tenside, kationische Tenside, amphotere Tenside, Tenside auf Fluorbasis und Tenside auf Siliconbasis, sowie wasserlösliche, organische Lösungsmittel, wie Alkohole, enthalten.
Als erster Entwickler können praktischerweise diejenigen Entwickler für Positive nach 1facher bis 200facher Verdünnung verwendet werden, die gewöhnlicherweise kommerziell erhältlich sind. Wenn es gewünscht wird, ist es möglich, die Entwicklung unter Verwendung eines Entwicklers nach 1facher bis 200facher Verdünnung sowohl für ein Positiv, als auch für ein Negativ durchzuführen.
Die Durchführung der ersten Entwicklung in der vorliegenden Erfindung erfolgt bei einer Temperatur von 15 bis 40°C für 1 Sekunde bis 2 Minuten durch Eintauchen der Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung in den ersten Entwickler und nachfolgendes Waschen mit Wasser. Wenn es gewünscht ist, kann die Oberfläche der Originalplatte leicht gescheuert werden. Die Verwendung eines automatischen Entwicklungsapparats, der mit dem ersten Entwickler gefüllt ist, ist ebenfalls wirkungsvoll.
Nachdem die Durchführung des ersten Entwicklers abgeschlossen ist, wird das auf der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung geschriebene Bild als ein Maskenbild auf der lichtempfindlichen, bilderzeugenden Schicht vom Negativ-Typ oder Positiv-Typ gebildet. Danach wird die Orginalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung, deren erste Entwicklung vollständig ist, einer Vollbelichtung mit aktivem Licht unterzogen. Dieses Voll belichten verursacht, dass das Maskenbild auf die darunterliegende lichtempfindliche, bilderzeugende Schicht vom Negativ-Typ oder Positiv-Typ übertragen wird. Das aktive Licht kann von einer Quelle für aktives Licht stammen, die gewöhnlicherweise in Druckern, und dergleichen, im Stand der Technik verwendet wird. Als Beispiele dienen eine Quecksilberlampe, eine Metallhalogenidlampe, eine Xenonlampe, eine chemische Lampe, eine Kohlebogenlampe, usw. Als Drucker und andere Anwendungen können verschiedene Drucker, und dergleichen, die im Stand der Technik bekannt sind, verwendet werden, wie sie sind.
Auf der Stufe, in der Bilder mit Licht hoher Energiedichte auf die Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung der Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung geschrieben werden, die erste Entwicklung durchgeführt wird und die Vollbelichtung mit aktivem Licht durchgeführt wird, gibt es eine bildartige Schicht einer wärmeempfindlichen Zusammensetzung, die auf die Oberfläche der PS-Platte vom Negativ-Typ oder Positiv-Typ aufgebracht ist, auf die die Bilder der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung übertragen worden sind. Die Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung, die auf die Oberfläche der PS-Platte aufgebracht worden ist, wird sich, wenn sie bis zur Stufe des Druckens so bleibt, wie sie aufgebracht worden ist, unregelmäßig in das gedruckte Material hineinmischen und den Druck beflecken. Dementsprechend sollte diese entfernt werden, bevor eine Druckplatte erhalten wird. Jedoch kann die verbleibende Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung abgelöst und zusammen mit der Schicht der Zusammensetzung des Nicht-Bildbereichs der PS-Platte durch Ausführen der Entwicklung (die zweite Entwicklung) der PS-Platte vom Negativ-Typ oder Positiv-Typ entfernt werden.
Erfindungsgemäß kann die zweite Entwicklung in Übereinstimmung mit einem Arbeitsablauf ähnlich dem bei der all gemeinen PS-Platte vom Negativ-Typ oder Positiv-Typ durchgeführt werden. Im Fall der Originalplatte vom Positiv-Typ für eine Flachdruckplatte, die eine Schicht einer wärmeempfindlichen Zusammensetzung auf der PS-Platte vom Negativ-Typ besitzt, kann nämlich dieselbe Entwicklungsdurchführung, wie die für gewöhnliche PS-Platten vom Negativ-Typ, als zweite Entwicklungsdurchführung erfolgen.
Spezifische Beispiele des alkalischen Mittels, das zur Entwicklung der PS-Platte vom Negativ-Typ verwendet wird, schließen nämlich anorganische alkalische Mittel, wie Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid, sekundäres oder tertiäres Natrium- oder Ammoniumphosphat, Natriummetasilicat, Natriumhydrogencarbonat, Ammoniak, usw., und ein organisches, alkalisches Mittel, wie Mono-, Di- oder Trimethylamin, Mono-, Di- oder Triethylamin, Mono- oder Diisopropylamin, n-Butylamin, Mono-, Di- oder Triethanolamin, Mono-, Di- oder Triisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiimin, usw. ein.
Der Gehalt des alkalischen Mittels ist 0,005 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise 0,05 bis 5 Gew.-%. Wenn der Gehalt weniger als 0,05 Gew.-% beträgt, schlägt die Entwicklung fehl, während ein Gehalt von mehr als 10 Gew.-% die lichtempfindliche, bilderzeugende Schicht vom Negativ-Typ nachteilig beeinflusst, wie z. B. durch Verätzen bei der zweiten Entwicklung.
Der Entwickler für eine PS-Platte vom Negativ-Typ kann ein organisches Lösungsmittel enthalten, von dem spezifische Beispiele Ethylacetat, Propylacetat, Butylacetat, Amylacetat, Benzylacetat, Ethylenglykolmonobutylacetat, Butyllaktat, Butyllävulinat, Ethylbutylketon, Methylisobutylketon, Cyclohexanon, Ethylenglykolmonobutylether, Ethylenglykolbenzylether, Ethylenglykolmonophenylether, Benzylalkohol, Methylphenylcarbinol, n-Amylalkohol, Methylamylalkohol, Xylol, Methylenchlorid, Ethylendichlorid, Monochlorbenzol, usw., enthalten.
Der Gehalt des organischen Lösungsmittels ist 20 Gew.-% oder weniger, vorzugsweise 10 Gew.-% oder weniger.
Wenn es gewünscht ist, kann der Entwickler für eine PS-Platte vom Negativ-Typ darüber hinaus wasserlösliche Sulfite, wie Lithiumsulfit, Natriumsulfit, Kaliumsulfit und Magnesiumsulfit, Alkali-lösliche Pyrazolonverbindungen, Alkali-lösliche Thiolverbindungen, Hydroxy-aromatische Verbindungen, wie Methylresorcin, Wasserenthärter, wie Polyphosphorsäuresalze und Aminopolycarbonsäuresalze, anionische oder amphotere Tenside, wie Natriumisopropylnaphthalinsulfonat, Natrium-n-butylnaphthalinsulfonat, Natrium-n-methyl-N-pentadecylaminoacetat und Natriumlaurylsulfat, Entschäumungsmittel, usw., enthalten.
Die Zusammensetzung des Entwicklers für eine PS-Platte vom Negativ-Typ, die in der vorliegenden Erfindung verwendet wird, kann die oben beschriebene Zusammensetzung sein. Praktischerweise können kommerziell erhältliche Entwickler verwendet werden, die bei der Entwicklungsdurchführung der PS-Platte vom Negativ-Typ verwendet werden. Die kommerziell erhältlichen Entwicklerkonzentrate für Negative können nach 1facher bis 20facher Verdünnung als Entwickler für die zweite Entwicklung der Originalplatte vom Positiv-Typ für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung verwendet werden.
Die Durchführung der zweiten Entwicklung der Originalplatte vom Positiv-Typ für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung erfolgt bei einer Temperatur von 15 bis 40°C für 1 Sekunde bis 2 Minuten durch Eintauchen der Originalplatte vom Positiv-Typ für eine Flachdruckplatte nach Vollbelichtung mit aktivem Licht in den zweiten Entwickler und nachfolgendes Waschen mit Wasser. wenn es gewünscht ist, kann die Oberfläche der Originalplatte leicht gescheuert werden. An dieser Stelle wird die Maskenschicht, die aus der verbleibenden Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung besteht, abgelöst und während der zweiten Entwicklungsdurchführung entfernt. Die Verwendung eines automatischen Entwicklungsapparats, der mit dem zweiten Entwickler gefüllt ist, ist ebenfalls wirkungsvoll.
Andererseits kann im Fall der Originalplatte vom Negativ-Typ für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung, die mit einer Schicht einer wärmeempfindlichen Zusammensetzung auf einer PS-Platte vom Positiv-Typ beschichtet ist, die Entwicklungsbearbeitung ähnlich zu der gewöhnlicher PS-Platten vom Positiv-Typ als zweite Entwicklungsbearbeitung durchgeführt werden. Der Vorgang der zweiten Entwicklung wird nämlich bei einer Temperatur von 15 bis 40°C für 1 Sekunde bis 2 Minuten durchgeführt. Als zweiter Entwickler können praktischerweise die kommerziell erhältlichen Entwickler für Positive oder Entwickler sowohl für Positive als auch für Negative, verwendet werden. Wenn es gewünscht ist, kann die Entwicklung mit Zugabe einiger Additive, wie organische Lösungsmittel, durchgeführt werden. In der zweiten Entwicklungsbearbeitung wird die Maskenschicht, die aus der verbliebenen Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung besteht, abgelöst und während der zweiten Entwicklungsbearbeitung entfernt.
Der in der zweiten Entwicklung der Originalplatte vom Negativ-Typ für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung verwendete Entwickler ist geeigneterweise eine wässrige Lösung eines anorganischen, alkalischen Mittels, wie Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid, tertiäres Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat, sekundäres Ammoniumphosphat, Natriummetasilicat, Natriumhydrogencarbonat, ammoniakalisches Wasser, usw. Sie werden so zugegeben, dass ihre Konzentration 0,1 bis 20 Gew.-%, vorzugsweise 0,5 bis 10 Gew.-%, ist.
Der zweite Entwickler kann gegebenenfalls verschiedene Tenside, wie anionische Tenside, nicht-ionische Tenside, kationische Tenside, amphotere Tenside, Tenside auf Fluorbasis, usw., sowie wasserlösliche organische Lösungsmittel, wie Alkohole, enthalten.
Darüber hinaus kann der zweite Entwickler für PS-Platten vom Positiv-Typ, die als ein Träger für die Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung verwendet werden, ein organisches Lösungsmittel in einem Bereich enthalten, der die PS-Platte vom Positiv-Typ nicht angreift. Spezielle Beispiele davon enthalten Ethylacetat, Propylacetat, Butylacetat, Amylacetat, Benzylacetat, Ethylenglykolmonobutylacetat, Butyllactat, Butyllävulinat, Ethylbutylketon, Methylisobutylketon, Cyclohexanon, Ethylenglykolmonobutylether, Ethylenglykolbenzylether, Ethylenglykolmonophenylether, Benzylalkohol, Methylphenylcarbinol, n-Amylalkohol, Methylamylalkohol, Xylol, Methylenchlorid, Ethylendichlorid, Monochlorbenzol, usw. Die zu verwendende Menge beträgt weniger als 5 Gew.-%.
Die Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung wird nach der zweiten Entwicklung einem Waschen mit Wasser und/oder einer Behandlung mit einem wässrigen Desensibilisator unterzogen. Als wässriger Desensibilisator können wasserlösliche natürliche Polymere, wie Gummi arabicum, Dextrin und Carboxymethylcellulose, wasserlösliche synthetische Polymere, wie Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon und Polyacrylsäure, verwendet werden. Wenn es gewünscht ist, können Säuren, Tenside, usw., zum wässrigen Desensibilisator gegeben werden. Danach werden die Desensibilisatoren getrocknet und als eine Druckplatte zum Drucken verwendet.
Ein bevorzugtes Verfahren zum Herstellen einer guten Druckplatte unter Verwendung der Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung ist zunächst Aufbringen der Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung auf eine Belichtungsmaschine, die Licht hoher Energiedichte, wie einen YAG-Laser, Infrarot-Halbleiterlaser, usw., als eine optische Quelle verwendet und Bilder auf Basis digitaler Information aus einem Computer auf die Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung schreibt. In diesem Fall besitzt die Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung das Merkmal, dass sie bei ihrer Handhabung vor oder nach der Belichtung kein besonderes Sicherheitslicht erfordert, sondern unter herkömmlichem Raumlicht bearbeitet werden kann.
Nachfolgend wird unter Verwendung des ersten Entwicklers, der durch Verdünnen eines kommerziell erhältlichen Entwicklers für eine PS-Platte vom Positiv-Typ erhalten wurde, die erste Entwicklung durchgeführt um den Nicht-Bildbereich zu entfernen. Daraufhin wird die Vollbelichtung unter Verwendung eines Druckers, oder dergleichen, durchgeführt, der mit einer Quelle für aktives Licht ausgestattet ist, die beim Drucken herkömmlicher PS-Platten verwendet wird. In diesem Fall sind die Belichtungsbedingungen gewöhnlicherweise die gleichen wie diejenigen für eine PS-Platte vom Negativ-Typ oder Positiv-Typ, die als ein Träger der Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung verwendet wird.
Nach der Vollbelichtung mit aktivem Licht wird die Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung der zweiten Entwicklung mit einem kommerziell erhältlichen Entwickler für eine PS-Platte vom Negativ-Typ oder eine PS-Platte vom Positiv-Typ unterzogen. In diesem Fall können die Entwicklungsbedingungen gewöhnlicherweise die gleichen wie diejenigen für die PS-Platte vom Negativ- Typ oder Positiv-Typ sein, die als ein Träger für die Originalplatte für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung verwendet wird. Jedoch kann der Entwickler für die PS-Platte vom Positiv-Typ, wenn es gewünscht ist, einige organische Lösungsmittel enthalten. Die bildartige Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung muss entfernt werden. Diese wird abgelöst und während der zweiten Entwicklungsbearbeitung entfernt. Danach wird die resultierende Platte einem Waschen mit Wasser und/oder einer Behandlung mit einem wässrigen Desensibilisator unterworfen und unter Erhalt einer Druckplatte getrocknet.
Die auf die erste Entwicklung folgenden Schritte können einer nach dem anderen ausgeführt werden. Praktischerweise ist es einfach und vorzuziehen, eine automatische Verarbeitungsmaschine zu verwenden, die diese Schritte durchweg übernimmt.
Beispiele
Die vorliegende Erfindung wird detaillierter beschrieben. Jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht so ausgelegt, darauf beschränkt zu sein.
Referenzbeispiel 1; Synthesebeispiel von feinen Partikeln eines Acrylpolymers
In einen mit einem Rührer, einem Kühler, einem Einlassrohr für trockenen Stickstoff mit einem Thermometer und einer Tropfvorrichtung ausgestatteten 1 l-Vierhalskolben wurden 400 Teile Methylethylketon eingefüllt, und die Temperatur wurde auf 80°C erhöht. Eine Lösung von 80 Teilen Styrol, 238,9 Teilen Methylacrylat, 24,5 Teilen Methacrylsäure, 56,6 Teilen Butylacrylat und 8 Teilen PERBUTYL-O (Handelsbezeichnung für einen Polymerisationsinitiator, der von Nippon Oil & Fats Co., Ltd., hergestellt wurde), die gut vermischt wurde, wurde über 2 Stunden zugetropft. Nach 8 Stunden Rühren wurden 0,5 Teile PERBUTYL-O zugegeben und das Gemisch wurde für zusätzliche 8 Stunden unter Erhalt eines Acrylpolymers mit einem Anteil an trockenen Feststoffen von 49,5, einer Säurezahl von 39,1 und einem zahlenmittleren Molekulargewicht von 20.000 gerührt. Der Anteil an trockenen Feststoffen wurde bestimmt, indem etwa 1 Teil einer Probelösung gewogen wurde, diese nach Trocknen bei 120°C für 1 Stunde wieder gewogen wurde und das Verhältnis der beiden Gewichte berechnet wurde. Das zahlenmittlere Molekulargewicht wurde durch Gelpermeationschromatographie (GPC) gemessen und in Molekulargewichtseinheiten von Polystyrol ausgedrückt. Die Säurezahl wurde durch Wiegen einer vorherbestimmten Menge einer Probelösung und Titration mit einer Methanollösung von Kaliumhydroxid bei einer bekannten Konzentration bestimmt.
Die oben beschriebene Acrylpolymerlösung (100 Teile) wurde mit 2,71 Teilen Triethylamin neutralisiert und unter Rühren wurde Wasser zugetropft. Die Prepolymerlösung vergrößerte ihre Viskosität langsam. Als etwa 150 Teile Wasser zugetropft waren, verringerte sich die Viskosität abrupt, was zeigte, dass die Phasenumkehr vollständig war. Nach weiterer Zugabe von 150 Teilen Wasser wurde die resultierende Dispersion auf 30°C erhitzt, und das organische Lösungsmittel und überschüssiges Wasser wurden unter reduziertem Druck unter Erhalt einer wässrigen Dispersion feiner Acrylpolymerpartikel mit einem Anteil trockener Feststoffe von 33,7% und einem durchschnittlichen Partikeldurchmesser von 120 nm entfernt. Der Partikeldurchmesser wurde unter Verwendung von MICROTRAC UPA-150 gemessen, einem Analysator für ultrafeine Partikel mit Einmodul-Lichtstreusystem.
Referenzbeispiel 2; Synthesebeispiel feiner Polyesterpartikel
In einen mit einem Rührer, einem Destillationsrohr, einem Einlassrohr für trockenen Stickstoff und einem Thermometer ausgestatteten 2 l-Vierhalskolben wurden 397,6 Teile Terephthalsäure, 397,6 Teile Isophthalsäure, 144,9 Teile Ethylenglykol und 243,6 Teile Neopentylglykol eingefüllt, und die Temperatur wurde auf 160°C erhöht. Nach Zugabe von 0,5 Teilen Dibutylzinnoxid, wurde die Temperatur über 6 Stunden auf 260°C erhöht um eine Dehydratisierungsreaktion durchzuführen. Daraufhin wurde das Destillationsrohr durch eine Dekanter ersetzt, und 30 Teile Xylol wurden zugegeben. Während des Entfernens von Wasser bei 260°C durch azeotrope Destillation wurde das Rühren für zusätzliche 4 Stunden fortgesetzt. Schließlich wurde die Temperatur erniedrigt und das Reaktionsgemisch mit 500 Teilen Methylethylketon unter Erhalt eines Polyesters mit einer Carboxylgruppe an jedem Terminus, einer Säurezahl von 19,3 und einem Anteil trockener Feststoffe von 65,5 verdünnt. Die Säurezahl wurde durch Wiegen einer vorher festgelegten Menge einer Probelösung und Titration mit einer Methanollösung von Kaliumhydroxid mit einer bekannten Konzentration bestimmt. Der Anteil trockener Feststoffe wurde bestimmt, indem etwa 1 Teil einer Probelösung gewogen, nach Trocknen bei 120°C für 1 Stunde ebenso gewogen und das Verhältnis der beiden Gewichte berechnet wurde.
Zu 100 Teilen der oben beschriebenen Polyesterlösung wurden 30 Teile Methylethylketon gegeben, das Gemisch wurde mit 2,36 Teilen Triethylamin neutralisiert und unter Rühren wurde Wasser zugetropft. Die Prepolymerlösung erhöhte ihre Viskosität langsam und, als etwa 150 Teile Wasser zugetropft waren, verringerte sich die Viskosität abrupt, was anzeigte, dass die Phasenumkehr vollständig war. Nach weiterer Zugabe von 150 Teilen Wasser wurde die resultierende Dispersion auf 30°C erwärmt, und das organische Lö sungsmittel und überschüssiges Wasser wurden unter verringertem Druck unter Erhalt einer wässrigen Dispersion feiner Polyesterpartikel mit einem Anteil trockener Feststoffe von 30,0% und einem durchschnittlichen Partikeldurchmesser von 300 nm entfernt. Der Partikeldurchmesser wurde unter Verwendung eines MICROTRAC UPR-150 gemessen, das ein Analysator für ultrafeine Partikel mit Einmodul-Lichtstreusystem ist.
Referenzbeispiel 3; Synthesebeispiel feiner Polyurethanpartikel
In einen mit einem Rührer, einem Kühler, einem Einlassrohr für trockenen Stickstoff und einem Thermometer ausgestatteten 1 l-Vierhalskolben wurden 533 Teile "BURNOCK DN-980" (Handelsbezeichnung für Polyisocyanat, hergestellt von Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), 33,5 Teile 2,2-Bis(hydroxymethyl)propionsäure, 0,05 Teile Dibutylzinndilaurat und 300 Teile Ethylacetat eingefüllt und für 3 Stunden bei 80°C unter Erhalt einer Lösung eines Polyurethanprepolymers mit einem Gehalt trockener Feststoffe von 50,0% und einem NCO-Gehalt von 6,80% gerührt. Der NCO-Gehalt wurde durch Wiegen einer vorbestimmten Menge einer Probelösung, Zugabe einer festen Menge einer Ethylacetatlösung von Di-n-butylamin mit bekannter Konzentration im Überschuss zu einer zu messenden Isocyanatgruppe und Durchführen einer Rücktitration des überschüssigen Di-n-butylamins unter Verwendung einer wässrigen Salzsäurelösung mit bekannter Konzentration bestimmt.
Zu 100 Teilen der oben beschriebenen Polyurethan-Prepolymerlösung wurden 30 Teile Methylethylketon gegeben, das Gemisch wurde mit 3,50 Teilen Triethylamin neutralisiert, und unter Rühren wurde Wasser zugetropft. Die Prepolymerlösung vergrößerte ihre Viskosität langsam und, als etwa 150 Teile Wasser zugetropft waren, verringerte sich die Viskosität abrupt, was anzeigte, dass die Phasenumkehr vollständig war. Nach weiterer Zugabe von 150 Teilen Wasser wurde langsam eine Lösung von 2,51 Teilen Diethylentriamin in 50 Teilen Wasser unter Rühren zugegeben. Dann wurde die resultierende Dispersion auf 30°C erwärmt und das organische Lösungsmittel und überschüssiges Wasser wurden unter reduziertem Druck unter Erhalt einer wässrigen Dispersion feiner Polyurethanpartikel mit einem Anteil trockener Feststoffe von 33,5 und einem durchschnittlichen Partikeldurchmesser von 78 nm entfernt. Der Partikeldurchmesser wurde unter Verwendung eines MICROTRAC UPA-150 gemessen, das ein Analysator für ultrafeine Partikel mit Einmodul-Lichtstreusystem ist. Die Säurezahl, die durch wiegen einer vorbestimmten Menge einer Probelösung und Titration mit einer Methanollösung von Kaliumhydroxid bekannter Konzentration erhalten wurde, betrug 31,2.
Beispiel 1
In einem Homogenisator (hergestellt von Hitachi Ltd.) mit einer Schneidevorrichtung C20, wurden 30,0 g Ruß CWA (Acrylharz-gepfropfter Ruß; Rußgehalt: 55 Gew.-%; hergestellt von Ciba-Geigy Limited), 45,0 g destilliertes Wasser, 60,0 g Isopropylalkohol und 15,0 g Ammoniakwasser (das 28 bis 30 Gew.-% NH₃ enthielt) gerührt, für 10 Minuten pulverisiert und dann durch einen 15 μm-Filter unter Erhalt einer Dispersion von CWA filtriert. Die Dispersion enthielt 21,0 Gew.-% Feststoffe.
Zu 36,0 g der wässrigen Dispersion feiner Acrylpartikel, die in Referenzbeispiel 1 erhalten wurde, wurden 30,0 g CWA-Rußdispersion, 75,0 g destilliertes Wasser, 30,0 g Methanol und 0,02 g MEGAFAC F-177 (hergestellt von Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) als ein Tensid auf Fluorbasis in dieser Reihenfolge unter Rühren gegeben und das Rühren wurde bei Raumtemperatur für weitere 10 Minuten unter Erhalt einer Beschichtungslösung fortgesetzt.
Auf einer positiven, vorsensibilisierten Platte HP (hergestellt von Polychrome Japan Co., Ltd.), von der das Mattierungsmittel vorher abgelöst worden war, wurde die oben beschriebenen Beschichtungslösung unter Verwendung einer Auftragsstange Nr. 9 aufgetragen, die bei 50°C für 3 Minuten unter Erhalt einer Originalplatte 1 für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung getrocknet wurde. Der Beschichtungsauftrag war 1,3 g/m².
In einer Belichtungsmaschine TREND SETTER 3244F (hergestellt von Creo Co., Ltd.) mit darauf befestigtem Infrarot-Halbleiterlaser wurde die Originalplatte 1 für eine Flachdruckplatte bildweise belichtet und danach mit einer im Verhältnis 1 : 25 verdünnten Lösung eines Entwicklers für eine Platte vom Positiv-Typ PD-1 (hergestellt von Polychrome Japan Co., Ltd.) bei 25°C für 10 Sekunden manuell entwickelt um eine erste Entwicklung durchzuführen, und nachfolgend mit Wasser gewaschen und getrocknet. Daraufhin wurde die Belichtung für 35 Zähleranzeigen unter Verwendung eines PS-Plattendruckers P-806-G (hergestellt von Dai-Nippon Screen Co., Ltd.) durchgeführt. Danach wurde unter Verwendung eines zweiten Entwicklers, der aus einer im Verhältnis 1 : 8 verdünnten Lösung eines Entwicklers für Platten vom Positiv-Typ PD-1 (hergestellt von Polychrome Japan Co., Ltd.) und 0,5 Gew.-% Benzylalkohol bestand, eine zweite Entwicklungsbearbeitung bei 30°C für 12 Sekunden durchgeführt. In diesem Fall wurde das Maskenbild gleichzeitig mit der Entwicklung vollständig abgelöst. Darüber hinaus wurde ein Waschen mit Wasser und eine Behandlung mit einer Gummilösung UG1 (hergestellt von Polychrome Japan Co., Ltd.) durchgeführt und unter Erhalt einer Druckplatte 1 getrocknet. Die oben beschriebenen Arbeitsschritte wurden allesamt in einem beleuchteten Raum durchgeführt.
Beispiel 2
In einem Homogenisator (hergestellt von Hitachi Ltd.) mit einer Schneidevorrichtung C20 wurden 30,0 g Ruß HCF für schwarze Farbe, 45,0 g destilliertes Wasser, 60,0 g Isopropylalkohol und 45,0 g 10%ige wässrige Tetraethylammoniumlösung gerührt, für 10 Minuten pulverisiert und daraufhin durch einen 15 μm-Filter unter Erhalt einer Dispersion von Ruß filtriert. Die Dispersion enthielt 22,2 Gew.-% Feststoffe.
Zu 40,0 g der wässrigen Dispersion der feinen Polyesterpartikel, die in Referenzbeispiel 2 erhalten wurde, wurden 35,0 g der Rußdispersion, 240,0 g destilliertes Wasser, 100,0 g einer Methanollösung, die 0,8 Gew.-% MEGAFAC F-470 (hergestellt von Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) als ein Tensid auf Fluorbasis enthielt, in dieser Reihenfolge unter Rühren gegeben, und das Rühren wurde bei Raumtemperatur für zusätzliche 10 Minuten unter Erhalt einer Beschichtungslösung fortgesetzt.
Auf eine positive, vorsensibilisierte Platte HP (hergestellt von Polychrome Japan Co., Ltd.), von der das Mattierungsmittel vorher abgelöst worden war, wurde die oben hergestellte Beschichtungslösung unter Verwendung einer Auftragsstange Nr. 16 aufgetragen, die bei 50°C für 3 Minuten unter Erhalt einer Originalplatte 2 für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung getrocknet wurde. Der Beschichtungsauftrag betrug 1,5 g/m².
In einer Belichtungsmaschine TREND SETTER 3244F (hergestellt von Creo Co., Ltd.) mit darauf befestigtem Infrarot-Halbleiterlaser, wurde die Originalplatte 2 für eine Flachdruckplatte bildweise belichtet und danach mit einer im Verhältnis 1 : 25 verdünnten Lösung eines Entwicklers für eine Platte vom Positiv-Typ PD-1 (hergestellt von Polychrome Japan Co., Ltd.) bei 25°C für 10 Sekunden manuell entwickelt um eine erste Entwicklung durchzuführen, und nachfolgend mit Wasser gewaschen und getrocknet. Daraufhin wurde die Belichtung für 35 Zählereinheiten unter Verwendung eines PS-Plattendruckers P-806-G (hergestellt von Dainippon Screen Co., Ltd.) durchgeführt. Als nächstes wurde unter Verwendung eines zweiten Entwicklers, der aus einer im Verhältnis 1 : 8 verdünnten Lösung eines Entwicklers für eine Positiv-Platte PD-1 (hergestellt von Polychrome Japan Co., Ltd.) und 0,5 Gew.-% Benzylalkohol bestand, eine zweite Entwicklungsbearbeitung bei 30°C für 12 Sekunden durchgeführt. In diesem Fall wurde das Maskenbild gleichzeitig mit der Entwicklung vollständig abgelöst. Darüber hinaus wurde nach Waschen mit Wasser eine Behandlung mit einer Gummilösung UG1 (hergestellt von Polychrome Japan Co., Ltd.) durchgeführt und unter Erhalt einer Druckplatte 2 getrocknet. Die oben beschriebenen Arbeitsschritte wurden allesamt in einem beleuchteten Raum durchgeführt.
Referenzbeispiel 4; Herstellung einer Druckplatte von einer positiven PS-Platte
Unter einem gelben Sicherheitslicht wurde Kontaktdrucken auf einer positiven, vorsensibilisierten Platte HP (hergestellt von Polychrome Japan Co., Ltd.) für 35 Zähleranzeigen in einem P-806-G-Drucker (hergestellt von Dainippon Screen Co., Ltd.) unter Verwendung eines Films mit demselben entwickelten Bild wie das Bild, das durch einen Trend Setter gezeichnet und in einem automatisierten Entwickler PD-912P (hergestellt von Dainippon Screen Co., Ltd.), der mit einem Entwickler PD-1 (hergestellt von Polychrome Japan Co., Ltd.) (Verdünnung 1 : 8) und veredelndem Gummi PF2 (hergestellt von Polychrome Japan Co., Ltd.) gefüllt ist, entwickelt worden ist, bei 30°C für 12 Sekunden durchgeführt und nachfolgend unter Erhalt einer Vergleichsdruckplatte 1 getrocknet.
Referenzbeispiel 5; Drucktest 1
Die nach einem herkömmlichen Verfahren hergestellte Vergleichsdruckplatte 1, die als ein Standard verwendet wurde, und die erfindungsgemäßen Druckplatten 1 und 2 wurden auf einer Presse RZK (hergestellt von Man Roland Co., Ltd.) angebracht und ein Drucktest für 50.000 Blatt wurde unter Verwendung der Druckfarbe GEOS-G RED N (hergestellt von Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), Benetzungslösung NA108W (hergestellt von Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) (Verdünnung 1 : 50) und Papier ROYAL COAT (hergestellt von Oji Paper Co., Ltd.) durchgeführt. Die Bewertungspunkte des Drucks enthielten Eindicken, Verdünnung und Adhäsion der Punkte (2%, 50%, 98%), Adhäsion der Mikrolinien, Wasserbalance, Klebrigkeit, Abscheidung der Druckfarbe, Ausdruck, Schwankung in der Druckdichte, Fleckigwerden, usw. Die Drucke 1 und 2 zeigten das Problem von "Banding", usw., nicht. Bei jedem Bewertungspunkt waren die Bewertungsergebnisse des Drucks nach Drucken von 50.000 Blatt dieselben wie diejenigen der Drucke, die unter Verwendung der Vergleichsdruckplatte 1, die durch ein herkömmliches Verfahren, das als Standard verwendet wurde, hergestellt wurde, hergestellt wurden.
Beispiel 3
Zu 40,0 g der wässrigen Dispersion feiner Acrylpolymerpartikel, die in Referenzbeispiel 1 erhalten wurde, wurden 35,0 g Rußdispersion, die in Beispiel 2 hergestellt wurde, 60,0 g destilliertes Wasser, 65,0 g einer Methanollösung, die 1,25 Gew.-% MEGAFAC F-470 (hergestellt von Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) als ein Tensid auf Fluorbasis enthielt, in dieser Reihenfolge unter Rühren gegeben, und das Rühren wurde bei Raumtemperatur für weitere 10 Minuten unter Erhalt einer Beschichtungslösung fortgesetzt.
Auf eine negative, vorsensibilisierte Platte NN-2 (hergestellt von Polychrome Japan Co., Ltd.), von der das Mattierungsmittel vorher abgelöst worden war, wurde die oben hergestellte Beschichtungslösung unter Verwendung einer Auftragsstange Nr. 9 aufgetragen, und die Beschichtungslösung wurde bei 80°C für 2 Minuten unter Erhalt einer Originalplatte 4 für eine Flachdruckplatte der vorliegenden Erfindung getrocknet. Der Beschichtungsauftrag betrug 1,3 g/m².
In einer Belichtungsmaschine Trend Setter 3244F (hergestellt von Creo Co., Ltd.) mit darauf befestigtem Infrarot-Halbleiterlaser wurde die Originalplatte 4 für eine Flachdruckplatte bildweise belichtet und danach mit einer im Verhältnis 1 : 70 verdünnten Lösung eines Entwicklers für eine Positiv-Platte PD-1 (hergestellt von Polychrome Japan Co., Ltd.) bei 25°C für 10 Sekunden manuell entwickelt um eine erste Entwicklung durchzuführen, und nachfolgend mit Wasser gewaschen und getrocknet. Danach wurde Belichten für 35 Zählereinheiten unter Verwendung eines PS-Plattendruckers P-806-G (hergestellt von Dainippon Screen Co., Ltd.) durchgeführt. Als nächstes wurde unter Verwendung eines zweiten Entwicklers, der aus einer im Verhältnis 1 : 3 verdünnten Lösung eines Entwicklers für eine Negativ-Platte ND-1 (hergestellt von Polychrome Japan Co., Ltd.) bestand, eine zweite Entwicklungsbearbeitung bei 30°C für 19 Sekunden durchgeführt. In diesem Fall wurde das Maskenbild während der Entwicklung gänzlich abgelöst. Darüber hinaus wurde nach Waschen mit Wasser eine Behandlung mit einer Gummilösung UG1 (hergestellt von Polychrome Japan Co., Ltd.) durchgeführt und unter Erhalt einer Druckplatte 4 getrocknet. Die oben beschriebenen Arbeitsschritte wurden allesamt in einem beleuchteten Raum durchgeführt.
Referenzbeispiel 6; Herstellung einer Druckplatte von einer negativen PS-Platte
Unter einem gelben Sicherheitslicht wurde Kontaktdrucken auf einer negativen, vorsensibilisierten Platte NN-2 (hergestellt von Polychrome Japan Co., Ltd.) für 35 Zählereinheiten in einem P-806-G-Drucker (hergestellt von Dainippon Screen Co., Ltd.) unter Verwendung eines Films mit demselben entwickelten Bild wie das Bild, das durch einen Trend-Setter gezeichnet und in einem automatisierten Entwickler PD-912P (hergestellt von Dainippon Screen Co., Ltd.), der mit einem Entwickler ND-1 (hergestellt von Polychrome Japan Co., Ltd.) (Verdünnung 1 : 3) und veredeltem Gummi NF2 (hergestellt von Polychrome Japan Co., Ltd.) gefüllt war, entwickelt worden ist, bei 30°C für 19 Sekunden durchgeführt und nachfolgend unter Erhalt einer Vergleichsdruckplatte 2 getrocknet.
Referenzbeispiel 7; Drucktest 2
Die Vergleichsdruckplatte 2 und die erfindungsgemäßen Druckplatten 3 und 4 wurden an einer Presse RZK (hergestellt von Man Roland Co., Ltd.) angebracht, und ein Drucktest für 50.000 Blatt wurde unter Verwendung der Druckfarbe GEOS-G RED N (hergestellt von Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), Benetzungslösung NA108W (hergestellt von Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) (Verdünnung 1 : 50) und Papier ROYAL COAT (hergestellt von Oji Paper Co., Ltd.) durchgeführt. Die Bewertungspunkte des Drucks enthielten Verdickung, Verdünnung und Adhäsion der Punkte (2%, 50%, 98%), Adhäsion der Mikrolinien, Wasserbilanz, Klebrigkeit, Abscheidung der Druckfarbe, Ausdruck, Schwankung in der Druckdichte, Fleckenbildung, usw. Die Drucke 3 und 4 zeigten das Problem des "Banding", usw., nicht. Bei jedem Bewertungspunkt waren die Bewertungsergebnisse der Drucke nach Drucken von 50.000 Blatt dieselben wie diejenigen der Drucke, die unter Verwendung der Vergleichsdruckplatte 2, die durch ein herkömmliches Verfahren, das als Standard verwendet wurde, hergestellt wurde, hergestellt wurden.

Claims

Wärmeempfindliche Zusammensetzung, umfassend eine Substanz, die Licht absorbiert und Wärme entwickelt, anionische, in Wasser selbstdispergierbare Harzpartikel mit einer Säurezahl von 10 bis 300 und einem durchschnittlichen Partikeldurchmesser von 0,005 bis 15 μm und ein Tensid auf Fluorbasis.
Wärmeempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, worin die Substanz, die Licht absorbiert und Wärme entwickelt, ein propfpolymerisiertes Pigment ist.
Wärmeempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 2, in der das propfpolymerisierte Pigment Ruß ist.
Wärmeempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, in der die anionischen, in Wasser selbstdispergierbaren Harzpartikel feine Partikel sind, die durch ein Verfahren hergestellt werden, das einen ersten Schritt, in dem ein anionisches, in Wasser selbstdispergierbares Harz in einem organischem Lösungsmittel gelöst oder dispergiert wird, und einen zweiten Schritt enthält, in dem die gelöste oder dispergierte Zusammensetzung unter Phasenübergang und unter Bildung feiner Partikel in einem wässrigen Medium emulgiert wird.
Wärmeempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, in der die anionischen, in Wasser selbstdispergierbaren Harzpartikel feine Partikel sind, die durch ein Verfahren hergestellt werden, das einen ersten Schritt, in der ein anionisches, in Wasser selbstdispergierbares Harz in einem organischen Lösungsmittel gelöst oder dispergiert wird, einen zweiten Schritt, in dem die gelöste oder dispergierte Zusammensetzung unter Phasenübergang und unter Bildung feiner Partikel in einem wässrigen Medium emulgiert wird, und einen dritten Schritt enthält, in dem das organische Lösungsmittel und überschüssiges Wasser entfernt werden.
Wärmeempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 5, in der die anionischen, in Wasser selbstdispergierbaren Harzpartikel feine Partikel sind, die durch ein Verfahren hergestellt werden, das einen ersten Schritt, in dem ein anionisches, in Wasser selbstdispergierbares Harz in einem organischen Lösungsmittel gelöst oder dispergiert wird, einen zweiten Schritt, in dem die gelöste oder dispergierte Zusammensetzung unter Phasenübergang und unter Bildung feiner Partikel in einem wässrigen Medium emulgiert wird, und einen dritten Schritt enthält, in dem das organische Lösungsmittel und überschüssiges Wasser entfernt werden, wobei der zweite Schritt einen Schritt der Deneutralisierung einer neutralisierten Säuregruppe nach der Emulgierung unter Phasenübergang enthält.
Wärmeempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, in der die anionischen, in Wasser selbstdispergierbaren Harzpartikel als essentielle Komponenten ein Copolymer, das unter Verwendung eines Säuregruppen-enthaltenden polymerisierbaren Monomers und/oder eines Säuregruppen-enthaltenden polymerisierbaren Oligomers mit mindestens einer Säuregruppe ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus einer Carboxylatgruppe, einer Sulfonatgruppe und einer Sulfatgruppe erhalten wurde, umfasst.
Originalplatte vom Positivtyp für eine Flachdruckplatte, die in folgender Reihenfolge einen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche, eine lichtempfindliche, bilderzeugende Schicht vom Negativtyp und eine Schicht einer wärmeempfindli chen Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 7 umfasst.
Originalplatte vom Negativtyp für eine Flachdruckplatte, die in folgender Reihenfolge einen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche, eine lichtempfindliche, bilderzeugende Schicht vom Positivtyp und eine Schicht einer wärmeempfindlichen Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 7 umfasst.
Originalplatte vom Positivtyp für eine Flachdruckplatte, die eine Originalplatte für eine Flachdruckplatte mit einem darauf befindlichen Maskenbild durch bildweises Einstrahlen von Licht hoher Energiedichte auf eine Originalplatte für eine Flachdruckplatte nach Anspruch 8 unter Bildung eines Bildbereichs und Entfernen eines Nicht-Bild-Bereichs durch ein Nassverfahren zur Bildung eines Nicht-Bild-Bereichs umfasst.
Originalplatte vom Negativtyp für eine Flachdruckplatte, die eine Originalplatte für eine Flachdruckplatte mit einem darauf befindlichen Maskenbild durch bildweises Einstrahlen von Licht hoher Energiedichte auf eine Originalplatte für eine Flachdruckplatte nach Anspruch 9 unter Bildung eines Bildbereichs und Entfernen eines Nicht-Bild-Bereichs durch ein Nassverfahren zur Bildung eines Nicht-Bild-Bereichs umfasst.
Originalplatte vom Positivtyp für eine Flachdruckplatte nach Anspruch 10, worin das Maskenbild durch Entfernen des Nicht-Bild-Bereichs der Schicht der wärmeempfindlichen Zusammensetzung mit einer wässrigen, alkalischen Lösung, die ein alkalisches Mittel umfasst, gebildet wird.
Originalplatte vom Negativtyp für eine Flachdruckplatte nach Anspruch 11, in der das Maskenbild durch Entfernen des Nicht-Bild-Bereichs der Schicht der wärmeempfindlichen Zusam mensetzung mit einer wässrigen, alkalischen Lösung, die ein alkalisches Mittel umfasst, gebildet wird.
Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte unter Verwendung einer Originalplatte vom Positivtyp für eine Flachdruckplatte nach Anspruch 8, das die Schritte: (1) des bildweisen Bestrahlens der Originalplatte mit Licht hoher Energiedichte, (2) des Entfernens eines Nicht-Bild-Bereichs durch ein Nassverfahren unter Bildung eines Maskenbildes, (3) des Unterziehens der Druckplatte mit einem Maskenbild einer Vollbelichtung mit aktivem Licht unter Bildung eines latenten Bildes, das dem Maskenbild entspricht, in einer lichtempfindlichen, bilderzeugenden Schicht vom Negativtyp, (4) des Entwickelns der resultierenden lichtempfindlichen, bilderzeugenden Schicht vom Negativtyp mit einem Entwickler für ein Negativ unter Bildung eines Bilds auf einer Druckplatte und (5) des Waschens, Gummierens und Trocknens umfasst.
Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte unter Verwendung einer Originalplatte vom Negativtyp für eine Flachdruckplatte nach Anspruch 9, das die Schritte: (1) des bildweisen Bestrahlens der Originalplatte mit Licht hoher Energiedichte, (2) des Entfernens eines Nicht-Bild-Bereichs durch ein Nassverfahren unter Bildung eines Maskenbilds, (3) des Unterziehens der Druckplatte mit einem Maskenbild einer Vollbelichtung mit aktivem Licht unter Bildung eines latenten Bildes, das dem Maskenbild entspricht, in einer lichtempfindlichen, bilderzeugenden Schicht vom Positivtyp, (4) des Entwickelns der resultierenden lichtempfindlichen, bilderzeugenden Schicht vom Positivtyp mit einem Entwickler für ein Positiv unter Bildung eines Bilds auf einer Druckplatte und (5) des Waschens, Gummierens und Trocknens umfasst.