JPH11212254A - 平版印刷版原版および印刷刷版作製方法 - Google Patents

平版印刷版原版および印刷刷版作製方法

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JPH11212254A
JPH11212254A JP1571998A JP1571998A JPH11212254A JP H11212254 A JPH11212254 A JP H11212254A JP 1571998 A JP1571998 A JP 1571998A JP 1571998 A JP1571998 A JP 1571998A JP H11212254 A JPH11212254 A JP H11212254A
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JP
Japan
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resin
image
lithographic printing
mask layer
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JP1571998A
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English (en)
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Shinji Shimizu
真司 清水
Yasuhiko Kojima
靖彦 児島
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DIC Corp
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Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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Publication date
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  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 コンピューター等のデジタル情報を高密度エ
ネルギー光を使用して直接書き込みのできるポジタイプ
平版印刷版原版を提供すると共に、従来からのPS版印
刷刷版と同等の印刷特性を持つ印刷刷版作製方法を提供
する。 【解決手段】 支持体上のネガ型感光性画像形成層の上
に、必須成分として光を吸収し熱を発生する物質、酸価
が10〜280でかつ平均粒子径が0.005〜15マ
イクロメートルの樹脂粒子及び界面活性剤とを含有する
樹脂マスク層を有する平版印刷版原版及び、該平版印
刷版原版に高密度エネルギー光による書き込み、湿式
法による樹脂マスク層非画像部の除去、活性光線によ
る全面露光、ネガ用現像液によるネガ型感光性画像形
成層非画像部の除去及び樹脂マスク層の除去、水洗、
ガム引き、乾燥して印刷刷版を得る印刷刷版作製方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はオフセット印刷分野
で使用される平版印刷版に関し、特にコンピューター等
によるデジタル信号から直接製版できるいわゆるコンピ
ューターツウプレート(CTP)版として用いられる平
版印刷版原版に関する。
【0002】
【従来の技術】従来コンピューターのデジタル信号から
直接製版するシステムとしては、電子写真法によるも
の、Arレーザーによる露光と後加熱によるもの、
近赤外から赤外のハイパワーレーザーによる露光と後加
熱によるもの、銀塩の拡散転写を利用したもの、放
電やレーザー光によりシリコーンゴム層を破壊すること
によるもの、従来からの感光性画像形成層を持つ平版
印刷版(PS版)の上にマスク層を設け、マスク層に画
像形成し、全面露光、現像、後処理を経て印刷版を得る
もの等が知られている。これらいづれの方法において
も、現時点ではそれぞれ一長一短があり更なる検討が続
けられているのが現状であるが、その中で特にの技術
による版材は、高解像度の画像が得られること、大きい
版にも対応できること、最終的に出来上がった刷版は従
来のPS版と全く同じであることから印刷に際して印刷
オペレーターの経験的な慣れがあること等の理由から、
従来のフィルムとPS版を使用した製版システムからコ
ンピューターツウプレート(CTP)版システムへ技術
移行するに当たり、現場作業者からスムースに受け入れ
られる技術移行システムとして注目されている。
【0003】従来のPS版上にマスク画像を形成させる
方法としては、i)インクジェットによる書き込み法、
ii)感熱転写による方法、iii)銀塩層を塗布し、
銀塩層への画像様露光と湿式現像処理を経てマスク像を
得る方法、iv)PS版上に設けたマスク層をハイパワ
ーレーザー光により破壊して画像を形成する方法等が知
られている。
【0004】この中でi)とii)は高解像度のものが
得られない、書き込み速度が遅い、iii)は高解像度
のものが得られるものの後処理が煩雑であると言う問題
があった。
【0005】iv)のレーザー光による破壊方法は、例
えば特開昭50−113307号、同50−10240
1号、同50−158405号、同53−23705
号、同53−33702号、同58−18290号、同
60−83893号、同61−36750号等により公
知の技術であるが、実用上の問題としては破壊跡が不揃
いで高解像度のものが得難い、書き込み時に飛散や蒸発
が起こり機器の汚染をまねく、高エネルギーを必要とす
るため書き込み速度が遅くなり大きい版では書き込みに
時間がかかる等の問題があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、樹脂マスク
層への高密度エネルギー光による書き込み画像形成の機
構として、いわゆるPS版などに於ける光エネルギーと
モノマーによる重合反応(ネガ型PS版)あるいは光エ
ネルギーによるポリマーの部分分解反応に伴う改質(ポ
ジ型PS版)のごとき化学反応を利用した機構とは異な
り、光エネルギーの吸収により発生した熱により画像部
の樹脂粒子が相互に溶融・融着して潜像を形成し、その
後この潜像を処理液を使用した湿式法により未変性の非
画像部を溶解除去して現像する新しい方法を見い出した
ことにより行われたもので、本発明によるマスク層の画
像形成工程は物質の物理的な変化を利用した機構による
ものであり、従来の技術とは全く異なる原理に基づく方
法であると言える。
【0007】従来のレーザー光線を用いた破壊法による
画像書き込みでは通常800mJ/cm2 から1200
mJ/cm2 の高密度エネルギーを必要とし、しかも書
き込み時には破壊に伴う物質の飛散や蒸発が起こり、機
器の汚染や画像の損傷などの問題があった。さらに高エ
ネルギーを必要とするため書き込み速度が遅くなるなど
の問題もあった。一方本発明による樹脂マスク層の熱変
性による方法では、光エネルギー量として150mJ/
cm2 〜200mJ/cm2 と言う極めて低エネルギー
量の露光量により画像書き込みができ、汚染物質も発生
しない。従って、本発明の第一の課題は、書き込み速度
も早く、汚染物質の発生しないクリーンな処理のでき
る、高密度エネルギー光を用いて直接書き込みのできる
平版印刷版原版を提供することにある。
【0008】また、通常高密度エネルギー光を用いて画
像を形成させる場合にはバンディングと言う故障が発生
する。バンディングとは、光源となるレーザー素子の出
力パワーのバラツキや、線状にレーザーを走査させた場
合に照射面内における光強度分布の異なりが走査線と走
査線の境界付近に現れバンド状の模様として認められる
もので、高密度エネルギーレーザーにより直接印刷材料
などに書き込みを行う場合には多発的に認められるトラ
ブルである。しかし本発明のマスクを用いる方法によれ
ば、これら光源に起因する不均一性が、マスク形成後の
全面露光工程において緩和されきれいに均一化されてバ
ンティングによるトラブルは解消されてしまう。従っ
て、本発明による第二の課題は、高密度エネルギー光を
用いることにより発生するバンディングなどの故障が生
じることのない、高品質の印刷版画像が得られる平版印
刷版原版を提供することにある。
【0009】また、本発明による第三の課題は、最終的
に仕上がった印刷刷版が従来から使用している印刷刷版
と変わりなく、印刷に当たって印刷現場における熟練印
刷工員の経験が十分に生かされ、違和感なく取扱いので
きる平版印刷版原版を提供することにある。
【0010】さらに、本発明の第四の課題は、コンピュ
ーターなどのデジタル信号から直接製版可能であり、さ
らに現像処理に当たっては従来の処理装置が利用でき、
印刷においても従来の印刷装置をそのまま利用できる高
密度エネルギー光書き込み型コンピューターツウプレー
ト版である平版印刷版原版を提供することである。
【0011】本発明の第五の課題は、本発明の方法に従
って作製された平版印刷版原版は、特別な安全光を必要
とせず、通常の室内照明灯などの下で作業を行っても支
障なく良好な印刷刷版を作製することができると言う作
業性の改善された平版印刷版原版を提供することであ
る。
【0012】本発明の第六の課題は、高密度エネルギー
光により形成される画像と、ネガ型感光性画像形成層上
に形成され印刷画像となる画像とが反転画像の関係にあ
る平版印刷版原版を提供することである。
【0013】本発明の第七の課題は、潜像画像の形成さ
れたネガ型感光性画像形成層上に残るマスク画像を印刷
前に剥離除去する必要があるが、容易で安価に除去でき
る方法を提供することである。
【0014】さらに、本発明の第八の課題は、上述した
課題を解決した本発明による平版印刷版原版を使用し
て、印刷に必要な解像度の高い良好な印刷刷版を作製で
きる印刷刷版作製方法を提供することである。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する手段
の第一の構成は、従来から本業界では公知のネガ型感光
性画像形成層の上に、光を吸収し熱を発生する物質、酸
価が10以上280以下でかつ平均粒径が0.005マ
イクロメートルから15マイクロメートルまでの樹脂粒
子、および界面活性剤を主構成成分として含有する樹脂
マスク層を設けた平版印刷版原版である。更に第二の構
成は、前記した平版印刷版原版を用い、「高密度エネ
ルギー光による画像様露光、樹脂マスク層の非画像部
を湿式法により除去してマスク画像を形成する(以下、
第一現像と言う)、活性光線の全面露光によりネガ型
感光性画像形成層にマスク画像の非画像部に基づく潜像
画像を形成する、ネガ型感光性画像形成層をネガ用の
現像液を用いて現像処理し印刷刷版画像を形成する(以
下、第二現像と言う)、水洗、ガム引き、乾燥を経て
印刷刷版を得る」以上の各工程を有することを特徴とす
る平版印刷刷版作製方法である。
【0016】
【発明の実施の形態】本発明は、通常のネガ型感光性画
像形成層上に、高密度エネルギー光に対して極めて感度
の高い樹脂マスク層を形成することを特徴とするが、以
下に本発明の樹脂マスク層について詳細に説明する。
【0017】本発明においては、樹脂マスク層中に光を
吸収し熱を発生する物質を含有することが必須である
が、このような物質として種々の顔料を用いることがで
きる。また、同時に、用いる顔料は、処理工程中におけ
る活性光線による全面露光時におて、活性光線を十分に
遮光して下層の感光性画像形成層に対するマスク作用を
有するものでなくはならない。
【0018】この様な本発明に使用される顔料として
は、市販の顔料およびカラーインデックス便覧、「最新
顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)など
に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類として
は、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、
赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料そ
の他ポリマー結合色素などがあげられる。具体的には、
不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレ
ートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン
系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ
系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イ
ソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染め付け
レーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、
天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラックなど
が使用できる。これら具体例の中でも特に近赤外線ない
し赤外線レーザーを吸収して効率よく熱を発生し、活性
光線に対する遮光性も良好で、しかも経済的にすぐれた
物質としてカーボンブラックが好ましく用いられる。
【0019】これらの顔料は表面処理をせずに用いても
よく、また公知の表面処理を施して用いても良く、公知
の表面処理方法としては、樹脂やワックスを表面コート
する方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質
(たとえば、シランカップリング剤やエポキシ化合物、
ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法な
どが考えられる。これらの表面処理方法については、
「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「最新顔料応用
技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技
術」(CMC出版、1984年刊)に記載されている。
特に、本発明の樹脂マスク層に好ましく用いられるの
は、グラフト重合により分散溶媒中への分散性を改良し
たグラフト化カーボンブラックである。
【0020】本発明に用いられるグラフト化カーボンブ
ラックは、カーボンブラックの存在下で、重合開始剤を
用いてビニルモノマーの重合を行い、系内で生成する成
長ポリマー鎖を粒子表面で補足する方法、カーボンブラ
ック表面へ導入した重合開始基からグラフト鎖を成長さ
せる方法、カーボンブラック表面の官能基と反応性ポリ
マーとの反応による方法等により合成して用いることが
でき、今日では種々の官能基をもった分散性のよいグラ
フト化カーボンブラックが市販されており、それらを本
発明に用いることができる。これらグラフト化カーボン
ブラックに関しては、「カーボンブラック便覧第3版、
(カーボンブラック協会編)1995年、167頁」、
「カーボンブラックの特性と最適配合および利用技術
(技術情報協会)1997年、111頁」等に詳しく説
明されており、いづれも本発明に好適に使用される。
【0021】グラフト化されたカーボンブラックの具体
例としては、不飽和ポリエステルをカーボンブラックに
グラフトした後各種ビニルモノマーとのラジカル重合を
行ったもの、カーボンブラックとラウロイルペルオキシ
ドとの反応により得られるCB−ペルオキシド基と各種
ビニルモノマーとのラジカル重合反応物、アゾ基を導入
したカーボンブラックと各種ビニルモノマーとのラジカ
ル重合反応物、カーボンブラック表面に導入したアシリ
ウムパークロレートとビニルモノマー、ラクトン、環状
エーテル、環状アセタール等とのカチオン開環重合物、
カーボンブラックに導入されたクロルメチル基と2−オ
キサゾリン類とのカチオン開環異性化重合反応物、カー
ボンブラックに導入されたベンジリウムパークロレート
とビニルモノマー、ラクトン、および環状エーテル等と
のカチオングラフト重合物、カーボンブラックに導入さ
れたカリウムカルボン酸基とβ−プロピオラクトンのア
ニオン開環重合物、カーボンブラックに導入されたカリ
ウムカルボン酸基とエポキシドと環状酸無水物とのアニ
オン開環交互共重合物、カーボンブラック/ブチルリチ
ウム複合体とメチルメタアクリレートやアクリロニトリ
ルとのアニオングラフト重合物、カーボンブラックに導
入されたアミノ基とα−アミノ酸−N−カルボン酸無水
物との開環重合物、カーボンブラックの表面に導入され
た高反応性の官能基、例えば、イソシアナート基、アシ
ルアジド基、アシルクロリド基、エポキシ基、クロロト
リアジニル基、活性エステル基等とポリプロピレングリ
コール、ポリエチレングリコール、シリコンジオール、
シリコンジアミンおよびポリエチレンイミン等とのグラ
フト重合物等を挙げることができる。
【0022】特にこれらグラフト重合されたカーボンブ
ラックの内で、樹脂マスク層を形成する為に必要な塗工
液中において酸価が10以上280以下の樹脂粒子と混
合して好適に分散し得るものとして、アニオン性基をグ
ラフト重合物中に含有するものが挙げられる。その様な
アニオン性基としては、燐酸基、スルホン基、硫酸基と
りわけ好適にはカルボキシル基が挙げられる。この様
な、アニオン性基として好ましいカルボキシル基をカー
ボンブラックのグラフト樹脂中に導入する方法の例につ
いて述べる。
【0023】カルボキシル基を有するビニル系グラフト
重合体は、カルボキシル基を有する重合性モノマーを含
有する重合性モノマー組成物をグラフト重合することに
よって、または予めカルボキシル基を有する重合性モノ
マーを含有する重合性モノマー組成物を共重合すること
によって得られた重合物をカーボンブラックにグラフト
することによって容易に製造することができる。カルボ
キシル基を有する重合性モノマーとしては、例えば、ア
クリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、フマル酸、イタ
コン酸、マレイン酸、マレイン酸モノブチルなどのマレ
イン酸モノアルキル類、イタコン酸モノブチル等のイタ
コン酸モノアルキル類等どが挙げられる。
【0024】その他、無水マレイン酸などの酸無水基を
有する重合性モノマーをグラフト重合して得られる酸無
水基含有グラフト重合体に、ブチルアルコールなどのモ
ノアルコールを付加する方法、水酸基を有する重合性モ
ノマーをグラフト重合して得られる水酸基含有ビニル系
グラフト重合体に、無水マレイン酸、無水フタル酸、無
水トリメリット酸などの酸無水基含有化合物を付加する
方法などによってもカルボキシル基を導入することがで
きる。
【0025】カルボキシル基を有するポリエステル樹脂
は、一塩基酸、二塩基酸、三官能以上の多塩基酸などの
カルボキシル基を有する化合物と、ジオール、ポリオー
ル等の水酸基を有する化合物とを適宜選択して、溶融
法、溶剤法などの公知の方法により脱水縮合させてポリ
エステル樹脂を製造する際に、カルボキシル基が残存す
るように反応すれば良い。カルボキシル基は、主に、ポ
リエステル樹脂を構成する二塩基酸または多塩基酸など
に由来する未反応のカルボキシル基である。得られたポ
リエステル樹脂をカーボンブラック反応性基にグラフト
することによって、カルボキシル基を有するポリエステ
ル樹脂でグラフトされたカーボンブラックを得ることが
できる。
【0026】その他にポリエステル樹脂にカルボキシル
基を導入する方法としては、水酸基を有する線状または
分岐ポリエステル樹脂に、例えば、無水マレイン酸、無
水フタル酸、無水トリメリット酸などの酸無水基含有化
合物を付加する方法、水酸基を有するポリエステル樹
脂、好ましくは線状ポリエステル樹脂に、例えば無水ピ
ロメリット酸などのテトラカルボン酸二無水物を反応し
た、カルボキル基を導入すると同時に鎖伸張する方法な
ども採用できる。
【0027】さらに、ポリエステル樹脂によってグラフ
ト化されたカーボンブラックに、前述したカルボキシル
基を有する重合性モノマーを含む重合性モノマーを更に
グラフト重合する方法によってもカルボキシル基を導入
できる。
【0028】カルボキシル基を有するポリウレタン樹脂
によってグラフト化されたカーボンブラックは、カルボ
キシル基を導入する成分としてのジメチロールプロピオ
ン酸などのカルボキシル基および水酸基を併有する化合
物を含有するポリオール成分と、ポリイソシアネート成
分とを反応させることによって容易に製造することがで
きる。
【0029】本発明に用いる顔料の粒径は、0.01マ
イクロメートル〜15マイクロメートルの範囲にあるこ
とが好ましく、0.05マイクロメートル〜5マイクロ
メートルの範囲にあることがさらに好ましい。
【0030】顔料の使用量は、樹脂マスク層の全固形分
に対して、1〜70重量%、さらに好ましくは10〜5
0重量%である。添加量が1重量%より少ない場合に
は、光を吸収して熱を発生しても共存する樹脂を溶融す
るのに十分な熱量とはならず、添加量が70重量%より
多い場合には、発生する熱量が多すぎて燃焼や破壊など
の現象が起きて、画像を形成するのに適当な溶融潜像を
形成することが困難である。
【0031】本発明の樹脂マスク層を構成する必須材料
としての、酸価が10以上280以下でかつ平均粒子径
が0.005マイクロメートル〜15マイクロメートル
までの樹脂粒子ついて説明する。
【0032】本発明の樹脂マスク層における樹脂材料の
役割としては、まず高密度エネルギー光の照射を受けた
顔料が光エネルギーを熱エネルギーに変換し、発生した
熱により樹脂粒子が熱的に溶融・融着して変性し、例え
ば下層のネガ型感光性画像形成層との接着性が大きく変
化するとか、樹脂マスク層の湿式法による除去(第一現
像)に際して樹脂粒子の熱変性によりアルカリ性水溶液
に対する溶解度が著しく低下するものである。この時、
樹脂粒子自身が熱変性により大きく性質を変える必要は
なく、熱変性によって分散している顔料を包み込み樹脂
マスク層として熱変性を行えば良いことである。この熱
変性を効率良く行わせるには、樹脂粒子の平均粒子サイ
ズが0.005マイクロメートル以上で15マイクロメ
ートル以下である必要がある。すなわち、粒子サイズが
15マイクロメートルより大きい場合には、発生した熱
を受けた樹脂粒子が溶融・融着するには十分ではなく、
粒子サイズが0.005マイクロメートルよりも小さい
場合には実質的に実用化に当たって経済的ではない。ま
た、本発明の平版印刷版原版は画像処理を行うことを目
的として使用されるものであり、あまり粒子サイズの大
きい樹脂粒子、すなわち15マイクロメートルより大き
い粒子を使用するのは画像処理における解像度が低下し
てしまうと言う別の問題もある。
【0033】一方、樹脂マスク層の非画像部は、第一現
像処理中において用いるアルカリ性水溶液が下層のネガ
型PS版を浸食しない程度のアルカリ度で十分に除去さ
れる必要があり、この第一現像における非画像部の除去
を効率よく行わせるには、樹脂粒子がアルカリ水溶液に
可溶なアニオン性基を持つ必要がある。このようなアニ
オン性基としては、カルボン酸基、燐酸基、スルホン基
および硫酸基などがあるが、とりわけ好適に用いられる
のはカルボン酸基である。樹脂粒子中における必要カル
ボン酸量は、樹脂1gを中和するのに必要なKOHmg
数量で表された酸価で表されることができ、本発明に使
用される樹脂粒子は酸価が10以上280以下である必
要がある。酸価が10以下の場合には、第一現像液によ
る溶解現像が十分ではなく、酸価が280以上の場合に
は塗工に際して粘度が高くなるとか平版印刷版原版の保
存に際して保存安定性が悪くなるとかの不都合が生じ
る。
【0034】従って、樹脂マスク層の樹脂粒子に求めら
れる特性としては、塗布溶液中に顔料成分とよく均一に
分散し、乾燥後は安定な塗膜を形成し、熱変性に当たっ
ては上記の如き作用を発揮し得るものであり、このよう
な特性を持った樹脂粒子として、酸価が10以上280
以下でかつ平均粒子径が0.005マイクロメートル〜
15マイクロメートルまでの樹脂粒子を挙げることがで
きる。
【0035】さらに本発明においては、樹脂マスク層の
塗布溶液をネガ型PS版上に塗布した後乾燥工程におい
て乾燥されるが、この時効率よく実用的に乾燥され、し
かも樹脂粒子が融解などの熱変性を起こさない必要があ
り、このためには本発明の樹脂粒子のガラス転移温度が
50℃以上であることが好ましい。50℃未満の温度で
樹脂粒子の熱変性を伴うことなしに乾燥することも可能
ではあるが、この様な場合には乾燥効率が悪く実用的で
はない。
【0036】次に本発明の樹脂マスク層に用いる樹脂粒
子を得るための方法について述べる。樹脂マスク層に用
いる樹脂粒子を得るための重合反応としては、光重合反
応、ラジカル重合反応、カチオン重合反応、アニオン重
合反応および配位アニオン重合など公知の重合反応を駆
使して樹脂を作製することができるが、前述した酸価や
平均粒子径を持つ樹脂粒子を製造できる重合反応方法と
して好ましいのは乳化重合法である。
【0037】本発明の樹脂粒子を作製するため特に好ま
しく採用される乳化重合には、極性の大きく異なるモノ
マーを共重合することがでるとか、反応中の重合熱に伴
う温度上昇の制御が容易であるとか、生成ポリマーのサ
イズの制御や分離が容易であるとか、カラス転移点の高
い重合物を得易いなどの理由によりラジカル重合反応に
よる乳化重合法が推奨される。
【0038】本発明の樹脂粒子を調整するための乳化重
合方法は、互いに混じり合わない溶媒(通常は水と非極
性有機溶剤を使用)に、重合して必要なポリマーとなる
モノマーと界面活性剤とを添加し、激しく攪拌して乳化
させたのち、嫌気下開始剤を添加して重合反応を開始さ
せる。必要に応じて加熱または/および冷却、禁止剤や
抑制剤の使用なども適宜利用することができる。反応停
止後は、得られた粒状樹脂を濾過乾燥して用いたり、あ
るいは反応後得られた樹脂粒子と溶媒とをそのまま、次
工程である樹脂マスク層の組成液用として用いることが
できる。乳化重合に使用される開始剤としては、過硫酸
アンモニウム、過硫酸カリウムなどの過硫酸塩、過酸化
水素−金属塩、有機過酸化物−金属塩、有機過酸化物−
脂肪族または脂環式ポリアミン化合物、有機過酸化物−
ジメチルアニリン、重クロム酸カリ−金属酸化物などの
レドックス系開始剤、芳香族ジアゾアミノ化合物、芳香
族ジアゾチオエーテル化合物、芳香族ジアゾオキシ化合
物、脂肪族ジアゾ化合物などのアゾ化合物を挙げること
ができる。乳化重合に使用される界面活性剤としては、
脂肪酸塩(ラウリン酸カリウム、ミリスチン酸カリウ
ム、ステアリン酸カリウム等)、スルホン酸塩(セチル
スルホン酸ナトリウム等)、アルキル硫酸塩(ドデシル
硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム等)、アルキ
ルアリルスルホン酸塩(ドデシルトルエンスルホン酸ナ
トリウム等)、ジアルキルスルホコハク酸塩(ジオクチ
ルスルホコハク酸ナトリウム等)等のアニオン性界面活
性剤、アルコキシポリ(エチレンオキシド)エタノール
類化合物、アルキルフェノキシポリ(エチレンオキシ)
エタノール類化合物、アルコキシ(エチレンオキシ)エ
タノールエステル類化合物、アルコキシセルロース類化
合物等の非イオン性界面活性剤、アルキルアンモニウム
塩(ドデシルアンモニウムアセテート等)、第3アミン
塩(ヘキサデシルトリメチルアンモニウムアセテート
等)、アルキルピリジニウム塩等のカチオン性界面活性
剤を挙げることができる。
【0039】本発明の樹脂粒子を調整するのに好ましく
用いられるモノマーとしては樹脂粒子に適度な酸価を付
与させる必要があるため、各種のビニル型モノマー、ビ
ニリデン型モノマーおよびジエン型モノマーとカルボキ
シル基、燐酸基、スルホン酸基または硫酸エステル基を
含有する重合性モノマーとを用い、共重合反応させるこ
とによって目的とする本発明の樹脂粒子を得ることがで
きる。そのような各種のビニル型モノマー、ビニリデン
型モノマーおよびジエン型モノマーの具体例として、エ
チレン、プロピレン、ブタジエン、イソプレン、イソブ
チレン、1−ブテン、スチレン、α−メチルスチレン、
α−クロロスチレン、ジビニルベンゼン、ジシクロペン
タジエン、シクロドデカトリエン等のオレフィン化合物
類、アクリロニトリル、アクリルアミド、アクリルアミ
ド誘導体(N−オクチルアクリルアミド、メチレンビス
アクリルアミド等)、アクリル酸エステル類(アクリル
酸メチル、アクリル酸エチル等)、メタアクリル酸エス
テル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル
等)、ヒドキシエチルメタクリレート類(2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタ
クリレート等)、アミノエチルメタクリレート類(ジメ
チルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチ
ルメタクリレート等)、ケイ皮酸メチル等のアクリル系
モノマー、酢酸ビニル、臭化ビニル、ビニルエチルエー
テル、4−ビニルピリジン、N−ビニルピロリドン、メ
チルビニルケトン、N−ビニルカルバゾール、イソブチ
ルビニルエーテル、2−ビニルピリジン、モノクロル酢
酸ビニル等のビニルモノマー、アリルアミン、アリルア
ルコール、アリルクロライド、アリルグリシジルエーテ
ル、メタアリルクロライド、トリアリルイソシアヌレー
ト、トリアリルトリメチラート、トリアリルアミン等の
アリルモノマー類等を挙げることができる。
【0040】また樹脂粒子に酸価を付与させるモノマー
の具体例として、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸、フマル酸、イタコン酸、マレイン酸、ソルビン酸、
およびこれら酸類の塩類、マレイン酸モノブチルなどの
マレイン酸モノアルキル類、イタコン酸モノアルキル
類、メタアリルスルホン酸などのスルホン酸基含有のモ
ノマーおよびその塩類、燐酸基含有モノマーおよびその
塩類、硫酸エステル基含有のモノマーおよびその塩類な
どを挙げることができる。
【0041】以上のモノマー類は、モノマーを単独で用
いてもよいし、いくつかのモノマーを共重合させて用い
ても良いが、得られる樹脂粒子の酸価が10〜280か
つ平均粒子サイズが0.005マイクロメートル〜15
マイクロメートルのサイズの範囲内になる様に予め設計
して用いられる。このようにして得られた樹脂粒子の特
に好ましい様態としては、酸価が30から100、平均
粒子径が0.01から10マイクロメートルかつガラス
転移温度が50℃以上の樹脂粒子である。
【0042】以上の様にして得られた乳化重合法による
樹脂粒子は、樹脂マスク層における樹脂粒子の組成比と
して、20重量%〜90重量%で用いられ、好ましくは
30重量%〜70重量%が用いられる。樹脂粒子の組成
比が20重量%より少ない場合には、熱変性による物理
的特性の変化が過剰となり画像部の品質に問題が生じる
ことになり、組成比が90重量%以上の場合には熱変性
による物理特性変化が十分ではなく第一現像における現
像性などに問題が生じる。
【0043】本発明の樹脂マスク層に使用する樹脂粒子
としては、実用的には酸価が10以上280以下の平均
粒子径が15マイクロメートル以下の建材用、塗料用、
インキ用などの用途として開発され市販されている各種
エマルジョンやラテックスなどで、本発明による樹脂マ
スク層の樹脂粒子としての諸特性に合致するものを選ん
で使用することができる。
【0044】本発明の樹脂マスク層には、界面活性剤が
添加される。界面活性剤の作用としては、樹脂マスク層
組成液をPS版表面に塗布するに際して、塗布品質を向
上させるレベリング剤としての作用が第一に挙げられ
る。界面活性剤を添加する第二の効果は、樹脂マスク層
の塗布液において、含有される樹脂粒子やカーボンブラ
ックなどの粒子相互間の作用に基づく凝集力を中和し、
分散性を高める作用が考えられ、さらに第三の作用とし
て樹脂マスク層の塗布乾燥後樹脂マスク層とネガ型感光
性画像形成層間の接着性に作用して樹脂マスク層の剥離
除去性に影響させることができ、また第四の作用として
は第一現像および/または第二現像において樹脂マスク
層の現像液への溶解性に作用することなどが考えられ
る。
【0045】本発明の樹脂マスク層に使用される界面活
性剤の中、アニオン型界面活性剤の具体例としては、例
えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアル
カンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアル
キルスルホ琥珀酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン
酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキル
フェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩
類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテ
ル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム
塩類、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウ
ム塩類、石油スルホン錯塩類、硫酸化ひまし油、硫酸化
牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、
ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩
類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキ
シエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸
エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキ
シエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩
類、スチレンと無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物
類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類などが
挙げられる。
【0046】非イオン型界面活性剤の具体例としては、
ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエ
チレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレ
ンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレ
ンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリ
ン脂肪酸部分エステル化物類、ソルビタン脂肪酸部分エ
ステル化物類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステ
ル化物類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル
類、ショ糖脂肪酸部分エステル化物類、ポリオキシエチ
レンソルビタン脂肪酸部分エステル化物類、ポリオキシ
エチレンソルビトール脂肪酸部分エステル化物類、ポリ
エチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン
脂肪酸部分エステル化物類、ポリオキシエチレン化ひま
し油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エス
テル化物類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N、N−ビ
ス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチ
レンアルキルアミン類、トリエタノールアミン脂肪酸エ
ステル類、トリアルキルアミンオキシド類、ポリオキシ
エチレン−ポリオキシプロピレンブロックポリマー等が
挙げられる。
【0047】カチオン型界面活性剤の具体例としては、
アルキルアミン塩類、第4級アンモニウム塩類、ポリオ
キシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリア
ミン誘導体などが挙げられる。
【0048】弗素系界面活性剤の具体例としては、パー
フルオロアルキル基含有カルボン酸塩、パーフルオロア
ルキル基含有スルホン酸塩、パーフルオロアルキル基含
有硫酸エステル塩、パーフルオロアルキル基含有燐酸塩
などのアニオン性弗素系界面活性剤、パーフルオロアル
キル基含有アミン塩、パーフルオロアルキル基含有4級
アンモニウム塩などのカチオン性弗素系界面活性剤、パ
ーフルオロアルキル基含有カルボキシベタイン、パーフ
ルオロアルキル基含有アミノカルボン酸塩などの両性弗
素系界面活性剤、パーフルオロアルキル基含有オリゴマ
ー、パーフルオロアルキル基含有ポリマー、パーフルオ
ロアルキル基含有スルホンアミドポリエチレングリコー
ル付加物などのノニオン性弗素系界面活性剤等を挙げる
ことができる。
【0049】また、シリコン系界面活性剤も使用するこ
とができる。
【0050】これら界面活性剤の使用は単独で用いて
も、2種以上を併用しても良い。また、本発明の樹脂マ
スク層中への界面活性剤の添加量は、樹脂マスク層固形
分に対して0.001から20重量%であり、好ましく
は0.01から10重量%である。0.001重量%よ
り少ない場合には、樹脂マスク層組成液のPS版上への
塗布に際して十分なレベリング効果が得られない。ま
た、20重量%以上添加した場合には、樹脂マスク層が
全て剥離してしまうなどの第一現像に於ける現像性に問
題が生じてしまう。なお、界面活性剤を樹脂マスク層固
形分に対して1重量%以上の様に比較的多量に使用する
場合には、シリコーン系消泡剤や弗素系消泡剤などを併
用することが好ましい。
【0051】本発明の樹脂マスク層をネガ型PS版の感
光性画像形成層上に設けるには、ネガ型PS版の感光性
画像形成層上に樹脂マスク層組成液を塗布し乾燥するこ
とにより作製することができる。樹脂マスク層組成液の
作製には、一例を示せば、まず、顔料を水または、水と
有機溶剤の混合溶媒に分散させることである。分散機と
しては、超音波分散機、サンドミル、アトライター、バ
ールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デ
スパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、
3本ロールミル、加圧ニーダーなどがある。またこの時
使用される有機溶剤は、水と均一に溶解し得る低沸点の
有機溶剤であって、具体的には、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、n−プロパノール、ブタノー
ル、sec−ブタノール、t−ブタノール、アセトン、
メチルエチルケトン、エチレングリコール、プロピレン
グリコール、プロピレントリオール、酢酸、プロピオン
酸などである。
【0052】また、グラフト化カーボンブラックの場合
には、分散と同時に分散溶媒中での安定化を図るための
添加剤を必要とする。添加剤としては、グラフト化剤の
カウンターイオンを構成するカチオンとして、各種低級
の有機第一級アミン、第二級アミン、第三級アミン、第
4級アミンなど、アルカリ金属類、アルカリ土類金属等
の無機イオンなど、またアニオンとしては各種有機カル
ボン酸類、有機スルホン酸類、有機燐酸類、アミノカル
ボン酸類などを挙げることができる。また別の安定化用
添加剤としては、各種界面活性剤を挙げることができ
る。界面活性剤としては、各種カルボン酸塩、スルホン
酸塩、硫酸エステル塩、燐酸塩などのアニオン性界面活
性剤、脂肪族アミン塩およびその4級アンモニウム塩、
芳香族4級アンモニウム塩、複素環4級アンモニウム塩
などのカチオン性界面活性剤が使用できる。
【0053】次に本発明の樹脂マスク層に用いる樹脂粒
子を含有する調整液について述べる。樹脂粒子が乳化重
合などの方法で調整され、酸価や平均粒径が所望の範囲
にあるものは、重合反応が終了した後、樹脂粒子を含有
した反応溶媒をそのまま先に調整した顔料の調整液に添
加して用いることができる。
【0054】また、樹脂粒子が乳化重合により調整さ
れ、濾過および乾燥の工程を経て単離された樹脂は、水
または/および水に可溶な有機溶剤中に強制分散させて
均一な溶液とした後、先に調整した顔料の調整液に添加
して用いる。
【0055】この時強制分散させたり、乳化重合後に樹
脂を安定的に分散させるために、樹脂粒子の酸基の50
モル%以上が塩基で中和されていることが好ましい。塩
基が十分に中和されていない場合には、粒子相互間の凝
集などの不都合が生じることが多い。本発明に用いるこ
とのできる塩基としては、各種低級の有機第一級アミ
ン、第二級アミン、第三級アミン、第四級アミンなど、
アルカリ金属類、アルカリ土類金属等の無機イオンなど
が好ましく用いられる。
【0056】次に、所定量の界面活性剤をそのまま直
接、あるいは水および/または水に可溶な有機溶剤に溶
解して、先に調整した顔料と樹脂粒子の混合液に添加す
れば良い。
【0057】尚、顔料の分散調整液と樹脂粒子分散調整
液と界面活性剤溶液の混合添加順序については各種方式
が考えられ、必ずしもここに記述した方法のみによる必
要はなく、いずれの混合方法でも良い。
【0058】このようにして調整された樹脂マスク層組
成液はさらに、塗布性向上のための塗布助剤、たとえ
ば、粘度調整のため各種天然水溶性高分子や合成水溶性
高分子、水溶性の有機溶剤(メタノール、エタノール、
イソプロパノール、n−プロパノール、ブタノール、s
ec−ブタノール、t−ブタノール、アセトン、メチル
エチルケトン、エチレングリコール、プロピレングリコ
ール、プロピレントリオール、酢酸、プロピオン酸な
ど)、消泡剤(シリコーン系および弗素系など)等を添
加することができる。
【0059】以上のようにして作製された樹脂マスク層
の組成液は、好ましくは塗布溶液中の固形成分が1から
50重量%に調整された後、予め表面マット剤を取り除
いたネガ型PS版の感光性画像形成層上に塗布される。
塗布方法としては、回転塗布法、ワイヤーバー塗布法、
デイップ塗布法、エアーナイフ塗布法、ロール塗布法、
ブレード塗布法、カーテン塗布法およびスプレー塗布法
などを挙げることができる。
【0060】上記のようにして、ネガ型PS版の上に塗
布された樹脂マスク層塗布液は、30℃から150℃で
10秒から10分間、熱風乾燥機、赤外線乾燥機などを
使用して乾燥される。乾燥後の樹脂マスク層の塗布量
は、0.5g/m2 から3.5g/m2 である。塗布量
が0.5g/m2 より少ない場合には、活性光線による
全面露光に際して、樹脂マスク層によるマスク効果が十
分でなく、塗布量が3.5g/m2 以上の場合には高密
度エネルギー光による書き込みに際して十分な熱量が得
られず、第一現像において全ての樹脂マスク層が剥離し
てしまうと言う問題が起きてしまう。
【0061】以上のようにして作製された本発明による
平版印刷版原版は、最上層にある樹脂マスク層によりネ
ガ型PS版への紫外線などによるカブリ現象を防ぐこと
ができるため、特別な安全光などの設備を必要とせず、
通常の電灯光の下で作業ができると言う利点を有してい
る。
【0062】本発明の樹脂マスク層に画像を形成するこ
とのできる高密度エネルギー光光源としては、発振波長
が300nm〜950nmまでの各種半導体レーザー、
炭酸ガスレーザー(発振波長;10.6μm)、YAG
レーザー(発振波長;532nm・1064nm)、エ
キシマレーザー(発振波長;193nm・308nm・
351nm)アルゴンレーザー(発振波長;488n
m)等があり、いづれの場合も、光源の特定波長を吸収
し熱に変換でき得る適当な顔料を前述した顔料の中から
選び、樹脂マスク層に添加することにより使用できる。
【0063】本発明の樹脂マスク層は、高密度エネルギ
ー光により画像を書き込まれた後、第一現像において非
画像部が湿式法により除去される。この際使用される現
像液(以下第一現像液と言う)は、アルカリ剤を含有し
たアルカリ性水溶液である。
【0064】本発明の第一現像に用いる現像液として
は、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナト
リウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウ
ム、第二リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重
炭酸ナトリウム、アンモニア水等のような無機アルカリ
剤およびテトラアルキルアンモニウムハイドライド等の
様な有機アルカリ剤の水溶液が適当であり、それらの濃
度が0.005から20重量%好ましくは0.01から
5重量%になるように添加される。
【0065】また、第一現像液には必要に応じて、アニ
オン性活性剤、ノニオン性活性剤、カチオン性活性剤、
両性活性剤、弗素系活性剤およびシリコーン系活性剤等
の界面活性剤やアルコール等のような水溶性有機溶剤を
加えることもできる。
【0066】第一現像液としては、実用上は通常市販さ
れているポジ用の現像液を1から200倍に希釈して使
用することができるし、必要に応じポジおよびネガ両用
の現像液を希釈して用いて現像することも可能である。
【0067】本発明における第一現像の処理方法は、条
件として温度15℃から40℃、時間は1秒から2分
間、高密度エネルギー光による露光済みの本発明による
平版印刷版原版を第一現像液に浸漬し、その後、水洗す
ることにより行われる。必要に応じ、軽く表面を擦る等
しても良い。また、第一現像液を充填した自動現像機な
どの使用も効果的である。
【0068】第一現像が終了した本発明の平版印刷版原
版は、活性光線による全面露光が行われる。この全面露
光により、マスク画像が下層のネガ型感光性画像形成層
に転写されることになる。活性光源としては、通常当業
界でプリンター等に使用されている活性光源であり、例
えば水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、
ケミカルランプ、カーボンアーク灯などがある。またプ
リンター等の機器に関しても、既に当業界では公知の各
種プリンターをそのまま利用することができる。
【0069】本発明の樹脂マスク層画像を活性光線によ
り画像転写されるネガ型感光性画像形成層は当業界で公
知のネガ型PS版として使用されているネガ型感光性画
像形成層と全く同じものを使用することができる。
【0070】本発明の樹脂マスク層が使用することので
きるネガ型感光性平版印刷版の光硬化性感光層に含有さ
れる感光性組成物の代表的なものとして次のものがあげ
られる。
【0071】1)感光性ジアゾ樹脂とバインダー樹脂と
からなる感光性組成物:感光性ジアゾ樹脂としては、ジ
アゾジアリールアミンと活性カルボニル化合物との縮合
物の塩に代表されるジアゾ樹脂があり、水に不溶性で有
機溶媒に可溶性のものが好ましい。特に好適なジアゾ樹
脂は、4−ジアゾジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−
メチルジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−メチルジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−3′ーメチルジフェニル
アミン、4−ジアゾ−3−メチル−4′−エトキシジフ
ェニルアミン、4−ジアゾ−3−メトキシジフェニルア
ミン等と、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、
アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、4,4′−ビス
(メトキシメチル)ジフェニルエーテル等との縮合物の
有機酸塩または無機酸塩である。有機酸塩としては、例
えば、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエ
ンスルホン酸、キシレンスルホン酸、メシチレンスルホ
ン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホ
ン酸、プロピルナフタレンスルホン酸、1−ナフトール
−5−スルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3
−クロロベンゼンスルホン酸、2−ヒドロキシ−4−メ
トキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、2,4−ジヒ
ドロキシベンゾフェノン、ベンゼンホスフィン酸等が挙
げられ、無機酸としては、ヘキサフルオロ燐酸、テトラ
フルオロほう酸等があげられる。
【0072】その他の感光性ジアゾ樹脂として、特開昭
54−30121号に記載の主鎖にポリエステル基をも
つジアゾ樹脂;特開昭61−273538号に記載の無
水カルボン酸残基を有する重合体に水酸基を有するジア
ゾ化合物を反応してなるジアゾ樹脂;ポリイソシアネー
ト化合物に水酸基を有するジアゾ化合物を反応してなる
ジアゾ樹脂等も使用することができる。
【0073】バインダー樹脂としては、例えば(メタ)
アクリル酸[以下、アクリル酸とメタアクリル酸を総称
して(メタ)アクリル酸と称す。]、(メタ)アクリル
酸エステル共重合体、米国特許第4123276号に記
載の酸価10から100を有するヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレートおよび(メタ)アクリロニトリル
含有共重合体、特公昭57−43890号に記載の芳香
族性水酸基を有する共重合体、特公昭57−51656
号に記載の2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル
(メタ)アクリレート単位を有する重合体等の共重合
体;エポキシ樹脂;ポリアミド樹脂;ハロゲン化ビニ
ル、特にポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン;ポリ酢
酸ビニル;ポリエステル;ホルマール樹脂、ブチラール
樹脂等のアセタール樹脂;エスタンの商品名で米国グッ
ドリッチ社より販売されている可溶性ポリウレタン樹
脂;ポリスチレン;スチレン−無水マレイン酸共重合体
またはその半エステル;繊維素誘導体;シェラック;ロ
ジンまたはその変性体などが使用することができる。
【0074】2)光架橋型樹脂を含む感光性組成物:光
架橋型樹脂としては、水性アルカリ現像液に対して親和
性を持つ光架橋型樹脂が好ましく、例えば、特公昭54
−15711号に記載の桂皮酸基とカルボキシル基を有
する共重合体;特開昭60−165646号に記載のフ
ェニレンジアクリル酸残基とカルボキシル基を有するポ
リエステル樹脂;特開昭60−203630号に記載の
フェニレンジアクリル酸残基とフェノール性水酸基を有
するポリエステル樹脂;特公昭57−42858号に記
載のフェニレンジアクリル酸残基とナトリウムイミノジ
スルホニル基を有するポリエステル樹脂;特開昭59−
208552号に記載の側鎖にアジド基とカルボキシル
基を有する重合体などが使用できる。
【0075】3)付加重合性不飽和化合物と光重合開始
剤を含む感光性組成物:標記感光性組成物としては、例
えば、米国特許第2,760,863号、同3,06
0,023号、特開昭62−121448号等に記載の
2個またはそれ以上の末端エチレン基を有する付加重合
性不飽和化合物と光重合開始剤よりなる組成物がある。
さらにバインダー樹脂として、前記1)に記載のバイン
ダー樹脂、特開昭61−285449号に記載の側鎖に
不飽和基を有する共重合体等が使用できる。上記感光性
組成物は、さらに必要に応じて染料、顔料、安定剤、充
填剤、架橋剤等を添加し、適当な溶媒に溶解して支持体
上に塗布乾燥して通常 0.5から5g/m2 の感光層
を有するネガ型感光性平版印刷とされる。
【0076】上記のネガ型感光性画像形成層の支持体と
しては、例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、ステンレ
ス、鉄などの金属板;ポリエチレンテレフタレート、ポ
リカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリエチレン
等のプラスチックフィルム;合成樹脂を溶融塗布あるい
は合成樹脂溶液を塗布した紙やプラスチックフィルムに
金属層を真空蒸着もしくはラミネートなどの技術により
設けた複合材料などがあげられる。これらのうち、特に
アルミニウムおよびアルミニウム被覆された複合支持体
が望ましい。
【0077】アルミニウム支持体の表面は、保水性を高
め、感光層との密着性を向上させる目的で表面処理され
ていることが望ましい。例えば、粗面化方法としてブラ
シ研摩法、ボール研摩法、電解エッチング、化学的エッ
チング、液体ホーニング、サンドプラスト等の方法およ
びこれらの組み合わせが挙げられ、特に電解エッチング
の使用を含む粗面化方法が好ましい。
【0078】電解エッチングの際に用いられる電解浴と
しては、酸、アルカリまたはそれらの塩を含む水溶液あ
るいは有機溶剤を含む水性溶液が用いられ、これらのう
ちで特に塩酸、硝酸またはそれらの塩を含む電解液が好
ましい。さらに、粗面化処理の施されたアルミニウム板
は、必要に応じて酸またはアルカリの水溶液にてデスマ
ット処理される。こうして得られたアルミニウム板は、
陽極酸化処理されることが望ましく、特に硫酸または燐
酸を含む浴で処理する方法が望ましい。
【0079】また、必要に応じて米国特許第2,71
4,066号、同3,181,461号に記載されてい
る珪酸塩処理(珪酸ナトリウム、珪酸カリウム)、米国
特許第2,946,638号に記載の弗化ジルコニウム
酸カリウム処理、米国特許第3,201,247号記載
のホスホモリブデート処理、英国特許第1,108,5
59号記載のアルキルチタネート処理、独国特許第1,
091,433号記載のポリアクリル酸処理、独国特許
第1,134,093号や英国特許第1,230,44
7号に記載されているポリビニルホスホン酸処理、特公
昭44−6409号公報に記載されているホスホン酸処
理、米国特許第3,307,951号に記載のフィチン
酸処理、特開昭58−16893号や特開昭58−18
291号に記載の親水性有機高分子化合物と2価の金属
との塩による処理、特開昭59−101651号に記載
のスルホン酸基を有する水溶性重合体の下塗りによって
親水化処理を行ったもの、特開昭60−64352号に
記載の酸性染料による着色を行ったもの、米国特許第
3,658,662号記載のシリケート電着などの処理
を行うことができる。
【0080】また、砂目立て処理および陽極酸化後、封
孔処理を施したものも好ましい。かかる封孔処理は熱水
および無機塩または有機塩を含む熱水溶液への浸漬なら
びに水蒸気浴などによって行われる。
【0081】本発明に使用するネガ型PS版は、公知の
技術により上記の支持体上にネガ型感光性組成物層を塗
布し乾燥することにより製造される。塗布方法として
は、回転塗布法、ワイヤーバー塗布法、ディップ塗布
法、エアーナイフ塗布法、ロール塗布法、ブレード塗布
法、カーテン塗布法、およびスプレー塗布法などを挙げ
ることができる。このようにして塗布されたネガ型感光
性組成物層は、40から150℃で30秒から10分
間、熱風乾燥機、赤外線乾燥機などを用いて乾燥され
る。
【0082】本発明の平版印刷版原版の樹脂マスク層に
高密度エネルギー光により画像を書き込み、第一現像処
理を行い、活性光線による全面露光を終わった段階で
は、樹脂マスク層の画像を転写されたネガ型PS版の上
に画像様の樹脂マスク層が付着した状態になっている。
このPS版表面に付着している樹脂マスク層は、印刷の
段階まで付着残存していると、印刷物の中に不規則に混
入し、印刷物の汚れとなってしまう。そこで予め、印刷
刷版となる前に除去する必要があるが、残存樹脂マスク
層はネガ型PS版の現像処理(第二現像)を行うことに
より、同時に脱離除去することができる。
【0083】本発明による第二現像は、一般のネガ型平
版印刷版の現像作業手順と同様の作業手順に従って行う
ことができる。すなわち、活性光線で露光された樹脂マ
スク層の非画像部は、露光により架橋重合し、現像液に
不溶解となる。一方マスク画像部およびその下に存在す
る未露光のネガ型感光性層は、ネガ専用の現像液に可溶
であり、溶解除去される。従って、ネガ型感光性画像形
成層には高密度エネルギー光により形成された画像と比
較すると、画像が反転した関係にある画像が形成され
る。
【0084】第二現像液に用いられるアルカリ剤の具体
例としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化カ
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二また
は第三燐酸のナトリウムまたはアンモニウム塩、メタ珪
酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機ア
ルカリ剤、モノ、ジ、またはトリメチルアミン、モノ、
ジ、またはトリエチルアミン、モノまたはジイソプロピ
ルアミン、n−ブチルアミン、モノ、ジ、またはトリエ
タノールアミン、モノ、ジ、またはトリイソプロパノー
ルアミン、エチレンイミン、エチレンジイミン等の有機
アミン化合物類が挙げられる。
【0085】これらのアルカリ剤の第二現像液中におけ
る含有量は、0.005から10重量%で、好ましくは
0.05から5重量%である。0.005重量%より少
ないと現像が不良となり、10重量%より多いと第二現
像に際してネガ型感光性画像形成層を侵すなどの悪影響
を及ぼす。
【0086】第二現像液には有機溶剤が添加され、その
具体例としては、例えば、酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、エチレングリ
コールモノブチルアセテート、乳酸ブチル、レブリン酸
ブチル、エチルブチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン、エチレングリコールモノブチル
エーテル、エチレングリコールベンジルエーテル、エチ
レングリコールモノフェニルエーテル、ベンジルアルコ
ール、メチルフェニルカルビノール、nーアミルアルコ
ール、メチルアミルアルコール、キシレン、メチレンジ
クロライド、エチレンジクロライド、モノクロルベンゼ
ン等を挙げることができる。
【0087】これら有機溶剤の第二現像液中における含
有量は、20重量%以下であり、好ましくは10重量%
以下である。
【0088】さらにまた、第二現像液中には必要に応じ
て、亜硫酸リチウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウ
ム、亜硫酸マグネシウム等の水溶性亜硫酸塩、アルカリ
可溶性ピラゾロン化合物、アルカリ可溶性チオール化合
物、メチルレゾルシン等のヒドロキシ芳香族化合物、ポ
リ燐酸塩、アミノポリカルボン酸類等の硬水軟化剤、イ
ソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、n−ブチ
ルナフタレンスルホン酸ナトリウム、N−メチル−N−
ペンタデシルアミノ酢酸ナトリウム、ラウリルサルフェ
ートナトリウム塩などのアニオン界面活性剤や両性界面
活性剤、消泡剤等を用いることができる。
【0089】本発明に用いる第二現像液の組成に関して
は、上記の組成のものが使用されるが、実用上は市販さ
れているネガ型PS版の現像処理に用いられるネガ用現
像液で代用することができる。市販されている濃縮タイ
プのネガ用現像液を1から20倍に希釈したものが第二
現像の現像液として使用可能である。
【0090】本発明における第二現像の処理方法は、条
件として温度15℃から40℃、時間は1秒から2分
間、活性光線による露光済みの本発明による平版印刷版
原版を第二現像液に浸漬し、その後、水洗することによ
り行われる。必要に応じ、軽く表面を擦る等しても良
い。また、第二現像液を充填した自動現像機などの使用
も効果的である。
【0091】第二現像を終えた本発明の平版印刷版原版
は、水洗および/または水系の不感脂化剤による処理が
施される。水系の不感脂化剤としては、例えば、アラビ
アゴム、デキストリン、カルボキシメチルセルロースな
どの水溶性天然高分子;ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルピロリドン、ポリアクリル酸などの水溶性合成高分
子等の水溶液が挙げられ、必要に応じて、これらの水系
の不感脂化剤に酸や界面活性剤などが加えられる。そし
て、不感脂化後乾燥し、印刷刷版として印刷に使用され
る。
【0092】本発明による平版印刷版原版を使用して、
良好な印刷刷版を作製する好ましい方法としては、ま
ず、本発明による平版印刷版原版をYAGレーザーや赤
外線半導体レーザーなどの高密度エネルギー光を光源と
した画像露光機に装着し、コンピューターからのデジタ
ル情報を直接本発明の平版印刷版原版上に画像書き込み
を行うことである。この際、本発明による平版印刷版原
版は露光の前後の取扱いにおいて、特別の安全光を必要
とせず通常室内光の下で作業を進めることができると言
う特徴を持っている。
【0093】次いで、市販されているポジ用現像液を希
釈して得られる第一現像液を用いて第一現像を行い、非
画像部を除去する。引き続き、通常のPS版の焼き付け
等に使用されている活性光線を装着したプリンター等に
よる全面露光を実施する。この際の露光条件は、本発明
の平版印刷版原版の下層に使用されているネガ型PS版
の露光条件と通常は同じである。
【0094】活性光線により全面露光された後、本発明
の平版印刷版原版はネガ用現像液を用いて第二現像処理
が行われる。このときの現像条件は、本発明の平版印刷
版原版の下層に使用されているネガ型PS版の現像条件
と通常は同じでよい。尚、画像様となった樹脂マスク層
を除去する必要があるが、第二現像処理中において脱離
除去される。
【0095】その後、水洗および/または水系の不感脂
化剤により処理を施したのち乾燥して印刷刷版を得るこ
とができる。
【0096】尚、第一現像以下の工程は一工程づつ実施
しても差し支えないが、実用的にはこれら作業を一貫し
て行うことのできる自動現像機を使用するのが作業工程
が容易であり、好ましい。
【0097】
【実施例】次ぎに本発明を実施例によりさらに詳しく具
体的に説明するが、もとより本発明はこれら実施例に限
定されるものではない。
【0098】〔実施例1〕カーボンブラックCWA(ア
クリル酸樹脂でグラフト化されたカーボンブラック;カ
ーボンブラック含有量55重量%;チバガイギー社製)
3000重量部、蒸留水4500重量部、イソプロピル
アルコール6000重量部およびアンモニア水(NH3
として28から30重量%含有)1500重量部を、予
め攪拌羽根を装着した反応器中にて10分間攪拌した
後、ショットミル粉砕機を5回循環させて粉砕し、15
マイクロメートルのフィルターを通して濾過してカーボ
ンブラックの分散液を得た。この分散液は固形分を2
0.4重量%含有していた。
【0099】ジムロートコンデンサー、温度計、窒素ガ
ス流入口、窒素ガス流出口、滴下ロートを装着した50
0ml丸底フラスコに、水30g,ドデシル硫酸ナトリ
ウム1.0gを加え、攪拌しながら1時間窒素置換を行
った。その後過硫酸アンモニウム0.4gを加え、、温
度を70℃に昇温し、激しく攪拌しながらスチレン3
5.0g,グリシジルメタアクリレート2.3g、メタ
アクリル酸カルシウム4.0gおよびジビニルベンゼン
(80重量%)1.3gの混合液を100分間かけて滴
下ロートから添加した。その後過硫酸アンモニウム10
%水溶液5.0gを添加した後、さらに2時間、窒素雰
囲気下70℃にて重合反応を行った。得られたラテック
スは、固形分24.5重量%で酸価52、ガラス転移温
度65℃および平均粒径は0.2ミクロンであった。
【0100】得られたラテックス45gに攪拌しながら
カーボンブラック分散液32.0g、蒸留水72.0
g,メタノール32.0gおよび弗素系界面活性剤とし
てメガファックF−177(大日本インキ化学工業社
製)0.02gをこの順番で加え、さらに室温にて10
分間攪拌して塗布液とした。
【0101】予めマット剤を除去したネガ型PS版NN
−2(ポリクロームジャパン社製)の上に、さきの塗布
液をロッド番号#9のワイヤーバーを用いて塗布し、8
0℃2分間乾燥して、本発明の平版印刷版原版1を得
た。塗布量は1.4g/m2 であった。
【0102】平版印刷版原版1を用い、1W赤外線半導
体レーザーを搭載したテスト露光機(波長808nm、
露光エネルギー量170mJ/cm2 ;ライン電子社
製)にて画像露光を行った後、ポジ用PS版現像液PD
−1(ポリクロームジャパン社製)1:50希釈溶液を
用い手現像にて25℃、10秒間の条件で第一現像を行
い、水洗、乾燥した。次にPS版用プリンターP−80
6−G(大日本スクリーン社製)にて35カウントの露
光を行った。次いでネガ用PS版現像液ND−1(ポリ
クロームジャパン社製)1:3希釈溶液を用いて30
℃、19秒間で第二現像処理を行った後、ガム液UG1
(ポリクロームジャパン社製)処理を施して乾燥し、印
刷刷版1を得た。以上の作業はいずれも明室下で行われ
た。
【0103】黄色安全灯の下で半導体レーザーで描いた
画像と同じ画像を書き出したフィルムを用い、P−80
6−Gプリンター(大日本スクリーン社製)にて35カ
ウントでネガ型PS版NN−2(ポリクロームジャパン
社製)に焼き付け、現像液ND1(ポリクロームジャパ
ン社製)およびフィニッシングガムPF2(ポリクロー
ムジャパン社製)を充填した自動現像機PD−912P
(大日本スクリーン社製)にて30℃、19秒の条件で
現像し、乾燥して比較印刷刷版1を得た。印刷刷版1と
比較印刷刷版1とを印刷機SPRINT26(株式会社
小森製)に2面付けし、インキGEOSーG紅N(大日
本インキ化学工業社製)、湿し水NA108W(大日本
インキ化学工業社製)1:50希釈、用紙ロイヤルコー
ト(王子製紙社製)を用いて5万部の印刷テストを実施
した。印刷物の評価項目としては、網点(2%、50
%、98%)の太り、細り、付き具合、マイクロライン
の付き具合、水幅、汚れ戻り、インキの着肉状況、刷り
だし状況、印刷物濃度変化、地汚れ状況などであった
が、印刷刷版1の印刷物にはバンディングなどの問題は
見られず、印刷物評価項目においても標準となる従来法
に従って作製された比較印刷刷版1による印刷物と全く
同等の評価を得た。
【0104】〔実施例2〕ブラックカラー用カーボンブ
ラックHCF30.0g、蒸留水45.0g、イソプロ
ピルアルコール60.0gおよびアンモニア水(NH3
として28から30重量%含有)15.0gを、カッタ
C20装着のホモジナイザーHG30(日立製作所社
製)にて10分間攪拌粉砕した後、15マイクロメート
ルのフィルターにて濾過し、カーボンブラックの分散液
を得た。この分散液は固形分を22.5重量%含有して
いた。
【0105】スチレンーアクリル酸共重合物エマルジョ
ンJONCRYL89(ジョンソンポリマー社製;酸価
50、ガラス転移温度98℃、平均粒子径0.13マイ
クロメートル)25.0gに攪拌しながらカーボンブラ
ック分散液35.0g、蒸留水240.0g,および弗
素系界面活性剤としてメガファックF−470(大日本
インキ化学工業社製)を0.8重量%含有したメタノー
ル溶液100.0gをこの順番で加え、さらに室温にて
10分間攪拌して塗布液とした。
【0106】予めマット剤を除去したネガ型PS版NN
−2(ポリクロームジャパン社製)の上に、塗布液をロ
ッド番号#9のワイヤーバーを用いて塗布し、80℃2
分間乾燥して、本発明の平版印刷版原版2を得た。塗布
量は1.5g/m2 であった。
【0107】平版印刷版原版2を用い、赤外線半導体レ
ーザーを搭載した露光機トレンドセッター3244F
(クレオ社製)にて画像露光を行った後、ポジ用PS版
現像液PD−1(ポリクロームジャパン社製)1:50
希釈溶液を用い手現像にて25℃、10秒間の条件で第
一現像を行い、水洗、乾燥した。次にPS版用プリンタ
ーP−806−G(大日本スクリーン社製)にて35カ
ウントの露光を行った。次いでネガ用PS版現像液ND
−1(ポリクロームジャパン社製)1:3希釈溶液を用
いて30℃、19秒間で第二現像処理を行った。水洗
後、ガム液UG1(ポリクロームジャパン社製)処理を
施して乾燥し、印刷刷版2を得た。以上の作業はいずれ
も明室下で行われた。
【0108】書き込み画像がトレンドセッター3244
Fによる画像と同じフィルムを用いた以外は、実施例1
による従来法のPS版印刷刷版を作製する方法と同じ方
法で比較印刷刷版2を作製した。印刷刷版2と比較印刷
刷版2とを印刷機RZK(ローランド社製)に2面付け
し、インキGEOS−G紅N(大日本インキ化学工業社
製)、湿し水108W(大日本インキ化学工業社製)
1:50希釈、用紙OKトップコート(王子製紙社製)
を用いて5万部の印刷テストを実施した。印刷物の評価
項目としては、網点(2%、50%、98%)の太り、
細り、付き具合、マイクロラインの付き具合、水幅、汚
れ戻り、インキの着肉状況、刷りだし状況、印刷物濃度
変化、地汚れ状況などであったが、印刷刷版2の印刷物
にはバンディングなどの問題は見られず、印刷物評価各
項目においても、標準となる従来法に従って作製された
比較印刷刷版2による印刷物と全く同等の評価を得た。
【0109】〔実施例3〕カーボンブラックCWA(チ
バガイギー社製)80.0g、蒸留水140.0g、イ
ソプロピルアルコール160.0gおよびテトラメチル
アンモニウムハイドロオキサイド水溶液(純分25%)
20.0gを、カッタC20装着のホモジナイザーHG
30(日立製作所社製)にて10分間攪拌粉砕した後、
15マイクロメートルのフィルターにて濾過し、カーボ
ンブラックCWAの分散液を得た。この分散液は固形分
を22.0重量%含有していた。
【0110】スチレンーアクリル酸共重合物エマルジョ
ンJONCRYL89(ジョンソンポリマー社製;酸価
50、ガラス転移温度98℃、平均粒子径0.13マイ
クロメートル)25.0gに攪拌しながらカーボンブラ
ックCWA分散液35.0g、蒸留水240.0g,お
よび弗素系界面活性剤としてメガファックF−470
(大日本インキ化学工業社製)を0.8重量%含有した
メタノール溶液100.0gをこの順番で加え、さらに
室温にて10分間攪拌して塗布液とした。
【0111】予めマット剤を除去したネガ型PS版NN
−2(ポリクロームジャパン社製)の上に、塗布液をロ
ッド番号#9のワイヤーバーを用いて塗布し、80℃2
分間乾燥して、本発明の平版印刷版原版3を得た。塗布
量は1.4g/m2 であった。
【0112】平版印刷版原版3を用い、YAGレーザー
を搭載した露光機クレッセント42T(ガーバー社製)
にて画像露光を行った後、ポジ用PS版現像液PD−1
(ポリクロームジャパン社製)1:50希釈溶液を用い
手現像にて25℃、10秒間の条件で第一現像を行い、
水洗、乾燥した。次にPS版用プリンターP−806−
G(大日本スクリーン社製)にて35カウントの露光を
行った。次いで、現像液ND1(ポリクロームジャパン
社製)およびフィニッシングガムPF2(ポリクローム
ジャパン社製)を充填した自動現像機PD−912P
(大日本スクリーン社製)にて30℃、19秒の条件で
現像し、乾燥して印刷刷版3を得た。以上の作業はいず
れも明室下で行われた。
【0113】書き込み画像がクレッセント42Tによる
画像と同じフィルムを用いた以外は、実施例1による従
来法のPS版印刷刷版を作製する方法と同じ方法で比較
印刷刷版3を作製した。印刷刷版3と比較印刷刷版3と
を印刷機RZK(ローランド社製)に2面付けし、イン
キGEOS−G紅N(大日本インキ化学工業社製)、湿
し水108W(大日本インキ化学工業社製)1:50希
釈、用紙OKトップコート(王子製紙社製)を用いて5
万部の印刷テストを実施した。印刷物の評価項目として
は、網点(2%、50%、98%)の太り、細り、付き
具合、マイクロラインの付き具合、水幅、汚れ戻り、イ
ンキの着肉状況、刷りだし状況、印刷物濃度変化、地汚
れ状況などであったが、印刷刷版3の印刷物にはバンデ
ィングなどの問題は見られず、印刷物評価各項目におい
ても標準となる従来法に従って作製された比較印刷刷版
3による印刷物と全く同等の評価を得た。
【0114】
【発明の効果】本発明による平版印刷版原版は、コンピ
ューターからのデジタル情報を、高密度エネルギー光を
使って直接印刷版原版に書き込むことができ、本発明に
よる印刷刷版作製方法によれば、バンディングなど高密
度エネルギー光を使うことによって生じるトラブルもな
く、容易に使用した樹脂マスク層も除去できて良好な印
刷刷版を明室下で作製することができる。また本発明の
方法により作製された印刷刷版は、印刷工程に於いて従
来法により作製されたPS版印刷刷版と比較して印刷特
性において全く変わりない印刷刷版であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/00 503 G03F 7/00 503

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体上にネガ型の感光性画像形成層、
    樹脂マスク層をこの順に有し、該樹脂マスク層が主たる
    構成成分として少なくとも、光を吸収し熱を発生する物
    質、酸価が10以上280以下でかつ平均粒子径が0.
    005マイクロメートルから15マイクロメートルまで
    の樹脂粒子、および界面活性剤を含有することを特徴と
    する平版印刷版原版。
  2. 【請求項2】 前記した光を吸収し熱を発生する物質
    が、グラフト重合された顔料である請求項1記載の平版
    印刷版原版。
  3. 【請求項3】 前記したグラフト重合された顔料が、グ
    ラフト重合されたカーボンブラックである請求項1又は
    2に記載の平版印刷版原版。
  4. 【請求項4】 前記した樹脂粒子のガラス転移温度が5
    0℃以上である請求項1〜3の何れかに記載の平版印刷
    版原版。
  5. 【請求項5】 前記した樹脂粒子が、その酸基の50モ
    ル%以上が塩基で中和されている樹脂粒子である請求項
    1〜4の何れかに記載の平版印刷版原版。
  6. 【請求項6】 請求項1〜5に記載の平版印刷版原版を
    用い、高密度エネルギー光の画像様露光により照射部を
    溶融させて画像部を形成すると共に非画像部を湿式法に
    より除去する方法により形成されたマスク画像を有する
    ことを特徴とする平版印刷版原版。
  7. 【請求項7】 請求項1〜5記載の平版印刷版原版を用
    いて平版印刷刷版を作製する方法であって、高密度エ
    ネルギー光による画像様露光工程、樹脂マスク層の非
    画像部を湿式法により除去してマスク画像を形成する工
    程、活性光線の全面露光によりネガ型感光性画像形成
    層にマスク画像に基づく潜像画像を形成する工程、ネ
    ガ型感光性画像形成層をネガ用の現像液を用いて現像処
    理し印刷刷版画像を形成する工程、及び、水洗、ガム
    引き、乾燥工程を経て印刷刷版を得ることを特徴とする
    平版印刷刷版作製方法。
  8. 【請求項8】 請求項7記載の、樹脂マスク層の非画
    像部を湿式法により除去してマスク画像を形成する工程
    において、用いる処理液が少なくともアルカリ剤を含有
    するアルカリ性水溶液である請求項7に記載の平版印刷
    刷版作製方法。
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JP2004502979A (ja) * 2000-07-06 2004-01-29 キャボット コーポレイション 修飾顔料生成物を含む印刷版

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JP2004502979A (ja) * 2000-07-06 2004-01-29 キャボット コーポレイション 修飾顔料生成物を含む印刷版
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