DE69831467T2 - Mehrschicht-Schaltungsplatte - Google Patents

Mehrschicht-Schaltungsplatte Download PDF

Info

Publication number
DE69831467T2
DE69831467T2 DE69831467T DE69831467T DE69831467T2 DE 69831467 T2 DE69831467 T2 DE 69831467T2 DE 69831467 T DE69831467 T DE 69831467T DE 69831467 T DE69831467 T DE 69831467T DE 69831467 T2 DE69831467 T2 DE 69831467T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
wiring
vias
circuit board
circuit
locations
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE69831467T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69831467D1 (de
Inventor
Michio Nagano-shi Horiuchi
Yukiharu Nagano-shi Takeuchi
Chiaki Sumida-ku Takubo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinko Electric Industries Co Ltd
Original Assignee
Shinko Electric Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinko Electric Industries Co Ltd filed Critical Shinko Electric Industries Co Ltd
Publication of DE69831467D1 publication Critical patent/DE69831467D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69831467T2 publication Critical patent/DE69831467T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/11Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K1/111Pads for surface mounting, e.g. lay-out
    • H05K1/112Pads for surface mounting, e.g. lay-out directly combined with via connections
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/14Structural association of two or more printed circuits
    • H05K1/144Stacked arrangements of planar printed circuit boards
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5384Conductive vias through the substrate with or without pins, e.g. buried coaxial conductors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5385Assembly of a plurality of insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5386Geometry or layout of the interconnection structure
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/11Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K1/115Via connections; Lands around holes or via connections
    • H05K1/116Lands, clearance holes or other lay-out details concerning the surrounding of a via
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/18Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
    • H05K1/182Printed circuits structurally associated with non-printed electric components associated with components mounted in the printed circuit board, e.g. insert mounted components [IMC]
    • H05K1/183Components mounted in and supported by recessed areas of the printed circuit board
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/1517Multilayer substrate
    • H01L2924/15172Fan-out arrangement of the internal vias
    • H01L2924/15174Fan-out arrangement of the internal vias in different layers of the multilayer substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0296Conductive pattern lay-out details not covered by sub groups H05K1/02 - H05K1/0295
    • H05K1/0298Multilayer circuits
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09Shape and layout
    • H05K2201/09209Shape and layout details of conductors
    • H05K2201/09218Conductive traces
    • H05K2201/09227Layout details of a plurality of traces, e.g. escape layout for Ball Grid Array [BGA] mounting
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/10Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
    • H05K2201/10613Details of electrical connections of non-printed components, e.g. special leads
    • H05K2201/10621Components characterised by their electrical contacts
    • H05K2201/10734Ball grid array [BGA]; Bump grid array

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Mehrlagenleiterplatte zur Befestigung an einem elektronischen Bauteil, wie z. B. ein Halbleiterchip, der in der Form eines Gebiets-Arrays angeordnete Anschlusselektroden aufweist, oder eine Halbleitervorrichtung, die externe Verbindungsanschlüsse aufweist, die in der Form eines Gebiets-Arrays angeordnet sind, wie z. B. in einer gleichmäßigen Gitteranordnung oder auf gleichmäßig versetzte Weise.
  • Bei modernen Halbleitervorrichtungen werden die logischen Vorrichtungen in hohem Maß funktional und stark integriert, besitzen mehr Eingänge und Ausgänge und sind immer dichter befestigt. Daher sind Produkte hergestellt worden, um ein Fehlen von Raum zum Bilden von Elektroden zu kompensieren, indem Elektroden als Gebiets-Array auf der Elektroden bildenden Oberfläche eines Halbleiterchips angeordnet werden.
  • 11 veranschaulicht ein Beispiel, bei dem ein Halbleiterchip 4 auf einer Leiterplatte 5 befestigt ist, die auf einer gewöhnlichen Flip-Chip-Verbindung beruht. Der Halbleiterchip 4 weist Elektroden 6 auf, die an peripheren Rändern desselben angeordnet sind. Schaltkreismuster 7 sind mit jeder Elektrode 6 in einer einzelnen Ebene verbunden.
  • 12 veranschaulicht die Anordnung von Verdrahtungsstellen 8 auf einer Leiterplatte zur Befestigung eines Halbleiterchips und die Anordnung von Schaltkreismustern 7, die ausgehend von den Verdrahtungsstellen 8 gezogen sind. Bei diesem Beispiel sind die Verdrahtungsstellen 8 in zwei Folgen angeordnet, ist jedes Schaltkreismuster 7 zwischen den Verdrahtungsstellen verlaufend gezogen; d. h. das Schaltkreismuster 7 ist ausgehend von jeder Verdrahtungsstelle 8 auf einer einzelnen Oberfläche gezogen.
  • Wenn die Elektroden in vielen Folgen in den Längs- und Querrichtungen auf der Elektroden bildenden Oberfläche angeordnet sind, ist es jedoch nicht länger möglich, die Verdrahtung ausgehend von jeder Verdrahtungsstelle auf der Oberfläche in Rich tung zu der äußeren Seite zu führen, auch wenn dies abhängig von dem Abstand zwischen den Verdrahtungsstellen und der Anzahl der Verdrahtungsstellen variieren kann.
  • Um dieses Problem zu lösen, ist ein Verfahren vorgeschlagen worden, gemäß dem die Leiterplatte zur Befestigung eines Halbleiterchips in vielen Schichten ausgebildet ist und Schaltkreismuster der laminierten Leiterplatte in geeigneter Weise angeordnet sind, um alle Elektroden auf dem Halbleiterchip mit den Schaltkreismustern elektrisch zu verbinden. 13 veranschaulicht ein Beispiel, wo ein Halbleiterchip 4, auf dem die Elektroden 6 als Gebiets-Array angeordnet sind, auf einer Mehrlagenleiterplatte befestigt ist. Indem diese Mehrlagenleiterplatte verwendet wird, ist es möglich, jede Elektrode 6 mit den Schaltkreismustern 7, 7a elektrisch zu verbinden, obwohl der Halbleiterchip 4 Elektroden 6 aufweist, die als Gebiets-Array angeordnet sind. In 13 bezeichnet das Bezugszeichen 7a ein Schaltkreismuster einer inneren Schicht, bezeichnen 5a bis 5d erste bis vierte Leiterplatten und bezeichnet das Bezugszeichen 9 externe Verbindungsanschlüsse.
  • Wenn der Halbleiterchip, der Elektroden aufweist, die als Gebiets-Array angeordnet sind, an der Leiterplatte zu befestigen ist, müssen nur etwa zwei Leiterplatten aufeinander laminiert werden, vorausgesetzt, die Anzahl der Elektroden ist nicht sehr groß. Wenn der Halbleiterchip jedoch viele Anschlussstifte aufweist, wie z. B. 30 × 30 Anschlussstifte oder 40 × 40 Anschlussstifte, müssen 6 bis 10 Leiterplatten aufeinander laminiert werden.
  • Wenn eine Mehrzahl an Leiterplatten, auf denen die Schaltkreismuster sehr dicht ausgebildet sind, laminiert werden sollen, um eine Mehrlagenleiterplatte herzustellen, wird ein Verdrahtungsverfahren hoher Dichte verwendet, wie z. B. ein Aufbauverfahren (engl: Build-up-Verfahren). Diese Verfahren weisen jedoch hinsichtlich Ertrag der Produkte, Zuverlässigkeit und Kosten der Herstellung bedeutsame Probleme auf. Das heißt, wenn viele Leiterplatten aufeinander zu laminieren sind, sollten die Platten nacheinander so laminiert werden, dass elektrische Verbindungen durch Durchkon taktierungen hergestellt werden müssen, die in jeder Leiterplatte zwischen den Schaltkreismustern und zwischen den Schaltkreismustern entlang der Leiterplatten ausgebildet sind. Daher wäre ein hohes Maß an Präzision erforderlich. Derzeit bieten derartige Verfahren jedoch kein hohes Maß an Zuverlässigkeit. Wenn viele Leiterplatten zu laminieren sind, ist es ferner erforderlich, dass keine der Leiterplatten fehlerhaft ist, was eine weitere erhöhte technische Schwierigkeit mit sich bringt.
  • Um eine Mehrlagenleiterplatte zu erzeugen, die ein gutes Ergebnis beibehält, wäre daher eine Verringerung der Anzahl von Verdrahtungsschichten eine wirksame Lösung.
  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Mehrlagenleiterplatte zur Befestigung auf einem elektronischen Bauteil, wie z. B. ein Halbleiterchip, der nicht weniger als 40 × 40 Anschlussstifte, die in der Form eines Gebiets-Arrays angeordnet sind, auf der Seite der Befestigungsoberfläche aufweist, oder wie z. B. eine Halbleitervorrichtung, die Elektroden aufweist, die in der Form eines Gebiets-Arrays an der Seite der Befestigungsoberfläche angeordnet sind.
  • Daher ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ungeachtet einer erhöhten Anzahl von aufeinander zu laminierenden Leiterplatten, eine Mehrlagenleiterplatte zur Befestigung auf einem solchen Halbleiterchip oder Halbleitervorrichtung bereitzustellen, die ein verbessertes Ergebnis bei der Herstellung der Mehrlagenleiterplatte hervorbringt und die als in hohem Maß zuverlässiges Produkt verwendet werden kann.
  • Die vorliegende Erfindung stellt eine Mehrlagenleiterplatte, die durch Laminieren einer Mehrzahl von Leiterplatten hergestellt ist, die jeweils eine Leiterplatte aufweisen, die umfasst:
    Mehrlagenleiterplatte, die durch Laminieren einer Mehrzahl von Leiterplatten hergestellt ist, wobei jede Leiterplatte umfasst:
    ein Substrat mit einer Oberfläche;
    einer Mehrzahl von Verdrahtungsstellen (12) und/oder Durchkontaktierungen (14), die in der Form eines Gebiets-Arrays auf der Oberfläche des Substrats ange
    ordnet sind; und
    Schaltkreismuster (10) auf der Oberfläche des Substrats, die jeweils ein Ende aufweisen, das mit einer der Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen verbunden ist, wobei sich das andere Ende über den Bereich hinaus erstreckt, wo die Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen in der Form des Gebiets-Arrays angeordnet sind;
    wobei ein Schaltkreismuster (10) zwischen zwei aufeinanderfolgend angeordneten, benachbarten Verdrahtungsstellen (12) und/oder Durchkontaktierungen (14) in dem Gebiets-Array untergebracht ist, und wobei vier Schaltkreismuster (10) zwischen zwei abwechselnd angeordneten benachbarten Verdrahtungsstellen (12) und/oder Durchkontaktierungen (14) in dem Gebiets-Array untergebracht sind, wo die dazwischen liegende Verdrahtungsstelle und/oder Durchkontaktierung fehlt; wobei:
    eine erste der Leiterplatten (1) eine Mehrzahl der Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen aufweist, die in Spalten- und Reihenrichtungen gleich beabstandet angeordnet sind, um ein Gebiets-Array zu bilden, das einer Anordnung von Elektroden an einer elektronischen Vorrichtung entspricht, die bei Verwendung auf der Leiterplatte befestigt ist, so dass Elektroden mit den entsprechenden Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen elektrisch verbunden sind;
    wobei die erste Leiterplatte Schaltkreismuster (10) aufweist, die mit allen Verdrahtungsstellen (12) und/oder Durchkontaktierungen (14) verbunden sind, die in einem ersten Ring positioniert sind, der den äußersten Umfang des Gebiets-Arrays bildet, und die mit ausgewählten Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen (12b, 12c, 14b, 14c) abwechselnd verbunden sind, die in den zweiten und dritten Ringen der Gebiets-Anordnung angeordnet sind;
    eine zweite der Leiterplatten (2) eine Mehrzahl der Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen aufweist, die in einem Gebiets-Array angeordnet sind, um den Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen der ersten Leiterplatte zu entsprechen, mit denen keine Schaltkreismuster der ersten Leiterplatte verbunden sind;
    wobei die zweite Leiterplatte Schaltkreismuster (10), die mit allen in dem zweiten Ring positionierten Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen (12b, 14b) verbunden sind, die den Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen der ersten Leiterplatte entsprechen, mit denen keine Schaltkreismuster auf der ersten Leiterplatte verbunden sind, und Schaltkreismuster (10) aufweist, die mit allen Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen verbunden sind, die in den vierten und fünften Ringen des Gebiets-Arrays positioniert sind;
    eine dritte der Leiterplatten (3) eine Mehrzahl der Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen aufweist, die so angeordnet sind, dass sie den Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen der zweiten Leiterplatte entsprechen, mit denen keine Schaltkreismuster der zweiten Leiterplatte verbunden sind;
    wobei die dritte Leiterplatte Schaltkreismuster (10), die mit allen in dem dritten Ring positionierten Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen verbunden sind, die Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen der ersten Leiterplatte entsprechen, mit denen keine Schaltkreismuster auf der ersten Leiterplatte verbunden sind, und Schaltkreismuster (10) aufweist, die mit allen Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen verbunden sind, die in den sechsten und siebten Ringen des Gebiets-Arrays positioniert sind.
  • Die Leiterplatte kann auch aufweisen:
    Eine Mehrlagenleiterplatte nach Anspruch 1, ferner mit vierten, fünften und sechsten Leiterplatten, wobei die vierten, fünften und sechsten Leiterplatten Schaltkreismuster aufweisen, die denjenigen der ersten, zweiten bzw. dritten Leiterplatten entsprechen, aber mit den achten bis vierzehnten Ringen des Gebiets-Arrays entsprechend verbunden sind.
  • Vorzugsweise weist die laminierte Leiterplatte eine abschließende Mehrlagenleiterplatte gemäß Anspruch 1 oder 2 auf, wobei eine Endleiterplatte (4) Schaltkreismuster (10) aufweist, die mit allen Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen (14h, 14i) verbunden sind, die in den innersten oder vorletzten Ringen des Array-Gebiets positioniert sind.
  • Spezielle Ausführungsformen gemäß dieser Erfindung sind nun unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben, in denen:
  • 1 eine Ansicht ist, die in einer Ebene eine Anordnung von Schaltkreismustern auf einer ersten Leiterplatte in einer Mehrlagenleiterplatte gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung veranschaulicht;
  • 2 bis 4 Ansichten sind, die jeweils in einer Ebene die Anordnungen von Schaltkreismustern der zweiten bis vierten Leiterplatten gemäß der Ausführungsform veranschaulichen;
  • 5 bis 8 Querschnittsansichten sind, die jeweils die Anordnung der Schaltkreismuster der ersten bis vierten Leiterplatten gemäß der Ausführungsform veranschaulichen;
  • 9(a) und 9(b) Diagramme sind, die die Anordnung von Schaltkreismustern veranschaulichen, bei denen die Verdrahtungsstellen entfernt sind;
  • 10 eine Ansicht ist, die Anordnung von Verbindungsbereichen eines elektronischen Bauteils ist, wie z. B. ein Halbleiterchip, veranschaulicht;
  • 11 eine Ansicht ist, die ein Verfahren veranschaulicht, einen Halbleiterchip gemäß der Flip-Chip-Verbindung anzubringen;
  • 12 eine Ansicht ist, die ein herkömmliches Beispiel veranschaulicht, bei dem Schaltkreismuster mit den Verdrahtungsstellen verbunden sind; und
  • 13 eine Querschnittsansicht ist, die einen herkömmlichen Zustand veranschaulicht, bei dem ein Halbleiterchip auf einer Mehrlagenleiterplatte befestigt ist.
  • Die Mehrlagenleiterplatte gemäß der vorliegenden Erfindung soll die Anzahl von Leiterplatten zur Befestigung eines elektronischen Bauteils erhöhen, das viele Elektroden aufweist, die in der Form eines Gebiets-Arrays angeordnet sind, indem eine Anordnung von Schaltkreismustern auf jeder Leiterplatte entworfen wird, die die Mehrlagenleiterplatte bildet, und die Herstellung der Mehrlagenleiterplatte erleichtern. Eine Anordnung der auf jeder Leiterplatte bereitgestellten Schaltkreismuster wird nun konkret beschrieben.
  • Das elektronische Bauteil steht vertretend für einen Halbleiterchip oder eine Halbleitervorrichtung mit einem darauf befestigten Halbleiterchip, die jeweils Elektroden oder externe Verbindungsanschlüsse aufweisen, die in der Form eines "Gebiets-Arrays" angeordnet sind. Die Schaltkreismuster sind diejenigen, die an einem Ende einer Seite mit einer Elektrode oder einem externen Verbindungsanschluss des Bauteils verbunden sind und jeweils an dem anderen Ende der anderen Seite ausgehend von einem Bereich nach außen gezogen sind, wo die externe Elektrode oder Verbindungsanschluss angeordnet ist.
  • Bei der Mehrlagenleiterplatte gemäß der vorliegenden Erfindung führt ein Zustand, die Schaltkreismuster zu ziehen oder anzuordnen, zu dem anfänglichen Zustand mit den vier Leiterplatten als Einheit zurück. Dabei beschäftigt sich die folgende Beschreibung mit der Bildung der vierten Leiterplatte, bei der sich die Anordnung der Schaltkreismuster einmal umkehrt. Die gleiche Idee kann jedoch auf gleiche Weise auf den Fall angepasst werden, bei dem die Mehrlagenleiterplatte durch fünf oder mehr Leiterplatten gebildet ist.
  • 1 bis 4 veranschaulichen die Anordnungen von Schaltkreismustern auf den ersten bis vierten Leiterplatten und 5 bis 8 veranschaulichen im Querschnitt die Schaltkreismuster auf diesen Leiterplatten.
  • 1 veranschaulicht die Anordnung (Ziehverfahren) von Schaltkreismustern 10, die auf einer ersten Leiterplatte in der Mehrlagenleiterplatte ausgebildet sind. Die Mehrlagenleiterplatte dieser Ausführungsform sitzt auf einem elektronischen Bauteil, das Verbindungsbereiche, wie z. B. Elektroden, aufweist, die in der Form eines Gitters angeordnet sind. Auf der ersten Leiterplatte sind Verdrahtungsstellen 12 in der Form eines Gitters angeordnet, um zu der Teilung der Anordnung von Verbindungsbereichen zu passen. Bezugnehmend auf 10 sind Verbindungsbereiche, wie z. B. Elektroden, in einer vorbestimmten Anzahl von Reihen und in einer vorbestimmten Anzahl von Spalten auf der Befestigungsoberfläche eines Gegenstands angeordnet, der befestigt ist, wie z. B. einer Halbleiterchip. Auf der ersten Leiterplatte der Mehrlagenleiterplatte sind die Verdrahtungsstellen 12 angeordnet, wobei die gleiche Anordnung wie die der Verbindungsbereiche beibehalten wird. 1 veranschaulicht einen Teil des Bereichs, wo die Verdrahtungsstellen 12 angeordnet sind.
  • In 1 bezeichnet das Bezugszeichen 14 Positionen zum Anordnen der Durchkontaktierungen, durch die die Verdrahtungsstellen 12 der ersten Leiterplatte mit den Schaltkreismustern der zweiten Leiterplatte oder der dritten und vierten Leiterplatten elektrisch verbunden sind.
  • Abhängig von dem Herstellungsverfahren sind die Durchkontaktierungen bei der Mehrlagenleiterplatte an den gleichen Stellen wie die Verdrahtungsstellen 12 oder an Positionen lateral von den Positionen der Verdrahtungsstellen 12 versetzt ausgebildet, wie gezeigt. Es ist nicht erforderlich, die Durchkontaktierungen 14 für die Verdrahtungsstellen 12 auszubilden, mit denen die Schaltkreismuster 10 auf der ersten Leiterplatte bereits verbunden worden sind. Daher sind die Positionen zum Anordnen der Durchkontaktierungen 14 für derartige Verdrahtungsstellen 12 nicht gezeigt.
  • Die Anordnung von Schaltkreismustern 10 auf der in 1 gezeigten, ersten Leiterplatte weist das Merkmal auf, dass die Schaltkreismuster 10 mit jeder Verdrahtungsstelle 12a in dem äußersten Ring von Verdrahtungsstellen von den Verdrahtungsstellen verbunden sind, die in der Form eines Gebiets-Arrays angeordnet sind, wobei die Schaltkreismuster 10 ausgehend von den Verdrahtungsstellen 12b des zweiten Rings, die sich an der Innenseite befinden, und ausgehend von den Verdrahtungsstellen 12c des dritten Rings abwechselnd gezogen sind, die sich noch weiter innerhalb derselben befinden. Die Schaltkreismuster 10 sind ausgehend von den Verdrahtungsstellen 12b, 12c des zweiten und dritten Rings auf die gleiche Weise wie bei dem herkömmlichen Verfahren an den benachbarten Verdrahtungsstellen vorbeiführend gezogen.
  • Indem die Schaltkreismuster 10 ausgehend von den Verdrahtungsstellen 12b des zweiten Rings und ausgehend von den Verdrahtungsstellen 12c des dritten Rings, wie oben beschrieben, abwechselnd gezogen sind, bleiben alle anderen Verdrahtungsstellen 12b, 12c der Ringe übrig, wo die Verdrahtungsstelle 12b des zweiten Rings und die Verdrahtungsstellen 12c des dritten Rings angeordnet sind. Die verbleibenden Verdrahtungsstellen 12b und 12c sind durch die Durchkontaktierungen 14 mit der nächsten Leiterplatte elektrisch verbunden. Die mit den Verdrahtungsstellen 12b verbundenen Durchkontaktierung 14b sind, im Gegensatz zu der Anordnung anderer Durchkontaktierungen 14, in Richtung zu der äußeren Seite relativ zu den Verdrahtungsstellen 12b versetzt angeordnet. Das heißt, Spielraum für die Anordnung von Schaltkreismustern 10 freizulassen, die auf den zweiten und nachfolgenden Leiterplatten angeordnet sind.
  • 5 veranschaulicht die Anordnung der Schaltkreismuster 10 der ersten Leiterplatte betrachtet ausgehend von einer Querschnittsrichtung der Mehrlagenleiterplatte. Auf der ersten Leiterplatte sind die Schaltkreismuster 10 mit den Verdrahtungsstellen 12 des ersten Rings, den Verdrahtungsstellen 12 des zweiten Rings und mit den Verdrahtungsstellen 12 des dritten Rings an der Innenseite desselben verbunden.
  • 2 veranschaulicht die Anordnung von Schaltkreismustern 10, die auf einer zweiten Leiterplatte in der Mehrlagenleiterplatte ausgebildet sind. Auf der zweiten Leiterplatte sind die Schaltkreismuster 10 ausgehend von Verdrahtungsstellen gezogen, die sich von denjenigen unterscheiden, von denen ausgehend die Muster 10 auf der ersten Leiterplatte gezogen sind. Die zweite und nachfolgende Leiterplatten sind mit den Verdrahtungsstellen 12 der ersten Leiterplatte über die Durchkontaktierungen 14 elektrisch verbunden. Bei den zweiten und nachfolgenden Leiterplatten sind daher die Durchkontaktierungen 14 und die Schaitkreismuster 10 miteinander verbunden. Daher veranschaulicht die Zeichnung einen Zustand, in dem die Durchkontaktierungen 14 und die Schaltkreismuster 10 miteinander verbunden sind.
  • Auf der zweiten Leiterplatte sind Durchkontaktierungen 14b und 14c, die mit den Verdrahtungsstellen 12b, 12c elektrisch verbunden sind, mit denen kein Schaltkreismuster 10 auf der ersten Leiterplatte verbunden ist, und Durchkontaktierungen 14 ausgebildet, die mit den verbleibenden Verdrahtungsstellen 12 auf der ersten Leiterplatte elektrisch verbunden sind.
  • Die Anordnung von Schaltkreismustern 10 auf der zweiten Leiterplatte weist das Merkmal auf, wonach die Schaltkreismuster 10 ausgehend von den Durchkontaktierungen 14b, die mit den Verdrahtungsstellen 12b des zweiten Rings verbunden sind, gezogen sind, aber kein Schaltkreismuster 10 mit den Durchkontaktierungen 14c verbunden ist, die mit den Verdrahtungsstellen 12 des dritten Rings verbunden sind, und die Schaltkreismuster 10 mit den Durchkontaktierungen 14d, 14e verbunden sind, die mit den Verdrahtungsstellen des vierten Rings und des fünften Rings verbunden sind, die sich weiter in Richtung zu der Innenseite befinden.
  • Die Durchkontaktierung 14b, die den Verdrahtungsstellen 12b des zweiten Rings entsprechen, sind an der äußersten Seite auf der zweiten Leiterplatte angeordnet. Daher gibt es keine Beschränkung beim Verbinden der Schaltkreismuster 10 mit diesen Durchkontaktierungen 14b. Wie oben beschrieben sind die Schaltkreismuster 10 auf der zweiten Leiterplatte mit den Durchkontaktierungen 14d und 14e des vierten Rings und des fünften Rings verbunden. Wie dargestellt, beruht ein Merkmal hier darin, dass die Schaltkreismuster 10 mit jeder Durchkontaktierung 14d des vierten Rings und mit jeder Durchkontaktierung 14e des fünften Rings verbunden sind.
  • 6 veranschaulicht den Umstand, dass die Schaltkreismuster 10 auf der zweiten Leiterplatte mit den Verdrahtungsstellen über die Durchkontaktierungen 14d und 14e elektrisch verbunden sind und die Schaltkreismuster 10 mit den übrigen Verdrahtungsstellen auf der ersten Leiterplatte über die Durchkontaktierungen 14b elektrisch verbunden sind.
  • Wie oben beschrieben sind die Schaltkreismuster 10 mit jeder Durchkontaktierung 14d, 14e des vierten Rings und des fünften Rings aufgrund des Umstands verbunden, dass die Schaltkreismuster 10 zum Zeitpunkt der Anordnung der Schaltkreismuster 10 auf der ersten Leiterplatte abwechselnd mit den Verdrahtungsstellen 12b, 12c des zweiten Rings und des dritten Rings verbunden werden. Das heißt, der Umstand, dass die Verdrahtungsstellen 12b und 12c abwechselnd ausgelassen werden, bedeutet, dass unbesetzte Räume aufgrund der Entfernung der Verdrahtungsstellen 12b und 12c in dem zweiten Ring und den dritten Ring abwechselnd beibehalten werden.
  • Wie viele Schaltkreismuster 10 in einem vorbestimmten Raum beim Auslegen der Schaltkreismuster 10 auf einer Leiterplatte, die die Mehrlagenleiterplatte bildet, hindurchgeführt werden können, dient als Referenz zur Beurteilung, ob die Anzahl von Leiterplatten der Mehrlagenleiterplatte effizient erhöht werden kann oder nicht. Bei dieser Ausführungsform sind die Verdrahtungsstellen 12b, 12c des zweiten Rings und des dritten Rings auf der ersten Leiterplatte abwechselnd ausgewählt, um Freiraum zu gewährleisten, um die Schaltkreismuster 10 so zu führen, dass die Schaltkreismuster 10 effizient angeordnet werden können.
  • Die Breite der Schaltkreismuster, der Zwischenraum zwischen den Schaltkreismustern, der Durchmesser der Verdrahtungsstellen und die Teilung zwischen den Verdrahtungsstellen sind vorab in Abhängigkeit der Produkte festgelegt worden und die Schaltkreismuster sind so ausgelegt, dass sie unter diesen Bedingungen zwischen den Verdrahtungsstellen verlaufend gezogen werden.
  • Bei einer einfachen Form, Schaltkreismuster anzuordnen, kann nur ein Schaltkreismuster zwischen den Verdrahtungsstellen hindurch geführt werden. Ob spezielle Verdrahtungsstellen besser entfernt werden oder nicht, wird in diesem Fall abhängig davon festgelegt, ob die Anzahl der Schaltkreismuster als Ergebnis der Entfernung der Verdrahtungsstellen so erhöht werden kann, dass sie größer als die ursprünglich ausgelegte Anzahl der Schaltkreismuster ist. Wenn eine erhöhte Anzahl an Schaltkreismustern aufgrund der Entfernung der speziellen Verdrahtungsstellen hindurch geführt werden kann, wird die Vorrichtung ausgelegt, um auf geeignete Weise die Verdrahtungsstellen zu entfernen, so dass die Anzahl der Leiterplatten, die die Mehrlagenleiterplatte bilden, verringert werden kann.
  • 9(a) und 9(b) veranschaulichen ein einfaches Beispiel, bei dem die Schaltkreismuster 10 angeordnet sind. 9(a) veranschaulicht den Fall, bei dem die Verdrahtungsstelle 12 in einer dazwischenliegenden Position vorhanden ist, was es ermöglicht, drei Schaltkreismuster 10 zu ziehen. 9(b) veranschaulicht den Fall, bei dem die dazwischen liegende Verdrahtungsstelle 12 entfernt ist, was es ermöglicht, vier Schaltkreismuster 10 zu ziehen. Wenn die Schaltkreismuster 10 in einer Anzahl größer als die ursprünglich vorgesehene aufgrund einer Entfernung der Verdrahtungsstellen 12 gezogen werden können, dann ist daher die Entfernung der Verdrahtungsstellen 12 beim Verringern der Anzahl der Leiterplatten der Mehrlagenleiterplatte wirksam.
  • Bei der Mehrlagenleiterplatte dieser Ausführungsform wird von den drei Verdrahtungsstellen 12 eine dazwischenliegende Verdrahtungsstelle 12 entfernt, was es er laubt, vier Schaltkreismuster 10 zwischen den Verdrahtungsstellen 12 zu ziehen. Wie in 2 gezeigt können daher die Schaltkreismuster 10 mit allen der Durchkontaktierungen 14d, 14e des vierten Rings und des fünften Rings verbunden werden.
  • Wenn die Verdrahtungsstellen zur Beibehaltung eines gleichen Abstands mit einer Anzahl von "n" angeordnet sind und wenn die dazwischen liegenden Verdrahtungsstellen der Anzahl von "(n – 2)" abgesehen von den Verdrahtungsstellen an den zwei äußersten Enden nicht vorhanden sind, dann ist die Anzahl "m" der Leitungen, die an den zwei äußersten Enden zwischen den Verdrahtungsstellen hindurchgeführt (angeordnet) werden können, abgesehen von den Leitungen der Verdrahtungsstellen an den äußersten Enden, gegeben durch die Formel m = {(Verdrahtungsstellenteilung) × (n – 1) – (Verdrahtungsstellendurchmesser) – (Raum zwischen Mustern)}/(Musterbreite) + (Raum zwischen Mustern)wobei "Verdrahtungsstellenteilung" ein Abstand zwischen den Mittelpunkten der Verdrahtungsstellen ist, "Verdrahtungsstellendurchmesser" ein Durchmesser der Verdrahtungsstelle ist und "Raum zwischen Mustern" ein minimaler Abstand ist, der zwischen benachbarten Schaltkreismustern eingehalten werden muss.
  • Berücksichtigt man, dass nur ein Schaltkreismuster zwischen den benachbarten Verdrahtungsstellen hindurch geführt werden kann, dann ist die Anzahl "k" von Schaltkreismustern, die zwischen den Verdrahtungsstellen an zwei Enden angeordnet werden können, gegeben durch k = (n – 1) + (n – 2) = 2n – 3.
  • Dies bedeutet, dass es "(n – 1)" Kanäle gibt, die den Durchgang von Schaltkreismustern zwischen den Verdrahtungsstellen einer Anzahl von "n" erlauben, dass es eine Anzahl von "n – 2)" dazwischen liegenden Verdrahtungsstellen gibt, abgesehen von den Verdrahtungsstellen an den beiden Enden, und dass ein Schaltkreismuster ausgehend von jeder dieser Verdrahtungsstellen gezogen werden kann.
  • Beim Vergleich von "m" mit "(k + 1)" wenn m < (k + 1), wird keine Wirkung erreicht, um die Schaltkreismuster zu erhöhen, auch wenn alle dazwischen liegenden Verdrahtungsstellen von den Verdrahtungsstellen einer Anzahl von "n" entfernt sind. Wenn m ≤ (k + 1) wird anderseits ein Effekt zum Erhöhen der Schaltkreismuster erreicht, wenn die dazwischen liegenden Verdrahtungsstellen entfernt sind.
  • Um eine Mehrlagenleiterplatte unter Verwendung einer kleinstmöglichen Anzahl an Leiterplatten aufzubauen, wird daher eine minimale ganze Zahl "n", die m ≥ (k + 1) liefert, als Parameter gewählt und die Schaltkreismuster werden gemäß dem Wert "n" angeordnet.
  • 3 veranschaulicht die Anordnung von Schaltkreismustern 10 auf der dritten Leiterplatte. Die Schaltkreismuster 10 auf der dritten Leiterplatte sind mit den Durchkontaktierungen 14c, die mit den Verdrahtungsstellen 12c des dritten Rings elektrisch verbunden sind, die auf der ersten Leiterplatte ausgelassen wurden, und mit den Durchkontaktierungen 14f, 14g des sechsten Rings und des siebten Rings verbunden. Da die Durchkontaktierungen 14c an der äußersten Seite angeordnet sind, gibt es keine Einschränkung beim Verbinden der Schaltkreismuster 10 mit diesen Durchkontaktierungen 14c. Wie bei den Durchkontaktierungen 14f, 14g des sechsten Rings und des siebten Rings können die Schaltkreismuster 10, wie diejenigen der zweiten Leiterplatte, mit allen der Durchkontaktierungen 14f, 14g verbunden werden. Das heißt, dass, indem die Anordnung der Schaltkreismuster 10 auf der zweiten Leiterplatte bewerkstelligt wird, es keine Einschränkung beim Ziehen der Schaltkreismuster 10 ausgehend von den Durchkontaktierungen 14b, 14d, 14e gibt, die an der äußeren Seite der Durchkontaktierung 14f, 14g angeordnet sind.
  • 7 veranschaulicht den Fall, bei dem die Schaltkreismuster 10 mit den Durchkontaktierungen 14f, 14g des sechsten Rings und des siebten Rings auf der dritten Leiterplatte verbunden sind und die Schaltkreismuster 10 über die Durchkontaktierung 14d mit den auf der ersten Leiterplatte frei gelassenen Verdrahtungsstellen 12c elektrisch verbunden sind.
  • 4 veranschaulicht die Anordnung von Schaltkreismustern 10 auf der vierten Leiterplatte. Auf der vierten Leiterplatte sind nur die Durchkontaktierungen 14h, 14i des achten Rings und des neunten Rings des Innenumfangs frei gelassen. Daher können die Schaltkreismuster 10 gemäß einem gewöhnlichen Anordnungsverfahren mit allen der Durchkontaktierungen 14h, 14i verbunden werden.
  • 8 veranschaulicht den Fall, bei dem die Durchkontaktierung 14h, 14i mit den Schaltkreismustern 10 verbunden sind und die Verdrahtungsstellen 12 der ersten Leiterplatte über die Durchkontaktierungen 14h, 14i mit den Schaltkreismustern 10 elektrisch verbunden sind.
  • Wie oben beschrieben, sind die äußersten Verdrahtungsstellen 12 auf der vierten Leiterplatte in einer Reihe angeordnet, d. h. es wird angenommen, dass sie sich in dem anfänglichen Zustand befinden. Dieser Zustand ist der gleiche wie der, bei dem die Schaltkreismuster 10 ausgehend von den Verdrahtungsstellen 12, die in der Form eines Gebiets-Arrays angeordnet sind, neu gezogen werden. Wenn die Verdrahtungsstellen 12 ferner an der inneren Seite angeordnet sind, werden die Schaltkreismuster 10 für die Verdrahtungsstellen der inneren Seite auf die gleiche Weise wie bei der oben genannten Ausführungsform angeordnet. Beispielsweise werden die Schaltkreismuster 10 für die vierte Leiterplatte auf die völlig gleiche Weise wie auf der ersten Leiterplatte angeordnet. Die Schaltkreismuster für die fünfte Leiterplatte werden auf die völlig gleiche Weise wie die Schaltkreismuster 10 auf der zweiten Leiterplatte angeordnet.
  • Gemäß der Mehrlagenleiterplatte der vorliegenden Erfindung, wie oben beschrieben, werden die Anordnungen des Schaltkreismusters 10 jedes Mal nach drei Leiterplatten wiederholt, um schließlich eine Mehrlagenstruktur zu bilden.
  • Wenn die Anzahl von Verdrahtungsstellen, die in der Form eines Gebiets-Arrays angeordnet sind, nicht groß ist, können die Schaltkreismuster jedoch mit allen der Verdrahtungsstellen bis zu der vierten Leiterplatte verbunden werden. Das bedeutet, dass, wenn die Anzahl von Verdrahtungsstellen in neun Ringen vorliegt, wie aus der Beschreibung unter Bezugnahme auf 1 bis 4 verständlich, die Schaltkreismuster mit jeder Verdrahtungsstelle auf der vierten Leiterplatte verbunden werden können. Im Fall eines Produkts, bei dem die Elektroden (Verdrahtungsstellen) in einem Bereich mit quadratischer Form ausschließlich des Teils angeordnet sind, wo 30 × 30 Anschlussstifte an der äußeren Seite angeordnet sind und 12 × 12 Anschlussstifte an der inneren Seite angeordnet sind, können die Schaltkreismuster unter Verwendung der oben genannten Struktur mit vier Leiterplatten mit jeder Verdrahtungsstelle verbunden werden.
  • Wie oben beschrieben, kann die Mehrlagenleiterplatte gemäß der vorliegenden Erfindung insbesondere für eine Vorrichtung effektiv verwendet werden, die mit einer Anzahl von Verdrahtungsstellen befestigt ist, die nicht größer als neun Folgen sind.
  • Bei der Mehrlagenleiterplatte der vorliegenden Erfindung werden ferner die Schaltkreismuster 10 nach einander von der äußeren Seite gezogen, was einen Vorteil dahingehend bietet, die Reihenfolge beim Ziehen nicht stark zu ändern.
  • Außerdem kann beruhend auf einem relativ einfachen Verfahren, die Schaltkreismuster 10 anzuordnen, die Anzahl der Leiterplatten reduziert werden, was es möglich macht, eine Mehrlagenleiterplatte einfacher herzustellen, wobei ein verbessertes Ergebnis beibehalten wird, das die Herstellungskosten drückt, und daher eine sehr zuverlässige Mehrlagenleiterplatte innerhalb eines kurzen Zeitraums herzustellen.

Claims (3)

  1. Mehrlagenleiterplatte, die durch Laminieren einer Mehrzahl von Leiterplatten hergestellt ist, wobei jede Leiterplatte umfasst: ein Substrat mit einer Oberfläche; einer Mehrzahl von Verdrahtungsstellen (12) und/oder Durchkontaktierungen (14), die in der Form eines Gebiets-Arrays auf der Oberfläche des Substrats angeordnet sind; und Schaltkreismuster (10) auf der Oberfläche des Substrats, die jeweils ein Ende, das mit einer der Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen verbunden ist, und das andere Ende aufweisen, das sich über den Bereich hinaus erstreckt, wo die Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen in der Form des Gebiets-Arrays angeordnet sind; wobei ein Schaltkreismuster (10) zwischen zwei aufeinanderfolgend angeordneten, benachbarten Verdrahtungsstellen (12) und/oder Durchkontaktierungen (14) in dem Gebiets-Array untergebracht ist, und wobei vier Schaltkreismuster (10) zwischen zwei abwechselnd angeordneten benachbarten Verdrahtungsstellen (12) und/oder Durchkontaktierungen (14) in dem Gebiets-Array untergebracht sind, wo die dazwischen liegende Verdrahtungsstelle und/oder Durchkontaktierung fehlt; wobei: eine erste der Leiterplatten (1) eine Mehrzahl der Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen aufweist, die in Spalten- und Reihenrichtungen gleich beabstandet angeordnet sind, um ein Gebiets-Array zu bilden, das einer Anordnung von Elektroden an einer elektronischen Vorrichtung entspricht, die bei Verwendung auf der Leiterplatte befestigt ist, so dass Elektroden mit den entsprechenden Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen elektrisch verbunden sind; wobei die erste Leiterplatte Schaltkreismuster (10) aufweist, die mit allen Verdrahtungsstellen (12) und/oder Durchkontaktierungen (14) verbunden sind, die in einem ersten Ring positioniert sind, der den äußersten Umfang des Gebiets-Arrays bildet, und die mit ausgewählten Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen (12b, 12c, 14b, 14c) abwechselnd verbunden sind, die in den zweiten und dritten Ringen der Gebiets-Anordnung angeordnet sind; eine zweite der Leiterplatten (2) eine Mehrzahl der Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen aufweist, die in einem Gebiets-Array angeordnet sind, um den Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen der ersten Leiterplatte zu entsprechen, mit denen keine Schaltkreismuster der ersten Leiterplatte verbunden sind; wobei die zweite Leiterplatte Schaltkreismuster (10), die mit allen in dem zweiten Ring positionierten Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen (12b, 14b) verbunden sind, die den Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen der ersten Leiterplatte entsprechen, mit denen keine Schaltkreismuster auf der ersten Leiterplatte verbunden sind, und Schaltkreismuster (10) aufweist, die mit allen Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen verbunden sind, die in den vierten und fünften Ringen des Gebiets-Arrays positioniert sind; eine dritte der Leiterplatten (3) eine Mehrzahl der Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen aufweist, die so angeordnet sind, dass sie den Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen der zweiten Leiterplatte entsprechen, mit denen keine Schaltkreismuster der zweiten Leiterplatte verbunden sind; wobei die dritte Leiterplatte Schaltkreismuster (10), die mit allen in dem dritten Ring positionierten Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen verbunden sind, die Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen der ersten Leiterplatte entsprechen, mit denen keine Schaltkreismuster auf der ersten Leiterplatte verbunden sind, und Schaltkreismuster (10) aufweist, die mit allen Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen verbunden sind, die in den sechsten und siebten Ringen des Gebiets-Arrays positioniert sind.
  2. Mehrlagenleiterplatte nach Anspruch 1, ferner vierte, fünfte und sechste Leiterplatten aufweisend, wobei die vierten, fünften und sechsten Leiterplatten Schaltkreismuster aufweisen, die denjenigen der ersten, zweiten bzw. dritten Leiterplatten entsprechen, aber mit den achten bis vierzehnten Ringen des Gebiets-Arrays entsprechend verbunden sind.
  3. Merklagenleiterplatte nach Anspruch 1 oder 2, bei der eine Endleiterplatte (4) Schaltkreismuster (10) aufweist, die mit allen Verdrahtungsstellen und/oder Durchkontaktierungen (14h, 14i) verbunden sind, die in den innersten und vorletzten Ringen des Arraygebiets positioniert sind.
DE69831467T 1997-11-19 1998-11-18 Mehrschicht-Schaltungsplatte Expired - Fee Related DE69831467T2 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31831397 1997-11-19
JP31831397A JP3466443B2 (ja) 1997-11-19 1997-11-19 多層回路基板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69831467D1 DE69831467D1 (de) 2005-10-13
DE69831467T2 true DE69831467T2 (de) 2006-02-23

Family

ID=18097812

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69831467T Expired - Fee Related DE69831467T2 (de) 1997-11-19 1998-11-18 Mehrschicht-Schaltungsplatte

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6271478B1 (de)
EP (1) EP0921567B1 (de)
JP (1) JP3466443B2 (de)
KR (1) KR19990045494A (de)
DE (1) DE69831467T2 (de)

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000174153A (ja) 1998-12-01 2000-06-23 Shinko Electric Ind Co Ltd 多層配線基板
DE60039569D1 (de) * 1999-11-02 2008-09-04 Canon Kk Gedruckte Leiterplatte
US6538213B1 (en) * 2000-02-18 2003-03-25 International Business Machines Corporation High density design for organic chip carriers
JP3407025B2 (ja) 2000-06-08 2003-05-19 Necエレクトロニクス株式会社 半導体装置及びその製造方法
US7281326B1 (en) 2000-06-19 2007-10-16 Nortel Network Limited Technique for routing conductive traces between a plurality of electronic components of a multilayer signal routing device
US20040212103A1 (en) * 2000-06-19 2004-10-28 Herman Kwong Techniques for pin arrangements in circuit chips
US7069646B2 (en) * 2000-06-19 2006-07-04 Nortel Networks Limited Techniques for reducing the number of layers in a multilayer signal routing device
US7725860B1 (en) 2000-06-19 2010-05-25 Herman Kwong Contact mapping using channel routing
US7259336B2 (en) 2000-06-19 2007-08-21 Nortel Networks Limited Technique for improving power and ground flooding
US7107673B2 (en) * 2000-06-19 2006-09-19 Nortel Networks Limited Technique for accommodating electronic components on a multiplayer signal routing device
US6459039B1 (en) * 2000-06-19 2002-10-01 International Business Machines Corporation Method and apparatus to manufacture an electronic package with direct wiring pattern
US6388890B1 (en) * 2000-06-19 2002-05-14 Nortel Networks Limited Technique for reducing the number of layers in a multilayer circuit board
US6762366B1 (en) * 2001-04-27 2004-07-13 Lsi Logic Corporation Ball assignment for ball grid array package
US6384341B1 (en) * 2001-04-30 2002-05-07 Tyco Electronics Corporation Differential connector footprint for a multi-layer circuit board
US6664483B2 (en) * 2001-05-15 2003-12-16 Intel Corporation Electronic package with high density interconnect and associated methods
US7061116B2 (en) * 2001-09-26 2006-06-13 Intel Corporation Arrangement of vias in a substrate to support a ball grid array
US20030102159A1 (en) * 2001-12-04 2003-06-05 Loo Mike C. Optimum power and ground bump pad and bump patterns for flip chip packaging
EP1472730A4 (de) * 2002-01-16 2010-04-14 Mann Alfred E Found Scient Res Platzsparende kapselung elektronischer schaltungen
US6814463B2 (en) 2002-02-14 2004-11-09 Tektite Industries, Inc. LED flashlight and printed circuit board therefor
US7227254B2 (en) * 2002-04-02 2007-06-05 Agilent Technologies, Inc. Integrated circuit package
JP4559163B2 (ja) * 2004-08-31 2010-10-06 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置用パッケージ基板およびその製造方法と半導体装置
DE102004047753B4 (de) 2004-09-30 2009-01-02 Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale Verbesserte Chip-Kontaktierungsanordnung für Chip-Träger für Flip-Chip-Anwendungen
JP4860994B2 (ja) * 2005-12-06 2012-01-25 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
US7838778B1 (en) 2006-04-26 2010-11-23 Marvell Israel (M.I.S.L.) Ltd. Circuit board layout
US8053349B2 (en) * 2007-11-01 2011-11-08 Texas Instruments Incorporated BGA package with traces for plating pads under the chip
JP2009135147A (ja) * 2007-11-28 2009-06-18 Shinko Electric Ind Co Ltd 配線基板及び電子素子の接続構造及び電子装置
CN102097333B (zh) * 2010-11-01 2012-10-17 华为终端有限公司 电路板设计方法、电路板及电子设备
US9466578B2 (en) * 2013-12-20 2016-10-11 Qualcomm Incorporated Substrate comprising improved via pad placement in bump area
CN105513498B (zh) * 2016-02-04 2018-12-25 京东方科技集团股份有限公司 一种覆晶薄膜及显示装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4202007A (en) * 1978-06-23 1980-05-06 International Business Machines Corporation Multi-layer dielectric planar structure having an internal conductor pattern characterized with opposite terminations disposed at a common edge surface of the layers
US4782193A (en) * 1987-09-25 1988-11-01 Ibm Corp. Polygonal wiring for improved package performance
US4887148A (en) * 1988-07-15 1989-12-12 Advanced Micro Devices, Inc. Pin grid array package structure
US5467252A (en) * 1993-10-18 1995-11-14 Motorola, Inc. Method for plating using nested plating buses and semiconductor device having the same
US5650660A (en) * 1995-12-20 1997-07-22 Intel Corp Circuit pattern for a ball grid array integrated circuit package
JP3050807B2 (ja) * 1996-06-19 2000-06-12 イビデン株式会社 多層プリント配線板
US5812379A (en) * 1996-08-13 1998-09-22 Intel Corporation Small diameter ball grid array pad size for improved motherboard routing
JP2000100851A (ja) * 1998-09-25 2000-04-07 Sony Corp 半導体部品及びその製造方法、半導体部品の実装構造及びその実装方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR19990045494A (ko) 1999-06-25
JPH11150158A (ja) 1999-06-02
EP0921567A2 (de) 1999-06-09
DE69831467D1 (de) 2005-10-13
JP3466443B2 (ja) 2003-11-10
US6271478B1 (en) 2001-08-07
EP0921567B1 (de) 2005-09-07
EP0921567A3 (de) 2000-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69831467T2 (de) Mehrschicht-Schaltungsplatte
DE69831629T2 (de) Gitteranordnung der Elektroden auf einer Mehrlagenleiterplatte
DE102004045719B4 (de) Gedruckte-Schaltungsplatine-Testzugangspunktstrukturen und Verfahren zum Herstellen derselben
DE102008016133B4 (de) Leiterplatte und Verfahren zum Herstellen einer Leiterplatte
DE2247902A1 (de) Gedruckte schaltungsplatte und verfahren zu deren herstellung
DE2702844A1 (de) Verfahren zur herstellung einer vielschichtigen gedruckten schaltung
DE102009052546B4 (de) Halbleiterbauelement mit Bitleitungsstrukturen und Layout-Verfahren
DE3812021A1 (de) Flexible schaltung mit anschlussorganen und verfahren zu ihrer herstellung
DE2816857A1 (de) Gedruckte schaltung
EP0700630B1 (de) Folienleiterplatten und verfahren zu deren herstellung
EP0166105B1 (de) Flexible Leiterplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE19627663C2 (de) Hybride gedruckte Schaltungsplatine
DE112007002912T5 (de) Aktive Vorrichtungen enthaltende gedruckte Mehrschichtenschaltung und Herstellungsverfahren
DE102018204974A1 (de) Übertragungsleitung und Verfahren zur Herstellung derselben
DE69726190T2 (de) Verfahren zur anordnung von signal- und zielkontaktflächen zur realisierung mehrerer signal/ziel-verbindungskombinationen
DE3544539A1 (de) Halbleiteranordnung mit metallisierungsbahnen verschiedener staerke sowie verfahren zu deren herstellung
DE69833495T2 (de) Herstellungsvefahren für eine mehrschichtige leiterplatte
DE102011106648A1 (de) Tragbarer Datenträger mit Antenne
EP0710432B1 (de) Verfahren zur herstellung von folienleiterplatten oder halbzeugen für folienleiterplatten sowie nach dem verfahren hergestellte folienleiterplatten und halbzeuge
DE2303537A1 (de) Anschlusschiene und verfahren zu ihrer herstellung
DE69836860T2 (de) Hochfrequenz leiterplattenanordnung mit verbesserter signalübertragungsqualität
DE3810486C2 (de)
DE102020116233A1 (de) Schaltungsträger mit Anschlussflächenfeld und Verfahren zum Herstellen eines Anschlussflächenfelds auf einem Schaltungsträger
DE19943388B4 (de) Vorrichtung zum Prüfen von Leiterplatten
DE202007003815U1 (de) Leiterplatten-Mehrschichtaufbau

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee