DE69635725T2 - Verkleinerndes optisches Ringfeldsystem mit hoher numerischer Apertur - Google Patents

Verkleinerndes optisches Ringfeldsystem mit hoher numerischer Apertur Download PDF

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Description

  • SACHGEBIET DER ERFINDUNG
  • Diese Erfindung bezieht sich allgemein auf die Projektions-Fotolithografie, und, insbesondere, auf ein katoptrisches und katadioptrisches, optisches System zur Verwendung mit kurzen Wellenlängen in dem nahen und extremen Ultraviolett- und weichen Röntgenstrahlenbereich.
  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Bei der Herstellung von Halbleitervorrichtungen wird oftmals die Fotolithografie verwendet. Projektionsoptiken werden verwendet, um eine Maske oder ein Retikel auf einem Wafer abzubilden. Optische Systeme, die brechende Elemente verwenden, haben Auflösungen erreicht, die 0,25 Mikrometer annähern, mit Beleuchtungsquellen arbeitend, die Wellenlängen von 248 oder 193 Nanometern haben. Wenn das Element oder die Merkmal-Größe der Halbleitervorrichtungen kleiner wird, werden optische Projektionssysteme benötigt, die eine Auflösung geringer als 0,25 Mikrometer bereitstellen. Um die Merkmal-Größe zu verringern, die die optischen Projektionssysteme, die in der Fotolithografie verwendet werden, auflösen können, müssen kürzere Wellenlängen der elektromagnetischen Strahlung verwendet werden, um das Bild eines Retikels oder einer Maske auf ein fotoempfindliches Substrat zu projizieren, wie beispielsweise einen Halbleiterwafer. Da sehr wenige, brechende, optische Materialien in der Lage sind, eine ausreichende, elektromagnetische Strahlung unterhalb einer Wellenlänge von 193 Nanometern zu transmittieren, ist es notwendig, brechende Elemente in optischen Projektionssystemen, die bei Wellenlängen unterhalb von 193 Nanometern arbeiten, zu verringern oder zu beseitigen. Ein optisches System, das in dem tiefen Ultraviolettbereich des Spektrums verwendbar ist, ist in dem US-Patent 4,747,678 mit dem Titel „Optical Relay System with Magnification", herausgegeben für Shafer, et al., am 31. Mai 1988, offenbart, das hier unter Bezugnahme darauf eingeschlossen wird. Allerdings macht der Wunsch, noch kleinere Merkmale aufzulösen, optische Projektionssysteme notwendig, die bei extremen Ultraviolett-Wellenlängen, unterhalb von 200 Nanometern, bis zu Wellenlängen der weichen Röntgenstrahlung, ungefähr 13 Nanometern arbeiten. Während dabei verschiedene optische Pro jektionssysteme vorhanden sind, die innerhalb dieses Wellenlängenbereichs arbeiten, sind sie auf eine relativ geringe, nummerische Apertur von weniger als 0,1 an dem Bild oder dem Wafer begrenzt. Eine Erhöhung der nummerischen Apertur dieser Anordnungen wird zu nicht akzeptierbar großen, restlichen Aberrationen und einer Verdunklung der Lichtstrahlen durch die Kanten der Spiegel führen. Während diese optischen Projektionssysteme ausreichend für deren vorgesehenen Zweck arbeiten, ist ein Bedarf nach optischen Projektionssystemen vorhanden, die eine höhere nummerische Apertur für die Verwendung bei Wellenlängen in dem extremen Ultraviolett oder bei Wellenlängen von weichen Röntgenstrahlen haben, oder nach Auflösungen im Wesentlichen geringer als 0,1 Mikrometer oder Mikrons.
  • Die US 4,701,035 bezieht sich auf ein optisches Reflexionssystem. Diese Offenbarung beschreibt das optische Reflexionssystem, das zumindest ein Einkomponenten-Spiegelsystem, das dahingehend effektiv ist, ein Bild bei einer vergrößerten Vergrößerung zu bilden, mindestens ein Einkomponenten-Spiegelsystem, das für ein Bild bei einer verringerten Größe effektiv ist, und ein optisches System für ein sequenzielles und wiederholtes Bilden eines Bilds eines Objekts bei einer verringerten Gesamtvergrößerung umfasst.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Es wird ein optisches Verkleinerungssystem geschaffen, wie es in Anspruch 1 definiert ist.
  • Die Erfindung weist drei Spiegelpaare auf. Das erste Spiegelpaar umfasst einen Spiegel mit positiver Brechkraft, der eine Eingangspupille auf einen zweiten Spiegel des ersten Spiegelpaars abbildet, was einen zugänglichen Stop einer realen Apertur ergibt. Ein zweites Spiegelpaar nimmt elektromagnetische Strahlung von dem ersten Spiegelpaar auf und umfasst einen Spiegel mit positiver Brechkraft, der den Apertur-Stop zu einer zweiten, realen Pupille weiterführt und ein Zwischenbild bildet. Ein drittes Spiegelpaar nimmt elektromagnetische Strahlung von dem zweiten Spiegelpaar auf und umfasst einen Spiegel mit positiver Brechkraft, der die zweite, reale Pupille zu einer Ausgangspupille unendlich entfernt weiterführt und das Zwischenbild zu einem realen Endbild abbildet. Ein Sechs-Spiegel-Verkleinerungssystem mit einer relativ hohen, nummerischen Apertur wird dadurch erhalten, dass ein verkleinertes Bild eines Objekts, wie beispielsweise eines Retikels oder einer Maske, auf einem fotoempfindlichen Substrat, wie beispielsweise einem Halbleiterwafer, bereitstellt. Das zweite Spiegelpaar wirkt als ein Feldspiegelelement, das eine relativ hohe, nummerische Apertur mit einer guten oder akzeptierbaren Bildqualität ergibt. Alle sechs Spiegel können asphärisch sein, um die kleinstmöglichen Restaberrationen zu erhalten.
  • Dementsprechend ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein optisches Projektionssystem zur Verwendung mit Wellenlängen niedriger als ungefähr 200 Nanometern, und das eine relativ hohe, nummerische Apertur besitzt, zu schaffen.
  • Es ist eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die Auflösung zu erhöhen, was eine Abbildung von Merkmalen eines kleinsten Elements, so wie es in der Halbleiterherstellung erforderlich ist, zulässt.
  • Es ist ein Vorteil der vorliegenden Erfindung, dass das Objekt und das Bild für ein paralleles Abtasten eines Retikels und einer Waferstufe zugänglich sind, so wie dies in einer Schritt- bzw. Stufen- und Abtast-Fotolithografie verwendet wird.
  • Es ist ein anderer Vorteil der vorliegenden Erfindung, dass ein relativ großes Feld erhalten wird.
  • Es ist ein Merkmal der vorliegenden Erfindung, dass ein Apertur-Stop zugänglich ist.
  • Es ist ein weiteres Merkmal der vorliegenden Erfindung, dass ein Feldspiegelelement verwendet wird.
  • Diese und andere Aufgaben, Vorteile und Merkmale werden leicht im Hinblick auf die nachfolgende, detaillierte Beschreibung ersichtlich werden.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1 zeigt eine schematische Darstellung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung.
  • 2 zeigt eine schematische Darstellung einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung.
  • 3 zeigt eine schematische Darstellung einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
  • 1 stellt schematisch eine erste Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar. Das Licht von einem Retikel oder einer Maske 10 wird durch einen konkaven Spiegel M1 gesammelt. Die unterbrochene Linie 12 stellt die verlängerte Krümmung des Spiegels M1 dar. Der Spiegel M1 reflektiert elektromagnetische Strahlung zu dem konkaven Spiegel M2. Ein Apertur-Stop 14 ist an oder nahe dem Spiegel M2 positioniert. Eine Eingangspupille ist unter einem finiten Abstand von dem Retikel oder der Maske 10 positioniert und wird an dem Spiegel M2 durch den Spiegel M1 abgebildet. Elektromagnetische Strahlung wird von dem Spiegel M2 zu dem konkaven Spiegel M3 reflektiert. Die unterbrochene Linie 16 stellt die verlängerte Krümmung des konkaven Spiegels M3 dar. Elektromagnetische Strahlung von dem Spiegel M3 wird durch den konkaven Spiegel M4 aufgenommen und reflektiert. Die unterbrochene Linie 18 stellt die verlängerte Krümmung des konkaven Spiegels M4 dar. Elektromagnetische Strahlung wird von dem Spiegel M4 reflektiert und durch den konvexen Spiegel M5 aufgenommen. Die unterbrochene Linie 20 stellt die verlängerte Krümmung des konvexen Spiegels M5 dar. Elektromagnetische Strahlung wird von dem Spiegel M5 reflektiert und durch den konkaven Spiegel M6 aufgenommen und wird durch den konkaven Spiegel M6 zu einer Bildstelle an einem Wafer 22 reflektiert. Die verlängerten Krümmungen aller Spiegel M1–M6 sind im Wesentlichen rotationssymmetrisch um die optische Achse OA. Ein Zwischenbild 24 ist zwischen den Spiegeln M4 und M3 oder an einer Off-Axis-Stelle zwischen dem ersten Spiegelpaar, M1 und M2, und dem dritten Spiegelpaar, M5 und M6, gebildet. Dieses Zwischenbild wird wieder an dem Wafer 22 durch die Spiegel M4, M5 und M6 abgebildet. Das erste Spiegelpaar, M1 und M2, reflektiert elektromagnetische Strahlung zu einem zweiten Spiegelpaar, M3 und M4. Das zweite Spiegelpaar, M3 und M4, wirkt als ein Feldspiegelelement und nimmt den Hauptstrahl, der den Spiegel M2 verlässt, von der optischen Achse OA weg divergierend auf und wandelt ihn zu einem Hauptstrahl um, der zu der optischen Achse OA hin konvergiert, für eine Aufnahme durch ein drittes Spiegelpaar, M5 und M6. Dementsprechend kann ein Feldspiegelelement ein Spiegelpaar sein, das einen Hauptstrahl, der von der optischen Achse OA weg divergiert, zu einem Hauptstrahl umwandelt, der zu der optischen Achse OA hin konvergiert. In dieser ersten Ausführungsform sind die Restaberrationen klein genug, um die Verwendung einer Wellenlänge von ungefähr 13 Nanometern zuzulassen. Die nummerische Apertur in dem Bildraum nahe dem Wafer 22 in dieser ersten Ausführungsform beträgt ungefähr 0,25. Dies ergibt eine Arbeitsauflösung von 0,03 Mikrometern oder Mikron. Ein Feld eines ringförmigen Bilds mit einem Radius zwischen 29 und 31 Millimetern von der optischen Achse OA besitzt Aberrationen, einschließlich Verzerrungen, klein genug zur Verwendung in einem Stufen- und einem Abtast-Fotolithografiesystem mit einer Größe eines abgetasteten Felds von 30 Millimetern in der Querabtastrichtung. In dieser ersten Ausführungsform wird eine Verkleinerung von vier zu eins erhalten. Die Spiegel M1–M6 können sphärisch oder asphärisch sein und können durch irgendein herkömmliches Mittel hergestellt sein, einschließlich der Anordnung von Beschichtungen darauf, wie dies in dem US-Patent 5,153,898 mit dem Titel „X-Ray Reduction Projection Exposure System of Reflection Type", herausgegeben für Fukuda et al, am 06. Oktober 1992, offenbart ist, das hier unter Bezugnahme darauf eingeschlossen wird. Asphärische Spiegel können verwendet werden, um die kleinsten, möglichen Restaberrationen zu erhalten.
  • Die Konstruktionsdaten für das optische System, dargestellt in 1, gemäß der vorliegenden Erfindung, sind in Tabelle 1 nachfolgend angegeben.
  • Figure 00050001
  • In der vorstehenden Tabelle zeigt ein positiver Radius, dass die Mitte einer Krümmung nach rechts liegt, ein negativer Radius gibt an, dass die Mitte einer Krümmung nach links liegt, wobei die Dimensionen in Millimetern angegeben sind, die Dicke ein axialer Abstand zu der nächsten Oberfläche ist und der Bilddurchmesser, der darüber dargestellt ist, ein paraaxialer Wert ist und nicht ein Ray-Traced-Wert ist.
  • Zusätzlich sind asphärische Konstanten durch die Gleichung und die Tabelle 1A nachfolgend angegeben.
  • Figure 00060001
  • 2 stellt eine zweite Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar. In dieser Ausführungsform ist die Eingangspupille bei unendlich, was zu einem System führt, das telezentrisch an dem Retikel 10 ist. Elektromagnetische Strahlung von dem Retikel 10 wird durch den konkaven Spiegel M1' gesammelt und zu einem konvexen Spiegel M2' reflektiert. Eine unterbrochene Linie 12' stellt die verlängerte Krümmung des Spiegels M1' dar. Spiegel M1' und M2' bilden ein erstes Spiegelpaar. Elektromagnetische Strahlung, reflektiert von dem konvexen Spiegel M2', wird durch den konkaven Spiegel M3' gesammelt. Eine unterbrochene Linie 16' stellt die verlängerte Krümmung des Spiegels M3' dar. Elektromagnetische Strahlung wird von dem Spiegel M3' zu dem konkaven Spiegel M4' reflektiert. Die unterbrochene Linie 18' stellt die verlängerte Krümmung des Spiegels M4' dar. Die Spiegel M3' und M4' bilden ein zweites Spiegelpaar, das als ein Feldspiegelelement wirkt. Elektromagnetische Strahlung wird von dem Spiegel M4' reflektiert und wird durch den konvexen Spiegel M5' gesammelt. Eine unterbrochene Linie 20' stellt die verlängerte Krümmung des Spiegels M5' dar. Elektromagnetische Strahlung wird von dem Spiegel M5' reflektiert und durch einen Spiegel M6' gesammelt. Die Spiegel M5' und M6' bilden ein drittes Spiegelpaar. Die elektromagnetische Strahlung, reflektiert von dem konkaven Spiegel M6', wird an einem Wafer 22 abgebildet. Alle Spiegel M1'–M6' sind rotationssymmetrisch um die optische Achse OA herum. Das Feldspiegelelement-Spiegelpaar M4' und M3' bildet eine Zwischenbildebene 24' nach dem Spiegel M4' und nahe zu dem Spiegel M6' oder an einer Off-Axis-Stelle zwischen den Spiegeln des dritten Spiegelpaars M5' und M6'. Dies ist bei hohen, nummerischen Aperturen vorteilhaft, um die Größe des elektromagnetischen Strahlungsstrahls zu minimieren, um von der Kante des Spiegels M6' frei zu sein. Das dritte Spiegelpaar, die Spiegel M5' und M6', bilden das Bild wieder an der Zwischenbildebene 24' zu einem Endbild an dem Wafer 22 ab. In dieser zweiten Ausführungsform ist der Bildraum telezentrisch, das bedeutet, dass die Ausgangspupille bei unendlich liegt. Diese zweite Ausführungsform besitzt ein Verkleinerungsverhältnis von vier zu eins, und die nummerische Apertur in dem Bildraum nahe dem Wafer 22 beträgt 0,55. Bei dieser relativ hohen nummerischen Apertur sind die restlichen Aberrationen klein genug, so dass das optische Projektionssystem bei Wellenlängen von ungefähr 193 Nanometer verwendet werden kann. Dies ermöglicht eine Arbeitsauflösung von 0,25 Mikron oder Mikrometern. Ein ringförmiges Feld, gebildet zwischen einem Radius von 29,5 und 30,5 Millimetern, von der optischen Achse OA an dem Wafer 22, ist ausreichend zur Verwendung in einem Stufen- und Abtastlithografiesystem mit einer Feldgröße von 30 Millimetern in der Querabtastrichtung.
  • Die Konstruktionsdaten für das optische System, dargestellt in 2, gemäß der vorliegenden Erfindung, sind in Tabelle 2 nachfolgend angegeben.
  • Figure 00080001
  • In der vorstehenden Tabelle zeigt ein positiver Radius, dass die Mitte einer Krümmung nach rechts liegt, ein negativer Radius gibt an, dass die Mitte einer Krümmung nach links liegt, wobei die Dimensionen in Millimetern angegeben sind, die Dicke ein axialer Abstand zu der nächsten Oberfläche ist und der Bilddurchmesser, der darüber dargestellt ist, ein paraaxialer Wert ist und nicht ein Ray-Traced-Wert ist.
  • Zusätzlich sind asphärische Konstanten durch die Gleichung und die Tabelle 2A nachfolgend angegeben.
  • Figure 00090001
  • 3 stellt eine dritte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar. Diese dritte Ausführungsform stellt ein katadioptrisches System dar. Elektromagnetische Strahlung von dem Retikel 10 wird durch ein erstes Linsenelement R1 gebrochen. Die elektromagnetische Strahlung wird dann durch einen konkaven Spiegel M1'' gesammelt und zu einem zweiten Linsenelement R2 reflektiert. Das Linsenelement R2 befindet sich nahe oder angrenzend an den konvexen Spiegel M2''. Die Spiegel M1'' und M2'' bilden ein erstes Spiegelpaar. Eine unterbrochene Linie 12'' stellt die verlängerte Krümmung des Spiegels M1'' dar. Elektromagnetische Strahlung wird von dem Spiegel M2'' reflektiert und durch den Spiegel M3'' gesammelt. Eine unterbrochene Linie 16'' stellt die Krümmung des konkaven Spiegels M3'' dar. Elektromagnetische Strahlung wird von dem Spiegel M3'' reflektiert und wird durch den konkaven Spiegel M4'' gesammelt. Die unterbrochene Linie 18'' stellt die Krümmung des Spiegels M4'' dar. Die Spiegel M3'' und M4'' bilden ein zweites Spiegelpaar. Elektromagnetische Strahlung, reflektiert von dem Spiegel M4'', wird durch den konvexen Spiegel M5'' gesammelt. Elektromagnetische Strahlung, reflektiert von dem Spiegel M5'', wird durch den konkaven Spiegel M6'' gesammelt. Die Spiegel M5'' und M6'' bilden ein drittes Spiegelpaar. Elektromagnetische Strahlung, reflektiert von dem Spiegel M6'', wird zu einem Linsenelement R3 gerichtet und wird dann an einer Bildebene an dem Wafer 22 abgebildet. Das zweite Spiegelpaar, die Spiegel M3'' und M4'', bilden ein Feldspiegelelement, das eine Zwischenbildebene 24'' zwischen den Spiegeln M6'' und M3'' bereitstellt. Das dritte Spiegelpaar M5'' und M6'' bildet wieder die Zwischenbildebene 24'' an dem Wafer 22 ab. Alle Spiegel M1''–M6'' und die brechenden Linsenelemente R1–R3 sind rotationssymmetrisch um die optische Achse OA herum. Die Linsenelemente R1–R3 sind brechende Elemente, die Rest-Aberrationen verringern, was einen Betrieb bei einer höheren nummerischen Apertur in dem Bildraum nahe dem Wafer 22 ermöglicht. In dieser dritten Ausführungsform hat die nummerische Apertur an dem Bildraum nahe dem Wafer 22 den Wert 0,6. Ein ringförmiges Feld, das einen Radius zwischen 29 und 31 Millimetern von der optischen Achse OA besitzt, ist so gebildet, dass es komfortabel Merkmale mit 0,225 Mikron unter Verwendung von elektromagnetischer Strahlung bei einer Wellenlänge von 193 Nanometern auflösen kann. In dieser dritten Ausführungsform können Merkmal-Größen von 0,18 Mikron mit den geeigneten Retikeln, Beleuchtungsbedingungen und einem Fotoresist erreicht werden. Ein Vorteil dieser dritten, katadioptrischen Ausführungsform ist derjenige, dass das erste Linsenelement R1 auch als ein Dichtfenster dienen kann, falls dies erwünscht ist. Dies ist dann wünschenswert, wenn das System in einer gereinigten Umgebung verwendet wird. Das Linsenelement R1 kann zusätzlich axial entlang der optischen Achse OA bewegt werden, um Feineinstellungen in Bezug auf die Systemvergrößerung vorzunehmen. Während der Spiegel M1'' für Feineinstellungen in Bezug auf eine Vergrößerung verwendet werden könnte, ist Spiegel M1'' viel empfindlicher in Bezug auf Ausrichtungsfehler während einer axialen Bewegung. Das Linsenelement R3 kann auch als ein Dichtfenster verwendet werden. Zusätzlich kann das Linsenelement R3 als ein Substrat dienen, auf dem der Spiegel M5'' gebildet werden kann. Das Linsenele ment R3 kann eine asphärische, zweite Oberfläche haben, primär dazu, um restliche Verzerrungsfehler zu reduzieren. Hierdurch ermöglicht die zweite Oberfläche des Linsenelements R3, dass eine breitere, ringförmige Feldbreite verwendet werden kann. Das Linsenelement R2 wird primär dazu verwendet, die chromatische Variation in Bezug auf einen Fokus, eingeführt durch die brechenden Linsenelemente R1 und R3, zu korrigieren. Eine chromatische Variation der Vergrößerung wird durch Ausbalancieren der Beiträge von den Linsenelementen R1 und R3 korrigiert. Eine chromatische Korrektur ist gut genug in dieser Ausführungsform, um die Verwendung einer nicht verkleinerten Excimer-Laserquelle zu ermöglichen, die bei 193 oder 248 Nanometern arbeitet, oder auch eine gefilterte Quecksilberlampe, die bei 248 Nanometern arbeitet. Das optische Projektionssystem dieser dritten Ausführungsform ist so ausgelegt, um bei einem Verkleinerungsverhältnis von vier zu eins zu arbeiten.
  • Die Konstruktionsdaten für das optische System, dargestellt in 3, gemäß der vorliegenden Erfindung, sind in Tabelle 3 nachfolgend angegeben.
  • Figure 00120001
  • In der vorstehenden Tabelle zeigt ein positiver Radius, dass die Mitte einer Krümmung nach rechts liegt, ein negativer Radius gibt an, dass die Mitte einer Krümmung nach links liegt, wobei die Dimensionen in Millimetern angegeben sind, die Dicke ein axialer Abstand zu der nächsten Oberfläche ist und der Bilddurchmesser, der darüber dargestellt ist, ein paraaxialer Wert ist und nicht ein Ray-Traced-Wert ist.
  • Zusätzlich sind asphärische Konstanten durch die Gleichung und die Tabelle 3A nachfolgend angegeben.
  • Figure 00130001
  • Dementsprechend erhöht die vorliegende Erfindung, durch Verwendung von drei Spiegelpaaren, wobei das zweite Spiegelpaar ein Feldspiegelelement ist, stark die nummerische Apertur, die in einem optischen Projektionsverkleinerungssystem vorhanden ist, zur Verwendung in Verbindung mit elektromagnetischer Strahlung bei Wellenlängen unterhalb von ungefähr 200 Nanometern. Dies verringert stark die Feldgröße ebenso wie dies die notwendige Auflösung beibehält, was eine praktische Anwendung bei der Herstellung von Halbleitervorrichtungen zulässt, die Merkmale kleiner als 0,25 Mikron haben.
  • Zusätzlich wird, obwohl die bevorzugte Ausführungsform dargestellt und beschrieben worden ist, für Fachleute auf dem betreffenden Fachgebiet ersichtlich werden, dass verschiedene Modifikationen vorgenommen werden können, ohne den Schutzumfang dieser Erfindung zu verlassen.

Claims (16)

  1. Optisches Verkleinerungssystem zum Einsatz in der Fotolithografie vom langen konjugierten Ende zum kurzen konjugierten Ende, das umfasst: ein erstes Spiegelpaar (M1'', M2''); ein zweites Spiegelpaar (M3'', M4''), das so angeordnet ist, dass es von dem ersten Spiegelpaar (M1'', M2'') reflektierte elektromagnetische Strahlung empfängt; ein drittes Spiegelpaar (M5'', M6''), das so angeordnet ist, dass es von dem zweiten Spiegelpaar (M3'', M4'') reflektierte elektromagnetische Strahlung empfängt; ein erstes brechendes Element (R1), das zwischen einem Objekt und dem ersten Spiegelpaar (M1'', M2'') angeordnet ist; ein zweites brechendes Element (R2), das an oder nahe an einem zweiten Spiegel (M2'') des ersten Spiegelpaars (M1'', M2'') angeordnet ist; und ein drittes brechendes Element (R3), das zwischen einem Bild und dem dritten Spiegelpaar (M5'', M6'') angeordnet ist.
  2. Optisches Verkleinerungssystem nach Anspruch 1, wobei ein Zwischenbild (24, 24', 24'') an einer außeraxialen Position zwischen dem ersten Spiegelpaar (M1, M2; M1', M2'; M1'', M2'') und dem dritten Spiegelpaar (M5, M6; M5', M6', M5'', M6'') erzeugt wird.
  3. Optisches Verkleinerungssystem nach Anspruch 1, wobei das Zwischenbild (24, 24', 24'') an einer außeraxialen Position zwischen Spiegeln des dritten Spiegelpaars (M5, M6; M5', M6', M5'', M6'') erzeugt wird.
  4. Optisches Verkleinerungssystem nach Anspruch 1, wobei eine Aperturblende (14) an oder nahe an einem Spiegel des ersten Spiegelpaars (M1, M2; M1', M2'; M1'', M2'') ausgebildet ist.
  5. Optisches Verkleinerungssystem nach Anspruch 1, wobei das erste Spiegelpaar (M1, M2; M1', M2'; M1'', M2''), das zweite Spiegelpaar (M3, M4; M3', M4; M3'', M4'') und das dritte Spiegelpaar (M5, M6; M5', M6', M5'', M6'') asphärisch sind.
  6. Optisches Verkleinerungssystem nach Anspruch 1, wobei das erste brechende Element (R1) axial entlang einer optischen Achse (OA) bewegt werden kann.
  7. Optisches Verkleinerungssystem nach Anspruch 1, wobei chromatische Abweichung des Brennpunktes, die durch das erste brechende Element (R1) und das dritte brechende Element (R3) verursacht wird, im Wesentlichen durch das zweite brechende Element (R2) korrigiert wird.
  8. Optisches Verkleinerungssystem nach Anspruch 1, wobei chromatische Abweichung der Vergrößerung im Wesentlichen durch ausgleichende Beiträge chromatischer Abweichung der Vergrößerung von dem ersten brechenden Element (R1) und dem dritten brechenden Element (R3) korrigiert wird.
  9. Optisches Verkleinerungssystem nach Anspruch 1, wobei das zweite Spiegelpaar (M3, M4; M3', M4', M3'', M4'') so angeordnet ist, dass es einen von dem ersten Spiegelpaar (M1, M2; M1', M2'; M1'', M2'') reflektierten Hauptstrahl empfängt, der von einer optischen Achse (OA) weg divergiert, und ihn in einen Hauptstrahl umwandelt, der zu der optischen Achse (OA) hin konvergiert; und das dritte Spiegelpaar (M5, M6; M5', M6', M5'', M6'') so angeordnet ist, dass es den von dem zweiten Spiegelpaar (M3, M4; M3', M4', M3'', M4'') reflektierten Hauptstrahl empfängt, so dass ein verkleinertes Bild eines Objektes erzeugt wird.
  10. Optisches Verkleinerungssystem nach Anspruch 1, wobei das erste Spiegelpaar (M1, M2; M1', M2'; M1'', M2'') einen ersten, konkaven Spiegel (M1, M1', M1'') und einen zweiten Spiegel (M2, M2', M2'') umfasst; das zweite Spiegelpaar (M3, M4; M3', M4', M3'', M4'') einen dritten, konkaven Spiegel (M3, M3', M3'') und einen vierten, konkaven Spiegel (M4, M4', M4'') umfasst; und das dritte Spiegelpaar (M5, M6; M5', M6', M5'', M6'') einen fünften, konvexen Spiegel (M5, M5', M5'') und einen sechsten, konkaven Spiegel (M6, M6', M6'') umfasst.
  11. Optisches Verkleinerungssystem nach Anspruch 10, wobei der zweite Spiegel (M2; M2; M2'') konkav ist.
  12. Optisches Verkleinerungssystem nach Anspruch 10, wobei der zweite Spiegel (M2; M2'; M2'') konvex ist.
  13. Optisches Verkleinerungssystem nach Anspruch 1, wobei eine Aperturblende (14) an oder nahe an dem zweiten Spiegel (M2) ausgebildet ist.
  14. Optisches Verkleinerungssystem nach Anspruch 1, wobei die elektromagnetische Strahlung eine Wellenlänge von weniger 200 nm hat.
  15. Optisches Verkleinerungssystem nach Anspruch 14, wobei das Zwischenbild zwischen Spiegeln des zweiten Spiegelpaars (M3, M4; M3', M4', M3'', M4'') erzeugt wird.
  16. Optisches Verkleinerungssystem nach Anspruch 14, wobei das Zwischenbild zwischen Spiegeln des dritten Spiegelpaars (M5, M6; M5', M6', M5'', M6'') erzeugt wird.
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