CN102341738B - 成像光学部件以及具有该类型成像光学部件的用于微光刻的投射曝光装置 - Google Patents

成像光学部件以及具有该类型成像光学部件的用于微光刻的投射曝光装置 Download PDF

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Abstract

成像光学部件(7)具有至少6个反射镜(M1至M8)，该六个反射镜将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)。该成像光学部件(7)的入瞳布置在该物场(4)前面的成像光束路径中。该反射镜(M7、M8)中的至少一个具有用于成像光(3)通过的通孔(19)。机械可达的光瞳位于该物场(4)与通孔(19)中的第一者之间的成像光束路径中的光瞳平面(17)中，在该机械可达的光瞳中布置有用于对成像光学部件(7)的光瞳进行中心遮拦的遮挡光阑(20)。在该物场(4)后的成像光束路径中直接在第二反射镜(M2)之后的第一成像部分光束(24)与在该物场(4)后的成像光束路径中直接在第四反射镜(M4)之后的第二成像部分光束(25)在交叉区域(26)中彼此相交。结果是一成像光学部件，在该成像光学部件中实现关于成像光的小成像误差的可处理组合、可管理的生产以及好的光通过率。

Description

成像光学部件以及具有该类型成像光学部件的用于微光刻的投射曝光装置
技术领域
本发明涉及具有多个反射镜的成像光学部件，该成像光学部件将物平面中的物场成像到像平面中的像场。此外，本发明涉及具有该类型成像光学部件的投射曝光装置、利用该类型投射曝光装置产生微结构化或纳结构化元件的方法以及通过该方法产生的微结构化或纳结构化元件。
背景技术
从US2006/0232867A1、US2008/0118849A1和US6,750,948B2中可以得知开始所提及的类型的成像光学部件的实施例。
发明内容
本发明的一个目的在于开发在开始所提及的类型的成像光学部件，以这样一种方式实现关于成像光的小成像误差的可操纵组合、可管理生产以及好的光通过率(throughput)。
根据本发明，通过具有下述所披露的特征的成像光学部件实现该目的。该成像光学部件具有至少六个反射镜，该成像光学部件将物平面中的物场成像到像平面中的像场。从物场彼此相隔的点发出的主光线具有相互发散的光束路线，该反射镜中的至少一个具有用于成像光通过的通孔。在该物场与该通孔的第一者之间的成像光束路径中设置有光瞳，该成像光通过该光瞳一次，以及在该光瞳中布置有用于对该成像光学部件的入瞳进行中心遮拦的遮挡光阑。在该物场后的成像光束路径中直接在第二反射镜之后的第一成像部分光束与在该物场后的成像光束路径中直接在第四反射镜之后的第二成像部分光束在交叉区域中彼此相交。
两个成像部分光束的交叉区域提供在成像光束路径中第三反射镜和第四反射镜的区域中紧密光束路线(beamcourse)的可能性。而后，可以在交叉区域前的光束路径中提供自由安装空间。在成像光束路径的该部分中(成像光束路径的该部分由于与其他成像部分光束隔开而是自由的)，在光瞳平面中可以布置有机械可达的且被经过一次的光瞳，因此无遮蔽或基本上无其他部分光束的遮蔽的遮挡光阑是可行的，并因而是无渐晕的。成像光学部件的光瞳通常用来表示限制成像光束路径的孔径光阑的所有像。这些像落在其中的平面称作为光瞳平面。然而，由于孔径光阑的像不总为精确的平面，所以就一般性而言，近似相应于这些像的平面也被称为光瞳平面。孔径光阑本身的平面被称作光瞳平面。如果孔径光阑不是平面，如孔径光阑的像中一样，则最大程度上对应于孔径光阑的平面称作为光瞳平面。
成像光学部件的入瞳用来表示如果通过位于物平面和孔径光阑之间的成像光学部件的部分来成像孔径光阑而产生的孔径光阑的像。相应地，出瞳用来表示如果通过位于像平面和孔径光阑之间的成像光学部件的部分来成像孔径光阑而则产生的孔径光阑的像。
如果入瞳是孔径光阑的虚像，换言之，如果入瞳平面位于物场之前，则称为入瞳的负后焦点。在该情况中，主光线延展至所有物场点，如同它们来自成像光束路径前端的一点。到每一物点的主光线或主要光束被定义为物点与入瞳的中心点之间的连接光束。在入瞳的负后焦点的情况中，到所有物点的主光线因而在物场处具有发散的光束路线(beamcourse)。
如果自光瞳内相关联的物点发出的所有光线不能够到达像元件，则在该像元件处有被遮拦(shaded)或被遮挡(obscured)的入瞳。因而，在出瞳内有一区域，来自该像元件的光束都不能到达该区域。该区域也称作为光瞳遮拦。
光瞳的替代定义为成像光学部件的成像光束路径中的那个区域，在该区域中自物场点发出的多个单独光束相交，相对于自这些物场点发出的主光线，该自物场点发出的单独光束在每一情况中与同一照明角相关联。该平面可以被称作光瞳平面，根据替代光瞳定义，多个单独光束的交叉点位于光瞳平面中，或者光瞳平面最接近这些交叉点的空间分布，这些交叉点不是必须精确位于一个平面中。
如果可以通过与光瞳相关联的光瞳平面中的光阑结构，从部分上和/或在边缘处遮挡和/或限定该光瞳，而在其他方面不影响光束，则该光瞳是机械可达的、无渐晕的。布置在物场前面的成像光束路径中的(换言之，布置在物场和像场之间的成像光束路径之外的)入瞳提供了利用仅具有数个部件的照明光学部件来照明成像光学部件的物场的可能性，该照明光学部件有助于最小化成像光损失。围绕机械可达的光瞳的自由安装空间可以具有一绕光瞳孔径的范围，该范围是机械可达的光瞳直径(换言之，自由孔径的直径)的0.25倍、0.5倍、0.75倍或1.0倍。
在根据本发明的机械可达的光瞳中可以有甚至更大的安装空间。
该成像光学部件精确地具有8个反射镜。根据上述的成像光学部件允许小成像误差的尤其有利的组合、可管理生产和好的成像光通过率。
在具有该被经过一次的光瞳的光瞳平面中还布置有孔径光阑，用于预先确定该成像光学部件的光瞳的外侧形式。通过上述的孔径光阑的布置，不仅能够预先确定光瞳遮拦，还能够预先确定被经过一次的光瞳或机械可达的光瞳的外侧形式(outerform)。遮拦光阑(obscurationstop)和孔径光阑可以是布置在机械可达的光瞳的区域中的恰好一个光阑单元的光阑区域。
具有该被经过一次的光瞳的该光瞳平面布置在该物场后的成像光束路径中该第二与该第三反射镜之间。被经过一次的光瞳或根据上述的机械可达的光瞳导致能够尤其好的机械可达的光瞳的可能性。
该成像光束路径中的第四反射镜相比，该成像光束路径中的第二反射镜距离该物平面较远。根据上述的布置提供第二反射镜和物场之间的安装空间，该安装空间能够例如用于照明物场的照明光学部件的组件的布置。
该物场和该像场之间的成像光束路径中有两个中间像平面。根据上述的两个中间像平面可以布置在成像光束路径的区域中，在该成像光束路径中，具有相对小的直径的成像光光束是决定性的。
该第一中间像平面布置在成像光束路径中该第二反射镜与该第三反射镜之间。该第二中间像平面布置在成像光束路径中该第六反射镜和第七反射镜之间。根据上述的中间像平面的布置已经被证明尤其适合用于成像光的紧致引导。第一中间像平面可以位于成像光束的区域中，在该区域中引导成像光通过成像光学部件的反射镜中的一者。第二中间像平面可以布置在用于成像光通过的反射镜中的一者的通孔的区域中。
在该光瞳平面中，中心光瞳遮拦至多为该成像光的光束直径的30％。根据上述的中心光瞳遮拦仅导致光瞳中心区域中成像光的光通过率的小损失。中心光瞳遮拦可以是机械可达的光瞳中成像光的光束直径的至多24％或至多23％。
最大波前误差为70mλ。最大畸变为10nm。根据上述的成像参数导致有利地精确成像。最大波前误差可以是50mλ以及可以是20mλ，在每种情况中λ标明成像光的波长。
第一部分物镜仅由不具有用于该成像光(3)通过的通孔的反射镜(M1至M2)构成，以及第二部分物镜具有至少一个反射镜(M7、M8)，该反射镜(M7、M8)具有用于该成像光(3)通过的通孔(19)。根据上述的将成像光学部件分成非遮拦部分和遮拦部分物镜系统简化了成像光学部件的设计。
该成像光学部件配置为反射光学系统。根据上述的反射成像光学部件避免了颜色成像误差。
当将成像光学部件用作投射光学部件以及具有上述的投射光学部件和用于将照明光引导到该成像光学部件的物场的照明光学部件的光学系统内使用成像光学部件时，该成像光学部件的优势尤为脱颖而出。
根据本发明的投射曝光装置的优点对应于那些在上面所列出的与根据本发明的成像光学部件有关的优点。投射曝光装置的光源可以是宽带以及可以例如具有大于1nm、大于10nm或大于100nm的带宽。此外，投射曝光装置能够配置为使其能够使用不同波长的光源来工作。用于其他波长的、具体地用于微光刻的光源能够与根据本发明的成像光学部件结合使用，例如具有波长365nm、248nm、193nm、157nm、126nm、109nm的光源，尤其具有小于100nm的(例如在5nm和30nm之间)的波长的光源。
投射曝光装置的光源可以配置来产生具有5nm与30nm之间的波长的照明光。该类型的光源需要反射镜上的反射涂层，为了满足最小的反射率、所述反射镜仅具有小入射角可接受带宽。与根据本发明的成像光学部件一起，能够满足该小入射角可接受带宽的要求。
相应的优点适用于根据本发明的生产方法和从而产生出的微结构化元件。
附图说明
下面，将借助附图更详细地描述本发明的实施例。
图1示意性地示出用于EUV微光刻的投射曝光装置；
图2示出成像光学部件的配置，该成像光学部件能够在根据图1的投射曝光装置中用作投射物镜，对于三个所选的场点的主光线(虚拟地)以及上和下彗束示出成像光学部件路径；
图3示出根据图2的成像光学部件，其中关于多个单独光束示出真实成像光束路径；
图4在类似于图2的示图中示出成像光学部件的另一配置，该成像光学部件能够在根据图1的投射曝光装置中用作投射物镜；以及
图5在类似于图3的示图中示出根据图4的成像光学部件。
具体实施方式
用于微光刻的投射曝光装置1具有用于照明光或成像光3的光源2。光源2为EUV光源，其产生波长范围在例如5nm至30nm之间、具体5nm至15nm之间的光。具体地，光源2可以是波长为6.9nm的光源，或者可以是中心波长为13.5nm的光源。其他的EUV波长也是可能的。通常，例如可见波长或能够用在微光刻中并且对于适当的激光光源和/或LED光源(例如365nm、248nm、193nm、157nm、129nm、109nm)是可获得的其他波长甚至都可能用于在投射曝光装置1中引导的照明光3。照明光3的光束路径在图1中被高度示意地示出。
照明光学部件6用于将来自光源2的照明光3朝向物平面5中的物场4引导。利用投射光学部件或成像光学部件7，物场4以预先确定的缩小比例被成像到像平面9中的像场8。像场8在x方向上具有13mm的长度且在y方向上具有1mm的长度。图2中所示的实施例之一能够用于投射光学部件7。根据图2的投射光学部件7缩小8倍。其他缩小比例也是可行的，例如4倍、5倍或其他大于8倍的缩小比例。具体地，对于具有EUV波长的照明光3而言，8倍的成像比例是适当的，因为反射掩模10上物方的入射角能够因而保持较小。8倍的成像比例也不会产生使用非必要大的掩模的需要。在根据图2的配置中，投射光学部件7中的像平面9与物平面5平行布置。与物场4相一致的反射掩模10的细节在此被成像，和该反射掩模也称作掩模母版。
通过投射光学部件7进行的成像发生在晶片形式的基底11的表面上，该基底11由基底台12承载。在图1中示意性地示出在掩模母版10和投射光学部件7之间传播的照明光3的光束13，以及在投射光学部件7和基底11之间的自投射光学部件7发出的照明光3的光束14。在根据图2的配置中，投射光学部件7的像方上的数值孔径为0.50。图1中未按比例描绘。
为了便于描述投射曝光装置1和投射光学部件7的多种配置，在图中给出笛卡尔xyz坐标系，根据该笛卡尔xyz坐标系，得到图中所示的元件的各自位置关系。图1中，x方向垂直于绘图平面伸展并进入到绘图平面。Y方向向右延展以及z方向向下延展。
投影曝光装置1是扫描曝光机类型的投影曝光装置。在投射曝光装置1的工作期间在y方向上扫描掩模母版10和基底11两者。步进曝光机类型的投射曝光装置1也是可行的，在步进曝光机类型的投射曝光装置1中在基底11的各次曝光之间在y方向上发生掩模母版10和基底11的逐步位移。
图2和图3示出投射光学部件7的第一实施例的光学设计。图2中示出来自图2中在y方向上彼此分开的五个物场点的三条各自单独光束15的光束路径。属于这5个物场点中的一个物场点的三条单独光束15在每个情况中与两个物场点的三个不同照明方向相关联。仅出于图示的理由而在图2中画出延展经过投射光学部件7的光瞳平面17的中心的主光线或主光束16，因为这些主光线或主光束由于中心光瞳遮拦并非真实，而是投射光学部件7的虚拟成像光束路径。从物平面5开始，这些主光线16首先发散传播。这在下面也称作投射光学部件7的入瞳的负后焦点。根据图2和图3的投射光学部件7的入瞳没有位于投射光学部件7内，而是位于物平面5前面的光学路径中。这使得可以，例如，将照明光学部件6的光瞳部件布置在投射光学部件7前面的光束路径中的投射光学部件7的入瞳中，而在该光瞳部件和物平面5之间不用必须存在另外的成像光学部件。在例如将照明光学部件6的光瞳部件布置在投射光学部件7的入瞳中而没有中间成像光学部件的情况下，仅用作偏转光束的反射镜(例如用于掠入射角的反射镜)也可以布置在光瞳部件和物平面5之间，。
根据图2和图3的投射光学部件7总共具有8个反射镜，它们按照从物场4开始的单独光束15的光束路径的顺序连续编号为M1至M8。图2和图3示出反射镜M1至M8的经计算的反射面。如在图2的示图中所见，仅使用这些经计算的反射面的小区域。在真实的反射镜M1至M8中仅存在反射面的该真正使用的区域。这些有用反射面通过反射镜体以公知方式承载。
下面，借助两个表格示出根据图2和图3的投射光学部件7的光学数据。第一表在栏“半径”中示出反射镜M1至M8的各自曲率半径。第三栏“厚度”描述每一种情况中从物平面5开始，在z方向上随后表面的距离。
第二表描述反射镜M1至M8的反射面的精确表面形式，其中常数K和A至G将插入到关于矢高z的下列等式中：
z ( h ) = ch 2 1 + SQRT { 1 - ( 1 + K ) c 2 h 2 } + Ah 4 + Bh 6 + Ch 8 + Dh 10 + Eh 12 + Fh 14 + Gh 16
其中，h为距离投射光学部件7的光轴18的距离。适用h2＝x2+y2。对于c插入“半径”的倒数值。
表1
面 半径(1/c) 厚度 处理方式
物平面 无穷大 543.757
M1 -449.236 -211.269 REFL
M2 -381.481 71.127 REFL
光阑 无穷大 678.094
M3 -1293.655 878.647 REFL
M4 2575.518 1103.024 REFL
M5 340.443 577.829 REFL
M6 659.115 1250.269 REFL
M7 2394.266 642.054 REFL
M8 817.414 663.527 REFL
像平面 无穷大 0.000
表2
物场4和像场8布置为绕光轴18的环段形。反射镜M1至M4以近似环段形的方式及关于光轴18离轴使用。因此，反射镜M1至M4的所使用的光学反射面远离光轴18。物场4和像场8从光轴18分开布置。依照上述关于矢高的等式，全部反射镜M1至M8的反射面关于光轴18旋转对称。可选地，反射镜M1至M8可以具有从旋转对称形状的偏离。
反射镜M1、M3、M4、M6和M8配置为凹反射镜。反射镜M2、M5和M7配置为凸反射镜。
反射镜M1和M6以及反射镜M5和M8关于它们的反射面背对背布置。
反射镜M1至M6的光学使用区域不具有用于成像光通过的通孔，换句话说，没有被遮拦。
在反射镜M6和M7之间的成像光束路径中，单独光束15通过反射镜M8中的通孔19。使用绕通孔19的反射镜M8。因此，反射镜M8为遮挡反射镜。除反射镜M8之外，反射镜M7也被遮挡且在每个情况中也具有实质上的中心通孔19。在反射镜M8和像场8之间的成像光束路径中，成像光3在到达像场8之前不久通过反射镜7的通孔19。
光瞳平面17位于反射镜M2和M3之间的投射光学部件7的成像光束路径中。光瞳平面17位于物场4和反射镜M8的通孔之间的成像光束路径中。在光瞳平面17中布置有遮挡光阑20，用于中心遮挡投射光学部件7的光瞳。为此目的，光瞳平面17中的光瞳布置为机械可达。遮挡光阑20遮挡光瞳平面17中的成像光3的中心区域，该中心区域由于通孔19而不能对物场4的成像作出贡献。该类型的遮挡光阑可以例如通过细的金属支柱来机械夹持，该金属支柱阻挡最小部分的成像光(参照US2006/0232867A1中的图7)。在申请US2006/0232867A1的图7b中示出机械支架的另一可代替物。
在图2和3中仅示出遮挡光阑20。遮挡光阑20的光学效果通过图3来解释，图3中借助所选择的各种单独光束15示出通过投射光学部件7的真实成像光束路径。在图3中能够清楚地看到各种单独光束15的中心区域在遮挡光阑20附近的成像光束路径中被遮挡。在物场4和像场8之间的成像光束路径中，也可以在另外的光瞳平面的区域中看到该中心遮挡。这些另外的光瞳平面之一的光瞳平面21位于反射镜M5和M6之间的成像光束路径中。能够进一步在反射镜M7和M8中的成像光束路径的区域中看到在投射光学部件7的出瞳区域中的遮挡光阑20的中心遮拦效果。
投射光学部件7的第一中间像平面22位于光瞳平面17后的反射镜M2和M3之间的成像光束路径中。在光瞳平面21和投射光学部件7的出瞳之间，第二中间像平面23位于反射镜M6和M7之间的光学路径中。第二中间像位于邻近反射镜M8的通孔19的第二中间像平面23中。结果，使得该通孔19相对于反射镜M8的有用反射面非常小。投射光学部件7的中心光瞳遮拦为光瞳平面17中的成像光3的整个光束直径的24％。因此，那里仅遮拦成像光3的光束的横断面的5.76％。
投射光学部件7中的第一成像部分光束24在反射镜M2和M3之间的传播。第二成像部分光束25在反射镜M4和M5之间传播。这两个成像部分光束24、25在交叉区域26中彼此相交。这个交叉区域空间上邻近反射镜M6。
除遮挡光阑20之外，孔径光阑也能够布置在光瞳平面17中以预先确定投射光学部件7的光瞳的外侧形式(outerform)。具体地，遮挡光阑20可以附加地具有该类型的孔径光阑的功能。
遮挡光阑20和也布置在光瞳平面17中的孔径光阑在每种情况中均为一光阑，成像光束恰好传播经过该光阑一次。
成像光束路径中的第二反射镜M2比成像光束路径中的第四反射镜M4更远离物平面5。结果，在第二反射镜M2和物场4之间提供有安装空间27，在图2中用虚线示出该安装空间；在该安装空间中能够布置例如照明光学部件6的反射镜，具体地，掠入射反射镜。安装空间27能够写成圆柱体，其旋转对称轴与光轴18相一致。该安装空间圆柱体的z-长度大于投射光学部件7的整个安装长度(换言之，物平面5和像平面9之间的间距)的16％。该安装空间圆柱体的半径具有与距光轴18的物场4的y-间距相对应的y-尺寸。
投射光学部件7在13nm的成像光波长具有大约13mλ的波前校正。
投射光学部件7具有5nm的最大畸变。
投射光学部件7由具有反射镜M1至M6(换言之，没有用于成像光3的通孔的反射镜)的第一、非遮拦部分物镜和具有反射镜M7、M8(有用于成像光3的通孔19的反射镜)的第二部分物镜构成。
投射光学部件7是反射光学系统，换言之完全由反射镜M1、M8构成的光学系统。
图4和图5示出投射光学部件28的另一实施例，其可以代替投射曝光装置1中的投射光学部件7。与参照图1至3已经描述的组件和细节相对应的组件和细节具有相同的附图标记并不在具体讨论。
下面借助两个表格示出投射光学部件28的光学数据，该两个表格就结构而言相对应于用于投射光学部件7的表格。
表1
面 半径(1/c) 厚度 处理方式
物平面 无穷大 613.559
M1 -406.659 -187.587 REFL
M2 -422.395 48.314 REFL
光阑 无穷大 609.274
M3 -1159.498 -861.821 REFL
M4 2575.518 1085.195 REFL
M5 277.079 -573.822 REFL
M6 656.425 1245.415 REFL
M7 2489.088 -641.593 REFL
M8 817.507 663.067 REFL
像平面 无穷大 0.000
表2
在投射光学部件28中，第一中间像平面22在成像光束路径中比投射光学部件7更靠近光瞳平面17。
投射光学部件28具有NA＝0.60的像方数值孔径。
在投射光学部件28中，波前校正约为16mλ。投射光学部件28具有0.7nm的最大畸变。
投射光学部件28中(例如光瞳平面17中)的中心光瞳遮拦是成像光3的光束直径的23％，且相对应地是成像光3的光束在那里的横截面的5.29％。
在光瞳平面17中与成像光3的光束相邻的成像部分光束距通过光瞳平面17的成像光3的光束甚远，从而该类型的孔径光阑能够机械地布置在光瞳平面17中而该孔径光阑不会遮拦相邻的成像部分光束。
在投射光学部件28中，能够写成安装空间27的安装空间圆柱体具有z-长度，该z-长度大约为物平面5和像平面9之间的投射光学部件28的总安装长度的18％。
为了产生微结构化或纳结构化的元件，如下使用投射曝光装置1：首先，提供反射掩模10或掩模母版以及结构或晶片11；接着，借助于投射曝光装置将掩模母版10上的结构投射到晶片11的光敏感层上；接着，通过显影光敏感层，在晶片11上产生微结构或纳结构并从而产生微结构化部件。

Claims (18)

1.具有至少六个反射镜(M1至M8)的成像光学部件(7；28)，该成像光学部件将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(5)，其中，
-从物场(4)彼此相隔的点发出的主光线(16)具有相互发散的光束路线，
-该反射镜中的至少一个(M7、M8)具有用于成像光(3)通过的通孔(19)，
-在该物场(4)与该通孔(19)的第一者之间的成像光束路径中在光瞳平面(17)设置有光瞳，该成像光(3)通过该光瞳一次，以及在该光瞳中布置有用于对该成像光学部件(7；28)的出瞳进行中心遮拦的遮挡光阑(20)，其中所述通孔(19)的第一者是成像光沿成像光束路径首先经过的通孔，
-在该物场(4)后的成像光束路径中直接在第二反射镜(M2)之后的第一成像部分光束(24)与在该物场(4)后的成像光束路径中直接在第四反射镜(M4)之后的第二成像部分光束(25)在交叉区域(26)中彼此相交，其中所述第二反射镜是沿着成像光束路径成像光在其上被反射的第二个反射镜，所述第四反射镜是沿着成像光束路径成像光在其上被反射的第四个反射镜。
2.如权利要求1所述的成像光学部件，其特征在于，该成像光学部件精确地具有8个反射镜(M1至M8)。
3.如权利要求1或2所述的成像光学部件，其特征在于，在具有该被经过一次的光瞳的光瞳平面(17)中还布置有孔径光阑，用于预先确定该成像光学部件(7；28)的光瞳的外侧形式。
4.如权利要求1或2所述的成像光学部件，其特征在于，具有该被经过一次的光瞳的该光瞳平面(17)布置在该物场(4)后的成像光束路径中该第二(M2)与该第三(M3)反射镜之间，其中所述第三反射镜是沿着成像光束路径成像光在其上被反射的第三个反射镜。
5.如权利要求1或2所述的成像光学部件，其特征在于，与该成像光束路径中的第四反射镜(M4)相比，该成像光束路径中的第二反射镜(M2)距离该物平面(5)较远。
6.如权利要求1或2权利要求所述的成像光学部件，其特征在于，该物场(4)和该像场(8)之间的成像光束路径中有两个中间像平面(22、23)。
7.如权利要求6所述的成像光学部件，其特征在于，所述中间像平面(22、23)中的一个布置在成像光束路径中该第二反射镜(M2)与第三反射镜(M3)之间，其中所述第三反射镜是沿着成像光束路径成像光在其上被反射的第三个反射镜。
8.如权利要求7所述的成像光学部件，其特征在于，所述中间像平面(22、23)中的另一个布置在成像光束路径中第六反射镜(M6)和第七反射镜(M7)之间，其中所述第六反射镜是沿着成像光束路径成像光在其上被反射的第六个反射镜，所述第七反射镜是沿着成像光束路径成像光在其上被反射的第七个反射镜。
9.如权利要求1或2所述的成像光学部件，其特征在于，在该光瞳平面(17)中，中心光瞳遮拦至多为该成像光(3)的光束直径的30％。
10.如权利要求1或2所述的成像光学部件，其特征在于，最大波前误差为70mλ。
11.如权利要求1或2所述的成像光学部件，其特征在于，最大畸变为10nm。
12.如权利要求1或2所述的成像光学部件，其特征在于，所述成像光学部件由第一部分物镜和第二部分物镜构成，所述第二部分物镜沿着成像光束路径布置在所述第一部分物镜之后，所述第一部分物镜仅由不具有用于该成像光(3)通过的通孔的反射镜(M1至M2)构成，以及所述第二部分物镜具有至少一个反射镜(M7、M8)，该反射镜(M7、M8)具有用于该成像光(3)通过的通孔(19)。
13.如权利要求1或2所述的成像光学部件，其特征在于，该成像光学部件配置为反射光学系统。
14.如权利要求1或2所述的成像光学部件，其特征在于，该成像光学部件(7；28)配置为用于微光刻的投射光学部件。
15.具有如权利要求14所述的投射光学部件和用于将照明光(3)引导到该成像光学部件(7；28)的物场(4)的照明光学部件(6)的光学系统。
16.具有如权利要求15所述的光学系统和照明及成像光(3)的光源(2)的投射曝光装置。
17.如权利要求16所述的投射曝光装置，其特征在于，产生照明光(3)的该光源(2)配置为具有5nm至30nm之间的波长。
18.用于产生结构化元件的方法，该方法包括如下方法步骤：
-提供掩模母版(10)和晶片(11)，
-借助于如权利要求16或17所述的投射曝光装置将该掩模母版(10)上的结构投射到该晶片(11)的光敏层上，
-在该晶片(11)上产生微米结构或纳米结构。
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