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HINTERGRUND
DER ERFINDUNG
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1. Gebiet
der Erfindung
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Die
Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines nicht-linearen
MIM (Metall-Isolator-Metall)-Bauelements.
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2. Stand der
Technik
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Im
allgemeinen umfassen Flüssigkristall-Anzeigevorrichtungen
mit aktiver Matrix zwei Substrate, zwischen denen ein Kristall eingefüllt ist.
Auf einem Substrat ist ein Schaltelement für jede Pixelregion unter Bildung
einer Matrixanordnung vorgesehen und am anderen Substrat ist ein
Farbfilter ausgebildet. Die Orientierung des Flüssigkristalls wird in jeder Pixelregion
gesteuert, wodurch die vorbestimmte Information dargestellt wird.
Als Schaltelement wird typischerweise ein dreipoliges Bauelement,
z. B. ein TFT (Dünnschichttransistor),
oder ein zweipoliges Bauelement, z. B. ein nichtlineares MIM-Bauelement, verwendet.
Ein nicht-lineares MIM-Bauelement erweist sich zur Befriedigung
des Bedürfnisses
nach Bildschirmen großer
Abmessungen und nach verminderten Herstellungskosten als vorteilhaft.
Außerdem
weist ein nicht-lineares MIM-Bauelement den weiteren Vorteil auf,
dass Kurzschlüsse
zwischen der Abtastleitung und der Datenleitung vermieden werden,
da die Abtastleitungen und die Datenleitungen getrennt voneinander
an unterschiedlichen Substraten bereitgestellt werden. Dies bedeutet,
dass Abtastleitungen auf dem Substrat mit einer darauf ausgebildeten
Matrixanordnung vorgesehen sind, während die Datenleitungen auf
dem anderen Substrat vorgesehen sind.
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14 zeigt
ein Beispiel der herkömmlichen Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung
mit aktiver Matrix unter Verwendung eines nicht-linearen MIM-Bauelements,
bei dem eine Matrix durch eine Mehrzahl von Abtastleitungen 74,
die mit der Abtastleitung-Steuerschaltung 72 verbunden
sind, und eine Mehrzahl von Datenleitungen 78, die mit
der Datenleitung-Steuerschaltung 76 verbunden sind, gebildet
wird. In jedem Element der Matrix ist eine Pixelregion 80 ausgebildet.
Die Pixelregion 80 umfasst ein nicht-lineares MIM-Bauelement 50,
das an einem Ende mit der Datenleitung 78 verbunden ist,
und ein Flüssigkristall-Anzeigeelement 60,
das zwischen dem nicht-linearen MIM-Bauelement 50 und der Abtastleitung 74 angeschlossen
ist. Das Flüssigkristall-Anzeigeelement 60 wird
aufgrund der Differenzspannung zwischen dem der Abtastleitung 74 zugeführten Signal und
dem der Datenleitung 78 zugeführten Signal angesteuert. Wenn
die Schwellenspannung des Flüssigkristallelements 60 mit
(Vb) bezeichnet wird und die Schwellenspannung des nicht-linearen
MIM-Bauelements 50 mit (Vth) angegeben wird und wenn die Spannung
an beiden Anschlüssen
des Flüssigkristall-Anzeigeelements 60,
die das Flüssigkristall-Anzeigeelement 60 einschaltet,
mit (Vb + ΔV)
angegeben wird, so befindet sich das Flüssigkristall-Anzeigeelement 60 im
AN-Zustand, wenn die Differenzspannung im Verlauf eines ausgewählten Zeitraums (Vb
+ Vth + ΔV)
beträgt,
während
sich das Flüssigkristall-Anzeigeelement 60 im
AUS-Zustand befindet, wenn die Differenzspannung (Vb + Vth) beträgt. Während eines
nicht-ausgewählten
Zeitraums wird die Differenzspannung auf weniger als (Vth) eingestellt,
um den während
des ausgewählten
Zeitraums festgelegten Zustand aufrechtzuerhalten.
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15 ist
eine Querschnittansicht der Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung 100 mit
aktiver Matrix unter Verwendung eines nicht-linearen MIM-Bauelements.
Eine Flüssigkristallschicht 40 ist
zwischen den Elektrodensubstraten 10 und 30 angeordnet. Das
Elektrodensubstrat 10 umfasst eine durchsichtige Platte 12,
auf der durchsichtigen Platte 12 ausgebildete nicht-lineare
MIM-Bauelemente 50 und Pixelelektroden 22, die
mit dem entsprechenden nicht-linearen MIM-Bauelement 50 verbunden
sind. Das nicht-lineare MIM-Bauelement 50 ist aus einer Ta-Elektrodenschicht 16,
die auf der durchsichtigen Elektrode 12 ausgebildet ist,
einem auf der Ta-Elektrode ausgebildeten Ta2O5-Film 18 und einer auf dem Ta2O5-Film ausgebildeten
Cr-Elektrodenschicht 20 zusammengesetzt. Der Ta2O5-Film 18 wird
auf der Oberfläche
der Ta-Elektrodenschicht 16 durch anodische Oxidation der
Ta-Elektrodenschicht 16 gebildet, so dass eine gleichmäßige Filmdicke
entsteht, ohne dass Nadellöcher
gebildet werden (vergl. JP-A-5-297389 und JP-A-5-313207).
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Gemäß dem herkömmlichen
Verfahren wird ein nicht-lineares MIM-Bauelement 50 mit
einer derartigen Struktur folgendermaßen hergestellt: eine Tantaloxidschicht 14 mit
einer Dicke von etwa 100 nm (1 000 Å) wird durch Abscheiden einer
Tantalschicht auf dem durchsichtigen Substrat 12 durch
Sputtering gebildet, wonach sich eine Wärmeoxidation anschließt; eine
Tantalschicht wird durch Sputtering bis zu einer Dicke von 300 nm
(3 000 Å)
abgeschieden und die Tantalschicht wird unter Bildung einer Ta-Elektrodenschicht 16 bemustert;
die Ta-Elektrodenschicht 16 wird einer anodischen Oxidation
unter Bildung eines anodischen Ta2O5-Oxidationsfilms 18 unterzogen;
und ein Chromfilm mit einer Dicke von 150 nm (1 500 Å) wird
durch Sputtering abgeschieden und der Chromfilm wird unter Bildung
einer Cr-Elektrodenschicht 20 bemustert, wodurch ein nicht-lineares
MIM-Bauelement 50 fertiggestellt wird.
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IEEE
Trans Electron Device, Bd. ED28(Juni 1981), S. 736–739, schlägt eine
Technik zum Dotieren von Stickstoff in eine Ta-Elektrodenschicht 16 vor, die
Bestandteil eines nicht-linearen MIM-Bauelements ist, um die nicht-linearen
Eigenschaften des nicht-linearen MIM-Bauelements zu verbessern.
Jedoch ist hierbei eine hochkomplizierte Technik des Tantal-Sputtering
erforderlich und die Herstellung eines nicht-linearen MIM-Bauelements
mit guter Reproduzierbarkeit ist schwierig.
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EP-A-0
610 082 beschreibt ein Verfahren zur Herstellung einer Flüssigkristallvorrichtung
unter Verwendung von nicht-linearen MIM-Bauelementen, wobei die
fertiggestellten nicht-linearen MIM-Bauelemente während der anschließenden Stufen
zur Bildung der Flüssigkristallvorrichtung
einer Wärmebehandlung
unterworfen werden.
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JP-A-63-50081
und JP-A-62-150787 schlagen eine Technik zur anodischen Oxidation
des Tantalfilms vor, wonach sich eine Wärmebehandlung bei einer Temperatur
von 400 bis 600°C
in einer Stickstoffatmosphäre
anschließt,
um die nicht-linearen Eigenschaften des nicht-linearen MIM- Bauelements zu verbessern.
JP-A-6-75250 beschreibt ein ähnliches Verfahren,
wobei die Wärmebehandlung
unter Vakuum durchgeführt
wird. Jedoch lassen sich unter Durchführung einer einfachen Wärmebehandlung
bei 400 bis 600°C
in einer Stickstoffatmosphäre
oder unter Vakuum nach der anodischen Oxidation des Tantalfilms
keine angemessenen nicht-linearen Eigenschaften und keine zufriedenstellenden
Widerstandseigenschaften im AUS-Zustand, die zur Erzielung einer
hervorragenden Bildqualität
erforderlich sind, erreichen. Somit besteht ein Bedürfnis nach
einer weiteren Verbesserung der nicht-linearen Eigenschaften und
der Widerstandseigenschaften.
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Eine
Aufgabe der Erfindung ist es somit, ein Verfahren zur Herstellung
eines nicht-linearen MIM-Bauelements
bereitzustellen, mit dem die nicht-linearen Eigenschaften und die
Widerstandseigenschaften im AUS-Zustand eines nicht-linearen MIM-Bauelements
verbessert werden können.
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ZUSAMMENFASSENDE
DARSTELLUNG DER ERFINDUNG
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Diese
Aufgabe wird durch das Verfahren gemäß Anspruch 1 gelöst. Bevorzugte
Ausführungsformen
der Erfindung sind Gegenstand der nachgeordneten Ansprüche.
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Durch
Anwenden einer Kühlstufe
auf das Substrat, das die erste leitfähige Schicht und den Oxidationsfilm
aufweist, in der Wasserdampf enthaltenden Atmosphäre werden
sowohl die nichtlinearen Eigenschaften des nicht-linearen MIM-Bauelements als
auch die Widerstandseigenschaften im AUS-Zustand verbessert. Wenn
das nicht-lineare MIM-Bauelement als Schaltelement einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung
verwendet wird, lässt
sich eine hervorragende Bildqualität bei hohem Kontrast erreichen.
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Da
der Widerstandswert im AUS-Zustand angemessen hoch ist, besteht
ein Spielraum für
den erhöhten
AUS-Kriechstrom bei hoher Temperatur. Somit lassen sich ein nicht-lineares
MIM-Bauelement mit
guten Temperatureigenschaften und eine Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung
unter Verwendung eines derartigen nicht-linearen MIM-Bauelements
bereitstellen.
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Dieses
Herstellungsverfahren eignet sich zur Herstellung eines nicht-linearen
MIM-Bauelements, bei dem die erste leitfähige Schicht aus Ta gebildet ist,
wodurch sich ein starker Effekt erzielen lässt. Der gleiche Effekt lässt sich
durch Anwendung auf ein nicht-lineares MIM-Bauelement erreichen,
bei dem die erste leitfähige
Schicht Ta als Hauptkomponente enthält, wobei mindestens ein aus
der Gruppe W, Re und Mo ausgewähltes
Element zugesetzt ist.
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Insbesondere
lassen sich bei Anwendung der Erfindung auf ein nicht-lineares MIM-Bauelement,
bei dem der anodische Oxidationsfilm auf der ersten leitfähigen Schicht
ausgebildet ist, erhebliche Effekte erzielen. Insbesondere wenn
die erste leitfähige
Schicht aus Ta besteht oder Ta als Hauptkomponente enthält, wird
durch Zusatz mindestens eines aus der Gruppe W, Re und Mo ausgewählten Elements
ein bemerkenswerter Effekt erzielt.
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Der
auf der ersten leitfähigen
Schicht gebildete Oxidationsfilm kann abgesehen von einer anodi schen
Oxidation durch CVD, Sputtering, ein Sol-Gel-Verfahren, Wärmeoxidation
und dergl. gebildet werden.
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Bei
der zweiten leitfähigen
Schicht handelt es sich vorzugsweise um eine Metallschicht. Cr,
Ti, Al oder Mo werden als Material der Metallschicht bevorzugt.
Besonders bevorzugt wird eine Cr-Schicht.
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Vorzugsweise
handelt es sich bei dem Gas, das Wasserdampf enthält, um Luft,
da dadurch der Aufbau des Wärmebehandlungsofens
vereinfacht wird.
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Ferner
ist es bevorzugt, dass es sich bei dem Wasserdampf enthaltenden
Gas um ein Mischgas aus Wasserdampf und einem inerten Gas handelt. Bei
Verwendung des Mischgases aus Wasserdampf und einem inerten Gas
lässt sich
das Verhältnis
des Wasserdampfes im Mischgas leicht steuern, was ferner die Steuerung
der Wärmebehandlungsbedingungen
in der Wasserdampf enthaltenden Gasatmosphäre erleichtert. Beim inerten
Gas handelt es sich vorzugsweise um Stickstoffgas. Dies ermöglicht ebenfalls
eine einfache Bauweise des Wärmebehandlungsofens.
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Das
Wasserdampf enthaltende Gas kann dem Reaktor durch Ausstoßen von
Wasser in Form von Nebel in das Inertgas und durch Einleiten des Gases
zusammen mit Wasserdampf durch ein enges Rohr zugeführt werden.
Alternativ kann man Wasser direkt dem Reaktor zutropfen und der
im Reaktor verdampfte Wasserdampf kann dazu herangezogen werden,
das Gas mit Wasserdampf zu versetzen.
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Die
Konzentration des Wasserdampfes im Gas beträgt vorzugsweise 0,014 Mol-%
oder mehr, bezogen auf das gesamte Gas, das den Wasserdampf enthält. Jedoch
hat auch ein Wasserdampfgehalt von mehr als 0,005 Mol-% eine ähnliche
Wirkung. Auch ein Wasserdampfgehalt von mehr als 0,001 Mol-% erweist
sich noch als wirksam.
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Die
Zeitspanne für
die Wärmebehandlung des
Substrats mit der ersten leitfähigen
Schicht und des darauf ausgebildeten Oxidationsfilms in der Wasserdampf
enthaltenden Atmosphäre
beträgt
vorzugsweise mehr als 10 Sekunden. Insbesondere beträgt diese
Zeitspanne mehr als 2 Minuten und ganz besonders mehr als 5 Minuten.
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Die
Stufe der Wärmebehandlung
des Substrats mit der ersten leitfähigen Schicht und dem darauf ausgebildeten
Oxidationsfilm in der Wasserdampf enthaltenden Atmosphäre stellt
vorzugsweise die letzte Temperatursenkungsstufe des gesamten Wärmebehandlungsverfahrens
für das
Substrat, auf dem die erste leitfähige Schicht und der Oxidationsfilm ausgebildet
sind, dar.
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Vorzugsweise
umfasst die letzte Temperatursenkungsstufe (d. h. die Wärmebehandlung
in der Wasserdampf enthaltenden Atmosphäre) mindestens einen Temperaturabfall
auf 220°C.
Berücksichtigt
man die Temperaturverteilung oder den Spielraum der Vorrichtung,
so ist es bevorzugt, die Wärmebehandlung
in der Wasserdampf enthaltenden Atmosphäre fortzusetzen, bis die Temperatur
unter 200°C
sinkt. Ferner liegt die Temperatur zur Ausbildung der zweiten leitfähigen Schicht
auf dem Oxidationsfilm nach der Wärmebehandlung vorzugsweise unter
220°C.
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Die
Temperatursenkungsgeschwindigkeit während der letzten Temperatursenkungsstufe
beträgt
vorzugsweise 0,1°C/min
bis 60°C/min,
insbesondere 0,5°C/min
bis 40°C/min
und ganz besonders 0,5°C/min
bis 10°C/min.
Während
der letzten Temperatursenkungsstufe kann die Temperatur für eine bestimmte
Zeit konstant gehalten werden oder die Temperatur kann nach Ablauf
der Hälfte
geringfügig
erhöht
werden. Bei der vorerwähnten
Temperatursenkungsgeschwindigkeit handelt es sich um die durchschnittliche
Geschwindigkeit unter Einschluss dieser Variationen in der Temperatursenkungsstufe.
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Wenn
es sich bei der letzten Temperatursenkungsstufe um eine Stufe zur
Senkung der Temperatur von der ersten Temperatur auf die zweite
Temperatur handelt, umfasst das Verfahren ferner eine Stufe zur
Durchführung
einer Wärmebehandlung
am Substrat, auf dem die erste leitfähige Schicht und der Oxidationsfilm
ausgebildet worden sind, bei einer Temperatur oberhalb der ersten
Temperatur in der Wasserdampf enthaltenden Atmosphäre.
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Wenn
es sich bei der letzten Temperatursenkungsstufe um eine Stufe zur
Senkung der Temperatur von der ersten Temperatur auf die zweite
Temperatur handelt, so kann das Verfahren ferner eine Stufe zur
Durchführung
einer Wärmebehandlung
am Substrat, auf dem die erste leitfähige Schicht und der Oxidationsfilm
ausgebildet worden sind, bei einer Temperatur über der ersten Temperatur in
einer Inertgasatmosphäre
umfassen. In diesem Fall handelt es sich beim Inertgas vorzugsweise
um Stickstoffgas.
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Durch
Durchführung
der Wärmebehandlung am
Substrat, auf dem die erste leitfähige Schicht und der Oxidationsfilm
ausgebildet worden sind, bei einer Temperatur über der ersten Temperatur (Starttemperatur
der letzten Temperatursenkung) in der Wasserdampf enthaltenden Atmosphäre oder
in der ein Inertgas, wie Stickstoff, enthaltenden Atmosphäre lässt sich
ein höherer β-Wert und
ein höherer
Widerstandswert im AUS-Zustand erzielen. Die Wärmebehandlungstemperatur oberhalb
der ersten Temperatur liegt vorzugsweise unter 600°C, insbesondere
unter 500°C
und ganz besonders unter 450°C.
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Wenn
die Temperatursenkungsgeschwindigkeit nieder gehalten wird, lassen
sich der β-Wert,
der einen nicht-linearen Parameter des nicht-linearen MIM-Bauelements
darstellt, und der Widerstandswert im AUS-Zustand erheblich verbessern.
Im allgemeinen sind der β-Wert
und der Widerstandswert im AUS-Zustand um so höher, je höher die Wärmebehandlungstemperatur ist.
Da jedoch der R-Wert
und der Widerstandswert im AUS-Zustand durch Festlegen einer geringen
Temperatursenkungsgeschwindigkeit erheblich verbessert werden, lassen
sich ein zufriedenstellender β-Wert
und ein zufriedenstellender Widerstandswert im AUS-Zustand, die
für praktische
Zwecke geeignet sind, erreichen, selbst wenn die Wärmebehandlungstemperatur über die
erste Temperatur (d. h. Startpunkt der Temperatursenkung) in der
Wasserdampf enthaltenden Atmosphäre oder
in der Inertgasatmosphäre
gesenkt wird. Durch Senkung der Wärmebehandlungstemperatur wird
die Verdichtung (Konzentration) des Substrats (Glassubstrat und
dergl.) vermindert, so dass sich die Präzision bei der Feinbearbeitung
und dem Zusammenbau der Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung
verbessern lässt.
Die niedrigere Wärmebehandlungstemperatur kann
auch Beschädigungen
des nicht-linearen MIM-Bauelements aufgrund von thermischen Spannungen
unterdrücken.
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Das
durch das erfindungsgemäße Verfahren erhaltene
nicht-lineare MIM-Bauelement weist überlegene nicht-lineare Eigenschaften
und einen hohen Widerstandswert im AUS-Zustand auf. Unter Verwendung
dieses nicht-linearen MIM-Bauelements lässt sich eine hervorragende
Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung
bereitstellen, die einen hohen Kontrast und gute Temperatureigenschaften
aufweist.
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KURZE BESCHREIBUNG
DER ZEICHNUNG
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1 ist
eine Querschnittansicht eines nicht-linearen MIM-Bauelements zur
Erläuterung
des Herstellungsverfahrens für
das nicht-lineare MIM-Bauelement der erfindungsgemäßen Beispiele 1
bis 12 und der Vergleichsbeispiele sowie des herkömmlichen
nicht-linearen MIM-Bauelements.
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2 ist
eine Querschnittansicht eines nicht-linearen MIM-Bauelements zur
Erläuterung
des Herstellungsverfahrens für
das nicht-lineare MIM-Bauelement der erfindungsgemäßen Beispiele 1
bis 12 und der Vergleichsbeispiele sowie des herkömmlichen
nicht-linearen MIM-Bauelements.
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3 ist
eine Querschnittansicht des Wärmebehandlungsofens,
der in den erfindungsgemäßen Beispielen
1 und 2 und in den Vergleichsbeispielen verwendet wird.
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4 ist
eine Querschnittansicht des in den Beispielen 3 bis 8 und in Beispiel
12 verwendeten Wärmebehandlungsofens.
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5 zeigt
den in den Beispielen 9 bis 11 verwendeten Wärmebehandlungsofen.
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6 ist
ein Diagramm zur Darstellung der β-Werte
der nicht-linearen MIM-Bauelemente der Beispiele 1 bis 9 und des
Vergleichsbeispiels als Funktion der Temperatur.
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7 ist
ein Diagramm zur Darstellung der Widerstandswerte im AN-Zustand
des nicht-linearen MIM-Bauelements der Beispiele 1 bis 9 und des
Vergleichsbeispiels.
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8 ist
ein Diagramm zur Darstellung der Widerstandswerte im AUS-Zustand
des nichtlinearen MIM-Bauelements der Beispiele 1 bis 9 und des
Vergleichsbeispiels.
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9 ist
ein Diagramm zur Darstellung der Widerstandswerte des nicht-linearen
MIM-Bauelements von Beispiel 9 im AN- und AUS-Zustand.
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10 ist
eine Querschnittdarstellung zur Erläuterung der in Beispiel 13
verwendeten Vorrichtung zur Aufnahme des thermischen Desorptionsspektrums
(TDS).
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11 ist
eine Querschnittdarstellung zur Erläuterung der in Beispiel 13
verwendeten Probe.
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12 zeigt
das thermische Desorptionsspektrum der in Beispiel 13 vermessenen
erfindungsgemäßen Probe.
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13 zeigt
das thermische Desorptionsspektrum der in Beispiel 13 vermessenen
Vergleichsprobe.
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14 zeigt
eine Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung,
in der das nicht-lineare MIM-Bauelement allgemein verwendet wird.
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15 zeigt
eine Querschnittansicht der Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung,
in der das nichtlineare MIM-Bauelement allgemein verwendet wird.
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BEVORZUGTE
AUSFÜHRUNGSFORM
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Die
bevorzugte Ausführungsform
der Erfindung wird nachstehend auf der Grundlage von tatsächlichen
Beispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung beschrieben.
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Beispiel 1
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Wie
in 2 dargestellt, wurde ein Tantalfilm durch Sputtering
auf dem durchsichtigen Substrat 12 aus Nichtalkaliglas
abgeschieden. Anschließend wurde
der Film einer Wärmeoxidation
unter Bildung eines Tantaloxidfilms 14 mit einer Dicke
von etwa 100 nm (1 000 Å)
unterworfen. Der Tantaloxidfilm 14 wird bereitgestellt,
um den Kontakt zwischen dem durchsichtigen Nichtalkaliglassubstrat 12 und
der Ta-Elektrodenschicht 16 zu verbessern.
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Anschließend wurde
ein Tantalfilm durch Sputtering in einer Dicke bis zu 200 nm (2
000 Å)
abgeschieden. Dieser Film wurde unter Bildung einer Ta-Elektrodenschicht 16 bemustert.
Eine anodische Oxidation wurde an der Ta-Elektrodenschicht 16 durchgeführt, um
einen anodischen Ta2O5-Oxidationsfilm 18 mit
einer Dicke von 60 nm (600 Å)
zu bilden. In diesem Beispiel wurde eine wässrige Citronensäurelösung mit
einer Konzentration von 0,05 Gew.-% als Elektrolytlösung verwendet.
Die anodische Oxidationsspannung betrug 31 V und die elektrische
Stromdichte 0,04 mA/cm2.
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Anschließend wurde
eine Wärmebehandlung
am durchsichtigen Substrat 12, auf dem die Ta-Elektrodenschicht 16 und
der anodische Ta2O5-Film 18 ausgebildet
waren, durchgeführt.
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Die
Wärmebehandlung
wurde unter Verwendung des in 3 dargestellten
Wärmebehandlungsofens 200 in
Längsrichtung
durchgeführt.
Eine Vakuumglocke 202 des Wärmebehandlungsofens 200 enthält ein Schiffchen 206 zur
Aufnahme einer Mehrzahl von durchsichtigen Substraten 12.
Eine Heizvorrichtung 204 erwärmt die Vakuumglocke 202. Gas
wird in die Vakuumglocke 202 von oben eingeführt und
an der Seite und am Boden der Vakuumglocke 202 ausgetragen.
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In
diesem Beispiel wurde das Schiffchen 206 mit 40 durchsichtigen
Substraten 12 beschickt. Das die durchsichtigen Substrate 12 tragende
Schiffchen 206 wurde in die Vakuumglocke 202 von
unten aus eingesetzt. N2-Gas wurde von oben
in die Vakuumglocke 202 eingeleitet, um im Innern der Vakuumglocke 202 vor
Beginn der Wärmebehandlung
eine Stickstoffatmosphäre
zu schaffen. Die Wärmebehandlung
wurde unter Drehen des Schiffchens 206 durchgeführt. Die
Heizvorrichtung 204 wurde in Gang gesetzt, wobei ein N2-Gasstrom mit einer Geschwindigkeit von
20 Liter/min eingeleitet wurde. Mit einer Temperaturerhöhungsgeschwindigkeit
von 5°C/min wurde
die Temperatur erhöht,
bis die Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 435°C erreicht
hatte. Sodann wurde die Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 2
Stunden auf 435°C
gehalten, wobei immer noch ein N2-Gasstrom
mit einer Geschwindigkeit von 20 Liter/min eingeleitet wurde. Anschließend wurde das
die durchsichtigen Substrate 12 tragende Schiffchen 206 von
unten aus der Vakuumglocke 202 entnommen und in die Umgebungsatmosphäre gebracht,
um das durchsichtige Substrat rasch an der Luft abzukühlen.
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Sodann
wurde gemäß der Darstellung
in 1 ein Cr-Film mit einer Dicke von 100 nm (1 000 Å) durch
Sputtering auf dem anodischen Ta2O5 Oxidationsfilm 18 gebildet. Der
Cr-Film wurde unter Bildung einer Cr-Elektrodenschicht 20 bemustert.
Auf diese Weise wurde das nicht-lineare MIM-Bauelement 50 fertiggestellt,
das eine Ta-Elektrodenschicht 16, einen anodischen Ta2O5-Oxidationsfilm 18 und eine
Cr-Elektrodenschicht 20 umfasste.
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An
dem auf dem durchsichtigen Substrat ausgebildeten nicht-linearen
MIM-Bauelement 50 wurden der nicht-lineare Parameter β, der Widerstand
im AN-Zustand und der Widerstand im AUS-Zustand gemessen. Beim nicht-linearen
Parameter β handelt
es sich um die Steigung der Geraden, die sich ergibt, wenn man den
Logarithmus des Quotienten des elektrischen Stroms I und der angelegten
Spannung V (d. h. log (I/V)) als Funktion der Wurzel der angelegten
Spannung V (d. h. V1/2) aufträgt. Beim
Widerstand im AN-Zustand handelt es sich um den Widerstand (Ω), der bei
Anlegen einer Spannung von 10 V an das nicht-lineare MIM-Bauelement
gemessen wird. Der Wert wird als R10V bezeichnet. Beim Widerstand
im AUS-Zustand handelt es sich um den Widerstand (Ω), der bei
Anlegen einer Spannung von 4 V an das nicht-lineare MIM-Bauelement
gemessen wird. Der Wert wird als R4V bezeichnet. In diesem Beispiel
wurden der Parameter β und die
Widerstandswerte im AN- und AUS-Zustand für drei durchsichtige Substrate
gemessen. Die Mittelwerte von drei Substraten wurden gebildet. Es
ergaben sich folgende Messwerte: β 4,10,
Widerstand im AN-Zustand 5,00 × 109 Ω und
Widerstand im AUS-Zustand 3,50 × 1012 Ω.
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Beispiel 2
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Das
durchsichtige Substrat 12, auf dem die Ta-Elektrodenschicht 16 und
der anodische Ta2O5-Oxidationsfilm 18 ausgebildet
waren, wurden unter den gleichen Bedingungen wie im ersten Beispiel
hergestellt. Anschließend
wurde am durchsichtigen Substrat 12 auf ähnliche
Weise wie im ersten Beispiel eine Wärmebehandlung durchgeführt. Während im
ersten Beispiel das durchsichtige Substrat 12 2 Stunden
bei 435°C
in der N2-Gasatmosphäre gehalten wurde, wurde im
zweiten Beispiel das durchsichtige Substrat 12 2 Stunden
bei einer Temperatur von 455°C
in der N2-Gasatmosphäre belassen. Alle übrigen Bedingungen
waren die gleichen wie beim ersten Beispiel, einschließlich der
raschen Abkühlung
an der Luft. Das nicht-lineare MIM-Bauelement 50 wurde
auf ähnliche
Weise wie beim ersten Beispiel gebildet. Anschließend wurden
der nicht-lineare Parameter ß und
die Widerstandswerte im AN- und AUS-Zustand auf die gleiche Weise
wie im ersten Beispiel gemessen. Es wurden die Mittelwerte von drei
durchsichtigen Substraten 12 gebildet. Folgende Werte wurden
erhalten: β 5,06,
Widerstand im AN-Zustand 1,07 × 1010 Ω und
Widerstand im AUS-Zustand
1,19 × 1013 Ω.
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Im
ersten und zweiten Beispiel betrug die Wasserdampfkonzentration
in der Luft 1,2 Mol-%, bezogen auf die gesamte, den Wasserdampf
enthaltende Luft.
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Beispiel 3
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Das
durchsichtige Substrat 12, auf dem die Ta-Elektrodenschicht 16 und
der anodische Ta2O5-Oxidationsfilm 18 ausgebildet
waren, wurden unter den gleichen Bedingungen wie im ersten Beispiel
hergestellt.
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Die
Wärmebehandlung
wurde am durchsichtigen Substrat 12 auf dem die Ta-Elektrodenschicht 16 und
der anodische Ta2O5-Oxidationsfilm 18 ausgebildet
waren, durchgeführt.
Die Wärmebehandlung wurde
unter Verwendung eines seitwärts
angeordneten Wärmebehandlungsofens 300 von 4 durchgeführt. Wie
in 4 dargestellt, wird ein Schiffchen 306 innerhalb
des Reaktorrohrs 302 im Wärmebehandlungsofen bereitgestellt.
Das Schiffchen 306 wird in Längsrichtung mit mehreren durchsichtigen Substraten 12 beschickt.
Zur Wärmebehandlung
wird die Heizvorrichtung 304 verwendet. Gas wird durch das
Gaseinleitungsrohr 308, das am oberen Teil des Reaktorrohrs 302 vorgesehen
ist, eingeleitet und durch das Abgasrohr 312 am unteren
Teil des Reaktorrohrs 302 ausgetragen.
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In
diesem Beispiel wurde das Reaktorrohr 302 unter Einleiten
von N2-Gas in das Reaktorrohr 302 bis
zum Erreichen einer Temperatur von 250°C erwärmt. Die N2-Gasatmosphäre wurde
im Reaktorrohr 302 auf 250°C gehalten. Anschließend wurde das
Schiffchen 306, das mit 100 durchsichtigen Substraten 12 beladen
war, von der linken Seite der Figur aus in das Reaktorrohr 302,
in dem die N2-Gasatmosphäre von 250°C aufrechterhalten wurde, eingeführt. Anschließend wurde
das Ventil 310 geschlossen und N2-Gas
wurde durch die Abgasleitung 312 aus dem Reaktorrohr 302 evakuiert,
wobei die Temperatur auf 250°C
gehalten wurde. Sodann wurde das Ventil 310 geöffnet und
N2-Gas
wurde erneut durch das Gaseinleitungsrohr 308 in das Reaktorrohr 302 eingeleitet,
um das Reaktorrohr 302 mit N2-Gas zu
füllen.
Die Heizvorrichtung 304 wurde zur Erhöhung der Temperatur mit einer
Geschwindigkeit von 5°C/min
erneut angestellt, bis die Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 450°C erreicht
hatte, wobei N2-Gas durch das Gaseinleitungsrohr 308 mit einer
Strömungsgeschwindigkeit
von 50 Liter/min eingeführt
wurde und am unteren Teil des Reaktorrohrs 302 durch die
Abgasleitung 312 ausgetragen wurde. Das durchsichtige Substrat 12 wurde
2 Stunden bei 450°C
gehalten, wobei der N2-Gasstrom von 50 Liter/min
aufrechterhalten wurde. Anschließend wurde das Ventil 310 bei
einer Temperatur von 450°C geschlossen
und N2-Gas wurde aus dem Reaktorrohr 302 durch
die Abgasleitung 312 evakuiert. Sodann wurde das Ventil 310 geöffnet, um
Luft in das Reaktorrohr 302 durch das Gaseinleitungsrohr 308 einzuleiten
und das Reaktorrohr 302 mit atmosphärischer Luft zu füllen. Die
Temperatur wurde mit einer Geschwindigkeit von 1,3°C/min auf
250°C gesenkt, wobei
die Luftatmosphäre
und der atmosphärische Druck
im Reaktorrohr 302 aufrechterhalten wurden. Nach Fallen
der Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 unter 150°C wurde das
Schiffchen 306 mit den durchsichtigen Substraten 12 aus
dem Reaktorrohr 302 auf der linken Seite der Figur entnommen.
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Anschließend wurde
auf ähnliche
Weise wie im ersten Beispiel das nicht-lineare MIM-Bauelement 50,
das eine Ta-Elektrodenschicht 16, einen anodischen Ta2O5-Film 18 und
eine Cr-Elektrodenschicht 20 aufwies, fertiggestellt.
-
Der
nicht-lineare Parameter β und
der Widerstand im AN- und AUS-Zustand des auf dem durchsichtigen
Substrat 12 gebildeten nicht-linearen MIM-Bauelements 50 wurden
auf die gleiche Weise wie im ersten Beispiel gemessen. Die Mittelwerte
von drei durchsichtigen Substraten 12 wurden gebildet. Es
wurden folgende Werte erhalten: β 9,06,
Widerstand im AN-Zustand 2,02 × 1011 Ω und
Widerstand im AUS-Zustand 2,45 × 1014 Ω.
Die Variation der Werte von β,
des Widerstands im AN-Zustand
und des Widerstands im AUS-Zustand waren gering, und zwar sowohl
bezüglich
der Oberfläche
des durchsichtigen Substrats als auch bei einem Vergleich mit den
durchsichtigen Substraten des ersten und zweiten Beispiels.
-
Unter
Verwendung von atmosphärischer
Luft als Gas, die Wasserdampf enthält, lässt sich die Vorrichtung vereinfachen.
-
Da
die Wärmebehandlung
in der N2-Gasatmosphäre und die Abkühlung (Temperatursenkung) an
der Luft kontinuierlich im gleichen Wärmebehandlungsofen 300 durchgeführt werden,
wird die Steuerbarkeit der Substrat-Abkühlbedingungen erheblich verbessert.
Infolgedessen lassen sich Variationen der Eigenschaften des nicht-linearen
MIM-Bauelements innerhalb eines Substrats, unter verschiedenen Substraten
und unter verschiedenen Ansätzen der
Wärmebehandlung
unterdrücken.
-
Während des
kontinuierlichen Verfahrens im gleichen Wärmebehandlungsofen 300 wird
N2-Gas aus dem Wärmebehandlungsofen nach der
Behandlung des Substrats in N2 evakuiert.
Anschließend
wird Luft in den Wärmebehandlungsofen 300 eingeleitet, um
das Substrat an der Luft abzukühlen.
Dadurch wird der Ersatz des Gases einfach gestaltet und die Wärmebehandlungsatmosphäre kann
in zuverlässiger
Weise innerhalb von kurzer Zeit ausgetauscht werden, was die Steuerung
der Wärmebehandlungsbedingungen
erleichtert und die Steuerbarkeit verbessert. Infolgedessen lassen
sich Variationen der Eigenschaften des nicht-linearen MIM-Bauelements innerhalb
eines Substrats, unter verschiedenen Substraten und unter verschiedenen
Wärmebehandlungsansätzen weiter
einschränken.
-
Beispiel 4
-
Ein
durchsichtiges Substrat 12, auf dem die Ta-Elektrodenschicht 16 und
Ta2O5 18 ausgebildet waren,
wurde unter den gleichen Bedingungen wie im ersten Beispiel hergestellt.
Anschließend
wurde die Wärmebehandlung
des durchsichtigen Substrats 12 auf ähnliche Weise wie im dritten
Beispiel durchgeführt.
Während
im dritten Beispiel das durchsichtige Substrat 12 2 Stunden
bei 450°C
in der N2-Atmosphäre gehalten wurde, wurde die
Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 2 Stunden bei
410°C in der
N2-Atmosphäre gehalten. Sämtliche übrigen Bedingungen
waren die gleichen wie bei der dritten Ausführungsform.
-
Das
nicht-lineare MIM-Bauelement 50 wurde auf ähnliche
Weise wie im ersten Beispiel gebildet. Der nicht-lineare Parameter β, der Widerstand
im AN-Zustand und der Widerstand im AUS-Zustand des auf dem durchsichtigen
Substrat gebildeten nicht-linearen MIM-Bauelements 50 wurden
auf die gleiche Weise wie im ersten Beispiel gemessen. Es wurden
die Mittelwerte von drei durchsichtigen Substraten 12 gebildet.
Es wurden folgende Werte erhalten: β 9,22, Widerstand im AN-Zustand
4,94 × 1010 Ω und
Widerstand im AUS-Zustand 9,28 × 1013 Ω.
Die Variation der Werte von β,
des Widerstands im AN-Zustand und des Widerstands im AUS-Zustand waren
sehr gering, und zwar sowohl auf der Oberfläche des durchsichtigen Substrats
als auch unter den durchsichtigen Substraten beim Vergleich mit
dem ersten und zweiten Beispiel.
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Beispiel 5
-
Ein
durchsichtiges Substrat 12, auf dem die Ta-Elektrodenschicht 16 und
Ta2O5 18 ausgebildet waren,
wurde unter den gleichen Bedingungen wie im ersten Beispiel hergestellt.
Anschließend
wurde die Wärmebehandlung
des durchsichtigen Substrats 12 auf ähnliche Weise wie im dritten
Beispiel durchgeführt.
Während
im dritten Beispiel das durchsichtige Substrat 12 2 Stunden
bei 450°C
in der N2-Atmosphäre gehalten wurde, wurde die
Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 2 Stunden bei
380°C in der
N2-Atmosphäre gehalten. Sämtliche übrigen Bedingungen
waren die gleichen wie im dritten Beispiel.
-
Das
nicht-lineare MIM-Bauelement 50 wurde auf ähnliche
Weise wie im ersten Beispiel gebildet. Der nicht-lineare Parameter β, der Widerstand
im AN-Zustand und der Widerstand im AUS-Zustand des auf dem durchsichtigen
Substrat 12 gebildeten nicht-linearen MIM-Bauelements 50 wurden
auf die gleiche Weise wie im ersten Beispiel gemessen. Es wurden
die Mittelwerte von drei durchsichtigen Substraten 12 gebildet.
Es wurden folgende Werte erhalten: β 7,84, Widerstand im AN-Zustand
1,96 × 1010 Ω und
Widerstand im AUS-Zustand 2,61 × 1014 Ω.
Die Variation der Werte von β,
des Widerstands im AN-Zustand und des Widerstands im AUS-Zustand waren
sehr gering, und zwar sowohl auf der Oberfläche des durchsichtigen Substrats
als auch unter den durchsichtigen Substraten beim Vergleich mit
dem ersten und zweiten Beispiel.
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Beispiel 6
-
Das
durchsichtige Substrat 12, auf dem die Ta-Elektrodenschicht 16 und
Ta2O5 18 ausgebildet waren,
wurde unter den gleichen Bedingungen wie im ersten Beispiel hergestellt.
Anschließend
wurde die Wärmebehandlung
des durchsichtigen Substrats 12 auf ähnliche Weise wie im dritten
Beispiel durchgeführt.
Während
im dritten Beispiel das durchsichtige Substrat 12 2 Stunden
bei 450°C
in der N2-Atmosphäre gehalten wurde, wurde hier
die Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 2 Stunden
bei 350°C
in der N2-Atmosphäre gehalten. Sämtliche übrigen Bedingungen
waren die gleichen wie im dritten Beispiel.
-
Das
nicht-lineare MIM-Bauelement 50 wurde auf ähnliche
Weise wie im ersten Beispiel gebildet. Der nicht-lineare Parameter β, der Widerstand
im AN-Zustand und der Widerstand im AUS-Zustand des auf dem durchsichtigen
Substrat 12 gebildeten nicht-linearen MIM-Bauelements 50 wurden
auf die gleiche Weise wie im ersten Beispiel gemessen. Es wurden
die Mittelwerte von drei durchsichtigen Substraten 12 gebildet.
Es wurden folgende Werte erhalten: β 6,07, Widerstand im AN-Zustand
1,01 × 1010 Ω und
Widerstand im AUS-Zustand 7,45 × 1013 Ω.
Die Variation der Werte von β,
des Widerstands im AN-Zustand und des Widerstands im AUS-Zustand waren
sehr gering, und zwar sowohl auf der Oberfläche des durchsichtigen Substrats
als auch unter den durchsichtigen Substraten im Vergleich mit dem
ersten und zweiten Beispiel.
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Beispiel 7
-
Ein
durchsichtiges Substrat 12, auf dem die Ta-Elektrodenschicht 16 und
Ta2O5 18 ausgebildet waren,
wurde unter den gleichen Bedingungen wie im ersten Beispiel hergestellt.
Anschließend
wurde die Wärmebehandlung
des durchsichtigen Substrats 12 auf ähnliche Weise wie im dritten
Beispiel durchgeführt.
Während
im dritten Beispiel das durchsichtige Substrat 12 2 Stunden
bei 450°C
in der N2-Atmosphäre gehalten wurde, wurde hier
die Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 2 Stunden
bei 320°C
in der N2-Atmosphäre gehalten. Alle übrigen Bedingungen
waren die gleichen wie im dritten Beispiel.
-
Das
nicht-lineare MIM-Bauelement 50 wurde auf ähnliche
Weise wie im ersten Beispiel gebildet. Der nicht-lineare Parameter β, der Widerstand
im AN-Zustand und der Widerstand im AUS-Zustand des auf dem durchsichtigen
Substrat 12 gebildeten nicht-linearen MIM-Bauelements 50 wurden
auf die gleiche Weise wie im ersten Beispiel gemessen. Es wurden
die Mittelwerte von drei durchsichtigen Substraten 12 gebildet.
Es wurden folgende Werte erhalten: β 4,40, Widerstand im AN-Zustand
3,17 × 109 Ω und
Widerstand im AUS-Zustand 2,95 × 1012 Ω.
Die Variation der Werte von β,
des Widerstands im AN-Zustand und des Widerstands im AUS-Zustand waren
sehr gering, und zwar sowohl auf der Oberfläche des durchsichtigen Substrats
als auch unter den durchsichtigen Substraten im Vergleich mit dem
ersten und zweiten Beispiel.
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Beispiel 8
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Ein
durchsichtiges Substrat 12, auf dem die Ta-Elektrodenschicht 16 und
Ta2O5 18 ausgebildet waren,
wurde unter den gleichen Bedingungen wie im ersten Beispiel hergestellt.
Anschließend
wurde die Wärmebehandlung
des durchsichtigen Substrats 12 auf ähnliche Weise wie im dritten
Beispiel durchgeführt.
Während
im dritten Beispiel das durchsichtige Substrat 12 2 Stunden
bei 450°C
in der N2-Atmosphäre gehalten wurde, wurde hier
die Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 2 Stunden
bei 290°C
in der N2-Atmosphäre gehalten. Alle übrigen Bedingungen
waren die gleichen wie im dritten Beispiel.
-
Das
nicht-lineare MIM-Bauelement 50 wurde auf ähnliche
Weise wie im ersten Beispiel gebildet. Der nicht-lineare Parameter β, der Widerstand
im AN-Zustand und der Widerstand im AUS-Zustand des auf dem durchsichtigen
Substrat 12 gebildeten nicht-linearen MIM-Bauelements 50 wurden
auf die gleiche Weise wie im ersten Beispiel gemessen. Es wurden
die Mittelwerte von drei durchsichtigen Substraten 12 gebildet.
Es wurden folgende Werte erhalten: β 3,62, Widerstand im AN-Zustand
1,90 × 109 Ω und
Widerstand im AUS-Zustand 3,93 × 1011 Ω.
Die Variation der Werte von β,
des Widerstands im AN-Zustand und des Widerstands im AUS-Zustand waren
sehr gering, und zwar sowohl auf der Oberfläche des durchsichtigen Substrats
als auch unter den durchsichtigen Substraten im Vergleich mit dem
ersten und zweiten Beispiel.
-
Im
ersten bis achten Beispiel betrug die Konzentration des Wasserdampfes
in der Luft, die in das Reaktionsrohr 302 eingeleitet wurde,
1,2 Mol-%, bezogen auf die gesamte Luft, die den Wasserdampf enthält.
-
Beispiel 9
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Ein
durchsichtiges Substrat 12, auf dem die Ta-Elektrodenschicht 16 und
der anodische Ta2O5-Oxidationsfilm gebildet
waren, wurde unter den gleichen Bedingungen wie im ersten Beispiel hergestellt.
Anschließend
wurde das durchsichtige Substrat 12, auf dem die Ta-Elektrodenschicht 16 und
der anodische Ta2O5-Oxidationsfilm
gebildet waren, einer Wärmebehandlung
unterzogen. Für
die Wärmebehandlung
wurde der in 5 dargestellte, in Längsrichtung
verlaufende Wärmebehandlungsofen
verwendet.
-
Die
Temperatur in der Vakuumglocke 402 wurde auf 250°C erhöht, wobei
N2-Gas in die Vakuumglocke 402 durch
das Gaseinleitungsrohr 462, die Massenflusssteuervorrichtung 452 und
die Rohre 464, 468 so eingeleitet wurden, dass
der Innenraum der Vakuumglocke 402 in der N2-Gasatmosphäre auf 250°C gehalten
wurde.
-
Ein
Schiffchen 408, das mit 20 durchsichtigen Substraten 12 beladen
war, wurde in die Vakuumglocke 402, die das N2-Gas
von 250°C
enthielt, vom Boden der Vakuumglocke 402 aus eingesetzt.
-
Anschließend wurde
die Heizvorrichtung (nicht dargestellt) in Betrieb gesetzt, um die
Vakuumglocke 402 zu erwärmen,
wobei N2-Gas mit einer Geschwindigkeit von
20 Liter/min von der Oberseite 404 der Vakuumglocke 402 aus
durch das Gaseinleitungsrohr 462, die Massenflusssteuereinrichtung 452 und
die Rohre 464, 468 so eingeleitet wurde, dass die
Temperatur mit einer Geschwindigkeit von 3°C/min anstieg, bis die Temperatur
des durchsichtigen Substrats 12 350°C erreicht hatte.
-
Die
Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 wurde 2 Stunden
auf 350°C
gehalten, wobei die Strömungsgeschwindigkeit
des N2-Gases von 20 Liter/min aufrechterhalten
wurde.
-
Anschließend wurde
mit der Massenflusssteuervorrichtung 452 die Strömungsgeschwindigkeit des
N2-Gases im Rohr 464 auf 10 Liter/min
bei 350°C verringert.
Gleichzeitig verringerte die Massensteuervorrichtung 454 die
Strömungsgeschwindigkeit
des N2-Gases im Rohr 466 zur Einleitung
des N2-Gases in die Waschflasche 430,
die reines Wasser 432 enthielt, auf 10 Liter/min bei 350°C, so dass
das N2-Gas, das Wasserdampf enthielt, mit
10 Liter/min durch das Rohr 434 strömte. N2-Gas
in einer Menge von 10 Liter/min aus dem Rohr 464 und N2-Gas, das Wasserdampf enthielt, in einer
Menge von 10 Liter/min aus dem Rohr 434 wurden im Rohr 468 vermischt.
Das Mischgas wurde in die Vakuumglocke 402 von der Oberseite 404 der
Vakuumglocke 402 aus eingeleitet. In diesem Zustand (mit
dem Strom von N2-Gas, das Wasserdampf enthielt,
wurde die Temperatur von 350°C
mit einer Geschwindigkeit von 0,8°C/min
auf 250°C
gesenkt.
-
In
diesem Beispiel wurde die Temperatur der Waschflasche 430 auf
22°C gehalten.
Die Wasserdampfkonzentration im N2-Gas,
das in die Vakuumglocke 402 von der Oberseite 404 aus
durch das Rohr 468 eingeleitet wurde, wurde auf 2,6 Mol-%,
bezogen auf das gesamte N2-Gas, das Wasserdampf enthielt,
eingestellt.
-
Sobald
die Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 250°C erreicht
hatte, wurde das Schiffchen 408, das mit den durchsichtigen
Substraten 12 bestückt
war, auf der Unterseite aus der Vakuumglocke 402 entnommen.
-
Sodann
wurde das nicht-lineare MIM-Bauelement 50, das die Ta-Elektrodenschicht 16,
den anodischen Ta2O5-Oxidationsfilm 18 und
die Cr-Elektrodenschicht 20 aufwies, auf die gleiche Weise
wie im ersten Beispiel fertiggestellt.
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An
dem nicht-linearen MIM-Bauelement 50, das auf dem durchsichtigen
Substrat 12 ausgebildet war, wurden der nicht-lineare Parameter β, der Widerstand
im AN-Zustand und der Widerstand im AUS-Zustand des nicht-linearen
MIM-Bauelements 50 gemessen. Es wurden die Mittelwerte
für drei durchsichtige
Substrate gebildet. Es wurden folgende Werte erhalten: β-Wert 6,50,
Widerstand im AN-Zustand 1,60 × 1010 Ω und
Widerstand im AUS-Zustand 1,02 × 1014 Ω.
Die Variation der Werte von β,
des Widerstands im AN-Zustand und des Widerstands im AUS-Zustand
waren sehr gering, und zwar sowohl auf der Oberfläche des
durchsichtigen Substrats als auch unter den durchsichtigen Substraten
im Vergleich mit dem ersten und zweiten Beispiel.
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Unter
Verwendung eines Gemisches aus Wasserdampf und N2-Gas
als Gas, das Wasserdampf enthält,
lässt sich
der Anteil des im Mischgas enthaltenen Wasserdampfes leicht steuern,
was die Steuerung der Wärmebedingungen
in der Wasserdampf enthaltenden Gasatmosphäre erleichtert. In diesem Beispiel
wird eine Waschflasche zur Zufuhr von Wasserdampf verwendet. Der
Anteil des Wasserdampfes im Mischgas lässt sich durch Steuerung der
Temperatur der Waschflasche leicht einstellen.
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Vergleichsbeispiel
-
Ein
durchsichtiges Substrat 12, auf dem die Ta-Elektrodenschicht 16 und
der anodische Ta2O5-Oxidationsfilm 18 gebildet
waren, wurde unter den gleichen Bedingungen wie im ersten Beispiel hergestellt.
Anschließend
wurde eine Wärmebehandlung
am durchsichtigen Substrat 12 unter Verwendung des in 3 dargestellten,
in Längsrichtung
arbeitenden Wärmebehandlungsofens 200 durchgeführt. In
diesem Vergleichsbeispiel wurde das Schiffchen 206 mit
40 durchsichtigen Substraten 12 beschickt. Das Schiffchen
wurde in die Vakuumglocke 202 vom Boden aus eingesetzt.
Nach Füllen der
Vakuumglocke 202 mit einer Stickstoffatmosphäre durch
Einleiten von N2-Gas von der Oberseite der Vakuumglocke 202 aus
wurde die Wärmebehandlung
begonnen. Die Wärmebehandlung
wurde unter Verwendung der Heizvorrichtung 204 durchgeführt, wobei
sich das Schiffchen 206 in der Vakuumglocke 202 drehte.
Mit der Heizvorrichtung 104 wurde allmählich die Temperatur mit einer
Geschwindigkeit von 5°C/min
erhöht,
bis die Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 den
Wert 450°C
erreicht hatte, wobei der N2-Gasstrom auf
20 Liter/min gehalten wurde. Die Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 wurde
2 Stunden auf 450°C
gehalten, wobei der N2-Gasstrom mit einer
Geschwindigkeit von 20 Liter/min aufrechterhalten wurde. Anschließend wurde die
Temperatur mit einer Geschwindigkeit von 1°C/min auf 250°C gesenkt,
wobei der N2-Gasstrom auf 20 Liter/min gehalten
wurde. Sobald die Temperatur 250°C
erreicht hatte, wurde das mit den durchsichtigen Substraten 12 beschickte
Schiffchen 206 unten am Boden der Vakuumglocke 202 entnommen.
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Anschließend wurde
die Cr-Elektrodenschicht 20 auf die gleiche Weise wie im
ersten Beispiel gebildet, um die nicht-lineare MIM-Vorrichtung fertigzustellen,
die die Ta-Elektrodenschicht 16, den anodischen Ta2O5-Oxidationsfilm 18 und
die Cr-Elektrodenschicht 20 aufwies.
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Auf ähnliche
Weise wie im ersten Beispiel wurden der nicht-lineare Parameter β, der Widerstand
im AN-Zustand und der Widerstand im AUS-Zustand des nicht-linearen
MIM-Bauelements 50 an drei durchsichtigen Substraten gemessen.
Die Mittelwerte wurden berechnet. Es wurden folgende Werte erhalten: β-Wert 3,10,
Widerstand im AN-Zustand 1,21 × 109 Ω und
Widerstand im AUS-Zustand 4,05 × 1010 Ω.
-
6 ist
ein Diagramm, in dem die β-Werte von
Beispiel 1 bis 9 und des Vergleichsbeispiels aufgetragen sind. Die
horizontale Achse gibt die Wärmebehandlungstemperatur
im N
2-Gas an. Das Symbol
bezeichnet
die β-Werte
im ersten und zweiten Beispiel, das Symbol
die β-Werte im
dritten bis achten Beispiel, das ausgefüllte Dreieck den β-Wert des neunten
Beispiels und das Symbol
den β-Wert des Vergleichsbeispiels.
Aus dem Diagramm ist ersichtlich, dass eine Absenkung der Temperatur
des durchsichtigen Substrats in der Gasatmosphäre, die Wasserdampf enthält, in den
Beispielen 1 bis 9 zu verbesserten β-Werten im Vergleich zum Vergleichsbeispiel,
bei dem die Temperatur nur in einer N
2-Gasatmosphäre ohne
einen Gehalt an Wasserdampf abgesenkt wurde, führen kann. Ferner ergibt sich
bei einer hohen Wärmebehandlungstemperatur
ein hoher β-Wert. Eine langsame
Abkühlung
in der N
2-Atmosphäre, die Wasserdampf enthält, wie
es in den Beispielen 3 bis 9 der Fall ist, ergibt einen höheren β-Wert, selbst
bei einer niedrigeren Wärmebehandlungstemperatur
im Vergleich mit den Beispielen 1 und 2, in denen eine rasche Abkühlung an Luft
vorgenommen wurde. Bei einer Wärmebehandlungstemperatur
von 350–450°C lagen die
gemessenen Widerstandswerte im AUS-Zustand nahe beieinander, da
diese Werte alle unter der Messgrenze lagen.
-
Bei
einem hohen β-Wert
lässt sich
der Kontrast der Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung
verbessern. Wenn der Widerstand im AUS-Zustand hoch ist, ergibt
sich ein angemessener Spielraum gegen den Anstieg des AUS-Kriechstroms
bei hoher Temperatur, wodurch man ein nicht-lineares MIM-Bauelement mit einer überlegenen
Temperaturcharakteristik sowie eine Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung
unter Verwendung eines derartigen nicht-linearen MIM-Bauelements
erhält.
-
Gemäß den 6 bis 8 kann
nach der Wärmebehandlung
in der Stickstoffgasatmosphäre die
Temperatur der Wärmebehandlung
selbst auf 350°C
gesenkt werden, indem man eine langsame Abkühlung an der Luft oder im N2-Gas, das Wasserdampf enthält, vornimmt.
Dies ermöglicht
die Verwendung von billigerem Natronglas als Substrat. Im Ergebnis
werden auch die Herstellungskosten für eine Flüssigkristall-Anzeigevorrichtug
unter Verwendung des auf diese Weise hergestellten nicht-linearen
MIM-Bauelements verringert.
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Bei
einer niedrigen Wärmebehandlungstemperatur
wird die Verdichtung (Kontraktion) des Substrats (z. B. des Glassubstrats)
verringert und die Präzision
bei der Feinverarbeitung oder beim Zusammenbau lässt sich somit verbessern.
Eine niedrigere Wärmebehandlungstemperatur
kann auch Beschädigungen
am nicht-linearen MIM-Bauelement aufgrund von thermischen Spannungen
verringern.
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Eine
langsame Abkühlung
an der Luft oder in N2-Gas, das Wasserdampf
enthält,
die nach der Wärmebehandlung
in der N2-Gasatmosphäre durchgeführt wird, erleichtert auch
die Temperatursteuerung während
der Temperaturabsenkung, wodurch sich nicht-lineare MIM-Vorrichtungen
unter geringen Variationen der Eigenschaften der Vorrichtung bei
verschiedenen Wärmebehandlungsansätzen leicht
herstellen lassen.
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Beispiel 10
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Ein
durchsichtiges Substrat 12, auf dem die Ta-Elektrodenschicht 16 und
der anodische Ta2O5-Oxidationsfilm 18 ausgebildet
waren, wurde unter den gleichen Bedingungen wie im ersten Beispiel
hergestellt.
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Eine
Wärmebehandlung
wurde am durchsichtigen Substrat 12, auf dem die Ta-Elektrodenschicht 16 und
der anodische Ta2O5-Oxidationsfilm 18 ausgebildet
waren, durchgeführt.
Die Wärmebehandlung
wurde unter Verwendung des in 5 dargestellten,
in Längsrichtung
arbeitenden Wärmebehandlungsofens 400 durchgeführt.
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In
diesem Beispiel wurde die Innentemperatur in der Vakuumglocke vorher
auf ähnliche
Weise wie in Beispiel 9 in der N2-Gasatmosphäre bei 250°C gehalten.
-
Ein
mit 20 durchsichtigen Substraten 12 beschicktes Schiffchen 408,
wurde in die Vakuumglocke 402, die mit der N2-Gasatmosphäre von 250°C gefüllt war,
durch den Boden der Vakuumglocke 402 eingeführt.
-
Anschließend wurde
die Heizvorrichtung (nicht dargestellt) zum Heizen der Vakuumglocke 402 angestellt,
wobei N2-Gas mit einer Geschwindigkeit von
20 Liter/min von der Oberseite 404 der Vakuumglocke 402 durch
die Massenflusssteuervorrichtung 452 und die Rohre 464 und 468 eingeleitet
wurde, um die Temperatur mit einer Geschwindigkeit von 3°C/min zu
erhöhen,
bis die Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 350°C erreicht
hatte.
-
Sobald
die Temperatur des Substrats 12 350°C erreicht hatte, wurde N2-Gas, das Wasserdampf enthielt, unter Verwendung
einer Waschflasche 430 durch das Rohr 468 unter
den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 9 in die Vakuumglocke 402 eingeleitet.
Die Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 wurde 90
Minuten auf 350°C
gehalten, wobei weiterhin N2-Gas mit einem
Gehalt an Wasserdampf eingeleitet wurde.
-
Anschließend wurde
die Temperatur von 350°C
mit einer Geschwindigkeit von 0,8°C/min
auf 250°C
gesenkt, wobei immer noch N2-Gas mit einem Gehalt
an Wasserdampf eingeleitet wurde.
-
Sobald
die Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 250°C erreicht
hatte, wurde das die durchsichtigen Substrate 12 tragende
Schiffchen 408 am Boden der Vakuumglocke 402 entnommen.
-
Sodann
wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 das nicht-lineare
MIM-Bauelement 50, das die Ta-Elektrodenschicht 16,
den anodischen Ta2O5-Oxidationsfilm 18 und
die Cr-Elektrodenschicht 20 umfasste, fertiggestellt.
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Unter
Verwendung des auf dem durchsichtigen Substrat 12 gebildeten
nicht-linearen MIM-Bauelements 50 wurden der nicht-lineare
Parameter β,
der Widerstand im AN-Zustand und der Widerstand im AUS-Zustand des
nicht-linearen MIM-Bauelements 50 an drei durchsichtigen
Substraten gemessen. Die Mittelwerte wurden berechnet. Es wurden
folgende Werte erhalten: β-Wert
6,87, Widerstand im AN-Zustand 1,94 × 1010 Ω und Widerstand
im AUS-Zustand 7,76 × 1013 Ω.
Die Variation der Werte von β,
des Widerstands im AN-Zustand und des Widerstands im AUS-Zustand
waren sehr gering, und zwar sowohl auf der Oberfläche des
durchsichtigen Substrats als auch unter den durchsichtigen Substraten
im Vergleich mit den Beispielen 1 und 2.
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In
diesem Beispiel wurde N2-Gas, das Wasserdampf
enthielt, in die Vakuumglocke zum Zeitpunkt des Beginns der Temperaturabsenkung
beim Wärmebehandlungsverfahren
eingeleitet. Jedoch kann das N2-Gas, das
Wasserdampf enthält,
auch während
der Periode von konstanter Temperatur vor der Temperaturabsenkung
eingeleitet werden. Aus den Messergebnissen ist ersichtlich, dass
die charakteristischen Werte des nicht-linearen Bauelements ebenfalls
in erstrebenswerter Weise ähnlich wie
bei den Beispielen sind, bei denen das N2-Gas, das
Wasserdampf enthält,
nur während
der Abkühlperiode
(Temperaturabsenkung) eingeleitet wurde. Dadurch entfällt die
Notwendigkeit einer komplizierten Steuervorrichtung zur Einleitung
des N2-Gases, das Wasserdampf enthält, nur während der
Periode der Temperaturabsenkung. Dadurch lässt sich das Gassteuersystem
vereinfachen. Dies ermöglicht
ferner einen angemessenen Spielraum in Bezug auf die Zeitgebung
der Einleitung des N2-Gases, das Wasserdampf
enthält.
Ferner ergeben sich eine Vereinfachung der Bauart der Vorrichtung
und eine Kostenverringerung bei der Prozesssteuerung.
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Beispiel 11
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Ein
durchsichtiges Substrat 12, auf dem die Ta-Elektrodenschicht 16 und
der anodische Ta2O5-Oxidationsfilm 18 ausgebildet
waren, wurde unter den gleichen Bedingungen wie im ersten Beispiel
hergestellt.
-
Eine
Wärmebehandlung
wurde am durchsichtigen Substrat 12, auf dem die Ta-Elektrodenschicht 16 und
der anodische Ta2O5-Oxidationsfilm 18 ausgebildet
waren, durchgeführt.
Die Wärmebehandlung
wurde unter Verwendung des in 5 dargestellten,
in Längsrichtung
arbeitenden Wärmebehandlungsofens 400 durchgeführt.
-
Zunächst wurde
das N2-Gas, das Wasserdampf enthielt, unter
Verwendung der Waschflasche 430 durch die Leitung 468 unter
den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 9 in die Vakuumglocke 402 eingeleitet.
Der Innenraum der Vakuumglocke 402 wurde in der N2-Gasatmosphäre, die Wasserdampf enthielt,
mit Hilfe des Wasserdampf enthaltenden Gasstroms von N2 auf
250°C gehalten.
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Ein
mit 20 durchsichtigen Substraten 12 beschicktes Schiffchen 408 wurde
in die Vakuumglocke 402, die mit Wasserdampf enthaltendem
N2-Gas von 250°C gefüllt war, durch den Boden der
Vakuumglocke 402 eingeführt.
-
Sodann
wurde die Heizvorrichtung (nicht dargestellt) zum Erwärmen der
Vakuumglocke 402 angestellt, wobei N2-Gas,
das Wasserdampf enthielt, mit einer Geschwindigkeit von 20 Liter/min
von der Oberseite 404 der Vakuumglocke 402 aus
eingeleitet wurde, um die Temperatur mit einer Geschwindigkeit von
3°C/min
zu erhöhen,
bis die Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 350°C erreicht
hatte.
-
Die
Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 wurde 90 Minuten
auf 350°C
gehalten, wobei N2-Gas, das Wasserdampf enthielt, eingeleitet
wurde.
-
Anschließend wurde
die Temperatur von 350°C
mit einer Geschwindigkeit von 0,8°C/min
auf 250°C
abgesenkt, wobei immer noch N2-Gas, das Wasserdampf
enthielt, eingeleitet wurde.
-
Sobald
die Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 250°C erreicht
hatte, wurde das mit den durchsichtigen Substraten 12 beschickte
Schiffchen 408 von der Unterseite der Vakuumglocke 402 aus entnommen.
-
Anschließend wurde
das nicht-lineare MIM-Bauelement 50, das die Ta-Elektrodenschicht 16,
den anodischen Ta2O5-Oxidationsfilm 18 und
die Cr-Elektrodenschicht 20 umfasste, auf die gleiche Weise
wie in Beispiel 1 fertiggestellt.
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Unter
Verwendung des auf dem durchsichtigen Substrat 12 gebildeten
nicht-linearen MIM-Bauelements 50 wurden der nicht-lineare
Parameter β,
der Widerstand im AN-Zustand und der Widerstand im AUS-Zustand des
nicht-linearen MIM-Bauelements 50 für drei durchsichtige Substrate
gemessen. Die Mittelwerte wurden berechnet. Es wurden folgende Werte
erhalten: β-Wert
5,43, Widerstand im AN-Zustand 8,77 × 109 Ω und Widerstand
im AUS-Zustand 2,76 × 1013 Ω.
Die Variation der Werte von β,
des Widerstands im AN-Zustand und des Widerstands im AUS-Zustand
waren sehr gering, und zwar sowohl auf der Oberfläche des
durchsichtigen Substrats als auch unter den durchsichtigen Substraten
im Vergleich mit den Beispielen 1 und 2.
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In
diesem Beispiel wurde N2-Gas, das Wasserdampf
enthielt, von Beginn des Wärmebehandlungsverfahrens
an eingeleitet. Dadurch lassen sich die gleichen angestrebten charakteristischen
Werte des nicht-linearen Bauelements wie in dem Fall erreichen,
bei dem N2-Gas, das Wasserdampf enthält, nur während der
Abkühlperiode
(Temperaturabsenkung) eingeleitet wurde. Dadurch entfällt die
Notwendigkeit der Verwendung einer komplizierten Steuervorrichtung
zur Einleitung des N2-Gases, das Wasserdampf enthält, nur
während
der Periode der Temperaturabsenkung. Dadurch lässt sich das Gassteuersystem vereinfachen.
Da die Wärmebehandlung
in der Atmosphäre,
die Wasserdampf enthält,
mit der ersten Temperaturerhöhungsstufe
begonnen werden kann, lässt
sich ein billigerer, offen strukturierter Wärmebehandlungsofen anstelle
des im vorliegenden Beispiel verwendeten Diffusionsofens einsetzen.
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Der
in den Beispielen 9 bis 11 verwendete Wärmebehandlungsofen 400 weist
eine Diffusionsplatte 406 auf, die eine Scheibe mit einer
Vielzahl von Löchern
umfasst. Der Ofen 400 ist so konstruiert, dass das von
der Oberseite 404 der Vakuumglocke 402 eingeleitete
Gas durch die Diffusionsplatte 406 hindurchtritt und nach
unten zu den durchsichtigen Substraten 12, mit denen das
Schiffchen 408 beschickt ist, strömt. Das Schiffchen 408 befindet
sich auf der Quarzplattform 410, die sowohl als Wärmesperre
als auch als Deckel dient. Das von der Oberseite 404 aus
in die Vakuumglocke 402 eingeleitete Gas strömt aus dem
Ofen durch den Spalt zwischen der Vakuumglocke 402 und
der Quarzplattform 410.
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Beispiel 12
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Wie
in 2 dargestellt, wurde ein Tantaloxidfilm 14 mit
einer Dicke von 100 nm (1 000 Å)
durch Sputtering auf dem durchsichtigen Substrat 12 aus Nichtalkaliglas
abgeschieden. Alternativ lässt
sich der Tantaloxidfilm 14 durch Sputtering eines Tantalfilms
mit einer Dicke von 100 nm (1 000 Å) auf dem durchsichtigen Substrat 12 aus
Nichtalkaliglas und anschließende
thermische Oxidation bilden.
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Anschließend wurde
der Tantalfilm, der 0,2 Gew.-% Wolfram (W), bezogen auf das Tantal
(Ta) enthielt, in einer Dicke bis ro 200 nm (2 000 Å) gebildet.
Der Tantalfilm wurde sodann unter Bildung einer Ta-Elektrodenschicht 16 bemustert.
Die Ta-Elektrodenschicht 16 wurde einer anodischen Oxidation
unter Bildung eines anodischen Oxidationsfilms 18 mit einer
Dicke von 4,8 nm (48 Å), 5,4
nm (54 Å)
bzw. 6 nm (60 Å)
unterworfen. Eine wässrige
Citronensäurelösung wurde
als Elektrolytlösung
verwendet. Die Werte der anodischen Oxidationsspannung für diesen
Vorgang betrugen 25 V, 28 V bzw. 31 V.
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Das
durchsichtige Substrat 12, auf dem die Ta-Elektrodenschicht 16 und
der anodische Ta2O5-Oxidationsfilm 18 ausgebildet
waren, wurde einer Wärmebehandlung
unterworfen.
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Die
Wärmebehandlung
wurde unter Verwendung des in 4 dargestellten,
seitlich ausgerichteten Wärmebehandlungsofens
durchgeführt.
Gas wurde in das Reaktorrohr 302 durch das auf der Oberseite
des Reaktorrohrs 302 vorgesehene Gaseinleitungsrohr 308 eingeleitet
und mit dem Abgasrohr 312 ausgetragen.
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In
diesem Beispiel wurde die Temperatur unter Einleiten von N2-Gas in das Reaktorrohr 302 erhöht und der
Innenraum des Reaktorrohrs 302 wurde mit der N2-Gasatmosphäre gefüllt und
auf 250°C
gehalten. Sodann wurde ein Schiffchen 306, das mit einer
Mehrzahl von durchsichtigen Substraten 12 beschickt war,
in vertikaler Stellung in das Reaktorrohr 302, das in der
N2-Gasatmosphäre auf 250°C gehalten wurde, von der linken
Seite der Figur aus eingeführt.
Sodann wurde das Ventil 310 geschlossen und das Gas wurde
aus dem Reaktorrohr 302 durch die Abgasleitung 312 evakuiert,
wobei die Temperatur auf 250°C
gehalten wurde. Nach dem Evakuieren wurde das Ventil geöffnet, um
erneut N2-Gas in das Reaktorrohr 302 durch
das Gaseinleitungsrohr 308 einzuleiten und das Reaktorrohr 302 mit
N2-Gasatmosphäre zu füllen. Sodann begann man, mit
der Heizvorrichtung 304 die Temperatur mit einer Geschwindigkeit
von 5°C/min
zu erhöhen,
bis die Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 320°C erreicht
hatte, wobei N2-Gas durch das Gaseinleitungsrohr 308 mit
einer Geschwindigkeit von 50 Liter/min eingeleitet und aus dem auf
der Unterseite des Reaktorrohrs 302 vorgesehenen Abgasrohr 312 ausgetragen
wurde. Die Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 wurde
1/2 Stunde auf 320°C
gehalten, wobei die Strömungsgeschwindigkeit
des N2-Gases
von 50 Liter/min aufrechterhalten wurde. Sodann wurde das Ventil 310 bei
einer Temperatur von 320°C
geschlossen und das Gas wurde aus dem Reaktorrohr 302 erneut
durch das Abgasrohr 312 evakuiert. Anschließend wurde
das Ventil 310 geöffnet,
um Mischgas aus Luft und Stickstoff in das Reaktorrohr 302 durch
das Gaseinleitungsrohr 308 einzuleiten. Nachdem das Reaktorrohr 302 mit
dem Mischgas gefüllt war,
wurde die Temperatur mit einer Geschwindigkeit von 1°C/min unter
atmosphärischem
Druck auf 200°C
gesenkt. Nachdem die Temperatur des durchsichtigen Substrats 12 unter
150°C lag,
wurde das mit den durchsichtigen Substraten 12 beschickte Schiffchen 306 von
der linken Seite der Figur aus dem Reaktorrohr 302 entnommen.
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Anschließend wurde
eine nicht-lineare MIM-Vorrichtung 50, die die Ta-Elektrodenschicht 16, den
anodischen Ta2O5 Oxidationsfilm 18 und
die Cr-Elektrodenschicht 20 umfasste, auf die gleiche Weise
wie im ersten Beispiel fertiggestellt.
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Auf ähnliche
Weise wie im ersten Beispiel wurden der nicht-lineare Parameter β, der Widerstand
im AN-Zustand und der Widerstand im AUS-Zustand des auf dem durchsichtigen
Substrat 12 gebildeten nicht-linearen MIM-Bauelements gemessen.
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9 ist
ein Diagramm, das die Beziehung zwischen dem Luftanteil in dem Mischgas
aus Luft und Stickstoff, das in den Reaktor
302 durch das
Gaseinleitungsrohr
308 eingeleitet wurde, und den Widerstandswerten
im AN- und AUS-Zustand darstellt. Der Luftanteil wird wiedergegeben
als: (Luftstrom)/(Luftstrom + N
2-Gasstrom).
Die leeren Quadrate (
),
die leeren Dreiecke (Δ)
und die leeren Rauten bedeuten die Widerstandswerte im AUS-Zustand des
nicht-linearen MIM-Bauelements
50 bei den Werten der anodischen
Oxidationsspannung 25 V, 28 V bzw. 31 V. Die ausgefüllten Quadrate
(
),
die ausgefüllten
Dreiecke und die ausgefüllten
Rauten bedeuten die Widerstandswerte im AN-Zustand des nicht-linearen
MIM-Bauelements, die unter Werten der anodischen Oxidationsspannung
von 25 V, 28 V bzw. 31 V gebildet worden waren.
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Selbst
wenn die Ta-Elektrodenschicht 16 aus einem Tantalfilm,
der 0,2 Gew.-% Wolfram (W), bezogen auf Tantal (Ta) enthält, gebildet
wird, lässt
sich ein angemessen hoher Widerstandswert im AUS-Zustand durch eine
relativ niedrige Wärmebehandlungstemperatur
(320°C)
erzielen, indem man für
die Abkühlstufe
während
der Wärmebehandlung
Gas verwendet, das Luft enthält.
Es ergibt sich auch ein erstrebenswerter β-Wert von mehr als 4,3, was
auf eine gute nicht-lineare Charakteristik hinweist, die zur Erzielung
einer hochwertigen Bildqualität
ausreicht.
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Die
Konzentration des in der Luft enthaltenen Wasserdampfes betrug 1,2
Mol-%, bezogen auf die gesamte Luft. Wenn demzufolge das Luftverhältnis 1 beträgt, ergibt
sich eine Wasserdampfkonzentration von 1,2 Mol-%, bezogen auf das
Mischgas aus Luft und Stickstoff. Bei einem Luftanteil von 0,1 ergibt
sich eine Wasserdampfkonzentration von 0,12 Mol-%, bezogen auf das
Mischgas aus Luft und Stickstoff. Bei einem Luftanteil von 0,01
ergibt sich eine Wasserdampfkonzentration von 0,0112 Mol-%. Die
Untergrenze der experimentellen Daten für den Luftanteil beträgt 0,012.
Die entsprechende Wasserdampfkonzentration beträgt 0,014 Mol-%, bezogen auf
das Mischgas aus Luft und Stickstoff.
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Obgleich
im vorliegenden Beispiel 0,2 Gew.-% Wolfram (W) in der Ta-Elektrodenschicht 16 vorhanden
waren, kann die Ta-Elektrodenschicht 16 auch 0,1 Gew.-%
Re oder 0,2 Gew.-% Mo enthalten. Ferner lässt sich auch mit einer Ta-Elektrodenschicht 16,
bei der dem Tantal keine zusätzlichen
Materialien zugesetzt sind, die gleiche Tendenz der Spannungs-Strom-Charakteristik
wie im vorliegenden Beispiel erreichen.
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Beispiel 13
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Eine
Messung wurde unter Anwendung der Technik des thermischen Desorptionsspektrums (TDS)
durchgeführt,
um den durch das erfindungsgemäße Wärmebehandlungsverfahren
gebildeten Tantaloxidfilm zu untersuchen. Das in 10 dargestellte
Thermodesorptionsspektrometer 500 wurde verwendet, das
ein Vierfachspektrometer 502 und eine IR-Heizvorrichtung 504 in
einer Vakuumkammer 510 umfasste. Die Probe 520 wurde
von der Rückseite aus
durch die IR-Heizvorrichtung 504 erwärmt. Das aus der Probe 520 emittierte
Gas wurde durch das Vierfachspektrometer 502 gemessen,
um ein Thermodesorptionsspektrum zu erzielen. Ein Thermoelement
TC1 war auf der Unterseite der Probe 520 vorgesehen, um
die Temperatur der Probe 520 im Hinblick auf die thermische
Steuerbarkeit zu steuern. Ein Thermoelement TC2 war ferner auf der
Oberseite der Probe 520 vorgesehen, um die Oberflächentemperatur
der Probe 520 zu messen. Da die Wärmeleitfähigkeit des als Probe 520 verwendeten
Quarzsubstrats 522 nicht hoch war und das Substrat eine
Dicke von 1,1 mm aufwies, ergab sich eine Temperaturdifferenz zwischen
den Thermoelementen TC1 und TC2.
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Die
Temperatur beim vorliegenden Herstellungsverfahren für das nicht-lineare
MIM-Bauelement entspricht der von TC2 angezeigten Temperatur. Obgleich
in den vorliegenden Beispielen das nichtlineare MIM-Bauelement auf
Nichtalkaliglas gebildet wurde, wurde für die TDS-Messung Quarzglas verwendet,
um eine hitzebeständige
Beschaffenheit zu gewährleisten
und dadurch die Messtemperatur bis auf 1 000°C ausdehnen zu können. Auch
bei Änderung
des Substratmaterials ergibt sich die gleiche Spannungs-Strom-Charakteristik
des darauf gebildeten nicht-linearen MIM-Bauelements.
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Nachstehend
wird die Art und Weise beschrieben, wie die für die Messung verwendete Probe 520 erhalten
wurde. Ein Tantaloxidfilm 524 mit einer Dicke von 100 nm
(1 000 Å)
wurde durch Sputtering auf dem Quarzsubstrat 522 mit einer
Dicke von 1 mm gebildet. Anschließend wurde der Tantalfilm 526 durch
Sputtering auf dem Tantaloxidfilm 524 gebildet. Der Tantalfilm 526 wurde
einer anodischen Oxidation unterworfen, um den anodischen Oxidationsfilm 528 zu
bilden. Die Dicke des Tantalfilms 526 betrug nach der anodischen
Oxidation 160 nm (1 600 Å)
und die Dicke des Tantaloxidfilms 528 betrug 85 nm (850 Å).
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Anschließend wurde
die Probe 520 auf die gleiche Weise wie in Beispiel 12
einer Wärmebehandlung
unterworfen. Dabei wurde die Temperatur in der N2-Gasatmosphäre erhöht, bis
die Temperatur der Probe 520 den Wert von 320°C erreicht
hatte. Die Temperatur wurde 1/2 Stunde in der N2-Atmosphäre auf 320°C gehalten.
Sodann wurde die Temperatur mit einer Geschwindigkeit von 1,0°C/min in
einer Luftatmosphäre
mit einem Gehalt an 1,2 Mol-% Wasserdampf auf 200°C gesenkt.
Sodann wurde die Probe 520 aus dem Wärmebehandlungsofen entnommen
und zur Messung des Thermodesorptionsspektrums verwendet.
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Das
Messergebnis ist in 12 dargestellt.
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Die
horizontale Achse stellt die Temperatur des auf der rückwärtigen Seite
angeordneten, steuerbaren Thermoelements TC1 dar. Die vertikale
Achse zeigt die Intensität
der Gasmessung beim Atomgewicht 18 (H2O),
das Wasserdampf entspricht. Im Diagramm treten die Peaks P1, P2
und P3 auf. Als Peakwerte werden im Diagramm die durch das Thermoelement
TC2 (das die Oberflächentemperatur
der Probe misst) gemessenen Temperaturen angegeben, da ein geringfügiger Unterschied
in den Temperaturwerten zwischen den Thermoelementen TC1 und TC2 besteht.
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Als
Vergleichsbeispiel wurde eine Probe unter den gleichen Wärmebehandlungsbedingungen hergestellt,
mit der Ausnahme, dass die Abkühlstufe in
einer Stickstoffatmosphäre
ohne einen Gehalt an Wasserdampf durchgeführt wurde. Das Thermodesorptionsspektrum
wurde auch für
das Vergleichsbeispiel gemessen. Das Ergebnis ist in 13 dargestellt.
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Wie
aus den 12 und 13 klar
ersichtlich ist, wurden dann, wenn die Abkühlung (Temperaturab senkung)
beim Wärmebehandlungsverfahren
in einer Atmosphäre
von Luft mit einem Gehalt von 1,2 Mol-% Wasserdampf durchgeführt wurde,
Peaks P1 (Oberflächentemperatur
120°C),
P2 (Oberflächentemperatur
220°C) und
P3 (Oberflächentemperatur 410°C) beobachtet.
Wenn andererseits die Abkühlung
beim Wärmebehandlungsverfahren
in einer Stickstoffatmosphäre
ohne einen Gehalt an Wasserdampf durchgeführt wurde, wurden nur die Peaks
P1 (120°C)
und P3 (410°C)
beobachtet, während
der Peak P2 (220°C)
nicht beobachtet wurde. Der Peak P1 in 13 ergibt
sich aus dem an der Oberfläche der
Probe aufgrund von physikalischer Adsorption haftenden Wasser.
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Um
unter diesen drei Peaks den Peak zu identifizieren, der durch die
Gasatmosphäre
während der
nach der anodischen Oxidation durchgeführten Abkühlstufe beeinflusst wurde,
zu identifizieren, wurde folgender Versuch durchgeführt. Stickstoffgas, das
durch schweres Wasser (D2O), das in der
in 5 dargestellten Waschflasche 430 enthalten
war, geleitet worden war, wurde während der Abkühlung beim
Wärmebehandlungsverfahren
zugesetzt. Mit Ausnahme der Gasatmosphäre während des Abkühlvorgangs
wurde der Versuch unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel
13 für
die Probe mit den in 12 dargestellten Eigenschaften
durchgeführt. Anschließend wurde
die erhaltene Probe durch TDS vermessen, um das Spektrum mit der
Massenzahl 20, die dem Peak von schwerem Wasser entspricht, festzustellen.
Dabei wurde ein Peak nur im gleichen Temperaturbereich wie Peak 2 beobachtet.
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Aus
den vorstehenden Ausführungen
ist ersichtlich, dass der Peak P2 (220°C) durch eine Substanz hervorgerufen
wird, die während
der Wärmebehandlung
in der Atmosphäre,
die Wasserdampf enthält,
eingeführt
wird. Beim Vermessen durch TDS des in den Beispielen 1 bis 12 gebildeten
anodischen Oxidationsfilms wurde der Peak P2 klar festgestellt.
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Somit
ist es bevorzugt, die Wärmebehandlung
in einer Atmosphäre
mit einem Gehalt an Wasserdampf unter Steuerung der Temperatur auf
mindestens unter 220°C
durchzuführen.
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Beispiel 14
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Nach
Herstellung eines nicht-linearen MIM-Bauelements 50 auf
die gleiche Weise wie in den Beispielen 6 und 9 wurde ein Film aus
ITO (Indiumzinnoxid) durch Sputtering mit einer Dicke von 50 nm
(500 Å)
gebildet, der dann zu einer Pixelelektrode 22 gemäß der Darstellung
in 1 bemustert wurde. Auf diese Weise wurde die Elektrodenplatte 10,
die ein durchsichtiges Substrat 12, das auf dem durchsichtigen
Substrat 12 ausgebildete nicht-lineare MIM-Bauelement 50 und
die mit dem nicht-linearen MIM-Bauelement 50 verbundene
Pixelelektrode 22 umfasst, fertiggestellt. Ferner wurde
der ITO-Film durch Sputtering auf einem durchsichtigen Substrat 32 aus
Nichtalkaliglas gebildet. Der ITO-Film wurde zur Bildung einer gegenüberliegenden
Signalelektrode 32 bemustert und die andere Elektrodenplatte 30 wurde
fertiggestellt. Eine Flüssigkristallschicht 40 wurde
zwischen den Elektrodenplatten 10 und 30 aufgenommen
(15).
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Sodann
wurde die aus der Ta-Elektrodenschicht 16 zusammengesetzte
Datenleitung 78 mit der Datenleitungs-Steuerschaltung 76 verbunden, wobei
die Abtastleitung 74, die aus der gegenüberliegenden Signalelektrode 34 zusammengesetzt
war, angeschlossen wurde, um die Abtastleitungs- Steuerschaltung 72 zur Herstellung
einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung 100 zu
bilden. Bei der Messung der Anzeigeeigenschaften zeigte die Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung 100 einen
hohen Kontrast und eine hochwertige Bildqualität.
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Eine
weitere Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung 100 wurde
unter Verwendung des auf die gleiche Weise wie in den Beispielen
4, 7 und 9 gebildeten nicht-linearen MIM-Bauelements 50 hergestellt.
Bei der Messung wurden der gleiche hohe Kontrast und eine gute Bildqualität festgestellt.
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Vorstehend
wurde die vorliegende Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen
beschrieben, wobei die Erfindung nicht auf diese Ausführungsformen
beschränkt
ist. In den Ausführungsformen
wurde die Abkühlstufe
an der Luft oder in einer N2-Gasatmosphäre mit einem
Gehalt an Wasserdampf bei der gleichen Temperatur wie die Wärmebehandlungstemperatur
in der N2-Gasatmosphäre begonnen. Jedoch kann die
Temperatur in der gleichen N2-Gasatmosphäre auf einen
vorbestimmten Wert nach der Wärmebehandlung
in der N2-Gasatmosphäre abgesenkt werden. Anschließend kann
die Atmosphäre
gegen Luft oder N2-Gas, das Wasserdampf
enthält,
ausgetauscht werden, um den Abkühlvorgang
fortzusetzen. Ferner können
Nb, W, Al oder Mo zu der Ta-Elektrode, die Ta als Hauptkomponente
enthält,
zugesetzt werden. Die Cr-Elektrodenschicht 20 kann durch
eine Elektrodenschicht aus Ti, Mo oder Al ersetzt werden. Ferner
kann die Cr-Elektrodenschicht 20 weggelassen werden. Wenn
dies der Fall ist, dient die Pixelelektrode 22 als Cr-Elektrodenschicht 20.
In 14 kann die Verbindungsreihenfolge des Flüssigkristall-Anzeigeelements 60 und des
nicht-linearen MIM-Bauelements 50 zwischen der Abtastleitung 74 und
der Signalleitung 78 umgekehrt werden.
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Gewerbliche
Anwendbarkeit
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Das
erfindungsgemäße Verfahren
zur Herstellung eines nicht-linearen MIM-Bauelements eignet sich
zur Herstellung von nicht-linearen MIM-Bauelementen, die in Flüssigkristall-Anzeigevorrichtungen,
bei denen eine besonders hochwertige Bildqualität erforderlich ist, verwendet
werden.