DE69614215D1 - Verfahren zum Belichten der Randbereiche eines Halbleiterwafers zum Entfernen von nicht benötigten Resist, und Gerät zur Ausführung des Verfahrens - Google Patents

Verfahren zum Belichten der Randbereiche eines Halbleiterwafers zum Entfernen von nicht benötigten Resist, und Gerät zur Ausführung des Verfahrens

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    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
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