DE69519143D1 - Mustererzeugungsverfahren und Verfahren und Apparat zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung unter Verwendung von diesem Verfahren - Google Patents
Mustererzeugungsverfahren und Verfahren und Apparat zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung unter Verwendung von diesem VerfahrenInfo
- Publication number
- DE69519143D1 DE69519143D1 DE69519143T DE69519143T DE69519143D1 DE 69519143 D1 DE69519143 D1 DE 69519143D1 DE 69519143 T DE69519143 T DE 69519143T DE 69519143 T DE69519143 T DE 69519143T DE 69519143 D1 DE69519143 D1 DE 69519143D1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- manufacturing
- semiconductor device
- pattern generation
- generation method
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70125—Use of illumination settings tailored to particular mask patterns
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20261994 | 1994-08-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69519143D1 true DE69519143D1 (de) | 2000-11-23 |
DE69519143T2 DE69519143T2 (de) | 2001-04-05 |
Family
ID=16460381
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69519143T Expired - Fee Related DE69519143T2 (de) | 1994-08-26 | 1995-08-25 | Mustererzeugungsverfahren und Verfahren und Apparat zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung unter Verwendung von diesem Verfahren |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0698824B1 (de) |
KR (1) | KR100377206B1 (de) |
DE (1) | DE69519143T2 (de) |
SG (2) | SG48693A1 (de) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07122478A (ja) * | 1993-10-27 | 1995-05-12 | Sony Corp | パターン投影方法 |
KR20000016498A (ko) * | 1996-06-10 | 2000-03-25 | 다니엘 제이. 설리반 | 생산환경을 위한 홀로그래픽 패터닝방법 및 공구 |
US6930754B1 (en) | 1998-06-30 | 2005-08-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Multiple exposure method |
WO2005015314A2 (en) * | 2003-07-30 | 2005-02-17 | Carl Zeiss Smt Ag | An illumination system for microlithography |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02138491A (ja) | 1988-11-15 | 1990-05-28 | Dowa Mining Co Ltd | 微細電解銅粉末の製造方法 |
JP3245882B2 (ja) * | 1990-10-24 | 2002-01-15 | 株式会社日立製作所 | パターン形成方法、および投影露光装置 |
JP3102076B2 (ja) * | 1991-08-09 | 2000-10-23 | キヤノン株式会社 | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
DE4303028C2 (de) | 1992-02-03 | 1997-08-14 | Hitachi Ltd | Projektionsbelichtungsgerät |
US5309198A (en) * | 1992-02-25 | 1994-05-03 | Nikon Corporation | Light exposure system |
DE69418131D1 (de) * | 1993-03-01 | 1999-06-02 | Gen Signal Corp | Vorrichtung zur erzeugung einer einstellbaren ringförmigen beleuchtung für einen photolithograpischen projektionsapparat |
JPH07122478A (ja) * | 1993-10-27 | 1995-05-12 | Sony Corp | パターン投影方法 |
-
1995
- 1995-08-24 KR KR1019950026459A patent/KR100377206B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1995-08-25 EP EP95401955A patent/EP0698824B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-08-25 SG SG1995001206A patent/SG48693A1/en unknown
- 1995-08-25 SG SG1998000412A patent/SG67481A1/en unknown
- 1995-08-25 DE DE69519143T patent/DE69519143T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0698824A3 (de) | 1996-03-06 |
SG48693A1 (en) | 1998-05-18 |
EP0698824A2 (de) | 1996-02-28 |
DE69519143T2 (de) | 2001-04-05 |
KR100377206B1 (ko) | 2003-06-09 |
SG67481A1 (en) | 1999-09-21 |
KR960008997A (ko) | 1996-03-22 |
EP0698824B1 (de) | 2000-10-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69531568D1 (de) | Apparat zur Projektionsbelichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung unter Verwendung desselben | |
DE69739827D1 (de) | Belichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung unter Verwendung desselben | |
DE69625093D1 (de) | Belichtungsverfahren, Belichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung | |
DE69605337D1 (de) | Positionierungssystem und Verfahren und Apparat zur Herstellung einer Vorrichtung | |
DE69412548T2 (de) | Belichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Mikrovorrichtung unter Verwendung desselben | |
DE69728126D1 (de) | Projektionsbelichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung | |
ATE272135T1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer spinnvliesbahn | |
DE69631260D1 (de) | Abtastbelichtungsapparat, Belichtungsverfahren unter Verwendung desselben und Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung | |
DE69425643T2 (de) | Reinigungsmittel für Halbleiter-Anordnung und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter-Anordnung | |
DE69828461D1 (de) | Verfahren und Apparat zur Herstellung einer Mikroanordnung | |
DE59709248D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer zahnbürste | |
DE69636338D1 (de) | Verfahren zur herstellung einer halbleitervorrichtung | |
ATE232927T1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer verkürtzten zellulosestruktur | |
DE69703395T2 (de) | Projektionsapparat zur Abtastbelichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung unter Verwendung desselben | |
DE69731614D1 (de) | Netzübergreifende einrichtung und verfahren zur herstellung einer solchen einrichtung | |
DE59503839D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Druckform | |
DE69637666D1 (de) | Abtastbelichtungsverfahren und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung unter Verwendung desselben | |
DE69511920T2 (de) | Belichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung | |
DE69424725D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Halbleiteranordnung | |
DE69722661D1 (de) | Verfahren zur herstellung einer halbleitervorrichtung | |
DE69413465T2 (de) | Belichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung unter Verwendung desselben | |
DE69520361T2 (de) | Vorrichtung und kontinuierliches verfahren zur herstellung einer gerinnungstesteinrichtung | |
DE69813658T2 (de) | Apparat zur Projektionsbelichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung | |
DE69719273D1 (de) | Abtastbelichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung unter Verwendung desselben | |
DE69805937D1 (de) | Verfahren zur herstellung einer halbleitervorrichtung und vorrichtung zur anwendung des verfahrens |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |