DE69323917T2 - Durch einen Rahmen gestützter Film zum Schutz von photolithographischen Masken - Google Patents

Durch einen Rahmen gestützter Film zum Schutz von photolithographischen Masken

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Description

    HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Verbesserung bei einem durch einen Rahmen gestützten Film zum Schutz einer photolithographischen Maske oder insbesondere eine Verbesserung bei einem durch einen Rahmen gestützten Film, der aus einem Rahmenelement und einer mit der Oberfläche des Rahmenelements mittels einer dazwischenliegenden Schicht Klebstoff verbundenen transparenten dünnen Membran aus einem polymeren Harz besteht.
  • Bekanntermaßen werden verschiedene Arten von elektronischen Bauteilen, wie z. B. LSIs, VLSIs, Flüssigkristalldisplays, durch ein Verfahren hergestellt, das die photolithographische Strukturierung eines Substrats, wie z. B. eines Halbleitersiliciumwafers, umfaßt. Die photolithographische Strukturierung wird durch Verwendung einer mustertragenden Photomaske durchgeführt, durch die die Substratoberfläche dem Muster entsprechend Ultraviolettlicht ausgesetzt wird. Dem Trend der vergangenen Jahre nach immer höherer Feinheit der Muster in der Photolithographie folgend, ist es sehr wichtig, daß die dafür verwendete Photomaske absolut frei von darauf abgeschiedenen Staubteilchen ist, um die Genauigkeit und Wiedergabetreue des photolithographisch reproduzierten Musters sicherzustellen. Angesichts der Tatsache, daß die vollkommene Abwesenheit von Staubteilchen auf einer Photomaske selbst durch Arbeiten in einem Reinraum von höchster Reinheit kaum zu erreichen ist, ist eine übliche Vorgehensweise, die Photomaske vor der Abscheidung von Staubteilchen zu schützen, indem ein durch einen Rahmen gestützter Film darauf montiert wird.
  • Ein durch einen Rahmen gestützter Film für die Photolithographie, der für den oben beschriebenen Zweck verwendet wird, besteht aus einem Rahmenelement, das in der Regel aus Aluminium, Edelstahl, Polyethylen und dergleichen hergestellt ist, und einer dünnen Membran aus einem polymeren Material, wie z. B. Nitrocellulose, Celluloseacetat, die das bei der Strukturierungsbestrahlung verwendete Licht hindurchläßt und unter ausreichender Spannung von dem Rahmen flach gestützt wird, indem sie darauf mittels einer dazwischenliegenden Klebstoffschicht aufgeklebt ist. Da die Filmmembran in einem bestimmten Abstand über der Photomaske gehalten und das Bestrahlungslicht auf das Muster auf der Photomaske gerichtet wird, erzeugen die Staubteilchen, selbst wenn sie auf der Filmmembran abgeschieden sind, keine besonderen Nachteile bezüglich der Qualität des photolithographisch reproduzierten Musters.
  • Verschiedene Arten von Klebstoffen werden zum Aufkleben einer Filmmembran auf ein Rahmenelement verwendet, einschließlich derjenigen, die in dem US-Patent Nr. 4 861 402 und in der Japanischen Patentveröffentlichung Nr. 63-27707 offenbart sind, wie z. B. Klebstoffe auf Epoxidharz- und Acrylharzbasis. Alternativ kann, wie es in dem Japanischen Patent Kokai Nr. 58-219032 gelehrt wird, eine Filmmembran auf ein Rahmenelement aufgeklebt werden, indem die Oberfläche des Rahmenelements mit einem organischen Lösungsmittel mit guter Lösekraft für das Polymermaterial der Membran benetzt wird und die Membran zur Ausbildung einer Klebeverbindung direkt auf den derart benetzten Rahmen aufgesetzt wird.
  • Die US-A-4087585 offenbart eine Klebstoffzusammensetzung, die ein vinylhaltiges Polyorganosiloxan, eine Organosiliciumverbindung, einen Platinkatalysator, ein Polysiloxan und ein Silan umfaßt.
  • Die US-A-5120810 betrifft Organopolysiloxan-Klebstoffzusammensetzungen, die in Gegenwart von Additionsreaktionskatalysatoren härten und, wenn sie härten, fest auf verschiedenen Materialien haften. Die genannten Zusammensetzungen umfassen ein Organopolysiloxan, ein Organohydrogenpolysiloxan, ein Organosilicium und einen Katalysator.
  • Die EP-A-0315450 offenbart einen Film, der als staubdichte Abdeckung während der Bestrahlung einer Photomaske verwendet wird, umfassend einen Filmrahmen, eine auf eine Seite des genannten Filmrahmens aufgetragene Filmschicht und eine Schicht klebrige Substanz, die Polymere vom Fluortyp und Polymere vom Silicontyp enthalten kann.
  • Eines der Probleme bei dem oben beschriebenen rahmengestützten Film ist, daß, zusätzlich zu der selbstverständlich erforderlichen hohen Festigkeit der Klebeverbindung zwischen der Membran und dem Rahmenelement, die Klebeverbindung nach der Langzeitverwendung des Films im Lauf der Zeit manchmal nicht sehr zuverlässig ist, da die Klebstoffschicht dem Ultraviolettlicht direkt ausgesetzt ist, was für das Polymermaterial des Klebstoffes schädlich ist und zur Zersetzung des Klebharzes führt. Beispielsweise sind herkömmliche Klebstoffe auf Epoxidharz- oder Acrylharzbasis diesbezüglich nicht sehr zufriedenstellend und erleiden, abgesehen von ihrer relativ schwachen Klebeverbindungsfestigkeit, bei der Bestrahlung mit Ultraviolettlicht eine bedeutende Photozersetzung, wodurch sie spröde werden, was zum Auftreten von Staubteilchen von dem spröde gewordenen Klebharz per se oder letztlich zur Ablösung der Membran von dem Rahmenelement führt. Außerdem können die oben genannten herkömmlichen Klebstoffe auf Epoxid- oder Acrylharzbasis nicht zum Verbinden eines Rahmenelements und einer Filmmembran durch Kleben verwendet werden, wenn die Membran aus einem fluorkohlenstoffhaltigen Polymer gebildet wurde, das kürzlich aufgrund seiner verglichen mit herkömmlichen Cellulosederivaten hervorragenden Leistung als Material für die Filmmembran vorgeschlagen worden ist, da sich solch ein fluorhaltiges Polymer kaum mit diesen Klebstoffen kleben läßt.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Demgemäß ist ein Ziel der vorliegenden Erfindung, einen verbesserten rahmengestützten Film als staubdichten Schutz einer bei der photolithographischen Strukturierung bei der Herstellung verschiedener Arten von elektronischen Bauteilen verwendeten Photomaske zur Verfügung zu stellen, durch den die oben beschriebenen Probleme und Nachteile größtenteils überwunden werden können, selbst wenn die Filmmembran aus einem fluorkohlenstoffgruppenhaltigen Polymer gebildet ist.
  • Deshalb stellt die vorliegende Erfindung einen durch einen Rahmen gestützten Film, der zum Schutz einer photolithographischen Photomaske bei der Herstellung elektronischer Bauteile verwendet wird, zur Verfügung, bestehend aus einem Rahmenelement und einer dünnen transparenten Membran aus einem polymeren Material, die ohne Durchhang von dem Rahmenelement gestützt wird, indem das Rahmenelement und die Polymermembran durch Kleben verbunden werden, wobei eine Klebstoffzusammensetzung dazwischen verwendet wird, dadurch gekennzeichnet, daß die genannte Klebstoffzusammensetzung eine Zusammensetzung auf Organopolysiloxanbasis ist, umfassend:
  • (a) ein fluorkohlenstoffgruppenhaltiges Diorganopolysiloxan, dargestellt durch die allgemeine Formel
  • XO-[-SiR&sub2;-O-]p-[-SiR(R²-Rf)-O-]q-[-SiRR¹-O-]r-X, (I)
  • worin R eine monovalente Kohlenwasserstoffgruppe ist, die frei von aliphatischer Ungesättigtheit ist, R¹ eine ethylenisch ungesättigte monovalente aliphatische Kohlenwasserstoffgruppe ist, R² eine bivalente Kohlenwasserstoffgruppe ist, die frei von aliphatischer Ungesättigtheit ist, oder eine veretherte bivalente Kohlenwasserstoffgruppe, die frei von aliphatischer Ungesättigtheit ist, mit einem Sauerstoffatom zwischen zwei Kohlenstoffatomen, wodurch eine Etherbindung gebildet wird, Rf eine Perfluoralkylgruppe ist oder eine veretherte Perfluoralkylgruppe mit wenigstens einem Sauerstoffatom zwischen zwei Kohlenstoffatomen, wodurch eine Etherbindung gebildet wird, X eine Triorganosilylgruppe mit drei monovalenten Kohlenwasserstoffgruppen ist, die an das Siliciumatom gebunden sind, wobei wenigstens eine davon eine ethylenisch ungesättigte monovalente aliphatische Kohlenwasserstoffgruppe ist, die Indizes p und q jeweils eine positive ganze Zahl von wenigstens 10 sind und der Index r null oder eine positive ganze Zahl ist,
  • (b) ein Organohydrogenpolysiloxan mit wenigstens zwei siliciumgebundenen Wasserstoffatomen und vorzugsweise wenigstens einer Epoxidgruppe pro Molekül als ein Vernetzungsmittel in einer derartigen Menge, daß 0,1 bis 3,0 Mol der siliciumgebundenen Wasserstoffatome pro Mol der ethylenisch ungesättigten monovalenten aliphatischen Kohlenwasserstoffgruppen in der Komponente (a) zur Verfügung gestellt werden, und
  • (c) eine katalytische Menge einer Verbindung eines Edelmetalls, das zur Gruppe VIII des Periodensystems gehört.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
  • Wie oben beschrieben, ist die Verbesserung, die durch die vorliegende Erfindung zur Verfügung gestellt wird, gekennzeichnet durch die Verwendung einer speziellen Klebstoffzusammensetzung, die auf einem fluorkohlenstoffgruppenhaltigen Diorganopolysiloxan basiert, das durch die oben angegebene allgemeine Formel (I) dargestellt ist, zum Aufkleben einer Filmmembran aus einem polymeren Harz auf ein Rahmenelement, um einen durch einen Rahmen gestützten Film zu ergeben. Die wesentlichen Bestandteile der Klebstoffzusammensetzung sind u. a. das oben definierte fluorkohlenstoffgruppenhaltige Diorganopolysiloxan mit ethylenisch ungesättigten Kohlenwasserstoffgruppen als die Komponente (a), ein epoxidgruppenhaltiges Organohydrogenpolysiloxan als die Komponente (b) und eine Edelmetallverbindung als die Komponente (c), die als Katalysator zur Beschleunigung der Additionsreaktion zwischen den ethylenisch ungesättigten Kohlenwasserstoffgruppen in der Komponente (a) und den siliciumgebundenen Wasserstoffatomen in der Komponente (b) dient.
  • Das Diorganopolysiloxan als die Komponente (a) der Klebstoffzusammensetzung ist durch die oben angegebene allgemeine Formel (I) dargestellt. In dieser allgemeinen Formel bedeutet das Symbol R eine monovalente Kohlenwasserstoffgruppe, die frei von aliphatischer Ungestättigtheit ist, mit vorzugsweise 1 bis 8 Kohlenstoffatomen. Beispiele für die als R geeignete monovalente Kohlenwasserstoffgruppe sind u. a. Alkylgruppen, wie z. B. Methyl-, Ethyl-, Propyl- und Butylgruppen, Cycloalkylgruppen, wie z. B.
  • Cyclohexyl- und Cyclopentylgruppen, Arylgruppen, wie z. B. Phenyl-, Tolyl- und Xylylgruppen, und Aralkylgruppen, wie z. B. Benzyl- und 2- Phenylgruppen. Ein Teil oder alle der Wasserstoffatome in diesen Kohlenwasserstoffgruppen können durch Substituentengruppen, wie z. B. Halogenatome (z. B. Chloratome), Cyanogruppen, ersetzt sein, um beispielsweise Chlormethyl- und 2-Cyanoethylgruppen zu ergeben. Vorzugsweise ist die Gruppe R eine Methylgruppe.
  • Die durch R¹ dargestellte Gruppe in der allgemeinen Formel (I) ist eine ethylenisch ungesättigte Gruppe, wie z. B. Vinyl- und Allylgruppen, wobei Vinyl bevorzugt ist.
  • Die durch R² dargestellte Gruppe in der allgemeinen Formel (I) ist eine verbindende Gruppe zwischen einem Siliciumatom in der Polysiloxan kette und der perfluorierten Gruppe, die durch Rf dargestellt ist. Das heißt, daß die Gruppe R² eine bivalente Kohlenwasserstoffgruppe, die frei von aliphatischer Ungesättigtheit ist, mit beispielsweise 1 bis 8 Kohlenstoffatomen ist. Die Gruppe R² kann eine veretherte bivalente Kohlenwasserstoffgruppe mit einem Sauerstoffatom zwischen zwei Kohlenstoffatomen sein, wodurch eine Etherbindung gebildet wird. Dementsprechend wird die Gruppe R² veranschaulicht durch diejenigen Gruppen, die durch die folgenden Strukturformeln dargestellt sind, worin Me eine Methylgruppe und Pn eine Phenylengruppe ist:
  • -CH&sub2;-, -CH&sub2;CH&sub2;-, -CH&sub2;CH&sub2;CH&sub2;-, -CH&sub2;CH&sub2;CH&sub2;CH&sub2;CH&sub2;CH&sub2;-, -[-CHMe-CH&sub2;-]&sub2;-, -Pn-, -CH&sub2;-O-CH&sub2;-, -CH&sub2;CH&sub2;CH&sub2;-O-CH&sub2;-, -CH&sub2;-O-CH&sub2;CH&sub2;CH&sub2;- und -CH&sub2;-O-CH&sub2;-Pn-,
  • von denen besonders bevorzugt sind: -CH&sub2;CH&sub2;-, -CH&sub2;CH&sub2;CH&sub2;- und -CH&sub2;CH&sub2;CH&sub2;-O-CH&sub2;-. Wenn die Gruppe unsymmetrisch ist, wie z. B. -CH&sub2;CH&sub2;CH&sub2;-O-CH&sub2;-, sollte es so aufgefaßt werden, daß das Kohlenstoffatom am linken Ende der Formel an das Siliciumatom gebunden ist und das Kohlenstoffatom am rechten Ende der Formel an die Rf-Gruppe gebunden ist.
  • Die Gruppe Rf in der allgemeinen Formel (I) ist eine Perfluoralkylgruppe, die gegebenenfalls verethert ist, indem sie ein oder mehrere Sauerstoffatome zwischen zwei Kohlenstoffatomen besitzt, wodurch eine Etherbindung gebildet wird, mit 4 bis 16 oder vorzugsweise 4 bis 10 Kohlenstoffatomen. Wenn die Gruppe Rf eine Perfluoralkylgruppe ist, sind Beispiele für geeignete Gruppen u. a. Perfluorhexyl-, Perfluoroctyl- und Perfluordecylgruppen, während, wenn sie eine veretherte Perfluoralkylgruppe ist, geeignete Gruppen u. a. diejenigen sind, die durch die folgenden Formeln dargestellt sind:
  • C&sub3;F&sub7;-O-CF(CF&sub3;)-, C&sub3;F&sub7;-O-CF(CF&sub3;)-CF&sub2;-O-CF(CF&sub3;)-, C&sub2;F&sub5;-O-CF&sub2;-CF&sub2;- und C&sub3;F&sub7;-O-CF(CF&sub3;)-CF&sub2;-O-CF&sub2;-.
  • Die durch X dargestellte Gruppe an jedem Molekülkettenende des Diorganopolysiloxanmoleküls ist eine Triorganosilylgruppe mit drei monovalenten Kohlenwasserstoffgruppen, die an das gleiche Siliciumatom am Polysiloxankettenende gebunden sind. Es ist wesentlich, daß wenigstens eine der drei monovalenten Kohlenwasserstoffgruppen eine ethylenisch ungesättigte Gruppe ist, wie z. B. Vinyl-, Allyl- und Hexenylgruppen, wobei Vinyl bevorzugt ist. Die anderen der drei monovalenten Kohlenwasserstoffgruppen können entweder gesättigt oder ungesättigt sein. Ein Beispiel für die als X bevorzugten Gruppen ist eine Vinyldimethylsilylgruppe. ·
  • Der Index p in der allgemeinen Formel (I) ist eine positive ganze Zahl von wenigstens 10 oder, bevorzugt, im Bereich von 100 bis 10000, und der Index q in der allgemeinen Formel (I) ist eine positive ganze Zahl von wenigstens 10 oder, bevorzugt, im Bereich von 50 bis 5000. Der Index r ist null oder eine positive ganze Zahl, vorzugsweise liegt jedoch das Verhältnis von q:(p+q+r) im Bereich von 1 : 50 bis 1 : 3. Die Werte dieser Indizes sind entscheidend für den Polymerisationsgrad der Diorganopolysiloxanmoleküle oder, daraus folgend, für die Viskosität des Diorganopolysiloxans. In dieser Hinsicht sollten diese Indizes vorzugsweise jeweils einen derartigen Wert haben, daß das Diorganopolysiloxan eine Viskosität im Bereich von 100 bis 10000000 Centistokes bei 25ºC haben kann. Es ist natürlich fakultativ, daß die Komponente (a) eine Kombination aus zweierlei oder mehreren verschiedenen Diorganopolysiloxanen ist, die jeweils die oben angegebene Definition erfüllen.
  • Das oben beschriebene fluorkohlenstoffgruppenhaltige Diorganopolysiloxan kann durch ein Verfahren synthetisiert werden, das den Fachleuten auf dem Gebiet der Siliconprodukte gut bekannt ist. Zum Beispiel wird eine ringöffnende Polymerisationsreaktion in einer Mischung aus cyclischen Trimeren oder Tetrameren, die aus den Diorganosiloxan einheiten der Formeln [-SiR(R²-Rf)O], [-SiR&sub2;O] und gegebenenfalls [-SiRR¹O] bestehen, zusammen mit einem Hexaorganodisiloxan der Formel X-O-X als endgruppenliefernder Bestandteil in Gegenwart eines Alkali- oder Säurekatalysators bewirkt, wobei jedes Symbol die gleiche Bedeutung wie oben definiert hat. Geeignete Alkali- oder Säurekatalysatoren sind u. a. Alkalihydroxide, wie z. B. Lithiumhydroxid, Natriumhydroxid und Kaliumhydroxid, Alkalisiliconate, wie z. B. Lithiumsiliconat, Natriumsiliconat und Kaliumsiliconat, quartäre Ammonium- oder Phosphoniumhydroxide, wie z. B. Tetramethylammoniumhydroxid und Tetrabutylphosphinhydroxid, penta-covalente Siliciumverbindungen, Schwefelsäure, Trifluormethansulfonsäure und so weiter. Insbesondere dient ein Alkalisiliconat der allgemeinen Formel X-O-(-SiR&sub2;-O-)n-M, worin M ein Atom eines Alkalimetalls ist und n null oder positive ganze Zahl ist, sowohl als ein Alkalimetallkatalysator als auch als ein endgruppenliefernder Bestandteil.
  • Die Komponente (b) in der Klebstoffzusammensetzung, die in der Erfindung verwendet wird, ist ein Organohydrogenpolysiloxan, das in einem Molekül wenigstens zwei Wasserstoffatome, die direkt an die Siliciumatome gebunden sind, und vorzugsweise wenigstens eine Epoxidgruppe besitzt. Diese Komponente dient als Vernetzungsmittel für die oben beschriebene Komponente (a), indem sie die Additions- oder sogenannte Hydrosilylierungsreaktion zwischen den ethylenisch ungesättigten Kohlenwasserstoffgruppen oder Vinylgruppen in der Komponente (a) und den siliciumgebundenen Wasserstoffatomen in dieser Komponente bewirkt. Die Komponente dient auch als Haftfördermittel, da Epoxidgruppen darin enthalten sind. Selbstverständlich ist es fakultativ, daß die Komponente (b) eine Kombination aus zwei Organohydrogenpolysiloxanen mit und ohne Epoxidgruppen ist.
  • Das epoxidhaltige Organohydrogenpolysiloxan als die Komponente (b) wird typischerweise dargestellt durch die allgemeine Formel:
  • [G-O-(CH&sub2;)&sub3;-SiMe&sub2;-O]a[H-SiMe&sub2;-O-]b[Me]3-a-bSi-(CH&sub2;)&sub2;-(Rf¹)e- -(CH&sub2;)&sub2;-Si[Me]3-c-d[-O-SiMe&sub2;-H]c[-O-SiMe&sub2;-(CH&sub2;)&sub3;-O-G]d,
  • worin G eine Glycidylgruppe ist, Me eine Methylgruppe ist, Rf¹ eine perfluorierte bivalente Alkylengruppe oder eine veretherte Alkylengruppe mit einem Sauerstoffatom zwischen zwei Kohlenstoffatomen ist, die Indizes a, b, c und d jeweils null oder eine positive ganze Zahl sind, mit der Maßgabe, daß a+b und c+d jeweils 1, 2 oder 3 sind, a+d wenigstens 1 ist und b+c wenigstens 2 ist, und der Index e null oder 1 ist. Spezielle Beispiele für das epoxidhaltige Organohydrogenpolysiloxan sind u. a. diejenigen, die durch die folgenden Formeln dargestellt sind:
  • [H-SiMe&sub2;-O-]&sub3;Si-(CH&sub2;)&sub2;-Rf¹-(CH&sub2;)&sub2;- -Si[-O-SiMe&sub2;-H]&sub2;[-O-SiMe&sub2;-(CH&sub2;)&sub3;-O-G],
  • [G-O-(CH&sub2;)&sub3;-SiMe&sub2;-O-][H-SiMe&sub2;-O-]&sub2;Si-(CH&sub2;)&sub2;-Rf¹- -(CH&sub2;)&sub2;-Si[-O-SiMe&sub2;-H]&sub2;[-O-SiMe&sub2;-(CH&sub2;)&sub3;-O-G] und
  • [H-SiMe&sub2;-O-]&sub3;Si-(CH&sub2;)&sub2;-C&sub6;F&sub1;&sub2;-(CH&sub2;)&sub2;- -Si[-O-SiMe&sub2;-H]&sub2;[-O-SiMe&sub2;-(CH&sub2;)&sub3;-O-G].
  • Die Menge der Komponente (b) in der Klebstoffzusammensetzung sollte ausreichend sein, um 0,1 bis 3,0 Mol, vorzugsweise 0,2 bis 2,0 Mol, der siliciumgebundenen Wasserstoffatome pro Mol der ethylenisch ungesättigten Kohlenwasserstoffgruppen oder insbesondere der Vinylgruppen in der Komponente (a) zur Verfügung zu stellen. Wenn die Menge der Komponente (b) zu klein ist, kann die Festigkeit der Klebeverbindung, welche die Klebstoffzusammensetzung nach der Härtung aufweist, aufgrund der mangelnden Vernetzungsdichte und dem Fehlen der haftungsfördernden Wirkung der Epoxidgruppen nicht stark genug sein. Andererseits, wenn die Menge der Komponente (b) zu groß ist, verursacht die übermäßig große Zahl der siliciumgebundenen Wasserstoffatome manchmal eine störende Schaumbildung. In einer Überschlagsrechnung liegt die Menge der Komponente (b) im Bereich von 0,1 bis 50 Gewichtsteilen pro 100 Gewichtsteile der Komponente (a).
  • Es ist fakultativ oder manchmal von Vorteil, daß die Komponente (b) eine Kombination aus dem oben beschriebenen epoxidgruppenhaltigen Organohydrogenpolysiloxan und einem Organohydrogenpolysiloxan ohne Epoxidgruppen ist, das ebenfalls ein Vernetzungsmittel für die Komponente (a) sein kann. Eine solche epoxidfreie Organohydrogenpolysiloxanverbindung ist als Bestandteil einer additionsreaktionshärtbaren Organopolysiloxanzusammensetzung gut bekannt. Insbesondere ist ein Organohydrogenpolysiloxan mit wenigstens einer fluorsubstituierten Kohlenwasserstoffgruppe, z. B. einer Gruppe, die durch die Formel -R²-Rf dargestellt ist, als Teil der monovalenten Kohlenwasserstoffgruppen, die an die Siliciumatome gebunden sind, bevorzugt. Beispiele für solch ein Organohydrogenpolysiloxan sind u. a. diejenigen, die im folgenden angegeben sind:
  • Me&sub3;Si-O-[-SiMe&sub2;-O-]u-[-SiMe(R²-Rf)-O-]v-[-SiMeH-O-]w-SiMe&sub3;, worin die Indizes u und v jeweils null oder eine positive ganze Zahl sind und der Index w eine positive ganze Zahl von 2 oder größer ist;
  • cyclische Oligomere, z. B. Trimere und Tetramere, bestehend aus den bifunktionellen Siloxaneinheiten der Formeln
  • [-SiMe&sub2;O], [-SiMe(R²-Rf)O] und [-SiMeHO], einschließlich
  • wenigstens zwei der Einheiten [-SiMeHO];
  • Rf-R²-Si[-O-SiMe&sub2;H]&sub3; und
  • Si[-O-SiMe&sub2;H]&sub4;.
  • Zusätzlich sind verwendbare Organohydrogenpolysiloxane u. a. diejenigen, die aus den monofunktionellen Siloxaneinheiten der Formel [SiMe&sub2;H-O0,5] und den tetrafunktionellen Siloxaneinheiten der Formel [SiO&sub2;] bestehen. Das epoxidfreie Organohydrogenpolysiloxan sollte vorzugsweise eine Viskosität haben, die 1000 Centistokes bei 25ºC nicht übersteigt.
  • Die Komponente (c) in der Klebstoffzusammensetzung, die dazu dient, die Additions- oder sogenannte Hydrosilylierungsreaktion zur Bildung von Vernetzungen zwischen den ethylenisch ungesättigten Kohlenwasserstoffgruppen oder Vinylgruppen in der Komponente (a) und den siliciumgebundenen Wasserstoffatomen in dem Organohydrogenpolysiloxan als die Komponente (b) katalytisch zu beschleunigen, ist eine Verbindung eines Edelmetalls, das zur Gruppe VIII des Periodensystems gehört, wie z. B. Platin, Palladium und Rhodium. Platinverbindungen sind wegen ihrer guten Verfügbarkeit bevorzugt. Geeignete Platinverbindungen sind u. a. Chlorplatinsäure, Chlorplatinsäurekomplexe mit einem Olefin, wie z. B. Ethylen, Chlorplatinsäurekomplexe mit einem Alkohol und Chlorplatinsäurekomplexe mit einem vinylhaltigen Organopolysiloxan. Sie werden vorzugsweise in Form einer Lösung in einem organischen Lösungsmittel verwendet.
  • Die Menge des Härtungskatalysators als die Komponente (c) hängt natürlich von der erwünschten Härtungsgeschwindigkeit ab. Die Menge liegt üblicherweise im Bereich von 1 bis 1000 Gew.-ppm oder vorzugsweise von 10 bis 500 Gew.-ppm, berechnet als Metall, z. B. Platin, bezogen auf die Gesamtmenge der Klebstoffzusammensetzung, die demnach innerhalb weniger Minuten bis mehrerer Stunden bei Temperaturen von 100 bis 200ºC vollständig ausgehärtet sein kann.
  • Die in der vorliegenden Erfindung verwendete Klebstoffzusammensetzung kann durch gleichmäßiges Vermischen der oben beschriebenen wesentlichen und fakultativen Komponenten jeweils in einer vorgegebenen Menge hergestellt werden. Es ist natürlich fakultativ, daß die Klebstoffzusammensetzung je nach Bedarf mit verschiedenen Arten von bekannten Additiven weiter vermischt wird. Zum Beispiel kann die Bin dungsfestigkeit der Klebstoffzusammensetzung durch die Zugabe eines Organopolysiloxans mit einer harzartigen Struktur, die aus den tetrafunktionellen Siloxaneinheiten der Formel [SiO&sub2;] und den monofunktionellen Siloxaneinheiten der Formeln [(CH&sub2;=CH)R&sub2;SiO0,5] und [R&sub3;SiO0,5] besteht, wobei R die gleiche Bedeutung wie oben definiert hat, erhöht werden. Die Härtungsgeschwindigkeit der Klebstoffzusammensetzung kann durch die Zugabe eines Organopolysiloxans mit den bifunktionellen Siloxaneinheiten der Formel [(CH&sub2;=CH)RSiO], einer organischen Verbindung mit einer acetylenischen Dreifachbindung und einer ionischen Verbindung eines Schwermetalls verlangsamt oder gesteuert werden. Darüber hinaus kann der Klebstoffschicht nach der Härtung eine erhöhte Flexibilität verliehen werden, indem sie mit einem Organopolysiloxan ohne Funktionalität vermischt wird. Es ist natürlich fakultativ, daß die Klebstoffzusammensetzung mit einem anorganischen Füllstoff vermischt wird, mit dem Ziel, die Schrumpfung der Zusammensetzung durch Härtung sowie den Wärmeausdehnungskoeffizienten der ausgehärteten Klebstoffzusammensetzung zu verringern und die Wärmestabilität, die Verwitterungsbeständigkeit und die mechanische Festigkeit der ausgehärteten Klebstoffzusammensetzung zu verbessern. Beispiele für geeignete Füllstoffe sind u. a. Quarzstaub- und Kieselhydrogel-Füllstoffe, feinteiliges Quarzpulver, Glasfasern, pulveriger oder faseriger Kohlenstoff, Metalloxide, z. B. Eisenoxid, Titandioxid und Ceroxid, und Metallcarbonate, z. B. Calciumcarbonat und Magnesiumcarbonat. Farbmittel, z. B. Farbstoffe und Pigmente, und Antioxidantien sind ebenfalls unter den bekannten Additiven, die nach Bedarf zu der Klebstoffzusammensetzung hinzugegeben werden können.
  • Falls erwünscht, kann ein kleines Volumen eines organischen Lösungsmittels, wie z. B. Toluol und Xylol, zu der Klebstoffzusammensetzung hinzugegeben werden, damit der Zusammensetzung eine Viskosität verliehen wird, die geeignet ist, um das Rahmenelement oder die Membran damit zu überziehen.
  • Das polymere Material der Filmmembran, die durch Verwendung der oben beschriebenen erfindungsgemäßen Klebstoffzusammensetzung auf ein Rahmenelement aufgeklebt wird, ist nicht besonders begrenzt. Zum Beispiel können natürlich die meisten herkömmlichen Cellulosederivate, wie z. B. Nitrocellulose und Celluloseacetat, verwendet werden, obwohl diese Cellulosederivate wegen der geringen Stabilität gegenüber Ultraviolettbestrahlung mangelhaft sind und als Folge ihrer starken Absorption von Ultraviolettlicht in einem Kurzwellenlängenbereich von 210 nm bis 500 nm während der Verwendung zur Vergilbung oder Zersetzung führen. Diese Cellulosederivate werden deshalb nicht als Filmmembranmaterial zur Verwendung in einem Feinststrukturierungsprozeß bei VLSIs und sehr fein strukturierten Flüssigkristalldisplays, welcher üblicherweise durch Verwendung von kurzwelligem Ultraviolettlicht, wie z. B. Excimerlaserstrahlen und sogenannten g- und i-Linien, durchgeführt wird, empfohlen.
  • Wenn der durch einen Rahmen gestützte Film gemäß der Erfindung bei einer photolithographischen Strukturierung unter Verwendung von kurzwelligem Ultraviolettlicht verwendet wird, so ist das polymere Material der Filmmembran vorzugsweise z. B. auf ein Polymer von Trimethylvinylsilan, das in dem Japanischen Patent Kokai 2-230245 offenbart ist, und auf eine Pullulan-Verbindung, die in dem Japanischen Patent Kokai 3-210561 offenbart ist, sowie auf ein amorphes Fluorkohlenstoffpolymer und einen siliconmodifizierten Polyvinylalkohol, der kürzlich von einigen Erfindern vorgeschlagen wurde, beschränkt.
  • Diese Polymere können durch irgendein bekanntes Verfahren, wie z. B. Gießen einer Lösung, zu einer Membran geformt werden. Zum Beispiel wird das Polymer in einem geeigneten organischen Lösungsmittel in einer Konzentration von 3 bis 10 Gew.-% gelöst und die Lösung auf die Oberfläche einer flachen und waagrecht gehaltenen Substratplatte gegossen, gefolgt von der Verdampfung des Lösungsmittels und dem Ablösen des getrockneten Films von der Substratoberfläche. Die so herge stellte Filmmembran sollte eine Dicke im Bereich von 0,1 bis 10 um oder vorzugsweise von 0,5 bis 5 um haben, wobei die Ausgewogenheit zwischen der mechanischen Festigkeit und der Lichtdurchlässigkeit in Betracht gezogen wird.
  • Zum Beispiel sollte die Filmmembran eine Lichtdurchlässigkeit von wenigstens 95% oder vorzugsweise wenigstens 98% im Wellenlängenbereich von 210 bis 500 nm für den Zweck praktischer Anwendungen haben, obwohl eine Lichtdurchlässigkeit von so niedrig wie 90% manchmal annehmbar sein kann, wenn eine relativ große Dicke von 5 um oder mehr aus bestimmten Gründen in bezug auf die mechanische Festigkeit benötigt wird.
  • Um die Abscheidung von Staubteilchen auf der Filmmembran von außen durch die Anziehungskraft einer etwaigen angesammelten elektrostatischen Aufladung zu minimieren, ist es von Vorteil, daß die Filmmembran einer antistatischen Behandlung unterworfen wird, indem eine transparente elektrisch leitende Schicht darauf gebildet wird oder die Oberfläche durch eine chemische oder physikalische Behandlung hydrophil gemacht wird. Ebenso ist es von Vorteil, daß die Filmmembran auf der Oberfläche mit einem reflektionsarmen Überzugsfilm aus Magnesiumfluorid, Calciumfluorid ausgestattet wird, um ihre effektive Lichtdurchlässigkeit zu erhöhen. Ferner ist es fakultativ, daß die Filmmembran auf der Oberfläche, die, wenn der rahmengestützte Film auf eine Photomaske aufgesetzt ist, der Photomaske zugewandt ist, mit einem Haftmittel überzogen wird, mit dem Ziel, etwaige Staubteilchen, die in dem Raum zwischen der Filmmembran und der Photomaske schweben, einzufangen. Die oben beschriebenen zusätzlichen Behandlungen einer Filmmembran können entweder vor oder nach dem Aufkleben der Membran auf die Oberfläche eines Rahmenelements durchgeführt werden.
  • Der durch einen Rahmen gestützte Film gemäß der Erfindung wird durch Aufkleben der Filmmembran flach und unter ausreichender Spannung auf die Oberfläche eines Rahmenelements hergestellt, indem die oben beschriebene spezielle Klebstoffzusammensetzung verwendet wird. Als Handelserzeugnis wird der so hergestellte rahmengestützte Film auf der Oberfläche des Rahmenelements gegenüber der Oberfläche, auf der die Filmmembran aufgeklebt ist, mit einem Haftmittel überzogen, um das Aufsetzen des rahmengestützten Films auf eine Photomaske zu erleichtern, und die klebrige Oberfläche wird durch Anbringen einer einstweilig schützenden Abziehpapierfolie geschützt.
  • Im folgenden wird der erfindungsgemäß verbesserte rahmengestützte Film durch Beispiele und Vergleichsbeispiele detaillierter veranschaulicht.
  • Beispiel 1
  • Eine Filmmembran mit einer Dicke von 1,21 um wurde durch das Gießverfahren aus einer Lösung eines perfluorierten Polymers (Teflon AF 1600, ein Produkt von Du Pont Co.), das ein Copolymer von Tetrafluorethylen und einer cyclischen Perfluoretherverbindung ist, gelöst in einem Fluorkohlenstofflösungsmittel (Fluorinert FC-75, ein Produkt von 3M Co.), hergestellt. Die Lösung wurde auf eine gut polierte Quarzglasscheibe mit einem Durchmesser von 200 mm und einer Dicke von 3 mm gegossen, gefolgt von der 3stündigen Trocknung bei 150ºC und dem Ablösen des derart getrockneten Films von der Substratoberfläche in Wasser, welcher dann auf einen aus Teflon hergestellten ringförmigen Rahmen mit einem Außendurchmesser von 150 mm übertragen und darauf in einem Vakuum-Trockenofen bei 100ºC 5 Stunden lang getrocknet wird.
  • Separat wurde ein fluorkohlenstoffhaltiges Organopolysiloxan als Klebstoffzusammensetzung, welche hier nachfolgend als Klebstoff I bezeichnet wird, auf die folgende Weise hergestellt.
  • In einen Vierhalskolben, der mit einem Rührer, einem Gaseinleitungsrohr, einem Thermometer und einem Gasauslaßrohr ausgestattet war, wurden zunächst 1000 g eines perfluoralkylgruppenhaltigen cyclischen Organopolysiloxantrimers 1,1,3,3,5-Pentamethyl-5-(2-perfluoroctyl) ethylcyclotrisiloxan, 2,1 g 1,1,3,3-Tetramethyl-1,3-divinyldisiloxan und 0,1 g Trifluormethansulfonsäure eingebracht und die Mischung 6 Stunden lang bei 50ºC gerührt, um die Ringöffnungspolymerisation des cyclischen Trimers zu bewirken und ein Polymer zu ergeben, das an jedem Molekülkettenende mit einer Dimethylvinylsiloxygruppe terminiert ist. Nach Beendigung der Reaktion wurde die Reaktionsmischung durch die Zugabe von 0,4 g eines 30%igen Ammoniakwassers neutralisiert, gefolgt von einer Adsorptionsbehandlung mit Aktivkohle und der Entfernung flüchtiger Stoffe durch Destillation. Das so erhaltene Diorganopolysiloxan, das hier nachfolgend als Polysiloxan A bezeichnet wird, könnte durch die gemittelte Formel
  • Vi-SiMe&sub2;-O-[-(-SiMe&sub2;-O-)&sub2;-SiMe(CH&sub2;-CH&sub2;-C&sub8;F&sub1;&sub7;)-O-]&sub2;&sub0;&sub0;-SiMe&sub2;-Vi
  • ausgedrückt werden, worin Me eine Methylgruppe ist und Vi eine Vinylgruppe ist.
  • Ein 100-g-Teil des Polysiloxans A wurde mit 15 g eines Quarzglas-Füllstoffs, dessen Oberfläche mit Trimethylsiloxygruppen blockiert war, vermischt und die Mischung in einer Knetapparatur bei 150ºC 2 Stunden lang geknetet, gefolgt von dem Zermahlen in einer Dreiwalzenmühle. Als nächstes wurde diese Mischung mit 1,8 g eines epoxidhaltigen Organohydrogenpolysiloxans, das hier nachfolgend als Polysiloxan B bezeichnet wird, dargestellt durch die Formel
  • [H-SiMe&sub2;-O-]&sub3;Si-CH&sub2;CH&sub2;-C&sub6;F&sub1;&sub2;-CH&sub2;CH&sub2;- -Si[-O-SiMe&sub2;-H]&sub2;[-O-SiMe&sub2;-CH&sub2;CH&sub2;-O-G],
  • worin Me eine Methylgruppe ist und G eine Glycidylgruppe ist, 1,8 g eines weiteren Organohydrogenpolysiloxans, das frei von Epoxidgruppen ist und hier nachfolgend als Polysiloxan C bezeichnet wird, dargestellt durch die Formel
  • [H-SiMe&sub2;-O-]&sub3;Si-CH&sub2;CH&sub2;-C&sub6;F&sub1;&sub2;-CH&sub2;CH&sub2;-Si[-O-SiMe&sub2;-H]&sub3;,
  • 0,47 g Ruß, 0,1 g einer Toluollösung eines Chlorplatinsäurekomplexes mit 1,1,3,3-Tetramethyl-1,3-divinyldisiloxan in einer Konzentration von 1,0 Gew.-% Platin und 0,2 g 2-Ethinylpropan-2-ol weiter vermischt.
  • Der oben hergestellte Klebstoff I wurde auf die Oberfläche der zuerst hergestellten Membran auf einem Teflonrahmen mit einer Auftragsdicke von etwa 100 um aufgetragen, und ein ringartiges Aluminiumrahmenelement mit einem Innendurchmesser von 130 mm, einem Außendurchmesser von 140 mm und einer Höhe von 6 mm wurde darauf aufgesetzt und durch 2stündiges Erhitzen auf 120ºC damit durch Kleben verbunden, um einen durch einen Rahmen gestützten Film zu ergeben, bei dem die Membran von dem Rahmenelement flach und faltenfrei getragen wird. Die Lichtdurchlässigkeit dieser Filmmembran für Ultraviolettlicht mit einer Wellenlänge von 365 nm betrug 98,7%.
  • Die Festigkeit der Klebeverbindung zwischen der Filmmembran und dem Aluminiumrahmen wurde auf folgende Weise getestet. Der rahmengestützte Film wurde waagrecht mit der Membran nach unten zeigend gehalten und Wasser tropfenweise auf den von dem Aluminiumrahmen umgebenen Membranbereich gegeben, um eine Wasserlache zu erzeugen, und, als sich die Membran von dem Rahmen ablöste, die Wassermenge auf der Membran aufgezeichnet. Das Ergebnis war 118 g.
  • Mit dem Ziel, die Stabilität der Klebeverbindung gegen Ultraviolettbestrahlung zu testen, wurde der rahmengestützte Film mit einem Excimerlaserstrahl mit einer Wellenlänge von 248 nm mit einer Stärke von 200 Watt/cm² 1000 Stunden lang bestrahlt und die Änderungen des Aussehens und der Festigkeit der Klebeverbindung zwischen dem Rahmen und der Membran untersucht. Die Ergebnisse waren, daß absolut keine Änderungen des Aussehens der Membran per se und der Klebstoffschicht festgestellt wurden, und daß die die Klebeverbindungsfestigkeit ebenfalls unverändert war, verglichen mit der vor dem Bestrahlungstest.
  • Beispiel 2
  • Die Versuchsdurchführung war genau die gleiche wie in Beispiel 1. Die bei dem Versuch verwendete und hier nachfolgend als Klebstoff II bezeichnete Klebstoffzusammensetzung wurde auch auf die gleiche Weise wie der Klebstoff I hergestellt, außer daß die 1,8 g epoxidhaltiges Organohydrogenpolysiloxan, d. h. Polysiloxan B, weggelassen wurden.
  • Die Ergebnisse des mit diesem rahmengestützten Film durchgeführten Tests waren, daß die Festigkeiten der Klebeverbindung zwischen dem Rahmenelement und der Filmmembran 109 g und 75 g vor und nach dem Laserstrahl-Bestrahlungstest betrugen und keine Änderungen des Aussehens der Filmmembran per se und der Klebstoffschicht beobachtet wurden.
  • Vergleichsbeispiel
  • Die Versuchsdurchführung war im wesentlichen die gleiche wie in den oben beschriebenen Beispielen 1 und 2, außer daß der Klebstoff I oder II durch einen herkömmlichen Klebstoff auf Epoxidharzbasis (Araldite Rapid, ein Produkt von Showa Polymer Co.) ersetzt wurde. Die Festigkeit der Klebeverbindung zwischen dem Rahmenelement und der erzeugten Filmmembran betrug nur 2,6 g, wobei sich bereits eine teilweise Ablösung der Membran zeigte, und nach dem Laserstrahl-Bestrahlungstest, der eine bedeutende Versprödung und Schwärzung der Kleb stoffschicht verursachte, wurde im wesentlichen keine Klebeverbindungsfestigkeit mehr beibehalten.
  • Beispiel 3
  • Eine Filmmembran mit einer Dicke von 1,32 um wurde im wesentlichen auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, außer daß anstelle von Teflon AF 1600 das perfluorierte Polymerharz Saitop (ein Produkt von Asahi Glass Co.) war, welches aus den Resten besteht, die von Tetrafluorethylen und einer perfluorierten cyclischen Etherverbindung abgeleitet sind.
  • Separat wurde ein perfluorkohlenstoffhaltiges vinylterminiertes Diorganopolysiloxan, das hier nachfolgend als Polysiloxan D bezeichnet wird, in im wesentlichen der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, außer daß 1,1,3,3,5-Pentamethyl-5-(2-perfluoroctyl)ethylcyclotrisiloxan durch die gleiche Menge eines anderen cyclischen Trisiloxans mit einer perfluorierten Ethergruppe, dargestellt durch die Formel
  • -CF(CF&sub3;)-[-O-CF&sub2;-CF(CF&sub3;)-]&sub2;-F,
  • anstelle der Perfluoroctylgruppe ersetzt wurde. Das so hergestellte Polysiloxan D kann durch die gleiche Formel wie das Polysiloxan A ausgedrückt werden, worin die Perfluoroctylgruppe durch die oben gezeigte perfluorierte Ethergruppe ersetzt ist.
  • Eine Klebstoffzusammensetzung, die hier nachfolgend als Klebstoff III bezeichnet wird, wurde in der gleichen Formulierung und in der gleichen Weise wie bei Klebstoff I hergestellt, außer daß das Polysiloxan A durch die gleiche Menge Polysiloxan D ersetzt wurde.
  • Der Film aus dem Saitop-Harz wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durch Verwendung des oben hergestellten Klebstoffs III auf einen Aluminiumrahmen aufgeklebt, um einen rahmengestützten Film zu erge ben. Die Lichtdurchlässigkeit dieser Filmmembran für Ultraviolettlicht mit einer Wellenlänge von 248 nm betrug 97,2%. Dieser rahmengestützte Film wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 dem Beurteilungstest unterworfen. Die Ergebnisse des Tests waren, daß beim Laserstrahl- Bestrahlungstest absolut keine Änderungen des Aussehens der Membran per se und der Klebstoffschicht festgestellt wurden, und daß die die Klebeverbindungsfestigkeiten 133 g und 134 g vor bzw. nach der Laserstrahl-Bestrahlung betrugen.

Claims (16)

1. Durch einen Rahmen gestützter Film, der zum Schutz einer photolithographischen Photomaske bei der Herstellung elektronischer Bauteile verwendet wird, bestehend aus einem Rahmenelement und einer dünnen transparenten Membran aus einem polymeren Material, die ohne Durchhang von dem Rahmenelement gestützt wird, indem das Rahmenelement und die Polymermembran durch Kleben verbunden werden, wobei eine Klebstoffzusammensetzung dazwischen verwendet wird, dadurch gekennzeichnet, daß die genannte Klebstoffzusammensetzung eine Zusammensetzung auf Organopolysiloxanbasis ist, umfassend:
(a) ein fluorkohlenstoffgruppenhaltiges Diorganopolysiloxan, dargestellt durch die allgemeine Formel
XO-[-SiR&sub2;-O-]p-[-SiR(R²Rf)-O-]q-[-SiRR¹-O-]r-X,
worin R eine monovalente Kohlenwasserstoffgruppe ist, die frei von aliphatischer Ungesättigtheit ist, R¹ eine ethylenisch ungesättigte monovalente aliphatische Kohlenwasserstoffgruppe ist, R² eine bivalente Kohlenwasserstoffgruppe ist, die frei von aliphatischer Ungesättigtheit ist, oder eine veretherte bivalente Kohlenwasserstoffgruppe, die frei von aliphatischer Ungesättigtheit ist, mit einem Sauerstoffatom zwischen zwei Kohlenstoffatomen, wodurch eine Etherbindung gebildet wird, Rf eine Perfluoralkylgruppe ist oder eine veretherte Perfluoralkylgruppe mit wenigstens einem Sauerstoffatom zwischen zwei Kohlenstoffatomen, wodurch eine Etherbindung gebildet wird, X eine Triorganosilylgruppe mit drei monovalenten Kohlenwasserstoffgruppen ist, die an das Siliciumatom gebunden sind, wobei wenigstens eine davon eine ethylenisch ungesättigte monovalente aliphatische Kohlenwasserstoffgruppe ist, die Indizes p und q jeweils eine positive ganze Zahl von wenigstens 10 sind und der Index r null oder eine positive ganze Zahl ist,
(b) ein Organohydrogenpolysiloxan mit wenigstens zwei siliciumgebundenen Wasserstoffatomen pro Molekül als Vernetzungsmittel in einer derartigen Menge, daß 0,1 bis 3,0 Mol der siliciumgebundenen Wasserstoffatome pro Mol der ethylenisch ungesättigten monovalenten aliphatischen Kohlenwasserstoffgruppen in der Komponente (a) zur Verfügung gestellt werden, und
(c) eine katalytische Menge einer Verbindung eines Edelmetalls, das zur Gruppe VIII des Periodensystems gehört.
2. Durch einen Rahmen gestützter Film nach Anspruch 1, bei dem die durch R dargestellte monovalente Kohlenwasserstoffgruppe, die frei von aliphatischer Ungesättigtheit ist, 1 bis 8 Kohlenstoffatome besitzt.
3. Durch einen Rahmen gestützter Film nach Anspruch 1, bei dem die durch R dargestellte monovalente Kohlenwasserstoffgruppe, die frei von aliphatischer Ungesättigtheit ist, ausgewählt ist aus der Klasse, bestehend aus Alkylgruppen, Cycloalkylgruppen, Arylgruppen und Aralkylgruppen.
4. Durch einen Rahmen gestützter Film nach Anspruch 3, bei dem die durch R dargestellte monovalente Kohlenwasserstoffgruppe, die frei von aliphatischer Ungesättigtheit ist, eine Methylgruppe ist.
5. Durch einen Rahmen gestützter Film nach Anspruch 1, bei dem die durch R¹ dargestellte ethylenisch ungesättigte monovalente aliphatische Kohlenwasserstoffgruppe eine Vinylgruppe ist.
6. Durch einen Rahmen gestützter Film nach Anspruch 1, bei dem die bivalente Kohlenwasserstoffgruppe, die frei von aliphatischer Ungesättigtheit ist, oder eine veretherte bivalente Kohlenwasserstoffgruppe, die frei von aliphatischer Ungesättigtheit ist, welche durch R² dargestellt ist, ausgewählt ist aus der Klasse bestehend aus den Gruppen, die durch die Formeln:
-CH&sub2;-, -CH&sub2;CH&sub2;-, -CH&sub2;CH&sub2;CH&sub2;-, -CH&sub2;CH&sub2;CH&sub2;CH&sub2;CH&sub2;CH&sub2;-, -[-CHMe-CH&sub2;-]&sub2;-, -Pn-, -CH&sub2;-O-CH&sub2;-, -CH&sub2;CH&sub2;CH&sub2;-O-CH&sub2;-, -CH&sub2;-O-CH&sub2;CH&sub2;CH&sub2;- und -CH&sub2;-O-CH&sub2;-Pn-
dargestellt sind, worin Me eine Methylgruppe und Pn eine Phenylengruppe ist.
7. Durch einen Rahmen gestützter Film nach Anspruch 1, bei dem die Perfluoralkylgruppe oder eine veretherte Perfluoralkylgruppe, welche durch Rf dargestellt ist, ausgewählt ist aus der Klasse, bestehend aus den Gruppen, die durch die Formeln:
C&sub3;F&sub7;-O-CF(CF&sub3;)-, C&sub3;F&sub7;-O-CF(CF&sub3;)-CF&sub2;-O-CF(CF&sub3;)-, C&sub2;F&sub5;-O-CF&sub2;-CF&sub2; und C&sub3;F&sub7;-O-CF(CF&sub3;)-CF&sub2;-O-CF&sub2;-
dargestellt sind.
8. Durch einen Rahmen gestützter Film nach Anspruch 1, bei dem die durch X dargestellte Gruppe eine Vinyldimethylsilylgruppe ist.
9. Durch einen Rahmen gestützter Film nach Anspruch 1, bei dem der Index p eine positive ganze Zahl im Bereich von 100 bis 10000 ist.
10. Durch einen Rahmen gestützter Film nach Anspruch 1, bei dem der Index q eine positive ganze Zahl im Bereich von 50 bis 5000 ist.
11. Durch einen Rahmen gestützter Film nach Anspruch 1, bei dem die Indizes p, q und r die Beziehung erfüllen, daß das Verhältnis von q:(p+q+r) im Bereich von 1 : 50 bis 1 : 3 liegt.
12. Durch einen Rahmen gestützter Film nach Anspruch 1, bei dem die Komponente (b) wenigstens eine Epoxidgruppe pro Molekül besitzt.
13. Durch einen Rahmen gestützter Film nach Anspruch 12, bei dem die Komponente (b) durch die allgemeine Formel
[G-O-(CH&sub2;)&sub3;-SiMe&sub2;-O]a[H-SiMe&sub2;-O-]b[Me]3-a-bSi-(CH&sub2;)&sub2;(Rf¹)e- -(CH&sub2;)&sub2;-Si[Me]3-c-d[-O-SiMe&sub2;-H]c[-O-SiMe&sub2;-(CH&sub2;)&sub3;-O-G]d
dargestellt ist, worin G eine Glycidylgruppe ist, Me eine Methylgruppe ist, Rf¹ eine perfluorierte Alkylengruppe oder eine veretherte Alkylengruppe mit einem Sauerstoffatom zwischen zwei Kohlenstoffatomen ist, die Indizes a, b, c und d jeweils null oder eine positive ganze Zahl sind, mit der Maßgabe, daß a+b und c+d jeweils 1, 2 oder 3 sind, a+d wenigstens 1 ist und b+c wenigstens 2 ist, und der Index e null oder 1 ist.
14. Durch einen Rahmen gestützter Film nach Anspruch 1, bei dem die Menge der Komponente (b) ausreichend ist, um 0,2 bis 2,0 Mol der siliciumgebundenen Wasserstoffatome pro Mol der ethylenisch ungesättigten Kohlenwasserstoffgruppen in der Komponente (a) zur Verfügung zu stellen.
15. Durch einen Rahmen gestützter Film nach Anspruch 1, bei dem das Edelmetall, das zur Gruppe VIII des Periodensystems gehört, Platin ist.
16. Durch einen Rahmen gestützter Film nach Anspruch 1, bei dem die Menge der Verbindung eines Edelmetalls im Bereich von 1 bis 1000 ppm nach Gewicht liegt, berechnet als das Metall, bezogen auf die Gesamtmenge der Klebstoffzusammensetzung.
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5508833A (en) * 1992-07-10 1996-04-16 Kabushiki Kaisha Topcon Display apparatus sealed with a solvent-soluble fluorocarbon or fluorine-containing resin having an adhesive covalent bond-forming functional group
US5446587A (en) * 1992-09-03 1995-08-29 Samsung Electronics Co., Ltd. Projection method and projection system and mask therefor
US5453816A (en) * 1994-09-22 1995-09-26 Micro Lithography, Inc. Protective mask for pellicle
JPH08101497A (ja) * 1994-09-30 1996-04-16 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル
EP0907106A4 (de) * 1997-02-13 2000-04-05 Mitsui Chemicals Inc Membran abdeckung für uv-strahlen und entsprechende membrane
DE19808461A1 (de) * 1998-03-02 1999-09-09 Zeiss Carl Fa Retikel mit Kristall-Trägermaterial
US6280885B1 (en) 1999-08-11 2001-08-28 Dupont Photomasks, Inc. Dust cover comprising anti-reflective coating
JP4330729B2 (ja) * 1999-10-06 2009-09-16 旭化成イーマテリアルズ株式会社 耐紫外線性ペリクル
CN1237395C (zh) * 2000-12-27 2006-01-18 三井化学株式会社 薄膜和薄膜的制造方法以及薄膜用粘合剂
US7351503B2 (en) * 2001-01-22 2008-04-01 Photronics, Inc. Fused silica pellicle in intimate contact with the surface of a photomask
US6524754B2 (en) 2001-01-22 2003-02-25 Photronics, Inc. Fused silica pellicle
US6718152B2 (en) * 2002-07-18 2004-04-06 Xerox Corporation Fully fluorinated polymer coated development electrodes
US6720116B1 (en) 2003-01-09 2004-04-13 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Process flow and pellicle type for 157 nm mask making
EP1978405A1 (de) * 2007-04-04 2008-10-08 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Pellikelmembran und Herstellungsverfahren hierfür
JP6004582B2 (ja) 2013-04-30 2016-10-12 信越化学工業株式会社 ペリクル
JP6275064B2 (ja) 2015-02-10 2018-02-07 信越化学工業株式会社 ペリクル用粘着剤

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4087585A (en) * 1977-05-23 1978-05-02 Dow Corning Corporation Self-adhering silicone compositions and preparations thereof
JPS6083032A (ja) * 1983-10-13 1985-05-11 Asahi Chem Ind Co Ltd 光透過性に優れたフオトマスク用防塵カバ−
EP0252574A2 (de) * 1986-07-07 1988-01-13 YEN, Yung-Tsai Verfahren und Vorrichtung zur Herabsetzung von Staubpartikeln auf Photomasken
JP2535971B2 (ja) * 1987-11-05 1996-09-18 三井石油化学工業株式会社 ペリクル
JPH01154740A (ja) * 1987-12-11 1989-06-16 Shin Etsu Chem Co Ltd 粘着性構造体
JPH02298549A (ja) * 1989-05-12 1990-12-10 Shin Etsu Chem Co Ltd 接着性組成物
US5168001A (en) * 1991-05-20 1992-12-01 E. I. Du Pont De Nemours And Company Perfluoropolymer coated pellicle
EP0527008B1 (de) * 1991-07-23 1997-10-22 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Härtbare Siliconzusammensetzung

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05216213A (ja) 1993-08-27
US5370951A (en) 1994-12-06
EP0554150A1 (de) 1993-08-04
DE69323917D1 (de) 1999-04-22
EP0554150B1 (de) 1999-03-17
JP2945201B2 (ja) 1999-09-06

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