DE69030168T2 - Schaltung zum Einbringen von Identifizierungsinformation auf einer Schaltungsmikroplatte - Google Patents

Schaltung zum Einbringen von Identifizierungsinformation auf einer Schaltungsmikroplatte

Info

Publication number
DE69030168T2
DE69030168T2 DE69030168T DE69030168T DE69030168T2 DE 69030168 T2 DE69030168 T2 DE 69030168T2 DE 69030168 T DE69030168 T DE 69030168T DE 69030168 T DE69030168 T DE 69030168T DE 69030168 T2 DE69030168 T2 DE 69030168T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
circuit
voltage
voltage plate
gate electrode
plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE69030168T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69030168D1 (de
Inventor
Victor Akylas
Zeeuw Cornelis Jan Hendrik De
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Electronics NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Electronics NV filed Critical Philips Electronics NV
Application granted granted Critical
Publication of DE69030168D1 publication Critical patent/DE69030168D1/de
Publication of DE69030168T2 publication Critical patent/DE69030168T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06KGRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
    • G06K1/00Methods or arrangements for marking the record carrier in digital fashion
    • G06K1/12Methods or arrangements for marking the record carrier in digital fashion otherwise than by punching
    • G06K1/128Methods or arrangements for marking the record carrier in digital fashion otherwise than by punching by electric registration, e.g. electrolytic, spark erosion
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/544Marks applied to semiconductor devices or parts
    • H01L2223/54433Marks applied to semiconductor devices or parts containing identification or tracking information
    • H01L2223/5444Marks applied to semiconductor devices or parts containing identification or tracking information for electrical read out
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Description

  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich im allgemeinen auf eine Schaltung zum Einbringen von Identifizierungs-, Reihenanordnungs- und anderen Informationen auf einer Schaltungsmikroplatte.
  • Es besteht der Bedarf, Identifizierungs- und andere Arten von Informationen auf Schaltungsmikroplatten oder -chips zu schaffen. Bei Untersuchungen von Schaltungsparametern kann es zum Beispiel wünschenswert oder erforderlich zu sein, geringe Verschiebungen der Werte von verschiedenen Schaltungsparametern auf einer Schaltungsmikroplatte über einen gewissen Zeitraum zu überwachen. Zur genauen Beobachtung derartiger Verschiebungen muß für jede Messung eine besondere Prüfmikroplatte verwendet werden, da die Schwankungen der Schaltungsparameter von Mikroplatte zu Mikroplatte den zu überwachenden Verschiebungen entsprechen oder sogar größer sein können. Infolgedessen müssen Mittel geschaffen werden, mit deren Hilfe eine einzelne Schaltungsmikroplatte identifiziert werden kann. Die Verwendung von sichtbaren oder optisch lesbaren Markierungen oder Codes ist im allgemeinen nicht geeignet, da die Mikroplatten eingekapselt sind, so daß die Markierungen oder Codes nicht zu sehen sind. Somit stellt eine elektrische Identifizierung der Mikroplatten die einzige durchführbare Lösung dar, insbesondere dann, wenn große Mengen von Bauteilen in der Fertigung verarbeitet, montiert und geprüft werden. Die einzige andere Alternative würde darin bestehen, die Teileidentifizierung mit physikalischen Mitteln wie Teileträgern oder Identifzierungsbehältern aufrechtzuerhalten; diese Lösung ist bei großen Stückzahlen jedoch nicht realisierbar, und das Risiko einer Fehlklassifizierung ist unerwünscht hoch.
  • Bei Technologien mit inhärent eingebauten programmierbaren Strukturen, wie programmierbaren Speichern, ist es ein ziemlich einfaches Verfahren, diese verfügbaren Strukturen zum Einbringen der Identifizierungsinformationen in die Schaltungen zu nutzen. Bei anderen Arten von Schaltungen, die keine programmierbaren Strukturen enthalten, sind jedoch zusätzliche nicht wünschenswerte oder unmögliche Herstellungsschritte erforderlich, die Auswirkungen auf die gemessenen Schaltungsparameter haben könnten, die den gesamten Zweck der Parameteruntersuchung zunichte machen würden. Die Identifizierungsschaltung könnte zum Beispiel zusätzliche Materialschichten oder die Verwendung von nicht standardmäßigen Masken erfordern, die eventuell nicht mit aktuellen Waferstepper-Lithographieverfahren kompatibel sind und somit nicht damit eingesetzt werden können.
  • Die vorliegende Erfindung hat daher zur Aufgabe, eine Schaltung zum Einbringen auf elektrischem Wege von Identifizierungs- und anderen Informationen auf einer Schaltungsmikroplatte zu schaffen, die einfach in eine Schaltungsmikroplatte eingebaut werden kann, indem Herstellungsschritte angewendet werden, die mit den aktuellen Verfahren zur Herstellung integrierter Schaltungen kompatibel sind.
  • Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, eine Schaltung zum Speichern und Lesen von Informationen zu schaffen, die eine Kondensatorstruktur als binäres Informationsbit einsetzt, das physikalisch verändert werden kann, um seinen binären Wert selektiv zu ändern.
  • Diese und weitere Aufgaben der Erfindung werden durch den Einsatz einer programmierbaren Identifizierungsschaltung erfüllt, die auf eine Schaltungsmikroplatte entweder nach oder während der Herstellung der Mikroplatte aufgebracht werden kann und die eine Schaltungstechnologie nutzt, welche mit den übrigen Schaltungen auf der Mikroplatte kompatibel ist. In der Patentanmeldung US-A-4 507 756 ist eine programmierbare Schaltung beschrieben, die die in der Präambel zum Patentanspruch 1 aufgeführten Merkmale beinhaltet. Die Informationen werden als eine Vielzahl binärer Bits eingebracht, und jedes Informationsbit wird durch eine Kondensatorstruktur dargestellt, die in einer Halbleiterstruktur enthalten ist, die so verdrahtet ist, daß sie wie ein Kondensator funktioniert, z.B. ein Metalloxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor (MOSFET) oder ein Isolierschicht-Feldeffekttransistor (IGFET). Normalerweise befindet sich der Kondensator in einer Leerlaufschaltung, so daß kein Strom durch ihn fließen kann. Erfindungsgemäß liegt an der Gate-Elektrode des Feldeffekttransistors jedoch eine hohe Spannung von einer Programierspannungs-Meßspitze an, und der Transistor schlägt durch und schafft einen Leitungspfad zwischen der Gate-Elektrode und der Source- oder Drain-Elektrode des Feldeffekttransistors. Die Identifizierungsinformationen können daher in binärer Form durch das selektive Anlegen einer hohen Spannung an die MOSFET- oder IGFET-Kondensatoren auf der Schaltungsmikroplatte programmiert werden.
  • Nachdem die Informationen auf der Schaltungsmikroplatte programmiert sind, können sie mittels zahlreicher Methoden gelesen werden, zum Beispiel mit Hilfe einer Abtastschaltung, die den Zustand jedes Kondensators auf einer Mikroplatte der Reihe nach überprüft. Eine solche Verwendung einer MOSFET- oder IGFET-Struktur ermöglicht es, die Identifizierungsinformationsschaltungen auf eine Schaltungsmikroplatte aufzubringen, auf der MOS-Technologie und -Herstellungverfahren angewendet werden, ohne daß andere inkompatible Herstellungsverfahren eingesetzt zu werden brauchen.
  • Die obengenannten und weitere Aufgaben, Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung sind aus der Betrachtung der folgenden ausführlichen Beschreibung einer bevorzugten Ausführungsform ersichtlich, die in der Zeichnung dargestellt ist. Es zeigen:
  • Figur 1 ein Schaltbild einer Schaltung zum Speichern und Lesen eines einzigen Informationsbits gemäß eines Ausführungsbeipiels der vorliegenden Erfindung und
  • Figur 2 ein Schaltbild einer Schaltung zum Lesen von Informationen einer Vielzahl von Schaltungen, die gemäß Figur 1 aufgebaut sind.
  • Es folgt nun eine ausführlichere Betrachtung der Erfindung, bei der eine Schaltung 10 zum Speichern und Lesen eines einzigen Informationsbits in Figur 1 dargestellt ist, welche eine programmierbare MOSFET- oder IGFET-Struktur 12 zum Speichern eines einzelnen Bits binärer Information umfaßt. Der MOSFET oder IGFET 12 enthält eine Gate-Elektrode 14, eine Source-Elektrode 16 und eine Drain-Elektrode 18. Die Source-Elektrode 16 und die Drain-Elektrode 18 sind miteinander verbunden und liegen über einen Pfad 20 an Masse. Der auf diese Weise angeschlossene MOSFET oder IGFET 12 funktioniert wie ein Kondensator, wobei die Gate-Elektrode 14 als Kondensatorplatte mit positiver Spannung und die Source-Elektrode 16 sowie die Drain- Elektrode 18 als Erdungsplatten dienen. Es ist zu beachten, daß es nicht erforderlich ist, einen MOSFET oder IGFET als Kondensator einzusetzen, da diese Aufgabe ebenso von jeglicher Art von Dünnfilm-Kondensatorstruktur übernommen werden könnte.
  • Unter normalen Umständen kann kein Gleichstrom zwischen der Gate- Elektrode 14 und der Source-Elektrode 16 oder der Drain-Elektrode 18 fließen. Wird jedoch kurzzeitig eine ausreichend hohe Spannung an die Gate-Elektrode 14 angelegt, dann bricht die physikalische Struktur des Kondensators 12 durch und es bildet sich ein Leitungspfad zwischen der Gate-Elektrode 14 und der Source-Elektrode 16 bzw. der Drain-Eiektrode 18. Auf diese Weise kann der Kondensator 12 durch das selektive Anlegen einer zerstörenden hohen Spannung programmiert werden, um eine binäre 1 oder eine binäre 0 darzustellen, je nachdem, ob eine leitende Verbindung zwischen der Gate-Elektrode 14 und der Source-Elektrode 16 oder der Drain-Elektrode 18 besteht oder nicht. Die derartige Verwendung des MOSFET- oder IGFET-Kondensators 12 ermöglicht es, die Informationsschaltung 10 auf einer Schaltungsmikroplatte mit denselben MOS-Herstellungsverfahren, zum Beispiel Waferstepper-Lithographie, aufzubringen, die auch für das Aufbringen der restlichen Schaltungen auf die Mikroplatte eingesetzt werden. Somit wirkt sich das Aufbringen der Informationsschaltung 10 nicht störend auf andere Schaltungsparameter der Mikroplatte aus.
  • Eine Programmierspannungs-Anschlußfläche 22 ist über einen Pfad 24 mit der Gate-Elektrode 14 verbunden, um dieser die Programmierspannung zuzuführen. Die Anschlußfläche 22 wird vorzugsweise innen auf einer Schaltungsmikroplatte angeordnet, auf die die Schaltung 10 aufgebracht wird, so daß eine Meßspitze benutzt werden kann, um Spannung an die Anschlußfläche 22 anzulegen, bevor die Schaltungsmikroplatte von anderen benachbarten Mikroplatten auf einem Halbleiter-Wafer getrennt wurde.
  • Wenn der Kondensator 12 einmal programmiert ist, kann sein Zustand, d.h. offen oder kurzgeschlossen, abgetastet werden, indem der Gate-Elektrode 14 ein Signal zugeführt wird und geprüft wird, ob die Gate-Elektrode 14 leitend mit der Source-Elektrode 16 oder der Drain-Elektrode 18 verbunden ist. Zu diesem Zweck ist eine Sense-Leitung 24 über einen Durchlaßtransistor 26 und einen Schutzwiderstand 28 mit hohem Wert mit der Gate-Elektrode 14 verbunden. Die Gate-Elektrode 30 des Durchlaßtransistors 26 ist, wie in Figur 2 dargestellt, über eine Multiplexer-Ausgangsleitung 31 mit einem Multiplexer 32 verbunden, der den Durchlaßtransistor 26 selektiv aktiviert, um dem Kondensator 12 ein Abtastsignal zuzuführen. Der Multiplexer 32 wird ausführlicher in bezug auf Figur 2 beschrieben.
  • Zum Schutz der Leseschaltung der Vorrichtung, die den Durchlaßtransistor 26 enthält, ist ein Schutztransistor 34 an einer Seite zwischen den Durchlaßtran sistor 26 und den Widerstand 28 am Knotenpunkt A geschaltet und an der anderen Seite mit Masse verbunden. Die Gate-Elektrode 36 des Schutztransistors 34 ist mit einer Anschlußfläche 38 der Schutztransistor-Gate-Elektrode verbunden, um dieser eine aktivierende Spannung zuzuführen. Ein Pull-Down-Widerstand 40 ist zwischen die Gate- Anschlußfläche 38 und Masse geschaltet. Wenn der Schutzwiderstand 34 durch die Zuführung eines hohen Signals zur Gate-Anschlußfläche 38 aktiviert wird und eine hohe Spannung an der Programmierspannungs-Anschlußfläche 22 anliegt, stellt der große Widerstand 28 sicher, daß eine relative niedrige Spannung am Knotenpunkt A anliegt, so daß der Durchlaßtransistor 26 und die restliche angeschlossene Leseschaltung nicht beschädigt werden.
  • Ein alternatives Verfahren zur Programmierung des Kondensators 12 besteht darin, eine hohe negative Spannung an die Programmierspannungs-Anschlußfläche 22 und eine positive Spannung an den Massepfad 20 anzulegen. Das Substrat (nicht abgebildet), auf das die Schaltung 10 aufgebracht würde, würde damit geerdet. In diesem Fall funktioniert die Drain-Elektrode des Schutztransistors 34 als Diode, die den Schutzwiderstand 28 mit dem Substrat verbindet. Die restliche Schutzschaltung, d.h. die Gate-Anschlußfläche 38 und der Pull-Down-Widerstand 40, werden nicht benötigt. Der Vorteil dieses Programmierverfahrens besteht darin, daß dieselbe Spannungsdifferenz zwischen der Gate-Elektrode 14 und der Source-Elektrode 16 sowie der Drain-Elektrode 18 des MOSFET- oder IGFET-Kondensators 12 mit einer niedrigeren Spannung über und einem niedrigeren Strom durch den Schutzwiderstand 28 kombiniert wird, wodurch dieses Bauelement kleiner ausgelegt werden kann. Hierdurch wird außerdem die Wahrscheinlichkeit verringert, daß die Gate-Verbindung mit dem MOSFET- oder IGFET-Kondensator 12 bei einem Durchbruch beschädigt wird.
  • In Figur 2 ist eine Schaltung zum Lesen von Werten eines kompletten Bitsatzes auf einer einzelnen Schaltungsmikroplatte dargestellt. Es sind insbesondere eine Vielzahl von Bits mit der Bezeichnung 0-N dargestellt, die gemäß der Schaltung 10 aus Figur 1 konfiguriert sind. Die Sense-Leitungen 24 jedes der Bits sind mit dem Sense-Bus 50 verbunden, der an eine Leseschaltung 52 angeschlossen ist. Die Leseschaltung 52 ist außerdem über eine Leitung 54 mit dem Multiplexer 32 verbunden. Es ist ersichtlich, daß die Multiplexer-Ausgangsleitungen 31 und der Sense-Bus 50 in jeglicher geeigneten Art mit den Bits verbunden sein können, zum Beispiel mit externen Bondpads, wenn die Leseschaltung 52 außerhalb der Informationsschaltung 10 liegt. Bei einer weiterentwickelten Ausführung kann die Leseschaltung 52 auf derselben Schaltungsmikroplatte untergebracht sein, auf der die Informationsschaltung aufgebracht ist, und es sind dann keine externen Bondpads erforderlich.
  • Im Betrieb verwendet die Leseschaltung 52 jegliche geeigneten Mittel, um abzutasten, ob jedes der Bits 0-N durch den Kondensator 12 leitend verbunden ist oder nicht. Die Leseschaltung 52 sendet Steuersignale über die Leitung 54 an den Multiplexer, damit dieser den Durchlaßtransistor 26 bei jedem der Bits nacheinander aktiviert. Die Leseschaltung 52 kann jegliche herkömmlichen Speichermittel enthalten, um den Wert jedes Bits aufzuzeichnen. Aus diesen Werte können die Informationen der Schaltungsmikroplatte abgeleitet werden.

Claims (12)

1. Programmierbare Schaltung zum Einbringen von Informationen, die folgendes umfaßt:
mindestens eine erste Schaltung zum Speichern und Lesen eines einzelnen Informationsbits, die folgendes enthält:
a) eine Kondensatorstruktur (12) mit einer ersten Spannungsplatte (14) und einer zweiten Spannungsplatte (16, 18), wobei sich die genannte erste Spannungsplatte (14) und die genannte zweite Spannungsplatte (16, 18) normalerweise in Leerlaufschaltung befinden und wobei die genannte Kondensatorstruktur (12) ein Feldeffekttransistor ist;
b) Mittel (22) zum selektiven Anlegen einer hohen Spannung an die genannte erste Spannungsplatte (14), um die Kondensatorstruktur (12) zu veranlassen, physikalisch durchzuschlagen und einen Leitungspfad zwischen der genannten ersten Spannungsplatte (14) und der genannten zweiten Spannungsplatte (16, 18) zu bilden; und
c) Mittel (26) zum Abtasten des Zustands der genannten Kondensatorstruktur, wobei die Kondensatorstruktur (12) als ein binäres Speicherbit fungiert und wobei die Struktur einen ersten binären Wert darstellt, wenn zwischen der genannten ersten Spannungsplatte (14) und der genannten zweiten Spannungsplatte (16, 18) ein Leitungspfad vorliegt, und einen zweiten binären Wert darstellt, wenn der Stromkreis zwischen der genannten ersten Spannungsplatte (14) und der genannten zweiten Spannungsplatte (16, 18) unterbrochen ist, dadurch gekennzeichnet, daß der Feldeffekttransistor (12) eine Gate-Elektrode besitzt, die die erste Spannungsplatte (14) bildet, und eine Source-Elektrode (16) und eine Drain-Elektrode (18) besitzt, die miteinander verbunden sind und die zweite Spannungsplatte (16, 18) bilden.
2. Programmierbare Schaltung nach Anspruch 1, wobei die genannte erste Spannungsplatte eine Platte mit positiver Spannung und die genannte zweite Spannungsplatte eine Masseplatte ist und die genannte hohe Spannung eine hohe positive Spannung ist.
3. Programmierbare Schaltung nach Anspruch 1, wobei die genannte erste Spannungsplatte eine Platte mit negativer Spannung und die genannte zweite Spannungsplatte eine Platte mit positiver Spannung ist und die genannte hohe Spannung eine hohe negative Spannung ist.
4. Programmierbare Schaltung nach Anspruch 3, wobei der genannte Feldeffekttransistor ein MOSFET ist.
5. Programmierbare Schaltung nach Anspruch 3, wobei der genannte Feldeffekttransistor ein IGFET ist.
6. Programmierbare Schaltung nach Anspruch 3, wobei die genannten Mittel zum Anlegen einer hohen Spannung eine Anschlußfläche enthalten, die elektrisch mit der genannten Gate-Eiektrode verbunden ist, damit sie an einer Quelle hoher Spannung anliegt.
7. Programmierbare Schaltung nach Anspruch 3, wobei die genannten Abtastmittel Mittel zum Abtasten des Durchgangs zwischen der genannten Gate-Elektrode und der genannten Source- oder Drain-Elektrode enthalten.
8. Programmierbare Schaltung nach Anspruch 3, wobei die genannten Abtastmittel folgendes umfassen:
i) eine Leseschaltung zum Abtasten des Durchgangs zwischen der genannten Gate-Elektrode und der genannten Source- oder Drain-Elektrode;
ii) einen ersten Durchlaßtransistor, um die genannte Leseschaltung selektiv mit der genannten Gate-Elektrode der genannten ersten Speicher- und Leseschaltung zu verbinden; und
iii) Multiplexermittel, die den genannten ersten Durchlaßtransistor aktivieren, damit die genannte Leseschaltung mit der genannten Gate-Elektrode der genannten ersten Speicher- und Leseschaltung verbunden wird.
9. Programmierbare Schaltung nach Anspruch 8, die außerdem folgendes enthält:
iv) mindestens eine zweite Schaltung zum Speichern und Lesen eines einzelnen Informationsbits; und
v) einen zweiten Durchlaßtransistor, um die genannte Leseschaltung mit der Gate-Elektrode der genannten zweiten Speicher- und Leseschaltung zu verbinden;
wobei die genannten Multiplexermittel nacheinander den genannten ersten Durchlaßtransistor und den genannten zweiten Durchlaßtransistor aktivieren, so daß der Zustand der genannten ersten und der zweiten Speicherschaltung sequentiell durch die genannte Leseschaltung abgetastet werden kann.
10. Programmierbare Schaltung nach Anspruch 8, die außerdem Mittel zum Schutz der genannten Leseschaltung und des Durchlaßtransistors vor hoher Spannung an der genannten Gate-Elektrode enthält.
11. Programmierbare Schaltung nach Anspruch 10, wobei die genannten Schutzmittel einen Widerstand enthalten, der zwischen die genannte Gate-Elektrode und den genannten Durchlaßtransistor geschaltet ist, und Mittel zum Erden einer zum Durchlaßtransistor gerichteten Seite des genannten Widerstands, wenn an der genannten Gate-Elektrode eine hohe Spannung anliegt.
12. Integrierte Schaltung, die die programmierbare Schaltung nach den Ansprüchen 1 - 11 enthält.
DE69030168T 1989-12-20 1990-12-13 Schaltung zum Einbringen von Identifizierungsinformation auf einer Schaltungsmikroplatte Expired - Fee Related DE69030168T2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/453,546 US5056061A (en) 1989-12-20 1989-12-20 Circuit for encoding identification information on circuit dice using fet capacitors

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69030168D1 DE69030168D1 (de) 1997-04-17
DE69030168T2 true DE69030168T2 (de) 1997-08-21

Family

ID=23800988

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69030168T Expired - Fee Related DE69030168T2 (de) 1989-12-20 1990-12-13 Schaltung zum Einbringen von Identifizierungsinformation auf einer Schaltungsmikroplatte

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5056061A (de)
EP (1) EP0436247B1 (de)
JP (1) JP3112955B2 (de)
DE (1) DE69030168T2 (de)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2649823B1 (fr) * 1989-07-13 1993-10-22 Gemplus Card International Fusible mos a claquage d'oxyde et son application aux cartes a memoire
US5208780A (en) * 1990-07-17 1993-05-04 Kabushiki Kaisha Toshiba Structure of electrically programmable read-only memory cells and redundancy signature therefor
JP3659981B2 (ja) * 1992-07-09 2005-06-15 アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド ダイ特定情報に特徴付けられるダイ上の集積回路を含む装置
US5552743A (en) * 1994-09-27 1996-09-03 Micron Technology, Inc. Thin film transistor redundancy structure
US5659508A (en) * 1995-12-06 1997-08-19 International Business Machine Corporation Special mode enable transparent to normal mode operation
US5896041A (en) * 1996-05-28 1999-04-20 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for programming anti-fuses using internally generated programming voltage
KR100495461B1 (ko) * 1996-05-28 2005-11-01 마이크론 테크놀로지 인코포레이티드 내부발생프로그래밍전압을이용해서안티-퓨즈를프로그래밍하기위한방법및장치
US5841723A (en) * 1996-05-28 1998-11-24 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for programming anti-fuses using an isolated well programming circuit
US6161213A (en) * 1999-02-17 2000-12-12 Icid, Llc System for providing an integrated circuit with a unique identification
US6246254B1 (en) 1999-12-06 2001-06-12 International Business Machines Corporation Method and circuit for providing copy protection in an application-specific integrated circuit
KR100393214B1 (ko) * 2001-02-07 2003-07-31 삼성전자주식회사 패드의 수를 최소화하기 위한 칩 식별 부호 인식 장치 및이를 내장한 반도체 장치
DE10241141B4 (de) * 2002-09-05 2015-07-16 Infineon Technologies Ag Halbleiter-Bauelement-Test-Verfahren für ein Halbleiter-Bauelement-Test-System mit reduzierter Anzahl an Test-Kanälen
US6775197B2 (en) 2002-11-27 2004-08-10 Novocell Semiconductor, Inc. Non-volatile memory element integratable with standard CMOS circuitry and related programming methods and embedded memories
US6816427B2 (en) * 2002-11-27 2004-11-09 Novocell Semiconductor, Inc. Method of utilizing a plurality of voltage pulses to program non-volatile memory elements and related embedded memories
US6775171B2 (en) * 2002-11-27 2004-08-10 Novocell Semiconductor, Inc. Method of utilizing voltage gradients to guide dielectric breakdowns for non-volatile memory elements and related embedded memories
JP5629075B2 (ja) * 2009-09-16 2014-11-19 ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエルPS4 Luxco S.a.r.l. 半導体装置
FR2980920B1 (fr) 2011-09-29 2013-10-04 St Microelectronics Crolles 2 Circuit integre a cle d'identification auto-programmee
EP2869304B1 (de) * 2013-11-05 2019-01-02 The Swatch Group Research and Development Ltd. Speicherzelle und Speichervorrichtung
US10418079B1 (en) * 2018-03-26 2019-09-17 Oracle International Corporation Register file bit cells with integrated multiplexer

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2784389A (en) * 1954-12-31 1957-03-05 Ibm Information storage unit
US4402067A (en) * 1978-02-21 1983-08-30 Moss William E Bidirectional dual port serially controlled programmable read-only memory
JPS5685934A (en) * 1979-12-14 1981-07-13 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Control signal generating circuit
EP0057645A1 (de) * 1981-02-04 1982-08-11 FAIRCHILD CAMERA &amp; INSTRUMENT CORPORATION Elektrisch kodierte Identifizierung von integrierten Schaltungsanordnungen
US4532607A (en) * 1981-07-22 1985-07-30 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Programmable circuit including a latch to store a fuse's state
US4507756A (en) * 1982-03-23 1985-03-26 Texas Instruments Incorporated Avalanche fuse element as programmable device
US4507757A (en) * 1982-03-23 1985-03-26 Texas Instruments Incorporated Avalanche fuse element in programmable memory
US4488265A (en) * 1982-06-30 1984-12-11 Ibm Corporation Integrated dynamic RAM and ROS
JPS59116985A (ja) * 1982-11-29 1984-07-06 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
DE3327503A1 (de) * 1983-07-29 1985-02-07 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Teststruktur zur kennzeichnung von halbleiterchips und verfahren zu deren kennzeichnung
JPS60257555A (ja) * 1984-06-04 1985-12-19 Nec Corp 半導体集積回路装置
US4686384A (en) * 1985-08-09 1987-08-11 Harris Corporation Fuse programmable DC level generator
US4806793A (en) * 1987-10-02 1989-02-21 Motorola, Inc. Signature circuit responsive to an input signal

Also Published As

Publication number Publication date
EP0436247B1 (de) 1997-03-12
DE69030168D1 (de) 1997-04-17
EP0436247A2 (de) 1991-07-10
JP3112955B2 (ja) 2000-11-27
JPH0675020A (ja) 1994-03-18
EP0436247A3 (en) 1992-05-27
US5056061A (en) 1991-10-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69030168T2 (de) Schaltung zum Einbringen von Identifizierungsinformation auf einer Schaltungsmikroplatte
DE69030283T2 (de) Halbleitervorrichtung und Verfahren zu deren Einbrennen
EP0212208B1 (de) Schaltungsanordnung zum Prüfen integrierter Schaltungseinheiten
DE2311034C2 (de) Verfahren zum Prüfen eines integrierte logische Verknüpfungs- und Speicherglieder enthaltenden Halbleiterchips
DE69710501T2 (de) System zur optimierung von speicherreparaturzeit mit prüfdaten
DE69620022T2 (de) Laser-sicherungsbankstruktur
DE3047186C2 (de) Halbleiterplättchen mit redundanten Elementen
DE69326710T2 (de) Halbleiteranordnung mit Kurzschlussschaltkreis für einen Spannungsstresstest
EP0545071B1 (de) Einrichtung zur Identifikation von Fahrzeug- und Ausstattungsmerkmalen
DE69016947T2 (de) Auf einem Substrat integriertes Prüfsystem und Verfahren zur Nutzung dieses Prüfsystems.
DE3520003C2 (de)
DE19581814B4 (de) Halbleiter-Testchip mit waferintegrierter Schaltmatrix
DE3709032A1 (de) Grossschaltkreis-halbleitervorrichtung
DE2527486B2 (de) Verfahren zur Prüfung bistabiler Speicherzellen
EP0843317B1 (de) Verfahren zum Testen eines in Zellenfelder unterteilten Speicherchips im laufenden Betrieb eines Rechners unter Einhaltung von Echtzeitbedingungen
DE3008754C2 (de)
DE2207657A1 (de) Verfahren zum Prüfen integrierter Schaltkreise
DE102006007439B4 (de) Halbleitereinzelchip, System und Verfahren zum Testen von Halbleitern unter Verwendung von Einzelchips mit integrierten Schaltungen
DE10126610B4 (de) Speichermodul und Verfahren zum Testen eines Halbleiterchips
DE3430972C2 (de) Integrierte Schaltung
DE69012382T2 (de) Referenzzelle für das Lesen von EEPROM-Speicheranordnungen.
EP0945804A2 (de) Integrierte Schaltung und Verfahren zu ihrer Prüfung
DE10258511A1 (de) Integrierte Schaltung sowie zugehörige gehäuste integrierte Schaltung
EP0221351A1 (de) Integrierte Halbleiterschaltung mit einem elektrisch leitenden Flächenelement
DE10060585A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Untersuchung einer integrierten Halbleiterschaltung

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V., EINDHOVEN, N

8339 Ceased/non-payment of the annual fee