DE602004029853D1 - Vorrichtung und Verfahren zur Aufbereitung von Proben - Google Patents

Vorrichtung und Verfahren zur Aufbereitung von Proben

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Tadanori Yoshioka
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Jeol Ltd
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Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4037809B2 (ja) * 2003-08-20 2008-01-23 日本電子株式会社 イオンミーリング試料作製装置用マスクおよび試料作製装置
JP4504880B2 (ja) * 2005-07-08 2010-07-14 株式会社日立ハイテクノロジーズ 真空排気系を利用したシリンダを用いたイオンビーム電流測定機構
JP4675701B2 (ja) * 2005-07-08 2011-04-27 株式会社日立ハイテクノロジーズ イオンミリング装置およびイオンミリング方法
JP2007333682A (ja) * 2006-06-19 2007-12-27 Jeol Ltd イオンビームを用いた断面試料作製装置
JP4675860B2 (ja) * 2006-08-09 2011-04-27 株式会社日立ハイテクノロジーズ イオンミリング装置及びその方法
JP2008107226A (ja) * 2006-10-26 2008-05-08 Jeol Ltd 試料作成装置
JP2008204905A (ja) * 2007-02-22 2008-09-04 Hitachi High-Tech Science Systems Corp イオンミリング装置、及びイオンミリング加工方法
JP4851365B2 (ja) * 2007-03-02 2012-01-11 日本電子株式会社 イオンミーリング試料作製装置用マスクおよび試料作製装置
JP4890373B2 (ja) * 2007-07-19 2012-03-07 新日本製鐵株式会社 試料作製方法
JP4944002B2 (ja) * 2007-12-13 2012-05-30 日本電子株式会社 試料作製装置の遮蔽材保持機構
JP5331342B2 (ja) * 2008-01-11 2013-10-30 株式会社日立ハイテクノロジーズ イオンミリング装置
GB201002645D0 (en) * 2010-02-17 2010-03-31 Univ Lancaster Method and apparatus for ion beam polishing
US8283642B2 (en) 2010-04-11 2012-10-09 Gatan, Inc. Ion beam sample preparation apparatus and methods
US8653489B2 (en) 2010-04-11 2014-02-18 Gatan, Inc. Ion beam sample preparation apparatus and methods
US8384050B2 (en) 2010-04-11 2013-02-26 Gatan, Inc. Ion beam sample preparation thermal management apparatus and methods
US8445874B2 (en) * 2010-04-11 2013-05-21 Gatan Inc. Ion beam sample preparation apparatus and methods
SG177823A1 (en) * 2010-07-06 2012-02-28 Camtek Ltd Method and system for preparing a lamella
SG177822A1 (en) * 2010-07-06 2012-02-28 Camtek Ltd Method and system for preparing a sample
US8686379B1 (en) * 2010-09-07 2014-04-01 Joseph C. Robinson Method and apparatus for preparing serial planar cross sections
JP5491639B2 (ja) * 2010-11-05 2014-05-14 株式会社日立ハイテクノロジーズ イオンミリング装置
JP5480110B2 (ja) 2010-11-22 2014-04-23 株式会社日立ハイテクノロジーズ イオンミリング装置及びイオンミリング加工方法
JP5492105B2 (ja) * 2011-01-27 2014-05-14 日本電子株式会社 試料作製装置
JP5657435B2 (ja) * 2011-03-15 2015-01-21 日本電子株式会社 薄膜試料作製方法
US8716683B2 (en) * 2011-11-28 2014-05-06 Jeol Ltd. Ion beam processing system and sample processing method
JP5918999B2 (ja) * 2012-01-06 2016-05-18 株式会社日立ハイテクノロジーズ 真空容器を備えた荷電粒子線照射装置
JP5836134B2 (ja) * 2012-01-11 2015-12-24 日本電子株式会社 オージェ電子分光法用試料作製方法
DE102012012275B9 (de) * 2012-06-21 2014-11-27 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Bearbeitungssystem zur mikro-materialbearbeitung
US10110854B2 (en) 2012-07-27 2018-10-23 Gatan, Inc. Ion beam sample preparation apparatus and methods
US8791438B2 (en) 2012-07-27 2014-07-29 Gatan Inc. Ion beam sample preparation apparatus and methods
KR102144555B1 (ko) 2012-10-05 2020-08-13 에프이아이 컴파니 하전 입자 빔 샘플 준비과정에서 커트닝을 감소하기 위한 방법 및 시스템
JP6258826B2 (ja) * 2014-09-19 2018-01-10 日本電子株式会社 試料作製装置
JP6326352B2 (ja) * 2014-11-19 2018-05-16 日本電子株式会社 試料ホルダー、試料作製装置、および位置合わせ方法
JP6336894B2 (ja) * 2014-11-21 2018-06-06 日本電子株式会社 試料作製装置
JP6796552B2 (ja) 2017-05-26 2020-12-09 日本電子株式会社 イオンミリング装置及び試料ホルダー
CN111095474B (zh) * 2017-09-15 2022-03-22 株式会社日立高新技术 离子铣削装置
JP6843790B2 (ja) * 2018-03-13 2021-03-17 日本電子株式会社 イオンミリング装置及び試料ホルダー
JP7160868B2 (ja) 2020-07-20 2022-10-25 日本電子株式会社 イオンミリング装置および試料作製方法
JP7312778B2 (ja) * 2021-03-08 2023-07-21 日本電子株式会社 試料加工装置の調整方法および試料加工装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1493133A (en) * 1975-10-08 1977-11-23 Franks J Preparation of specimens to be examined by electron microscopy techniques
JP2932650B2 (ja) * 1990-09-17 1999-08-09 松下電器産業株式会社 微細構造物の製造方法
JP2886649B2 (ja) * 1990-09-27 1999-04-26 株式会社日立製作所 イオンビーム加工方法及びその装置
JP3263920B2 (ja) 1996-02-01 2002-03-11 日本電子株式会社 電子顕微鏡用試料作成装置および方法
JP2000186000A (ja) * 1998-12-22 2000-07-04 Speedfam-Ipec Co Ltd シリコンウェーハ加工方法およびその装置
US6768110B2 (en) * 2000-06-21 2004-07-27 Gatan, Inc. Ion beam milling system and method for electron microscopy specimen preparation
JP4037809B2 (ja) * 2003-08-20 2008-01-23 日本電子株式会社 イオンミーリング試料作製装置用マスクおよび試料作製装置

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