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HINTERGRUND DER ERFINDUNG
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1. GEBIET DER ERFINDUNG:
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Die
vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen Phasenänderungsspeicher
zum Speichern von Informationen unter Verwendung einer reversiblen
Phasenänderung,
die zwischen einer kristallinen Phase und einer amorphen Phase auftreten
kann, eine Schreibvorrichtung zum Schreiben von Informationen in
den Speicher, eine Lesevorrichtung zum Lesen von Informationen aus
dem Speicher und Schreib/Lese-Verfahren dafür.
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2. BESCHREIBUNG DES STANDES DER TECHNIK:
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Ein
Phasenänderungsspeicher,
in dem Informationen aufgezeichnet oder gelöscht werden können, indem
elektrische Energie wie z. B. ein elektrischer Strom eingebracht
wird, ist bekannt. Das als Aufzeichnungsschicht eines solchen Phasenänderungsspeichers
verwendete Material bewirkt eine reversible Änderung zwischen der kristallinen
Phase und der amorphen Phase auf Grund von Temperaturerhöhungen,
die sich aus dem Anlegen der elektrischen Energie ergeben. Im Allgemeinen
ist der elektrische Widerstand der kristallinen Phase niedrig, wohingegen
der elektrische Widerstand der amorphen Phase hoch ist. Der Phasenänderungsspeicher
ist ein nicht flüchtiger
Speicher, in dem binäre
Informationen unter Verwendung der Differenz des elektrischen Widerstandes
zwischen der kristallinen Phase und der amorphen Phase aufgezeichnet
werden.
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In
den letzten Jahren wurde zusammen mit der Erhöhung der Menge an in einem
Speicher aufzuzeichnenden Informationen ein Speicher mit einer größeren Kapazität verlangt.
Um die Kapazität
eines Phasenänderungsspeichers
zu erhöhen,
wurden zwei Vorschläge
unterbreitet: (1) die Fläche
einer Speicherzelle zur Aufzeichnung eines binären Werts wird verringert und
mehrere solche Speicherzellen werden in einer Matrix angeordnet
(Erhöhung
der Oberflächendichte);
(2) mehrwertige Informationen werden in einer einzelnen Speicherzelle
gespeichert. In dieser Patentbeschreibung umfasst der "Mehrwert" nicht den "binären Wert".
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Hinsichtlich
des Vorschlags (1) besteht, da eine Grenze für einen Miniaturisierungsprozess
in einem Herstellungsverfahren wie z. B. Photolithographie besteht, auch
eine Grenze für
die Steigerung der Oberflächendichte.
Folglich ist es unmöglich,
die Kapazität
eines Phasenänderungsspeichers
drastisch zu erhöhen.
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Ein
bekanntes herkömmliches
Verfahren zum Aufzeichnen von mehrwertigen Informationen in einer einzelnen
Speicherzelle ist in der japanischen nationalen Phase PCT-Offenlegungsschrift
Nr. 11-510317 offenbart. Gemäß diesem
herkömmlichen
Verfahren wird der Widerstandswert einer Aufzeichnungsschicht einer Speicherzelle
in einer schrittweisen Weise gesteuert, wodurch mehrwertige Informationen
in der Speicherzelle gespeichert werden können. Eine solche schrittwiese
Steuerung des Phasenzustandes in einer einzelnen Aufzeichnungsschicht
beinhaltet jedoch vielmehr eine größere Schwierigkeit als die
Steuerung des Phasenzustandes zwischen den zwei Phasenzuständen, d.
h. der kristallinen Phase und der amorphen Phase.
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JP-A-60164937
offenbart einen Speicher, wie er im Oberbegriff von Anspruch 1 angegeben
ist.
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ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
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Gemäß einem
Aspekt der vorliegenden Erfindung umfasst ein Speicher: eine erste
Aufzeichnungsschicht zum Aufzeichnen von Informationen unter Verwendung
einer reversiblen Phasenänderung
zwischen einer kristallinen Phase und einer amorphen Phase, die
auf Grund einer Temperaturerhöhung
auftritt, die durch Anlegen eines elektrischen Stromimpulses verursacht
wird; und eine zweite Aufzeichnungsschicht zum Aufzeichnen von Informationen
unter Verwendung einer reversiblen Phasenänderung zwischen einer kristallinen Phase
und einer amorphen Phase, die auf Grund von Temperaturerhöhungen auftritt,
die durch Anlegen eines elektrischen Stromimpulses verursacht werden,
wobei die Kristallisationstemperatur der ersten Aufzeichnungsschicht,
Tx1, und die Kristallisationstemperatur
der zweiten Aufzeichnungsschicht, Tx2, die
Beziehung Tx1 < Tx2 aufweisen,
die Kristallisationszeit der ersten Aufzeichnungsschicht, tx1, und die Kristallisationszeit der zweiten
Aufzeichnungsschicht, tx2, die Beziehung
tx1 > tx2 aufweisen, und Ra1 +
Ra2, Ra1 + Rc2, Rc1 + Ra2 und Rc1 + Rc2 voneinander verschieden sind, wobei der
Widerstandswert der ersten Aufzeichnungsschicht in der amorphen
Phase Ra1 ist, der Widerstandswert der ersten
Aufzeichnungsschicht in der kristallinen Phase Rc1 ist,
der Widerstandswert der zweiten Aufzeichnungsschicht in der amorphen
Pha se Ra2 ist und der Widerstandswert der
zweiten Aufzeichnungsschicht in der kristallinen Phase Rc2 ist.
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In
einer Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung erfüllt
der Schmelzpunkt der ersten Aufzeichnungsschicht, Tm1,
die Beziehung 400 ≤ Tm1(°C) ≤ 800.
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In
einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung erfüllt
der Schmelzpunkt der zweiten Aufzeichnungsschicht, Tm2,
die Beziehung 300 ≤ Tm2(°C) ≤ 700.
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In
noch einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung erfüllt
die Kristallisationstemperatur der ersten Aufzeichnungsschicht,
Tx1, die Beziehung 130 ≤ Tx1(°C) ≤ 230.
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In
noch einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung erfüllt
die Kristallisationstemperatur der zweiten Aufzeichnungsschicht,
Tx2, die Beziehung 160 ≤ Tx2(°C) ≤ 260.
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In
noch einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung erfüllt
die Kristallisationszeit der ersten Aufzeichnungsschicht, tx1, die Beziehung 5 ≤ tx1(ns) ≤ 200.
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In
noch einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung erfüllt
die Kristallisationszeit der zweiten Aufzeichnungsschicht, tx2, die Beziehung 2 ≤ tx2(ns) ≤ 150.
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In
noch einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung umfasst die erste Aufzeichnungsschicht
drei Elemente, Ge, Sb und Te; und die zweite Aufzeichnungsschicht
umfasst (Sb-Te)-M1, wobei M1 mindestens eines ist, das aus einer
Gruppe ausgewählt
ist, die aus Ag, In, Ge, Sn, Se, Bi, Au und Mn besteht.
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In
noch einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung ist die erste Aufzeichnungsschicht auf
einem Substrat gebildet und die obere Elektrode ist auf der zweiten
Aufzeichnungsschicht gebildet.
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In
noch einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung ist eine untere Elektrode zwischen dem
Substrat und der ersten Aufzeichnungsschicht gebildet.
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In
noch einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung ist eine Zwischenschicht zwischen der
ersten Aufzeichnungsschicht und der zweiten Aufzeichnungsschicht
gebildet.
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In
noch einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung ist der spezifische Widerstand ra1 der ersten Aufzeichnungsschicht in der
amorphen Phase 1,0 ≤ ra1(Ω·cm) ≤ 1 × 107.
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In
noch einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung ist der spezifische Widerstand ra2 der zweiten Aufzeichnungsschicht in der
amorphen Phase 2,0 ≤ ra2(Ω·cm) ≤ 2 × 107.
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In
noch einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung ist der spezifische Widerstand rc1 der ersten Aufzeichnungsschicht in der
kristallinen Phase 1 × 10–3 ≤ rc1(Ω·cm) ≤ 1,0.
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In
noch einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung ist der spezifische Widerstand rc2 der zweiten Aufzeichnungsschicht in der
kristallinen Phase 1 × 10–3 ≤ rc2(Ω·cm) ≤ 1,0.
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Gemäß einem
weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine Schreibvorrichtung
zum Schreiben von Informationen in einen Speicher geschaffen, wobei
der Speicher umfasst: eine erste Aufzeichnungsschicht zum Aufzeichnen
von Informationen unter Verwendung einer reversiblen Phasenänderung
zwischen einer kristallinen Phase und einer amorphen Phase, die
auf Grund Temperaturerhöhungen
auftritt, die durch Anlegen eines elektrischen Stromimpulses verursacht
werden; und eine zweite Aufzeichnungsschicht zum Aufzeichnen von
Informationen unter Verwendung einer reversiblen Phasenänderung
zwischen einer kristallinen Phase und einer amorphen Phase, die
auf Grund Temperaturerhöhungen
auftritt, die durch Anlegen eines elektrischen Stromimpulses verursacht
werden, wobei die Kristallisationstemperatur der ersten Aufzeichnungsschicht,
Tx1, und die Kristallisationstemperatur
der zweiten Aufzeichnungsschicht, Tx2, die
Beziehung Tx1 < Tx2 aufweisen,
die Kristallisationszeit der ersten Aufzeichnungsschicht, tx1, und die Kristallisationszeit der zweiten
Aufzeichnungsschicht, tx2, die Beziehung
tx1 > tx2 aufweisen, und Ra1 +
Ra2, Ra1 + Rc2, Rc1 + Ra2 und Rc1 + Rc2 voneinander verschieden sind, wobei der
Widerstandswert der ersten Aufzeichnungsschicht in der amorphen
Phase Ra1 ist, der Widerstandswert der ersten
Aufzeichnungsschicht in der kristallinen Phase Rc1 ist,
der Widerstandswert der zweiten Aufzeichnungsschicht in der amorphen
Phase Ra2 ist und der Widerstandswert der
zweiten Aufzeichnungsschicht in der kristallinen Phase Rc2 ist, und die Schreibvorrichtung umfasst:
einen Impulsgenerator zum Erzeugen mindestens eines ersten bis dritten
elektrischen Stromimpulses; und einen Anlegeabschnitt, durch den
der mindestens erste bis dritte elektrische Stromimpuls an die erste
Aufzeichnungsschicht und die zweite Aufzeichnungsschicht angelegt
werden, wobei, um die erste Aufzeichnungsschicht von der amorphen
Phase in die kristalline Phase zu ändern, während der Phasenzustand der
zweiten Aufzeichnungsschicht unverändert gehalten wird, der Impulsgenerator
den ersten elektrischen Stromimpuls erzeugt, der während einer
Zeit (t), die tx1 ≤ t erfüllt, eine Temperatur (T) schafft,
die Tx1 ≤ T < Tx2 erfüllt, um
die zweite Aufzeichnungsschicht von der amorphen Phase in die kristalline
Phase zu ändern,
während
der Phasenzustand der ersten Aufzeichnungsschicht unverändert gehalten
wird, der Impulsgenerator den zweiten elektrischen Stromimpuls erzeugt,
der während
einer Zeit (t), die tx2 ≤ t < tx1 eine Temperatur
(T) ergibt, die Tx2 ≤ T erfüllt, und, um sowohl die erste
Aufzeichnungsschicht als auch die zweite Aufzeichnungsschicht von
der kristallinen Phase in die amorphe Phase zu ändern, der Impulsgenerator
den dritten elektrischen Stromimpuls erzeugt, der eine Temperatur
schafft, die gleich dem oder höher
als der höhere
der Schmelzpunkte der ersten und der zweiten Aufzeichnungsschicht
ist.
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In
einer Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung ist die Impulsamplitude des ersten elektrischen Stromimpulses,
Ic1, 0,02 ≤ Ic1(mA) ≤ 10,
und die Impulsbreite des ersten elektrischen Stromimpulses, tc1, ist 5 ≤ tc1(ns) ≤ 200.
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In
einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung ist die Impulsamplitude des zweiten elektrischen
Stromimpulses, Ic2, 0,05 ≤ Ic2(mA) ≤ 20,
und die Impulsbreite des zweiten elektrischen Stromimpulses, tc2, ist 2 ≤ tc2(ns) ≤ 150.
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In
noch einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung ist die Impulsamplitude des dritten elektrischen
Stromimpulses, Ia1, 0,1 ≤ Ia1(mA) ≤ 200, und
die Impulsbreite des dritten elektrischen Stromimpulses, ta1, ist 1 ≤ ta1(ns) ≤ 100.
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In
noch einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung erzeugt, um sowohl die erste Aufzeichnungsschicht
als auch die zweite Aufzeichnungsschicht von der amorphen Phase
in die kristalline Phase zu ändern,
der Impulsgenerator einen vierten elektrischen Stromimpuls, der
während
einer Zeit (t), die tx1 ≤ t erfüllt, eine Temperatur (T) ergibt,
die Tx2 ≤ T
erfüllt.
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In
noch einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung ist die Impulsamplitude des vierten elektrischen
Stromimpulses, Ic12, 0,05 ≤ Ic12(mA) ≤ 20,
und die Impulsbreite des vierten elektrischen Stromimpulses, tc12, ist 5 ≤ tc12(ns) ≤ 200.
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In
noch einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung erzeugt, wenn der Schmelzpunkt der ersten
Aufzeichnungsschicht, Tm1, und der Schmelzpunkt
der zweiten Aufzeichnungsschicht, Tm2, die
Beziehung Tm1 ≠ Tm2 aufweisen,
um die Aufzeichnungsschicht mit dem niedrigeren der Schmelzpunkte
Tm1 und Tm2 von
der kristallinen Phase in die amorphe Phase zu ändern, während der Phasenzustand der
Aufzeichnungsschicht mit dem höheren
der Schmelzpunkte Tm1 und Tm2 in
der kristallinen Phase gehalten wird, der Impulsgenerator einen
fünften
elektrischen Stromimpuls, der eine Temperatur ergibt, die gleich
dem oder höher als
der niedrigere der Schmelzpunkte Tm1 und
Tm2 und niedriger als der höhere der
Schmelzpunkte Tm1 und Tm2 ist.
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In
noch einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung ist die Impulsamplitude des fünften elektrischen
Stromimpulses, Ia2, 0,05 ≤ Ia2(mA) ≤ 160,
und die Impulsbreite des fünften
elektrischen Stromimpulses, ta2, ist 1 ≤ ta2(ns) ≤ 100.
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Gemäß noch einem
weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine Lesevorrichtung
zum Lesen von Informationen aus einem Speicher geschaffen, wobei
der Speicher umfasst: eine erste Aufzeichnungsschicht zum Aufzeichnen
von Informationen unter Verwendung einer reversiblen Phasenänderung
zwischen einer kristallinen Phase und einer amorphen Phase, die
auf Grund Temperaturerhöhungen
auftritt, die durch Anlegen eines elektrischen Stromimpulses verursacht
werden; und eine zweite Aufzeichnungsschicht zum Aufzeichnen von
Informationen unter Verwendung einer reversiblen Phasenänderung
zwischen einer kristallinen Phase und einer amorphen Phase, die
auf Grund Temperaturerhöhungen
auftritt, die durch Anlegen eines elektrischen Stromimpulses verursacht
werden, wobei die Kristallisationstemperatur der ersten Aufzeichnungsschicht,
Tx1, und die Kristallisationstemperatur
der zweiten Aufzeichnungsschicht, Tx2, die
Beziehung Tx1 < Tx2 aufweisen,
die Kristallisationszeit der ersten Aufzeichnungsschicht, tx1, und die Kristallisationszeit der zweiten
Aufzeichnungsschicht, tx2, die Beziehung
tx1 > tx2 aufweisen, und Ra1 +
Ra2, Ra1 + Rc2, Rc1 + Ra2 und Rc1 + Rc2 voneinander verschieden sind, wobei der
Widerstandswert der ersten Aufzeichnungsschicht in der amorphen
Phase Ra1 ist, der Widerstandswert der ersten
Aufzeichnungsschicht in der kristallinen Phase Rc1 ist,
der Widerstandswert der zweiten Aufzeichnungsschicht in der amorphen
Phase Ra2 ist und der Widerstandswert der
zweiten Aufzeichnungsschicht in der kristallinen Phase Rc2 ist, und die Lesevorrichtung umfasst:
einen Anlegeabschnitt, durch den ein elektrischer Stromimpuls an
die erste und die zweite Aufzeichnungsschicht angelegt wird; eine
Widerstandsmessvorrichtung zum Messen einer Summe der Widerstände der
ersten und der zweiten Aufzeichnungsschicht; und einen Bestimmungsabschnitt
zum Bestimmen, welche der vier verschiedenen Summen von Widerstandswerten,
Ra1 + Ra2, Ra1 + Rc2, Rc1 + Ra2 und Rc1 + Rc2, gleich
der gemessenen Summe der Widerstandswerte der ersten und der zweiten
Aufzeichnungsschicht ist.
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In
einer Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung besitzt der elektrische Stromimpuls eine
Amplitude Ir mit einer Größe, so dass
eine Phasenänderung
in der ersten und der zweiten Aufzeichnungsschicht nicht verursacht
wird.
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In
einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung ist die Amplitude Ir des
elektrischen Stromimpulses Ir(mA) ≤ 0,02.
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Gemäß noch einem
weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung umfasst ein Speicher
N Aufzeichnungsschichten (N ist eine natürliche Zahl, die N > 2 erfüllt) zum
Aufzeichnen von Informationen unter Verwendung einer reversiblen
Phasenänderung
zwischen einer kristallinen Phase und einer amorphen Phase, die
auf Grund Temperaturerhöhungen
auftritt, die durch Anlegen eines elektrischen Stromimpulses verursacht
werden, wobei die Kristallisationstemperatur Txm der
mten Aufzeichnungsschicht (1 ≤ m ≤ N) die Beziehung
Tx1 < Tx2 < ... < Txm–1 < Txm < Txm+1 < ... < TxN erfüllt, die
Kristallisationszeit txm der m-ten Aufzeichnungsschicht
die Beziehung tx1 > tx2 > ... > txm–1 > txm > txm+1 > ... > txN erfüllt und
die Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten in der amorphen
Phase voneinander verschieden sind, die Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten
in der kristallinen Phase voneinander verschieden sind und die Summe
der Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten einer von 2N Werten ist.
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Gemäß noch einem
weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine Schreibvorrichtung
zum Schreiben von Informationen in einen Speicher geschaf fen, wobei
der Speicher N Aufzeichnungsschichten (N ist eine natürliche Zahl,
die N > 2 erfüllt) zum
Aufzeichnen von Informationen unter Verwendung einer reversiblen
Phasenänderung
zwischen einer kristallinen Phase und einer amorphen Phase umfasst,
die auf Grund von Temperaturerhöhungen
auftritt, die durch Anlegen eines elektrischen Stromimpulses verursacht
werden, wobei die Kristallisationstemperatur Txm der
m-ten Aufzeichnungsschicht (1 ≤ m ≤ N) die Beziehung
Tx1 < Tx2 < ... < Txm–1 < Txm < Txm+1 < ... < TxN erfüllt, die
Kristallisationszeit txm der m-ten Aufzeichnungsschicht
die Beziehung tx1 > tx2 > ... > txm–1 > txm > txm+1 > ... > txN erfüllt und
die Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten in der amorphen
Phase voneinander verschieden sind, die Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten in
der kristallinen Phase voneinander verschieden sind und die Summe
der Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten einer von 2N Werten ist, und die Schreibvorrichtung
umfasst: einen Impulsgenerator zum Erzeugen von mindestens N Kristallisationsimpulsen
und eines Amorphisationsimpulses und einen Anlegeabschnitt, durch
den die mindestens N Kristallisationsimpulse und der Amorphisationsimpuls
an die N Aufzeichnungsschichten angelegt werden, wobei, um nur die
m-te Aufzeichnungsschicht von der amorphen Phase in die kristalline
Phase zu ändern,
während
die Phasenzustände
der anderen Aufzeichnungsschichten unverändert gehalten werden, der
Impulsgenerator einen Kristallisationsimpuls erzeugt, der während einer
Zeit (t), die txm ≤ tx < tx(m–1) erfüllt, eine
Temperatur (T) ergibt, die Txm ≤ Tx < Tx(m+1) erfüllt, und, um alle N Aufzeichnungsschichten
von der kristallinen Phase in die amorphe Phase zu ändern, der
Impulsgenerator den Amorphisationsimpuls erzeugt, der eine Temperatur
schafft, die gleich dem oder höher
als der höchste
der Schmelzpunkte der N Aufzeichnungsschichten ist.
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In
einer Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung erzeugt, um alle N Aufzeichnungsschichten
von der amorphen Phase in die kristalline Phase zu ändern, der
Impulsgenerator einen elektrischen Stromimpuls, der während einer
Zeit (t), die tx1 ≤ tx erfüllt, eine
Temperatur (T) ergibt, die TxN ≤ Tx erfüllt.
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In
einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung erzeugt, um die mten bis (m+n–1)-ten Aufzeichnungsschichten
unter den N Aufzeichnungsschichten von der amorphen Phase in die
kristalline Phase zu ändern,
der Impulsgenerator einen elektrischen Stromimpuls, der während einer
Zeit (t), die txm ≤ tx < tx(m–1) erfüllt, eine
Temperatur (T) ergibt, die Tx(m+n–1) ≤ Tx < Tx(m+n) erfüllt.
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In
einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung erzeugt, wenn jede der einen oder mehreren
Aufzeichnungsschichten unter den N Aufzeichnungsschichten einen
Schmelzpunkt aufweist, der gleich einer oder niedriger als eine
Temperatur Tm ist, und jede der anderen
Aufzeichnungsschichten unter den N Aufzeichnungsschichten einen
Schmelzpunkt aufweist, der höher
als die Temperatur Tm ist, um die eine oder mehreren
Aufzeichnungsschichten von der kristallinen Phase in die amorphe
Phase zu ändern,
während
die anderen Aufzeichnungsschichten in der kristallinen Phase gehalten
werden, der Impulsgenerator einen elektrischen Stromimpuls, der
die Temperatur Tm erzeugt.
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Gemäß noch einem
weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine Lesevorrichtung
um Lesen von Informationen aus einem Speicher geschaffen, wobei
der Speicher N Aufzeichnungsschichten (N ist eine natürliche Zahl,
die N > 2 erfüllt) zum
Aufzeichnen von Informationen unter Verwendung einer reversiblen
Phasenänderung
zwischen einer kristallinen Phase und einer amorphen Phase umfasst,
die auf Grund Temperaturerhöhungen
auftritt, die durch Anlegen eines elektrischen Stromimpulses verursacht
werden, wobei die Kristallisationstemperatur Txm der
m-ten Aufzeichnungsschicht (1 ≤ m ≤ N) die Beziehung
Tx1 < Tx2 < ... < Txm–1 < Txm < Txm+1 < ... < TxN erfüllt, die
Kristallisationszeit txm der m-ten Aufzeichnungsschicht
die Beziehung tx1 > tx2 > ... > txm–1 > txm > txm+1 > ... > txN erfüllt und
die Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten in der amorphen Phase
voneinander verschieden sind, die Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten
in der kristallinen Phase voneinander verschieden sind und die Summe
der Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten einer von 2N Werten ist, und die Lesevorrichtung umfasst:
einen Anlegeabschnitt, durch den ein elektrischer Stromimpuls an
die N Aufzeichnungsschichten angelegt wird; eine Widerstandsmessvorrichtung
zum Messen einer Summe der Widerstände der N Aufzeichnungsschichten;
und einen Bestimmungsabschnitt zum Bestimmen, welcher der 2N verschiedenen Werte für die Summe von Widerstandswerten
gleich der gemessenen Summe der Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten
ist.
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Gemäß noch einem
weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zum
Schreiben von Informationen in einen Speicher geschaffen, wobei
der Speicher umfasst: eine erste Aufzeichnungsschicht zum Aufzeichnen
von Informationen unter Verwendung einer reversiblen Phasenänderung
zwischen einer kristallinen Phase und einer amorphen Phase, die
auf Grund von Temperaturer höhungen
auftritt, die durch Anlegen eines elektrischen Stromimpulses verursacht
werden; und eine zweite Aufzeichnungsschicht zum Aufzeichnen von
Informationen unter Verwendung einer reversiblen Phasenänderung
zwischen einer kristallinen Phase und einer amorphen Phase, die
auf Grund von Temperaturerhöhungen
auftritt, die durch Anlegen eines elektrischen Stromimpulses verursacht
werden, wobei die Kristallisationstemperatur der ersten Aufzeichnungsschicht,
Tx1, und die Kristallisationstemperatur
der zweiten Aufzeichnungsschicht, Tx2, die
Beziehung Tx1 < Tx2 aufweisen,
die Kristallisationszeit der ersten Aufzeichnungsschicht, tx1, und die Kristallisationszeit der zweiten
Aufzeichnungsschicht, tx2, die Beziehung
tx1 > tx2 aufweisen, und Ra1 +
Ra2, Ra1 + Rc2, Rc1 + Ra2 und Rc1 + Rc2 voneinander verschieden sind, wobei der
Widerstandswert der ersten Aufzeichnungsschicht in der amorphen
Phase Ra1 ist, der Widerstandswert der ersten
Aufzeichnungsschicht in der kristallinen Phase Rc1 ist,
der Widerstandswert der zweiten Aufzeichnungsschicht in der amorphen
Phase Ra2 ist und der Widerstandswert der
zweiten Aufzeichnungsschicht in der kristallinen Phase Rc2 ist, und das Schreibverfahren die Schritte
umfasst: Erzeugen mindestens eines ersten bis dritten elektrischen
Stromimpulses; und Anlegen des mindestens ersten bis dritten elektrischen
Stromimpulses an die erste Aufzeichnungsschicht und die zweite Aufzeichnungsschicht,
wobei im Schritt des Erzeugens des mindestens ersten bis dritten
elektrischen Stromimpulses, um die erste Aufzeichnungsschicht von
der amorphen Phase in die kristalline Phase zu ändern, während der Phasenzustand der
zweiten Aufzeichnungsschicht unverändert gehalten wird, der Impulsgenerator
den ersten elektrischen Stromimpuls erzeugt, der während einer
Zeit (t), die tx1 ≤ t erfüllt, eine Temperatur (T) ergibt,
die Tx1 ≤ T < Tx2 erfüllt, um
die zweite Aufzeichnungsschicht von der amorphen Phase in die kristalline
Phase zu ändern,
während
der Phasenzustand der ersten Aufzeichnungsschicht unverändert gehalten
wird, der Impulsgenerator den zweiten elektrischen Stromimpuls erzeugt,
der während
einer Zeit (t), die tx2 ≤ t < tx1 erfüllt, eine Temperatur
(T) ergibt, die Tx2 ≤ T erfüllt, und um sowohl die erste
Aufzeichnungsschicht als auch die zweite Aufzeichnungsschicht von
der kristallinen Phase in die amorphe Phase zu ändern, der Impulsgenerator
den dritten elektrischen Stromimpuls erzeugt, der eine Temperatur
ergibt, die gleich dem oder höher
als der höhere der
Schmelzpunkte der ersten und der zweiten Aufzeichnungsschicht ist.
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Gemäß noch einem
weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zum
Lesen von Informationen aus einem Speicher geschaffen, wobei der
Speicher umfasst: eine erste Aufzeichnungsschicht zum Aufzeichnen
von Infor mationen unter Verwendung einer reversiblen Phasenänderung
zwischen einer kristallinen Phase und einer amorphen Phase, die
auf Grund von Temperaturerhöhungen
auftritt, die durch Anlegen eines elektrischen Stromimpulses verursacht
werden; und eine zweite Aufzeichnungsschicht zum Aufzeichnen von
Informationen unter Verwendung einer reversiblen Phasenänderung
zwischen einer kristallinen Phase und einer amorphen Phase, die
auf Grund von Temperaturerhöhungen
auftritt, die durch Anlegen eines elektrischen Stromimpulses verursacht
werden, wobei die Kristallisationstemperatur der ersten Aufzeichnungsschicht,
Tx1, und die Kristallisationstemperatur
der zweiten Aufzeichnungsschicht, Tx2, die
Beziehung Tx1 < Tx2 aufweisen,
die Kristallisationszeit der ersten Aufzeichnungsschicht, tx1, und die Kristallisationszeit der zweiten
Aufzeichnungsschicht, tx2, die Beziehung
tx1 > tx2 aufweisen, und Ra1 +
Ra2, Ra1 + Rc2, Rc1 + Ra2 und Rc1 + Rc2 voneinander verschieden sind, wobei der
Widerstandswert der ersten Aufzeichnungsschicht in der amorphen
Phase Ra1 ist, der Widerstandswert der ersten
Aufzeichnungsschicht in der kristallinen Phase Rc1 ist,
der Widerstandswert der zweiten Aufzeichnungsschicht in der amorphen
Phase Ra2 ist und der Widerstandswert der
zweiten Aufzeichnungsschicht in der kristallinen Phase Rc2 ist, und das Leseverfahren die Schritte
umfasst: Anlegen eines elektrischen Stromimpulses an die erste Aufzeichnungsschicht
und die zweite Aufzeichnungsschicht; Messen einer Summe der Widerstände der
ersten und der zweiten Aufzeichnungsschicht; und Bestimmen, welche
der vier verschiedenen Summen von Widerstandswerten, Ra1 +
Ra2, Ra1 + Rc2, Rc1 + Ra2 und Rc1 + Rc2, gleich der gemessenen Summe der Widerstandswerte
der ersten und der zweiten Aufzeichnungsschicht ist.
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Gemäß noch einem
weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zum
Schreiben von Informationen in einen Speicher geschaffen, wobei
der Speicher N Aufzeichnungsschichten (N ist eine natürliche Zahl,
die N > 2 erfüllt) zum
Aufzeichnen von Informationen unter Verwendung einer reversiblen
Phasenänderung
zwischen einer kristallinen Phase und einer amorphen Phase umfasst,
die auf Grund Temperaturerhöhungen
auftritt, die durch Anlegen eines elektrischen Stromimpulses verursacht
werden, wobei die Kristallisationstemperatur Txm der
m-ten Aufzeichnungsschicht (1 ≤ m ≤ N) die Beziehung
Tx1 < Tx2 < ... < Txm–1 < Txm < Txm+1 < ... < TxN erfüllt, die
Kristallisationszeit txm der m-ten Aufzeichnungsschicht
die Beziehung tx1 > tx2 > ... > txm–1 > txm > txm+1 > ... > txN erfüllt und
die Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten in der amorphen Phase
voneinander verschieden sind, die Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten
in der kristallinen Phase voneinander verschieden sind und die Summe
der Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten einer von 2N Werten ist, und das Schreibverfahren die
Schritte umfasst: Erzeugen von mindestens N Kristallisationsimpulsen
und eines Amorphisationsimpulses und Anlegen der mindestens N Kristallisationsimpulse und
des Amorphisationsimpulses an die N Aufzeichnungsschichten, wobei
im Schritt des Erzeugens der ersten bis (N+1)-ten elektrischen Stromimpulse,
um nur die m-te Aufzeichnungsschicht von der amorphen Phase in die
kristalline Phase zu ändern,
während
die Phasenzustände
der anderen Aufzeichnungsschichten unverändert gehalten werden, der
Impulsgenerator einen Kristallisationsimpuls erzeugt, der während einer
Zeit (t), die txm ≤ tx < tx(m–1) erfüllt, eine
Temperatur (T) ergibt, die Txm ≤ Tx < Tx(m+1) erfüllt, und um alle N Aufzeichnungsschichten
von der kristallinen Phase in die amorphe Phase zu ändern, der
Impulsgenerator den Amorphisationsimpuls erzeugt, der eine Temperatur
ergibt, die gleich dem oder höher
als der höchste
der Schmelzpunkte der N Aufzeichnungsschichten ist.
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Gemäß noch einem
weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zum
Lesen von Informationen von einem Speicher geschaffen, wobei der
Speicher N Aufzeichnungsschichten (N ist eine natürliche Zahl,
die N > 2 erfüllt) zum
Aufzeichnen von Informationen unter Verwendung einer reversiblen
Phasenänderung
zwischen einer kristallinen Phase und einer amorphen Phase umfasst,
die auf Grund Temperaturerhöhungen
auftritt, die durch Anlegen eines elektrischen Stromimpulses verursacht
werden, wobei die Kristallisationstemperatur Txm der
m-ten Aufzeichnungsschicht (1 ≤ m ≤ N) die Beziehung
Tx1 < Tx2 < ... < Txm–1 < Txm < Txm+1 < ... < TxN erfüllt, die
Kristallisationszeit txm der m-ten Aufzeichnungsschicht
die Beziehung tx1 > tx2 > ... > txm–1 > txm > txm+1 > ... > txN erfüllt und
die Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten in der amorphen Phase
voneinander verschieden sind, die Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten
in der kristallinen Phase voneinander verschieden sind und die Summe
der Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten einer von 2N Werfen ist, und das Leseverfahren die Schritte
umfasst: Anlegen eines elektrischen Stromimpulses an die N Aufzeichnungsschichten;
Messen einer Summe der Widerstände
der N Aufzeichnungsschichten; und Bestimmen, welcher der 2N verschiedenen Werte für die Summe von Widerstandswerten
gleich der gemessenen Summe der Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten
ist.
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Folglich
macht die hierin beschriebene Erfindung die Vorteile möglich, dass
sie folgendes schafft: einen Phasenänderungsspeicher, der mehrwertige
Informationen speichert und in dem das Schreiben und Lesen von Informationen
leicht durchgeführt
werden kann; eine Schreibvorrichtung zum Schreiben von Informationen
in einen solchen Phasenänderungsspeicher;
eine Lesevorrichtung zum Lesen von Informationen aus einem solchen
Phasenänderungsspeicher;
und Schreib- und Leseverfahren, die in Verbindung mit einem solchen
Phasenänderungsspeicher
verwendet werden.
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Die
Vorteile der vorliegenden Erfindung werden für Fachleute beim Lesen und
Verstehen der folgenden ausführlichen
Beschreibung mit Bezug auf die begleitenden Fig. ersichtlich.
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KURZBESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
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1 zeigt
eine Struktur einer Schreib/Lese-Vorrichtung, die mit einem Speicher
gemäß der vorliegenden
Erfindung verbunden ist.
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2 stellt
einen Übergang
des Zustandes des Speichers auf der Basis der Phasenzustände der
ersten und der zweiten Aufzeichnungsschicht dar.
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3 zeigt
die Wellenformen von elektrischen Stromimpulsen, die verwendet werden,
um die Phasenzustände
der zwei Aufzeichnungsschichten zu ändern.
-
4 ist
ein Ablaufplan, der das Verfahren zum Lesen von Informationen vom
Speicher unter Verwendung der Schreib/Lese-Vorrichtung der vorliegenden
Erfindung darstellt.
-
5 zeigt
eine beispielhafte Struktur, die aus einer Speichervorrichtung mit
mehreren Speichern der vorliegenden Erfindung, die in einer Matrix
angeordnet sind, und einer externen Schaltung, die mit der Speichervorrichtung
verbunden ist, gebildet ist.
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6 zeigt
einen Speicher mit N Aufzeichnungsschichten.
-
7 zeigt
die Wellenformen von elektrischen Stromimpulsen, die verwendet werden,
um die Phasenzustände
der N Aufzeichnungsschichten zu ändern.
-
8 ist
ein Ablaufplan, der das Verfahren zum Lesen von Informationen vom
Speicher unter Verwendung der Schreib/Lese-Vorrichtung der vorliegenden
Erfindung darstellt.
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BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN
AUSFÜHRUNGSFORMEN
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Nachstehend
werden Ausführungsformen
der vorliegenden Erfindung mit Bezug auf die Zeichnungen beschrieben.
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(Ausführungsform
1)
-
1 zeigt
eine Struktur einer Schreib/Lese-Vorrichtung, die mit einem Speicher
gemäß der vorliegenden
Erfindung verbunden ist. Die Schreib/Lese-Vorrichtung 12 schreibt
Informationen in den Speicher 11 oder liest Informationen
aus dem Speicher 11.
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Die
Schreib/Lese-Vorrichtung 12 umfasst einen Impulsgenerator 7 zum
Erzeugen eines elektrischen Stromimpulses, einen Widerstandsmessabschnitt 8 zum
Messen des Widerstandes des Speichers 11, Schalter 9 und 10,
Anlegeabschnitte 13 zum Anlegen eines elektrischen Stromimpulses,
der durch den Impulsgenerator 7 erzeugt wird, an den Speicher 11 und
einen Bestimmungsabschnitt 16 zum Bestimmen des Widerstandswerts
des Speichers 11, der vom Widerstandsmessabschnitt 8 gemessen
wird.
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Der
Speicher 11 umfasst ein Substrat 1, eine untere
Elektrode 2, die über
dem Substrat 1 ausgebildet ist, eine erste Aufzeichnungsschicht 3,
die über
der unteren Elektrode 2 ausgebildet ist, eine Zwischenschicht 4,
die über
der ersten Aufzeichnungsschicht 3 ausgebildet ist, eine
zweite Aufzeichnungsschicht 5, die über der Zwischenschicht 4 ausgebildet
ist, und eine obere Elektrode 6, die über der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 ausgebildet
ist.
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Als
Substrat 1 kann beispielsweise eine Harzplatte aus Polycarbonat
oder dergleichen, eine Glasplatte, eine Keramikplatte aus Aluminiumoxid
(Al2O3) oder dergleichen,
eine Si-Platte, Metallplatten aus Cu oder dergleichen usw. verwendet
werden, aber die vorliegende Erfindung ist nicht auf diese Beispiele
begrenzt. In der Ausführungsform
1 wird ein Si-Substrat als Substrat 1 verwendet. Als untere Elektrode 2 und
obere Elektrode 6 kann beispielsweise ein Einzelmetallmaterial
wie z. B. Al, Au, Ag, Cu, Pt, Ti, W usw. oder eine Kombination davon
(Legierungsmaterial) verwendet werden. Gemäß der vorliegenden Erfindung
kann jedoch ein beliebiges Elektrodenmaterial verwendet werden,
solange elektrische Energie an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 über die Elektroden 2 und 6 angelegt
werden kann. Die Zwischenschicht 4 ist zum Verhindern,
dass Atome, die eine der ersten Aufzeichnungsschicht 3 und
der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 bilden, sich dazwischen
durch Diffusion bewegen, vorgesehen. Die Zwischenschicht 4 ist vorzugsweise
elektrisch leitend und kann aus einem Einzelmetallmaterial wie z.
B. Al, Au, Ag, Cu, Pt, Ti, W usw. oder einer Kombination davon (Legierungsmaterial)
bestehen. Das Material der Zwischenschicht 4 ist jedoch
nicht auf diese Materialien begrenzt. In der Ausführungsform
1 wird Pt in der unteren Elektrode 2, der Zwischenschicht 4 und
der oberen Elektrode 6 verwendet.
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Es
sollte beachtet werden, dass eine beliebige Struktur zum Anlegen
eines elektrischen Stromimpulses an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 anstelle der unteren
Elektrode 2 und/oder der oberen Elektrode 6 verwendet
werden kann. Wenn das Substrat 1 beispielsweise elektrisch
leitend ist, kann die untere Elektrode 2 weggelassen werden.
Ferner kann die Zwischenschicht 4 weggelassen werden, wenn
die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 aus
einem solchen Material bestehen, dass Atome, die die Aufzeichnungsschichten 3 und 5 bilden,
sich dazwischen nicht durch Diffusion bewegen.
-
Ferner
bestehen die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite
Aufzeichnungsschicht 5 aus einem solchen Material, dass
eine reversible Phasenänderung
zwischen der kristallinen Phase und der amorphen Phase durch Temperaturerhöhungen auf
Grund des Anlegens von elektrischer Energie wie z. B. eines elektrischen
Impulses oder dergleichen verursacht werden. Das Material der ersten
Aufzeichnungsschicht 3 und der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 wird
derart ausgewählt,
dass die folgenden Bedingungen 1–3 erfüllt sind:
- Bedingung
1: Die Kristallisationstemperatur der ersten Aufzeichnungsschicht 3,
Tx1, und die Kristallisationstemperatur
der zweiten Aufzeichnungsschicht 5, Tx2,
erfüllen
die Beziehung Tx1 < Tx2. In dieser
Patentbeschreibung bedeutet "Kristalli sationstemperatur" eine Temperatur,
bei der sich das Material einer Aufzeichnungsschicht von der amorphen
Phase in die kristalline Phase ändert.
- Bedingung 2: Die Kristallisationszeit der ersten Aufzeichnungsschicht 3,
tx1, und die Kristallisationszeit der zweiten
Aufzeichnungsschicht 5, tx2, erfüllen die
Beziehung Tx1 > tx2. In dieser
Patentbeschreibung bedeutet "Kristallisationszeit" eine Zeit, die verbracht
wird, während
dessen sich das Material einer Aufzeichnungsschicht von der amorphen
Phase in die kristalline Phase ändert.
- Bedingung 3: Wenn der Widerstandswert der ersten Aufzeichnungsschicht 3 in
der amorphen Phase Ra1 ist, der Widerstandswert
der ersten Aufzeichnungsschicht 3 in der kristallinen Phase
Rc1 ist, der Widerstandswert der zweiten
Aufzeichnungsschicht 5 in der amorphen Phase Ra2 ist,
und der Widerstandswert der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 in
der kristallinen Phase Rc2 ist, sind Ra1 + Ra2, Ra1 + Rc2, Rc1 + Ra2 und Rc1 + Rc2 voneinander
verschieden.
-
Durch
Erfüllen
der Bedingung 1 und Bedingung 2 können der Phasenzustand der
ersten Aufzeichnungsschicht 3 und der Phasenzustand der
zweiten Aufzeichnungsschicht 5 jeweils in einen gewünschten
Zustand (amorphe Phase oder kristalline Phase) gesetzt werden. Durch
Erfüllen
von Bedingung 3 können überdies
vier Zustände,
die durch Kombinationen des Phasenzustandes der ersten Aufzeichnungsschicht 3 und des
Phasenzustandes der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 dargestellt
werden, unterscheidbar erfasst werden. Folglich können die
erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 des
Speichers 11 Informationen mit 4 Werten (2 Bits) entsprechend
den vier Zuständen
speichern. In dieser Struktur wird der Phasenzustand von jeder Aufzeichnungsschicht
zwischen der kristallinen Phase und der amorphen Phase gesteuert.
Dies ist leichter als eine schrittweise Steuerung des Phasenzustandes
einer einzelnen Aufzeichnungsschicht.
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Die
Kristallisationstemperatur Tx1 der ersten
Aufzeichnungsschicht 3 ist vorzugsweise 130 ≤ Tx1 ≤ (°C) 230. Die
Kristallisationstemperatur Tx2 der zweiten
Aufzeichnungsschicht 5 ist vorzugsweise 160 ≤ Tx2(°C) ≤ 260. Die
Kristallisationszeit tx1 der ersten Aufzeichnungsschicht 3 ist
vorzugsweise 5 ≤ tx1(ns) ≤ 200.
Die Kristallisationszeit tx2 der zweiten
Aufzeichnungsschicht 5 ist vorzugsweise 2 ≤ tx2(ns) ≤ 150.
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Der
spezifische Widerstand ra1 der ersten Aufzeichnungsschicht 3 in
der amorphen Phase ist vorzugsweise 1,0 ≤ ra1(Ω·cm) ≤ 1 × 107. Der spezifische Widerstand ra2 der
zweiten Aufzeichnungsschicht 5 in der amorphen Phase ist
vorzugsweise 2,0 ≤ ra2(Ω·cm) ≤ 2 × 107. Der spezifische Widerstand rc1 der
ersten Aufzeichnungsschicht 3 in der kristallinen Phase
ist vorzugsweise 1 × 10–3 ≤ rc1(Ω·cm) ≤ 1,0. Der
spezifische Widerstand rc2 der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 in
der kristallinen Phase ist vorzugsweise 1 × 10–3 ≤ rc2(Ω·cm) ≤ 1,0.
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In
der Ausführungsform
1 weisen der Schmelzpunkt der ersten Aufzeichnungsschicht 3,
Tm1, und der Schmelzpunkt der zweiten Aufzeichnungsschicht 5,
Tm2, die Beziehung Tm1 > Tm2 auf.
Gemäß der vorliegenden Erfindung
können
diese Schmelzpunkte Tm1 und Tm2 jedoch
eine beliebige Beziehung aufweisen. In der Ausführungsform 1 sind der Schmelzpunkt
Tm1 der ersten Aufzeichnungsschicht 3 und
der Schmelzpunkt Tm2 der zweiten Aufzeichnungsschicht
5 630°C
bzw. 550°C.
Gemäß der vorliegenden
Erfindung ist der Schmelzpunkt Tm1 der ersten
Aufzeichnungsschicht 3 vorzugsweise 400 ≤ Tm1(°C) ≤ 800 und der
Schmelzpunkt Tm2 der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 ist
vorzugsweise 300 ≤ Tm2(°C) ≤ 700.
-
Die
erste Aufzeichnungsschicht 3 umfasst drei Elemente, Ge,
Sb und Te. Die zweite Aufzeichnungsschicht 5 umfasst ein
Materialsystem, das durch (Sb-Te)-M1 dargestellt ist, wobei M1 mindestens
eines ist, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Ag, In, Ge,
Sn, Se, Bi, Au und Mn besteht. In der Ausführungsform 1 sind die erste
Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 Ge8Sb2Te11 bzw. (Sb0,7Te0,3)95Ge5. In der Ausführungsform
1 sind die Kristallisationstemperatur Tx1 der
ersten Aufzeichnungsschicht 3 und die Kristallisationstemperatur
Tx2 der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 170 °C bzw. 200 °C. Die Kristallisationszeit
tx1 der ersten Aufzeichnungsschicht 3 und
die Kristallisationszeit tx2 der zweiten
Aufzeichnungsschicht 5 sind 130 ns bzw. 80 ns.
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Ferner
besitzt in der Ausführungsform
1 die untere Elektrode 2 aus Pt eine Fläche von 10 μm × 10 μm und eine Dicke von 0,1 μm. Die erste
Aufzeichnungsschicht 3 aus Ge8Sb2Te11 besitzt eine
Fläche
von 5 μm × 5 μm und eine
Dicke von 0,1 μm.
Die Zwischenschicht 4 aus Pt besitzt eine Fläche von
5 μm × 5 μm und eine Dicke
von 0,1 μm.
Die zweite Aufzeichnungsschicht 5 aus (Sb0,7Te0,3)95Ge5 besitzt
eine Fläche
von 5 μm × 5 μm und eine
Dicke von 0,1 μm.
Die obere Elektrode 6 aus Pt besitzt eine Fläche von
5 μm × 5 μm und eine Dicke
von 0,1 μm.
In dieser Struktur sind der Widerstandswert Ra1 der
ersten Aufzeichnungsschicht 3 in der amorphen Phase und
der Widerstandswert Ra1 der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 in
der amorphen Phase 1000 Ω bzw.
1500 Ω.
Der Widerstandswert Rc1 der ersten Aufzeichnungsschicht 3 in
der kristallinen Phase und der Widerstandswert Rc2 der
zweiten Aufzeichnungsschicht 5 in der kristallinen Phase
sind 5 Ω bzw.
10 Ω.
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Der
Speicher 11 weist vier verschiedene Zustände auf,
die in der nachstehenden Tabelle 1 gezeigt sind, den Zustand 1 bis
Zustand 4. Die Zustände
1–4 sind
durch Kombinationen der Phasenzustände der ersten Aufzeichnungsschicht 3 und
der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 (amorphe Phase und kristalline
Phase) dargestellt. Die Tabelle 1 zeigt die Phasenzustände der
ersten Aufzeichnungsschicht 3 und der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 und
die Summe der Widerstandswerte der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 für jeden
der Zustände
1–4 des
Speichers 11.
-
-
Wenn
sich die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 beide
in der amorphen Phase (Zustand 1) befinden, ist die Summe des Widerstandes
der ersten Aufzeichnungsschicht 3 und des Widerstandes
der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 Ra1 +
Ra2. Wenn sich die erste Aufzeichnungsschicht 3 in
der kristallinen Phase und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 in
der amorphen Phase (Zustand 2) befindet, ist die Summe des Widerstandes
der ersten Aufzeichnungsschicht 3 und des Widerstandes
der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 Rc1 +
Ra2. Wenn sich die erste Aufzeichnungsschicht 3 in
der amorphen Phase und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 in
der kristallinen Phase (Zustand 3) befindet, ist die Summe des Widerstandes der
ersten Aufzeichnungsschicht 3 und des Widerstandes der
zweiten Aufzeichnungsschicht 5 Ra1 +
Rc2. Wenn sich die erste Aufzeichnungsschicht 3 und
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 beide in der kristallinen
Phase (Zustand 4) befinden, ist die Summe des Widerstandes der ersten
Aufzeichnungsschicht 3 und des Widerstandes der zweiten
Aufzeichnungsschicht 5 Rc1 + Rc2. Wie vorstehend beschrieben, ist die Summe
der Widerstände
der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 unter den Zuständen 1–4 verschieden.
-
Als
nächstes
wird eine Prozedur zum Herstellen des Speichers 11 (Schritte
S1101 bis S1106) beschrieben:
-
S1101:
Das Substrat 1 wird einer Oberflächenbehandlung unterzogen und
dann in eine Sputtervorrichtung eingeführt.
-
S1102:
Ein Einzelmetall-Target, wie z. B. Al, Au, Ag, Cu, Pt, Ti, W usw.,
oder ein Legierungsmetall-Target aus diesen Metallen wird in einer
Ar-Gasatmosphäre
gesputtert, um die untere Elektrode 2 auszubilden.
-
S1103:
Ein Legierungs-Target mit drei Elementen, Ge, Sb und Te, wird in
einer Atmosphäre
gesputtert, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die aus einer Ar-Gasatmosphäre, einer
Kr-Gasatmosphäre,
einer gemischten Gasatmosphäre,
die durch Ar-Gas und reaktives Gas, einschließlich mindestens eines von
Sauerstoffgas und Stickstoffgas, gebildet ist, und einer gemischten
Gasatmosphäre,
die durch Kr-Gas und reaktives Gas gebildet ist, besteht, um die
erste Aufzeichnungsschicht 3 auf der unteren Elektrode 2 auszubilden.
-
S1104:
Ein Einzelmetall-Target, wie z. B. Al, Au, Ag, Cu, Pt, Ti, W usw.,
oder ein Legierungsmetall-Target dieser Metalle wird in einer Ar-Gasatmosphäre gesputtert,
um die Zwischenschicht 4 auf der ersten Aufzeichnungsschicht 3 auszubilden.
-
S1105:
Ein Legierungs-Target, mit einem Materialsystem, das durch (Sb-Te)-M1
dargestellt ist (wobei M1 mindestens eines ist, das aus einer Gruppe
ausgewählt
ist, die aus Ag, In, Ge, Sn, Se, Bi, Au und Mn besteht) wird in
einer Atmosphäre
gesputtert, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die aus einer Ar-Gasatmosphäre, einer
Kr-Gasatmosphäre,
einer gemischten Gasatmosphäre,
die durch ein Ar-Gas und reaktives Gas, einschließlich mindestens
eines von Sauerstoffgas und Stickstoffgas, gebildet ist, und einer
gemischten Gasatmosphäre,
die durch Kr-Gas
und reaktives Gas gebildet ist, besteht, um die zweite Aufzeichnungsschicht 5 auf
der Zwischenschicht 4 auszubilden.
-
S1106:
Ein Einzelmetall-Target, wie z. B. Al, Au, Ag, Cu, Pt, Ti, W usw.,
oder ein Legierungsmetall-Target dieser Metalle wird in einer Ar-Gasatmosphäre gesputtert,
um die obere Elektrode 6 auf der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 auszubilden.
-
In
den Herstellungsschritten S1101 bis S1106 wird die Sputtervorrichtung
verwendet, um die untere Elektrode 2, die erste Aufzeichnungsschicht 3,
die Zwischenschicht 4, die zweite Aufzeichnungsschicht 5 und die
obere Elektrode 6 auszubilden. Gemäß der vorliegenden Erfindung
kann jedoch eine beliebige Dünnschicht-Ausbildungsvorrichtung
verwendet werden, um diese Schichten auszubilden. In der Ausführungsform 1
wird in Schritt S1101 die Oberfläche
des Si-Substrats 1 in einer Nitridatmosphäre nitridiert.
In dem so hergestellten Speicher 11 wird ein Au-Zuleitungsdraht an
jede der unteren Elektrode 2 und der oberen Elektrode 6 gebondet.
Die Au-Zuleitungsdrähte
werden mit der Lese/Schreib-Vorrichtung 12 über die
Anlegeabschnitte 13 verbunden.
-
Als
nächstes
werden ein Verfahren zum Schreiben von Informationen in den Speicher 11 und
ein Verfahren zum Löschen
von Informationen aus dem Speicher 11 beschrieben. Wenn
Informationen in den Speicher 11 geschrieben werden oder
Informationen aus diesem gelöscht
werden, wird der Schalter 9 geschlossen und der Schalter 10 wird
geöffnet.
Der Impulsgenerator 7 erzeugt einen elektrischen Stromimpuls
mit einer Amplitude und Breite, die erforderlich sind, um die Phasenzustände der
ersten Aufzeichnungsschicht 3 und der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 in
gewünschte
Phasenzustände
zu ändern.
Der vom Impulsgenerator 7 erzeugte elektrische Stromimpuls
wird an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite
Aufzeichnungsschicht 5 über
die Anlegeabschnitte 13 angelegt.
-
2 stellt
den Übergang
des Zustandes des Speichers 11 auf der Basis der Phasenzustände der
ersten Aufzeichnungsschicht 3 und der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 dar.
-
In
der Ausführungsform
1 werden mit Bezug auf Tabelle 1 in Verbindung mit 2 eine
Operation, die einen Übergang
vom Zustand 1 in den Zustand 2 verursacht, eine Operation, die einen Übergang
vom Zustand 1 in den Zustand 3 verursacht, eine Operation, die einen Übergang
vom Zustand 1 in den Zustand 4 verursacht, eine Operation, die einen Übergang
vom Zustand 2 in den Zustand 3 verursacht, eine Operation, die einen Übergang
vom Zustand 2 in den Zustand 4 verursacht, eine Operation, die einen Übergang
vom Zustand 3 in den Zustand 2 verursacht eine Operation, die einen Übergang
vom Zustand 3 in den Zustand 4 verursacht, eine Operation, die einen Übergang
vom Zustand 4 in den Zustand 2 verursacht, eine Operation, die einen Übergang
vom Zustand 4 in den Zustand 3 verursacht, als "Schreib"-Operationen bezeichnet. Andererseits werden
eine Operation, die einen Übergang
zum Zustand 2 in den Zustand 1 verursacht, eine Operation, die einen Übergang
vom Zustand 3 in den Zustand 1 verursacht, eine Operation, die einen Übergang
vom Zustand 4 in den Zustand 1 verursacht, als "Lösch"-Operationen bezeichnet.
Die Phasenzustände
der ersten Aufzeichnungsschicht 3 und der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 werden
in gewünschte
Phasenzustände
geändert, wodurch
Informationen in den Speicher 11 geschrieben werden können oder
Informationen aus dem Speicher 11 gelöscht werden können.
-
Nachstehend
werden Schritte zum Schreiben von Informationen in den und/oder
Löschen
von Informationen aus dem Speicher 11 mit Bezug auf 2 beschrieben:
- Schritt S1: Wenn der Zustand 1 in den Zustand 2 geändert wird
oder wenn der Zustand 3 in den Zustand 4 geändert wird, d. h. wenn die
erste Aufzeichnungsschicht 3 von der amorphen Phase in
die kristalline Phase geändert
wird, während
der Phasenzustand der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 unverändert gehalten
wird, erzeugt der Impulsgenerator 7 (1)
einen ersten elektrischen Stromimpuls, der an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 über die Anlegeabschnitte 13 (1)
angelegt wird. Der erste elektrische Stromimpuls ergibt während einer
Zeit (t); die tx1 < t erfüllt, eine Temperatur (T), die
Tx1 ≤ T < Tx2 erfüllt. Spezielle
Wellenformen des elektrischen Stromimpulses werden später mit
Bezug auf 3 beschrieben.
- Schritt S2: Wenn der Zustand 1 in den Zustand 3 geändert wird
oder wenn der Zustand 2 in den Zustand 4 geändert wird, d. h. wenn der
Phasenzustand der ersten Aufzeichnungsschicht 3 unverändert gehalten
wird, während
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 von der amorphen Phase
in die kristalline Phase geändert
wird, erzeugt der Impulsgenerator 7 einen zweiten elektrischen
Stromimpuls, der an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 über die Anlegeabschnitte 13 angelegt
wird. Der zweite elektrische Stromimpuls ergibt während einer
Zeit (t), die tx2 ≤ t < tx1 erfüllt, eine
Temperatur (T), die Tx2 ≤ T erfüllt.
- Schritt S3: Wenn der Zustand 4 in den Zustand 1 geändert wird,
d. h. wenn die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite
Aufzeichnungsschicht 5 beide von der kristallinen Phase
in die amorphe Phase geändert
werden, erzeugt der Impulsgenerator 7 einen dritten elektrischen
Stromimpuls, der an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 über die Anlegeabschnitte 13 angelegt
wird. Der dritte elektrische Stromimpuls ergibt eine Temperatur,
die gleich dem oder höher
als der höhere
der Schmelzpunkte der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 ist.
- Schritt S4: Wenn der Zustand 1 in den Zustand 4 geändert wird,
d. h. wenn die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite
Aufzeichnungsschicht 5 beide von der amorphen Phase in
die kristalline Phase geändert
werden, erzeugt der Impulsgenerator 7 einen vierten elektrischen
Stromimpuls, der an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 über die Anlegeabschnitte 13 angelegt
wird. Der vierte elektrische Stromimpuls ergibt während einer
Zeit (t), die tx1 ≤ t erfüllt, eine Temperatur (T), die
Tx2 ≤ T
erfüllt.
Es sollte beachtet werden, dass Schritt S4 nicht unentbehrlich ist,
da der Schritt S4 ersetzt werden kann, indem nacheinander Schritt
S1 und Schritt S2 oder Schritt S2 und Schritt S1 durchgeführt werden.
Da Schritt S4 nicht unentbehrlich ist, ist ein Übergang des Zustandes des Speichers 11,
der Schritt S4 entspricht, durch einen gestrichelten Pfeil in 2 dargestellt.
- Schritt S5: Wenn der Schmelzpunkt Tm1 der
ersten Aufzeichnungsschicht 3 und der Schmelzpunkt Tm2 der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 die
Beziehung Tm1 > Tm2 aufweisen
und der Zustand 4 in den Zustand 2 geändert wird, d. h. wenn der
Phasenzustand der ersten Aufzeichnungsschicht 3 in der
kristallinen Phase gehalten wird, während die zweite Aufzeichnungsschicht 5 von
der kristallinen Phase in die amorphe Phase geändert wird, erzeugt der Impulsgenerator 7 einen
fünften
elektrischen Stromimpuls, der an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 über die Anlegeabschnitte 13 angelegt
wird. Der fünfte elektrische
Stromimpuls ergibt eine Temperatur (T), die Tm2 ≤ T < Tm1 erfüllt. Es
sollte beachtet werden, dass Schritt S5 nicht unentbehrlich ist,
da Schritt S5 ersetzt werden kann, indem nacheinander Schritt S3
und Schritt S1 durchgeführt
werden. Da Schritt S5 nicht unentbehrlich ist, ist ein Übergang
des Zustandes des Speichers 11, der Schritt S5 entspricht,
in 2 durch einen gestrichelten Pfeil dargestellt.
Wenn alternativ der Schmelzpunkt Tm1 der
ersten Aufzeichnungsschicht 3 und der Schmelzpunkt Tm2 der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 die
Beziehung Tm1 < Tm2 aufweisen,
wird der fünfte
elektrische Stromimpuls, der eine Temperatur (T) schafft, die Tm1 ≤ T < Tm2 erfüllt, an
die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt, wodurch
ein Übergang
vom Zustand 4 in den Zustand 3 erreicht werden kann.
-
Mit
den Schritten S1 bis S3 können
die Phasenzustände
der ersten Aufzeichnungsschicht 3 und der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 derart
geändert
werden, dass einer der Zustände
1–4 in
einen anderen geändert
wird. Wenn beispielsweise der Zustand 2 in den Zustand 1 geändert wird,
werden Schritt S2 und Schritt S3 durchgeführt. Wenn der Zustand 3 in
den Zustand 1 geändert
wird, werden Schritt S1 und Schritt S3 durchgeführt. Wenn der Zustand 2 in
den Zustand 3 geändert
wird, werden Schritt S2, Schritt S3 und dann Schritt S2 durchgeführt. Wenn
der Zustand 3 in den Zustand 2 geändert wird, werden Schritt
S1, Schritt S3 und dann Schritt S1 durchgeführt. Wenn der Zustand 4 in
den Zustand 3 geändert
wird, werden Schritt S3 und dann Schritt S2 durchgeführt.
-
Wenn
die aktuellen Phasenzustände
der ersten Aufzeichnungsschicht 3 und der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 bekannt
sind, können
die Phasenzustände
der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 durch eine Kombination
der obigen Schritte in gewünschte
Phasenzustände
geändert
werden. Die aktuellen Phasenzustände
(anfängliche
Zustände)
der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 können durch
ein Leseverfahren identifiziert werden, das später mit Bezug auf 4 beschrieben
wird. Es sollte beachtet werden, dass, indem Schritt S2 und Schritt
S1 oder Schritt S1 und Schritt S2 nacheinander durchgeführt werden,
die Phasenzustände
der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 derart geändert werden,
dass der Zustand des Speichers 11 von irgendeinem Zustand
in den Zustand 4 geändert
wird. Der so erreichte Zustand 4 kann als anfänglicher Zustand für das Ändern der
Phasenzustände
der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 in gewünschte Phasenzustände verwendet werden.
Mit einer solchen Anordnung kann die Leseoperation weggelassen werden,
da es nicht erforderlich ist, die aktuellen Phasenzustände der
Aufzeichnungsschichten 3 und 5 zu identifizieren.
Der Anfangszustand des Speichers 11 ist jedoch nicht auf
den Zustand 4 begrenzt.
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Als
nächstes
wird die Wellenform eines elektrischen Stromimpulses, der verwendet
wird, um die Phasenzustände
der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 zu ändern, beschrieben.
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3 zeigt
die Wellenformen von elektrischen Stromimpulsen, die verwendet werden,
um die Phasenzustände
der zwei Aufzeichnungsschichten zu ändern. Der in 1 gezeigte
Impulsgenerator 7 kann elektrische Stromimpulse mit verschiedenen
Impulsamplituden (Wert des angelegten Stroms) und verschiedenen Impulsbreiten
(Anlegezeit des Stroms) erzeugen.
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Erster elektrischer Stromimpuls 21:
-
Wie
vorstehend mit Bezug auf 2 beschrieben, wird durch Anlegen
des ersten elektrischen Stromimpulses 21 an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 der Zustand 1 in den
Zustand 2 geändert
oder der Zustand 3 wird in den Zustand 4 geändert. Wenn der erste elektrische
Stromimpuls 21 an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt wird, wird die
Temperatur beider Aufzeichnungsschichten 3 und 5 auf
eine Temperatur (T) erhöht,
die während
einer Zeit (t), die tx1 ≤ t erfüllt, Tx1 ≤ T < Tx2 erfüllt. In
der Ausführungsform
1 sind die Impulsamplitude Ic1 und die Impulsbreite
tc1 des ersten elektrischen Stromimpulses 21 auf
2 mA bzw. 150 ns festgelegt. Gemäß der vorliegenden Erfindung
ist die Impulsamplitude Ic1 vorzugsweise
0,02 ≤ Ic1(mA) ≤ 10
und die Impulsbreite tc1 ist vorzugsweise 5 ≤ tc1(ns) ≤ 200.
Wenn der erste elektrische Stromimpuls 21 an die erste
Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt
wird, werden nur in der ersten Aufzeichnungsschicht 3 die
Kristallisationstemperatur (Tx1) und die
Kristallisationszeit (tx1) erreicht, so
dass sich die erste Aufzeichnungsschicht 3 von der amorphen
Phase in die kristalline Phase ändert,
während
ein aktueller Phasenzustand der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 unverändert bleibt.
-
In
dieser Weise wird der erste elektrische Stromimpuls 21,
der während
einer Zeit (t), die tx1 ≤ t erfüllt, eine Temperatur (T) ergibt,
die Tx1 ≤ T < Tx2 erfüllt, an
die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt,
wodurch die erste Aufzeichnungsschicht 3 von der amorphen
Phase in die kristalline Phase geändert wird, während der
Phasenzustand der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 unverändert gehalten
wird.
-
Zweiter elektrischer Stromimpuls 22:
-
Wie
vorstehend mit Bezug auf 2 beschrieben, wird durch Anlegen
des zweiten elektrischen Stromimpulses 22 an die erste
Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 der
Zustand 1 in den Zustand 3 geändert
oder der Zustand 2 wird in den Zustand 4 geändert. Wenn der zweite elektrische
Stromimpuls 22 an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt wird, wird die
Temperatur beider Aufzeichnungsschichten 3 und 5 auf
eine Temperatur (T) erhöht,
die während
einer Zeit (t), die tx2 ≤ t < tx1 erfüllt, Tx2 ≤ T
erfüllt.
In der Ausführungsform
1 sind die Impulsamplitude Ic2 und die Impulsbreite
tc2 des zweiten elektrischen Stromimpulses 22 auf
4 mA bzw. 100 ns festgelegt. Gemäß der vorliegenden Erfindung
ist die Impulsamplitude Ic2 vorzugsweise
0,05 ≤ Ic2(mA) ≤ 20
und die Impulsbreite tc2 ist vorzugsweise 2 ≤ tc2(ns) ≤ 150.
Wenn der zweite elektrische Stromimpuls 22 an die erste
Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt
wird, werden nur in der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 die
Kristallisationstemperatur (Tx2) und die
Kristallisationszeit (tx2) erreicht, so
dass ein aktueller Phasenzustand der ersten Aufzeichnungsschicht 3 unverändert bleibt,
während
sich die zweite Aufzeichnungsschicht 5 von der amorphen
Phase in die kristalline Phase ändert.
-
In
dieser Weise wird der zweite elektrische Stromimpuls 22,
der während
einer Zeit (t), die tx2 ≤ t < tx1 erfüllt, eine
Temperatur (T) ergibt, die Tx2 ≤ T erfüllt, an
die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt,
wodurch der Phasenzustand der ersten Aufzeichnungsschicht 3 unverändert gehalten
wird, während
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 von der amorphen Phase
in die kristalline Phase geändert
wird.
-
Dritter elektrischer Stromimpuls 23:
-
Wie
vorstehend mit Bezug auf 2 beschrieben, wird durch Anlegen
des dritten elektrischen Stromimpulses 23 an die erste
Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 der
Zustand 4 in den Zustand 1 geändert.
Wenn der dritte elektrische Stromimpuls 23 an die erste
Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt
wird, wird die Temperatur beider Aufzeichnungsschichten 3 und 5 auf
eine Temperatur (T) erhöht,
die gleich dem oder höher
als der höhere
der Schmelzpunkte der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 ist.
In der Ausführungsform
1 werden die Impulsamplitude Ia1 und die
Impulsbreite ta1 des dritten elektrischen
Stromimpulses 23 auf 50 mA bzw. 50 ns festgelegt. Gemäß der vorliegenden
Erfindung ist die Impulsamplitude Ia1 vorzugsweise
0,1 ≤ Ia1(mA) ≤ 200
und die Impulsbreite ta1 ist vorzugsweise
1 ≤ ta1(ns) ≤ 100.
Wenn der dritte elektrische Stromimpuls 23 an die erste
Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt
wird, wird in jeder der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 der
höhere
der Schmelzpunkte der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 (in
der Ausführungsform
1 Tm1 = 630 °C) erreicht oder überschritten,
so dass beide Aufzeichnungsschichten 3 und 5 geschmolzen
und dann abgeschreckt werden, und folglich sich beide Aufzeichnungsschichten 3 und 5 von
der kristallinen Phase in die amorphe Phase ändern. Die Impulsamplitude
des dritten elektrischen Stromimpulses 23, Ia1,
ist größer als
die Stromwerte Ic1 und Ic2,
die zum Ändern
der ersten Aufzeichnungsschicht 3 und der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 von
der amorphen Phase in die kristalline Phase erforderlich sind. Das
heißt,
um eine Temperatur zu erreichen, die höher ist als die Kristallisationstemperaturen
Tx1 und Tx2 der
ersten Aufzeichnungsschicht 3 und der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 (d.
h. Tm1 = 630 °C).
-
In
dieser Weise wird der dritte elektrische Stromimpuls 23,
der eine Temperatur ergibt, die gleich dem oder höher als
der höhere
der Schmelzpunkte der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 ist,
an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt,
wodurch die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite
Aufzeichnungsschicht 5 von der kristallinen Phase in die
amorphe Phase geändert
werden.
-
Die
ersten bis dritten elektrischen Stromimpulse 21–23 sind
unentbehrlich, wenn unter Verwendung der Schreib/Lese-Vorrichtung 12 Informationen
geschrieben werden. Durch Kombinationen der ersten bis dritten elektrischen
Stromimpulse 21–23 kann
der Zustand des Speichers 11 von irgendeinem aktuellen
Zustand in irgendeinen anderen Zustand geändert werden.
-
Vierter elektrischer Stromimpuls 24:
-
Wie
vorstehend mit Bezug auf 2 beschrieben, wird durch Anlegen
des vierten elektrischen Stromimpulses 24 an die erste
Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 der
Zustand 1 in den Zustand 4 geändert.
Wenn der vierte elektrische Stromimpuls 24 an die erste
Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt
wird, wird die Temperatur beider Aufzeichnungs schichten 3 und 5 auf
eine Temperatur (T) erhöht,
die während
einer Zeit (t), die tx1 ≤ t erfüllt, Tx2 ≤ T erfüllt. Die
Impulsamplitude des vierten elektrischen Stromimpulses 24,
Ic12, ist gleich der Impulsamplitude Ic2 des zweiten elektrischen Stromimpulses 22.
Die Impulsbreite des vierten elektrischen Stromimpulses 24,
tc12, ist gleich der Impulsbreite tc1 des ersten elektrischen Stromimpulses 21.
In der Ausführungsform
1 werden die Impulsamplitude Ic12 und die Impulsbreite
tc12 des vierten elektrischen Stromimpulses 24 auf
4 mA (=Ic2) bzw. 150 ns (=tc1)
festgelegt. Gemäß der vorliegenden
Erfindung ist die Impulsamplitude Ic12 vorzugsweise
0,05 ≤ Ic12(mA) ≤ 20
und die Impulsbreite tc12 ist vorzugsweise
5 ≤ tc12(ns) ≤ 200.
Wenn der vierte elektrische Stromimpuls 24 an die erste
Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt
wird, werden sowohl in der ersten Aufzeichnungsschicht 3 als
auch der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 die Kristallisationstemperatur
Tx2 und die Kristallisationszeit tx1 erreicht, so dass sich sowohl die erste
Aufzeichnungsschicht 3 als auch die zweite Aufzeichnungsschicht 5 von
der amorphen Phase in die kristalline Phase ändern.
-
In
dieser Weise wird der vierte elektrische Stromimpuls 24,
der während
einer Zeit (t), die tx1 ≤ t erfüllt, eine Temperatur (T) ergibt,
die Tx2 ≤ T
erfüllt,
an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt,
wodurch sich sowohl die erste Aufzeichnungsschicht 3 als
auch die zweite Aufzeichnungsschicht 5 von der amorphen
Phase in die kristalline Phase ändern.
-
Wie
vorstehend beschrieben, ist der vierte elektrische Stromimpuls 24 nicht
unentbehrlich, da der vierte elektrische Stromimpuls 24 durch
Anlegen des ersten elektrischen Stromimpulses 21 und des
zweiten elektrischen Stromimpulses 22 ersetzt werden kann.
Der vierte elektrische Stromimpuls 24 kann jedoch den Zustand
des Speichers 11 vom Zustand 1 in den Zustand 4 im Vergleich
zu einem Fall, in dem der erste elektrische Stromimpuls 21 und
der zweite elektrische Stromimpuls 22 (oder der zweite
elektrische Stromimpuls 22 und der erste elektrische Stromimpuls 21)
nacheinander an den Speicher 11 angelegt werden, schneller ändern.
-
Fünfter
elektrischer Stromimpuls 25:
-
Wie
vorstehend mit Bezug auf 2 beschrieben, wird durch Anlegen
des fünften
elektrischen Stromimpulses 25 an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und
die zweite Aufzeichnungsschicht 5, wobei der Schmelzpunkt
Tm1 der ersten Aufzeichnungs schicht 3 und
der Schmelzpunkt Tm2 der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 die
Beziehung Tm1 > Tm2 aufweisen,
der Zustand 4 in den Zustand 2 geändert. Wenn der fünfte elektrische
Stromimpuls 25 an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt wird, wird die
Temperatur beider Aufzeichnungsschichten 3 und 5 auf
eine Temperatur (T) erhöht,
die Tm2 ≤ T < Tm1 erfüllt. In
der Ausführungsform
1 sind die Impulsamplitude Ia2 und die Impulsbreite
ta2 des fünften elektrischen Stromimpulses 25 auf
30 mA bzw. 50 ns festgelegt. Gemäß der vorliegenden
Erfindung ist die Impulsamplitude Ia2 vorzugsweise
0,05 ≤ Ia2(mA) ≤ 160
und die Impulsbreite ta2 ist vorzugsweise
1 ≤ ta2(ns) ≤ 100. Wenn
der fünfte
elektrische Stromimpuls 25 an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt wird, wird in
sowohl der ersten Aufzeichnungsschicht 3 als auch der zweiten
Aufzeichnungsschicht 5 der Schmelzpunkt der ersten Aufzeichnungsschicht 3 nicht
erreicht, aber der Schmelzpunkt der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 (in
der Ausführungsform
1 Tm2 = 550 °C) wird erreicht oder überschritten.
Folglich wird der Phasenzustand der ersten Aufzeichnungsschicht 3 in
der kristallinen Phase gehalten, während nur die zweite Aufzeichnungsschicht 5 geschmolzen
und dann abgeschreckt wird, um sie von der kristallinen Phase in
die amorphe Phase zu ändern.
Es sollte beachtet werden, dass in dem Fall, in dem der Schmelzpunkt Tm1 der ersten Aufzeichnungsschicht 3 und
der Schmelzpunkt Tm2 der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 die
Beziehung Tm1 < Tm2 aufweisen,
der fünfte
elektrische Stromimpuls 25 verwendet wird, um den Zustand
4 in den Zustand 3 zu ändern.
-
In
dieser Weise wird in dem Fall, in dem der Schmelzpunkt Tm1 der ersten Aufzeichnungsschicht 3 und der
Schmelzpunkt Tm2 der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 die
Beziehung Tm1 ≠ Tm2 besitzen,
der fünfte
elektrische Stromimpuls 25, der eine Temperatur ergibt,
die gleich dem oder höher
als der niedrigere der Schmelzpunkte Tm1 und
Tm2 ist und der niedriger ist als der höhere der
Schmelzpunkte Tm1 und Tm2,
an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt,
wodurch eine der ersten Aufzeichnungsschicht 3 und der
zweiten Aufzeichnungsschicht 5, die den niedrigeren Schmelzpunkt
besitzt, von der kristallinen Phase in die amorphe Phase geändert wird,
während
der Phasenzustand der anderen Aufzeichnungsschicht mit dem höheren Schmelzpunkt
in der kristallinen Phase gehalten wird.
-
Wie
vorstehend beschrieben, ist der fünfte elektrische Stromimpuls 25 nützlich,
wenn der Schmelzpunkt Tm1 der ersten Aufzeichnungsschicht 3 vom
Schmelz punkt Tm2 der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 verschieden
ist, ist jedoch nicht unentbehrlich, da der fünfte elektrische Stromimpuls 25 durch
Anlegen des dritten elektrischen Stromimpulses 23 und des
ersten elektrischen Stromimpulses 21 ersetzt werden kann.
Der fünfte elektrische
Stromimpuls 25 kann jedoch den Zustand des Speichers 11 vom
Zustand 4 in den Zustand 2 oder Zustand 3 im Vergleich zu einem
Fall, in dem der dritte elektrische Stromimpuls 23 und
der erste elektrische Stromimpuls 21 nacheinander an den
Speicher 11 angelegt werden, schneller ändern.
-
Als
nächstes
werden elektrische Stromimpulse 26–33, die durch Kombinieren
von mindestens zwei der ersten bis fünften elektrischen Stromimpulse 21–25 erzeugt
werden, mit Bezug auf 3 in Verbindung mit 2 beschrieben.
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Elektrischer Stromimpuls 26:
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Der
elektrische Stromimpuls 26 wird durch Kombinieren des dritten
elektrischen Stromimpulses 23 und des ersten elektrischen
Stromimpulses 21 erzeugt. Der elektrische Stromimpuls 26 kann
anstelle des fünften
elektrischen Stromimpulses 25 verwendet werden, um den
Zustand 4 in den Zustand 2 zu ändern.
Durch Anlegen des elektrischen Stromimpulses 26 an die
erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 wird
die Temperatur (T) von jeder der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 erhöht, um den
höheren der
Schmelzpunkte der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 zu
erreichen oder zu überschreiten,
und folglich werden die erste Aufzeichnungsschicht 3 und
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 geschmolzen. Anschließend werden
die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 abgeschreckt,
so dass die Temperatur (T) von jeder der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 verringert
wird, um Tx1 ≤ T < Tx2 zu erfüllen. Der
elektrische Stromimpuls 26 wird während einer Zeit (t), die tx1 < t
erfüllt,
angelegt. Wie in 3 gezeigt, weist der elektrische
Stromimpuls 26 zuerst die Amplitude Ia1 (in
der Ausführungsform
1 Ia1 = 50 mA) und dann die Amplitude Ic1 (in der Ausführungsform 1 Ic1 =
2 mA) auf. Der elektrische Stromimpuls 26 besitzt insgesamt
eine Impulsbreite tc1 (in der Ausführungsform
1 tc1 = 150 ns).
-
Wie
vorstehend beschrieben, ist der elektrische Stromimpuls 26 nicht
unentbehrlich, da er durch den fünften
elektrischen Stromimpuls 25 ersetzt werden kann. Der elektrische
Stromimpuls 26 kann jedoch den Zustand des Speichers 11 vom
Zustand 4 in den Zustand 2 ändern,
selbst wenn der Schmelzpunkt der ersten Aufzeichnungsschicht 3 gleich
jenem der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 ist, was durch
den fünften
elektrischen Stromimpuls 25 nicht erreicht werden kann.
-
Wenn
der elektrische Stromimpuls 26, der zuerst eine Temperatur
ergibt, die gleich dem oder höher als
der höhere
der Schmelzpunkte der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 ist,
und dann während
einer Zeit (t), die tx1 ≤ t insgesamt erfüllt, eine
Temperatur (T) ergibt, die Tx1 ≤ T < Tx2 erfüllt, an
die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt
wird, werden die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite
Aufzeichnungsschicht 5 zuerst von der kristallinen Phase
in die amorphe Phase geändert
und dann wird die erste Aufzeichnungsschicht 3 von der
amorphen Phase in die kristalline Phase geändert, während die zweite Aufzeichnungsschicht 5 in
der amorphen Phase gehalten wird. Das heißt, wenn der elektrische Stromimpuls 26 an
den Speicher 11 angelegt wird, wird der Zustand des Speichers 11 vom
Zustand 4 über
den Zustand 1 in den Zustand 2 geändert.
-
Elektrischer Stromimpuls 27:
-
Der
elektrische Stromimpuls 27 wird durch Kombinieren des dritten
elektrischen Stromimpulses 23 und des zweiten elektrischen
Stromimpulses 22 erzeugt. Der elektrische Stromimpuls 27 kann
verwendet werden, um den Zustand 4 in den Zustand 3 zu ändern. Durch
Anlegen des elektrischen Stromimpulses 27 an die erste
Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 wird
die Temperatur (T) von jeder der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 erhöht, um den
höheren
der Schmelzpunkte der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 zu
erreichen oder zu überschreiten,
und folglich werden die erste Aufzeichnungsschicht 3 und
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 geschmolzen. Anschließend werden
die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 abgeschreckt,
so da die Temperatur (T) von jeder der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 verringert
wird, um Tx2 ≤ T zu erfüllen. Der elektrische Stromimpuls 27 wird
während
einer Zeit (t) angelegt, die tx2 ≤ t < tx1 erfüllt. Wie
in 3 gezeigt, weist der elektrische Stromimpuls 27 zuerst
die Amplitude Ia1 und dann die Amplitude
Ic2 (in der Ausführungsform 1 Ic2 =
4 mA) auf. Der elektrische Stromimpuls 27 besitzt insgesamt
eine Impulsbreite tc2 (in der Ausführungsform
1 tc2 = 100 ns).
-
Wenn
der elektrische Stromimpuls 27, der zuerst eine Temperatur
ergibt, die gleich dem oder höher als
der höhere
der Schmelzpunkte der Aufzeichnungs schichten 3 und 5 ist,
und dann eine Temperatur (T) ergibt, die während einer Zeit (t), die tx2 ≤ t < tx1 insgesamt
erfüllt,
Tx2 ≤ T
erfüllt,
an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt
wird, werden die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite
Aufzeichnungsschicht 5 zuerst von der kristallinen Phase
in die amorphe Phase geändert
und dann wird die erste Aufzeichnungsschicht 3 in der amorphen
Phase gehalten, während
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 von der amorphen Phase
in die kristalline Phase geändert
wird. Das heißt,
wenn der elektrische Stromimpuls 27 an den Speicher 11 angelegt
wird, wird der Zustand des Speichers 11 vom Zustand 4 über den
Zustand 1 in den Zustand 3 geändert.
-
Elektrischer Stromimpuls 28:
-
Der
elektrische Stromimpuls 28 wird durch Kombinieren des ersten
elektrischen Stromimpulses 21 und des dritten elektrischen
Stromimpulses 23 erzeugt. Der elektrische Stromimpuls 28 kann
verwendet werden, um den Zustand 3 in den Zustand 1 zu ändern. Durch
Anlegen des elektrischen Stromimpulses 28 an die erste
Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 wird
die Temperatur beider Aufzeichnungsschichten 3 und 5 auf
eine Temperatur (T) erhöht,
die während
einer Zeit (t), die tx1 ≤ t erfüllt, Tx1 ≤ T < Tx2 erfüllt, und
dann weiter erhöht,
um den höheren
der Schmelzpunkte der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 zu
erreichen oder zu überschreiten.
Wie in 3 gezeigt, weist der elektrische Stromimpuls 28 zuerst
die Amplitude Ic1 mit der Impulsbreite tc1 und dann die Amplitude Ia1 mit
der Impulsbreite ta1 (in der Ausführungsform
1 ta1 = 50 ns) auf.
-
Wenn
der elektrische Stromimpuls 28, der zuerst während einer
Zeit (t), die tx1 ≤ t erfüllt, eine Temperatur (T) ergibt,
die Tx1 ≤ T < Tx2 erfüllt, und
dann eine Temperatur ergibt, die gleich dem oder höher als
der höhere
der Schmelzpunkte der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 ist,
an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt
wird, wird die erste Aufzeichnungsschicht 3 von der amorphen Phase
in die kristalline Phase geändert,
während
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 in der kristallinen Phase gehalten
wird, und dann werden sowohl die erste Aufzeichnungsschicht 3 als
auch die zweite Aufzeichnungsschicht 5 von der kristallinen
Phase in die amorphe Phase geändert.
Das heißt,
wenn der elektrische Stromimpuls 28 an den Speicher 11 angelegt
wird, wird der Zustand des Speichers 11 vom Zustand 3 über den
Zustand 4 in den Zustand 1 geändert.
-
Elektrischer Stromimpuls 29:
-
Der
elektrische Stromimpuls 29 wird durch Kombinieren des zweiten
elektrischen Stromimpulses 22 und des dritten elektrischen
Stromimpulses 23 erzeugt. Der elektrische Stromimpuls 29 kann
verwendet werden, um den Zustand 2 in den Zustand 1 zu ändern. Durch
Anlegen des elektrischen Stromimpulses 29 an die erste
Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 wird
die Temperatur beider Aufzeichnungsschichten 3 und 5 auf
eine Temperatur (T) erhöht,
die während
einer Zeit (t), die tx2 ≤ t < tx1 erfüllt, Tx2 ≤ T
erfüllt,
und dann weiter erhöht,
um den höheren
der Schmelzpunkte der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 zu erreichen
oder zu überschreiten.
Wie in 3 gezeigt, weist der elektrische Stromimpuls 29 zuerst
die Amplitude Ic2 mit der Impulsbreite tc2 und dann die Amplitude Ia1 mit
der Impulsbreite ta1 auf.
-
Wenn
der elektrische Stromimpuls 29, der zuerst während einer
Zeit (t), die tx2 ≤ t < tx1 erfüllt, eine
Temperatur (T) ergibt, die Tx2 ≤ T erfüllt, und
dann eine Temperatur ergibt, die gleich dem oder höher als
der höhere der
Schmelzpunkte der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 ist,
and die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt
wird, wird die erste Aufzeichnungsschicht 3 in der kristallinen
Phase gehalten, während
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 von der amorphen Phase
in die kristalline Phase geändert
wird, und dann werden sowohl die erste Aufzeichnungsschicht 3 als
auch die zweite Aufzeichnungsschicht 5 von der kristallinen
Phase in die amorphe Phase geändert.
Das heißt,
wenn der elektrische Stromimpuls 29 an den Speicher 11 angelegt
wird, wird der Zustand des Speichers 11 vom Zustand 2 über den
Zustand 4 in den Zustand 1 geändert.
-
Elektrischer Stromimpuls 30:
-
Der
elektrische Stromimpuls 30 wird durch Kombinieren des vierten
elektrischen Stromimpulses 24 und des dritten elektrischen
Stromimpulses 23 erzeugt. Der elektrische Stromimpuls 30 kann
verwendet werden, um den Zustand 2 oder Zustand 3 in den Zustand
1 zu ändern.
Der elektrische Stromimpuls 30 kann anstelle des elektrischen
Stromimpulses 28 oder des elektrischen Stromimpulses 29 verwendet
werden. Durch Anlegen des elektrischen Stromimpulses 30 an
die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 wird
die Temperatur beider Aufzeichnungsschichten 3 und 5 auf
eine Temperatur (T) erhöht, die
während
einer Zeit (t), die tx1 ≤ t erfüllt, Tx2 ≤ T erfüllt, und
dann weiter erhöht,
um den höheren
der Schmelzpunkte der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 zu
erreichen oder zu überschreiten.
Wie in 3 gezeigt, weist der elektrische Stromimpuls 30 zuerst
die Amplitude Ic2 mit der Impulsbreite tc1 und dann die Amplitude Ia1 mit der
Impulsbreite ta1 auf.
-
Wenn
der elektrische Stromimpuls 30, der zuerst während einer
Zeit (t), die tx1 ≤ t erfüllt, eine Temperatur (T) ergibt,
die Tx2 ≤ T
erfüllt,
und dann eine Temperatur ergibt, die gleich dem oder höher als
der höhere der
Schmelzpunkte der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 ist,
an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt
wird, können
sowohl die erste Aufzeichnungsschicht 3 als auch die zweite Aufzeichnungsschicht 5 ungeachtet
dessen, in welcher Phase (kristalline Phase oder amorphe Phase)
sich jede der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 befindet,
in die kristalline Phase geändert
werden, und dann werden sowohl die erste Aufzeichnungsschicht 3 als
auch die zweite Aufzeichnungsschicht 5 von der kristallinen
Phase in die amorphe Phase geändert.
Das heißt,
wenn der elektrische Stromimpuls 30 an den Speicher 11 angelegt
wird, wird der Zustand des Speichers 11 vom Zustand 2 oder
Zustand 3 über
den Zustand 4 in den Zustand 1 geändert.
-
Elektrischer Stromimpuls 31:
-
Der
elektrische Stromimpuls 31 wird durch Kombinieren des zweiten
elektrischen Stromimpulses 22 und des elektrischen Stromimpulses 27 (eine
Kombination des dritten elektrischen Stromimpulses 23 und
des zweiten elektrischen Stromimpulses 22) erzeugt. Der
elektrische Stromimpuls 31 kann verwendet werden, um den
Zustand 2 in den Zustand 3 zu ändern.
Durch Anlegen des elektrischen Stromimpulses 31 an die
erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 wird
die Temperatur beider Aufzeichnungsschichten 3 und 5 auf
eine Temperatur (T) erhöht,
die während
einer Zeit (t), die tx2 ≤ t < tx1 erfüllt, Tx2 ≤ T
erfüllt. Anschließend wird
während
einer Zeit (t), die tx2 ≤ t < tx1 erfüllt, die
Temperatur beider Aufzeichnungsschichten 3 und 5 erhöht, um den
höheren
der Schmelzpunkte der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 zu
erreichen oder zu überschreiten,
so dass die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite
Aufzeichnungsschicht 5 geschmolzen werden; und dann werden
die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 abgeschreckt,
so dass die Temperatur (T) von jeder der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 so
verringert wird, dass sie Tx2 ≤ T erfüllt. Wie
in 3 gezeigt, weist der elektrische Stromimpuls 31 zuerst
die Amplitude Ic2 mit der Impulsbreite tc2 auf und weist dann die Amplitude Ia1 plus die Amplitude Ic2 mit
der Impulsbreite tc2 auf.
-
Wenn
der elektrische Stromimpuls 31, der zuerst während einer
Zeit (t), die tx2 ≤ t < tx1 erfüllt, eine
Temperatur (T) ergibt, die Tx2 ≤ T erfüllt, und
anschließend
während
einer Zeit (t), die tx2 ≤ t < tx1 erfüllt, eine
Temperatur ergibt, die gleich dem oder höher als der höhere der
Schmelzpunkte der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 ist,
und dann eine Temperatur (T) ergibt, die Tx2 ≤ T erfüllt, an
die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt
wird, wird die erste Aufzeichnungsschicht 3 in der kristallinen
Phase gehalten, während
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 von der amorphen Phase
in die kristalline Phase geändert wird,
und dann können
sowohl die die erste Aufzeichnungsschicht 3 als auch die
zweite Aufzeichnungsschicht 5 von der kristallinen Phase
in die amorphe Phase geändert
werden und anschließend
wird die erste Aufzeichnungsschicht 3 in der amorphen Phase
gehalten, während
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 von der amorphen Phase
in die kristalline Phase geändert
wird. Das heißt,
wenn der elektrische Stromimpuls 31 an den Speicher 11 angelegt
wird, wird der Zustand des Speichers 11 vom Zustand 2 über den
Zustand 4 und den Zustand 1 in den Zustand 3 geändert.
-
Elektrischer Stromimpuls 32:
-
Der
elektrische Stromimpuls 32 wird durch Kombinieren des ersten
elektrischen Stromimpulses 21 und des fünften elektrischen Stromimpulses 25 erzeugt.
Der elektrische Stromimpuls 32 kann verwendet werden, um
den Zustand 3 in den Zustand 2 zu ändern. Durch Anlegen des elektrischen
Stromimpulses 32 an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 wird die Temperatur beider
Aufzeichnungsschichten 3 und 5 auf eine Temperatur
(T) erhöht,
die während
einer Zeit (t), die tx1 ≤ t erfüllt, Tx1 ≤ T < Tx2 erfüllt, und
dann weiter auf eine Temperatur Tm2 erhöht. Wie
in 3 gezeigt, weist der elektrische Stromimpuls 28 zuerst
die Amplitude Ic1 mit der Impulsbreite tc1 und dann die Amplitude Ia2 (in
der Ausführungsform 1
Ia2 = 30 mA) mit der Impulsbreite ta2 (in der Ausführungsform 1 ta2 =
50 ns) auf.
-
Wenn
der elektrische Stromimpuls 32, der zuerst während einer
Zeit (t), die tx1 ≤ t erfüllt, eine Temperatur (T) ergibt,
die Tx1 ≤ T < Tx2 erfüllt, und
dann eine Temperatur Tm2 ergibt, an die
erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt
wird, wird die erste Aufzeichnungsschicht 3 von der amorphen
Phase in die kristalline Phase geändert, während die zweite Aufzeichnungsschicht 5 in
der kristallinen Phase gehalten wird, und dann wird die erste Aufzeichnungsschicht 3 in
der kristallinen Phase gehalten, während die zweite Aufzeichnungsschicht 5 von
der kristallinen Phase in die amorphe Phase geändert wird. Das heißt, wenn
der elektrische Stromimpuls 32 an den Speicher 11 angelegt
wird, wird der Zustand des Speichers 11 vom Zustand 3 über den
Zustand 4 in den Zustand 2 geändert.
-
Elektrischer Stromimpuls 33:
-
Der
elektrische Stromimpuls 33 wird durch Kombinieren des ersten
elektrischen Stromimpulses 21 und des elektrischen Stromimpulses 26 (eine
Kombination des dritten elektrischen Stromimpulses 23 und
des ersten elektrischen Stromimpulses 21) erzeugt. Der
elektrische Stromimpuls 33 kann anstelle des elektrischen Stromimpulses 32 verwendet
werden, um den Zustand 3 in den Zustand 2 zu ändern. Durch Anlegen des elektrischen
Stromimpulses 33 an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 wird die Temperatur beider
Aufzeichnungsschichten 3 und 5 auf eine Temperatur
(T) erhöht,
die während
einer Zeit (t), die tx1 ≤ t erfüllt, Tx1 ≤ T < Tx2 erfüllt. Während einer
Zeit (t), die tx1 ≤ t erfüllt, wird danach die Temperatur beider
Aufzeichnungsschichten 3 und 5 erhöht, um den
höheren
der Schmelzpunkte der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 zu
erreichen oder zu überschreiten;
und dann werden die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite
Aufzeichnungsschicht 5 abgeschreckt, so dass die Temperatur
(T) von jeder der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 verringert
wird, so dass sie Tx1 ≤ T < Tx2 erfüllt. Wie
in 3 gezeigt, weist der elektrische Stromimpuls 33 zuerst
die Amplitude Ic1 mit der Impulsbreite tc1 auf und weist dann die Amplitude Ia1 plus die Amplitude Ic1 mit
der Impulsbreite tc1 auf.
-
Wenn
der elektrische Stromimpuls 33, der zuerst während einer
Zeit (t), die tx1 ≤ t erfüllt, eine Temperatur (T) ergibt,
die Tx1 ≤ T < Tx2 erfüllt, und
dann während
einer Zeit (t), die tx1 ≤ t erfüllt, eine Temperatur ergibt, die
gleich dem oder höher
als der höhere
der Schmelzpunkte der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 ist,
und anschließend
eine Temperatur (T) ergibt, die Tx1 ≤ T < Tx2 erfüllt, an
die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 angelegt
wird, wird die erste Aufzeichnungsschicht 3 von der amorphen
Phase in die kristalline Phase geändert, während die zweite Aufzeichnungsschicht 5 in
der kristallinen Phase gehalten wird, und dann werden sowohl die
erste Aufzeichnungsschicht 3 als auch die zweite Aufzeichnungsschicht 5 von
der kristallinen Phase in die amorphe Phase geändert, und anschließend wird
die erste Aufzeichnungsschicht 3 von der amorphen Phase
in die kristalline Phase geändert,
während
die zweite Aufzeichnungsschicht 5 in der amorphen Phase
gehalten wird. Das heißt,
wenn der elektrische Stromimpuls 33 an den Speicher 11 angelegt
wird, wird der Zustand des Speichers 11 vom Zustand 3 über den
Zustand 4 und den Zustand 1 in den Zustand 2 geändert.
-
Wenn
einer der elektrischen Stromimpulse 28–33 an den Speicher 11 angelegt
wird, ändert
sich der Zustand des Speichers 11 immer für eine Weile
in den Zustand 4, bevor er schließlich einen gewünschten
Zustand erreicht. Eine solche Anordnung wird übernommen, da, wenn sich eine
der ersten Aufzeichnungsschicht 3 und der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 in
der amorphen Phase (Zustand mit hohem Widerstand) befindet, ein
großer
Teil der elektrischen Energie eines angelegten elektrischen Stromimpulses
von der Aufzeichnungsschicht in der amorphen Phase verbraucht wird,
und in einem solchen Fall ist es unmöglich, an die andere Aufzeichnungsschicht
in der kristallinen Phase elektrische Energie anzulegen, so dass
der Phasenzustand von nur der Aufzeichnungsschicht in der kristallinen
Phase (Zustand mit niedrigem Widerstand) in die amorphe Phase geändert werden
kann. Folglich sind die elektrischen Stromimpulse 28–33 derart
ausgelegt, dass die Phasenzustände
beider Aufzeichnungsschichten zuerst in die kristalline Phase geändert werden
und dann in die amorphe Phase geändert
werden.
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Die
Schreib/Lese-Vorrichtung 12 (1) der vorliegenden
Erfindung verwendet drei Arten von elektrischen Stromimpulsen und
Kombinationen davon, um die Phasenzustände der ersten Aufzeichnungsschicht 3 und
der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 zwischen der kristallinen
Phase und der amorphen Phase derart zu steuern, dass der Phasenzustand
von jeder der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 von
irgendeinem Phasenzustand in einen gewünschten Phasenzustand geändert wird.
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Als
nächstes
wird ein Verfahren zum Lesen von Informationen aus dem Speicher 11 mit
Bezug auf 1 beschrieben. Wenn Informationen
aus dem Speicher 11 gelesen werden, wird der Schalter 10 geschlossen,
so dass die Schreib/Lese-Vorrichtung 12 mit
dem Speicher 11 über
die Anlegeabschnitte 13 verbunden wird. Der Widerstandsmessabschnitt 8 legt
einen elektrischen Stromimpuls Ir an die
erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 an
und erfasst den Widerstandswert der Aufzeichnungsschichten 3 und 5 (die
Summe des Widerstandswerts der ersten Aufzeichnungsschicht 3 und
des Widerstandswerts der zweiten Aufzeichnungsschicht 5)
auf der Basis einer Potentialdifferenz, die zwischen der unteren Elektrode 2 und
der oberen Elektrode 6 verursacht wird. Der elektrische
Stromimpuls Ir kann durch den Impulsgenerator 7 anstelle
des Widerstandsmessabschnitts 8 erzeugt werden. In diesem
Fall wird der Schalter 9 geschlossen. Der elektrische Stromimpuls
Ir besitzt eine Amplitude und Impulsbreite
mit einer Größe, so dass
keine Phasenänderung
in der ersten Aufzeichnungsschicht 3 und der zweiten Aufzeichnungsschicht 5 verursacht wird.
Der elektrische Stromimpuls Ir ist vorzugsweise
Ir(mA) ≤ 0,02.
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4 ist
ein Ablaufplan, der das Verfahren zum Lesen von Informationen aus
dem Speicher 11 unter Verwendung der Schreib/Lese-Vorrichtung 12 der
vorliegenden Erfindung darstellt. Nachstehend werden Schritte des
Verfahrens zum Lesen von Informationen aus dem Speicher 11 mit
Bezug auf 4 in Verbindung mit 1 beschrieben:
- Schritt S401: Der elektrische Stromimpuls Ir wird
an die erste Aufzeichnungsschicht 3 und die zweite Aufzeichnungsschicht 5 über die
Anlegeabschnitte 13 angelegt.
- Schritt S402: Der Widerstandsmessabschnitt 8 misst
die Summe der Widerstandswerte der ersten Aufzeichnungsschicht 3 und
der zweiten Aufzeichnungsschicht 5.
- Schritt S403: Der Bestimmungsabschnitt 16 bestimmt,
welchem der Zustände
1–4 die
gemessene Summe der Widerstandswerte entspricht.
- Durch diese Schritte werden Informationen aus dem Speicher 11 gelesen.
-
In
den in 2 und 4 dargestellten Beispielen besitzt
die Schreib/Lese-Vorrichtung 12 sowohl die Schreibfunktion
als auch die Lesefunktion. Gemäß der vorliegenden
Erfindung kann jedoch die Vorrichtung 12 nur eine der Schreibfunktion
(und Löschfunktion)
und der Lesefunktion aufweisen. In dem Fall, in dem die Vorrichtung 12 nur
eine Schreiboperation (und Löschoperation)
durchführt,
können
der Widerstandsmessabschnitt 8 und der Bestimmungsabschnitt 16 aus
der Vorrichtung 12 weggelassen werden. In diesem Fall ist
die Vorrichtung 12 eine Vorrichtung zum Schreiben von Informationen
in (oder Löschen
von Informationen aus) dem Speicher 11. In dem Fall, in
dem die Vorrichtung 12 nur eine Leseoperation durchführt, kann
der Impulsgenerator 7 aus der Vorrichtung 12 weggelassen
werden. Ferner können
die Schalter 9 und 10 zum Umschalten zwischen
der Schreibfunktion (und Löschfunktion)
und der Lesefunktion manuell betätigt
werden. Alternativ kann ein Steuerabschnitt zum Steuern der Schalter 9 und 10 auf
der Basis eines von der Außenseite
der Vorrichtung 12 extern gelieferten Befehls vorgesehen
sein.
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In
dem in 1 dargestellten Beispiel wird nur ein einzelner
Speicher 11 verwendet. Eine Speicherstruktur mit mehreren
Speichern 11, die in einer Matrix angeordnet sind, liegt
jedoch innerhalb des Schutzbereichs der vorliegenden Erfindung.
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5 zeigt
eine beispielhafte Struktur, die durch eine Speichervorrichtung
mit mehreren Speichern der vorliegenden Erfindung, die in einer
Matrix angeordnet sind, und einer externen Schaltung, die mit der Speichervorrichtung
verbunden ist, gebildet ist. Gleiche Elemente sind mit gleichen
Bezugszeichen, die in 1 verwendet sind, bezeichnet
und auf ausführliche
Beschreibungen davon wird verzichtet.
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Die
externe Schaltung 54 umfasst einen Impulsgenerator 7,
einen Widerstandsmessabschnitt 8, Schalter 9 und 10,
einen Bestimmungsabschnitt 16 und einen Steuerabschnitt 51.
Der Speicherabschnitt 58 umfasst Anlegeabschnitte 13 mit
einem Zeilendecodierer und einem Spaltendecodierer, Bitleitungen 52,
Wortleitungen 53 und eine Speichermatrix 55, die
durch mehrere Speicher 11 gebildet ist.
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Der
Steuerabschnitt 51 liefert Steuerinformationen, die angeben,
welche von einer Schreiboperation und einer Leseoperation durchgeführt werden
soll, wie z. B. ein Befehl oder dergleichen, zum Impulsgenerator 7 und
zum Widerstandsmessabschnitt 8 über eine Leitung 56.
Auf der Basis der vom Steuerabschnitt 51 empfan genen Steuerinformationen öffnen oder
schließen
der Impulsgenerator 7 und der Widerstandsmessabschnitt 8 die
Schalter 9 bzw. 10, um eine Schreiboperation oder
eine Leseoperation durchzuführen.
Ferner liefert der Steuerabschnitt 51 Adresseninformationen,
die angeben, an welchen Speicher 11 in der Speichermatrix 55 ein
elektrischer Stromimpuls angelegt werden soll, über eine Leitung 57 zu
den Anlegeabschnitten 13.
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Der
Zeilendecodierer und der Spaltendecodierer der Anlegeabschnitte 13 wählen jeweils
eine Wortleitung 53 und eine Bitleitung 52 entsprechend
einem durch die empfangenen Adresseninformationen bezeichneten Speicher 11 aus.
Dann wird ein elektrischer Stromimpuls an den bezeichneten Speicher 11 angelegt,
um Informationen in den bezeichneten Speicher 11 zu schreiben
oder Informationen aus diesem zu lesen.
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Mehrere
Speicher 11 mit jeweils einer in 1 gezeigten
Struktur können
in einer Matrix angeordnet sein, wie in 5 gezeigt,
wodurch die Kapazität
der Speichervorrichtung erhöht
werden kann.
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(Ausführungsform
2)
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In
der Ausführungsform
1 umfasst der Speicher 11 zwei Aufzeichnungsschichten.
Gemäß der vorliegenden
Erfindung ist jedoch die Anzahl der Aufzeichnungsschichten, die
in einem einzelnen Speicher enthalten sind, nicht auf 2 begrenzt.
In der Ausführungsform
2 wird ein Speicher mit N Aufzeichnungsschichten (N ist eine natürliche Zahl,
die größer ist
als 2 (N > 2)) beschrieben.
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6 zeigt
einen Speicher 60 mit N Aufzeichnungsschichten 62.
Gleiche Elemente sind mit gleichen Bezugszeichen angegeben, die
in 1 verwendet sind, und auf ausführliche Beschreibungen davon
wird verzichtet. Der Speicher 60 umfasst ein Substrat 1,
1. bis (N-1)-te Zwischenschichten 61, die N Aufzeichnungsschichten 62 und
eine obere Elektrode 6.
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Die
1. bis (N-1)-ten Zwischenschichten 61 sind aus demselben
Grund wie für
die Zwischenschicht 4 von 1 vorgesehen,
d. h. zum Verhindern, dass Atome, die eine der N Aufzeichnungsschichten 62 bilden, sich
dazwischen durch Diffusion bewegen, vorgesehen. Vorzugsweise sind
die 1. bis (N-1)-ten Zwischenschichten 61 elektrisch leitend
und bestehen aus einem Einzelmetallmaterial, wie z. B. Al, Au, Ag,
Cu, Pt, Ti, W usw. oder einer Kombination davon (Legierungsmaterial).
Das Material der Zwischenschichten 61 ist jedoch nicht
auf diese Materialien begrenzt.
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Es
sollte beachtet werden, dass eine beliebige Struktur zum Anlegen
eines elektrischen Stromimpulses an die N Aufzeichnungsschichten 62 anstelle
der unteren Elektrode 2 und/oder der oberen Elektrode 6 verwendet
werden kann. Wenn das Substrat 1 beispielsweise elektrisch
leitend ist, kann die untere Elektrode 2 weggelassen werden.
Ferner kann die Zwischenschicht 4 weggelassen werden, wenn
die N Aufzeichnungsschichten 62 aus einem solchen Material
bestehen, dass Atome, die die N Aufzeichnungsschichten 62 bilden, sich
dazwischen nicht durch Diffusion bewegen.
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Die
N Aufzeichnungsschichten 62 bestehen aus einem solchen
Material, dass eine reversible Phasenänderung zwischen der kristallinen
Phase und der amorphen Phase durch Temperaturerhöhungen auf Grund des Anlegens
von elektrischer Energie wie z. B. eines elektrischen Impulses oder
dergleichen verursacht werden. Das Material der N Aufzeichnungsschichten 62 wird
derart ausgewählt,
dass die folgenden Bedingungen 1-3 erfüllt sind:
- Bedingung
1: Die Kristallisationstemperatur der m-ten Aufzeichnungsschicht
(1 ≤ m ≤ N) unter
den N Aufzeichnungsschichten 62, Txm, erfüllt die
Beziehung Tx1 < Tx2 < ... < Txm–1 < Txm < Txm+1 < ... < TxN.
- Bedingung 2: Die Kristallisationszeit der m-ten Aufzeichnungsschicht
(1 ≤ m ≤ N) unter
den N Aufzeichnungsschichten 62, txm, erfüllt die
Beziehung tx1 > tx2 > ... > txm–1 > txm > txm+1 > ... > txN.
- Bedingung 3: Die Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten
in der amorphen Phase sind voneinander verschieden, die Widerstandswerte
der N Aufzeichnungsschichten in der kristallinen Phase sind voneinander verschieden
und die Summe der Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten
ist einer von 2N Werten.
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Durch
Erfüllen
der Bedingung 1 und Bedingung 2 kann der Phasenzustand von jeder
der N Aufzeichnungsschichten 62 in einen gewünschten
Zustand (amorphe Phase oder kristalline Phase) gesetzt werden. Durch
Erfüllen
der Bedingung 3 können überdies
2N Zustände,
die durch Kombinationen der Phasenzustände der N Aufzeichnungsschichten 62 dargestellt
sind, unterscheidbar erfasst werden. Folglich können die N Aufzeichnungsschichten 62 des
Speichers 60 Informationen mit 2N Werten
(N Bits) entsprechend den 2N Zuständen speichern.
In dieser Struktur wird der Phasenzustand von jeder Aufzeichnungsschicht
zwischen der kristallinen Phase und der amorphen Phase gesteuert.
Dies ist leichter als eine schrittweise Steuerung des Phasenzustandes
einer einzelnen Aufzeichnungsschicht.
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Der
Speicher 60 mit einer solchen Struktur kann anstelle des
in 1 gezeigten Speichers 11 verwendet werden.
Die in 1 gezeigte Schreib/Lese-Vorrichtung 12 kann
verwendet werden, um Informationen in den Speicher 60 zu
schreiben oder Informationen aus diesem zu lesen.
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Im
Speicher 60 mit der obigen Struktur befindet sich jede
der N Aufzeichnungsschichten 62 in irgendeiner der amorphen
Phase und der kristallinen Phase, wodurch der Zustand des Speichers 60 einer
der 2N Zustände sein kann, die durch Kombinationen
der Phasenzustände
der N Aufzeichnungsschichten 62 ausgedrückt werden. In der Ausführungsform
2 bedeutet der "Zustand
1" einen Zustand,
in dem sich alle der N Aufzeichnungsschichten 62 in der
amorphen Phase befinden. Der "Zustand
2N" bedeutet
einen Zustand, in dem sich alle der N Aufzeichnungsschichten 62 in
der kristallinen Phase befinden. Eine Operation, die einen Übergang
vom Zustand 1 in irgendeinen des Zustandes 2 bis Zustandes 2N verursacht, wird als "Schreib"-Operation bezeichnet. Andererseits
wird eine Operation, die einen Übergang
von irgendeinem vom Zustand 2 bis Zustand 2" in den Zustand 1 verursacht, als "Lösch"-Operationen bezeichnet. Die Phasenzustände von
jeder der N Aufzeichnungsschichten 62 werden in gewünschte Phasenzustände geändert, wodurch
Informationen in den Speicher 60 geschrieben werden können oder
Informationen aus dem Speicher 60 gelöscht werden können.
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Als
nächstes
werden ein Verfahren zum Schreiben von Informationen in den Speicher 60 und
ein Verfahren zum Löschen
von Informationen aus dem Speicher 60 mit Bezug auf die
Schreib/Lese-Vorrichtung 12, die in 1 gezeigt
ist, beschrieben (unter der Annahme, dass der in 1 gezeigte
Speicher 11 gegen den Speicher 60 von 6 ausgetauscht
ist).
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Wenn
Informationen in den Speicher 60 geschrieben oder Informationen
aus diesem gelöscht
werden, wird der Schalter 9 geschlossen und der Schalter 10 wird
geöffnet.
Der Impulsgenerator 7 erzeugt einen elektrischen Stromimpuls
mit einer Amplitude und Breite, die erforderlich sind, um die Phasenzustände der
N Aufzeichnungsschichten 62 in gewünschte Phasenzustände zu ändern. Der
vom Impulsgenerator 7 erzeugte elektrische Stromimpuls
wird an die N Aufzeichnungsschichten 62 des Speichers 60 über die
Anlegeabschnitte 13 angelegt.
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7 zeigt
die Wellenformen von elektrischen Stromimpulsen, die verwendet werden,
um die Phasenzustände
der N Aufzeichnungsschichten 62 zu ändern.
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Elektrischer Stromimpuls (Kristallisationsimpuls) 70:
-
Der
Kristallisationsimpuls 70 wird verwendet, um nur die m-te
Aufzeichnungsschicht (1 ≤ m ≤ N) von der
amorphen Phase in die kristalline Phase zu ändern. Der Kristallisationsimpuls 70 wird
für jede
der N Aufzeichnungsschichten 62 geliefert. Wenn der Kristallisationsimpuls 70 an
die N Aufzeichnungsschichten 62 angelegt wird, wird die
Temperatur aller N Aufzeichnungsschichten 62 auf eine Temperatur
(Tx) erhöht,
die während
einer Zeit (t), die txm ≤ tx < tx(m–1) erfüllt, Txm ≤ Tx < Tx(m+1) erfüllt. Durch Anlegen des Kristallisationsimpulses 70 mit
einer Amplitude Icm und Impulsbreite tcm an die N Aufzeichnungsschichten 62 wird
nur in der m-ten Aufzeichnungsschicht die Kristallisationstemperatur
(Txm) und die Kristallisationszeit (txm) erreicht, so dass sich nur die m-te Aufzeichnungsschicht
von der amorphen Phase in die kristalline Phase ändert.
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Durch
Anlegen des Kristallisationsimpulses 70, der während einer
Zeit (tx), die txm ≤ tx < tx(m–1) erfüllt, eine
Temperatur (Tx) ergibt, die Txm ≤ Tx < Tx(m+1) erfüllt, an die N Aufzeichnungsschichten 62 über die
Anlegeabschnitte 13 wird folglich nur die m-te Aufzeichnungsschicht
von der amorphen Phase in die kristalline Phase geändert, während die
Phasenzustände
der anderen Aufzeichnungsschichten unverändert gehalten werden. Es sollte
beachtet werden, dass wenn m = 1, die obige Beziehung txm ≤ tx < tx(m–1) als
tx1 ≤ tx ausgedrückt
werden kann. Wenn m = N, kann die obige Beziehung Txm ≤ Tx < Tx(m+1) als TxN ≤ Tx ausgedrückt
werden.
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Elektrischer Stromimpuls (Amorphisationsimpuls) 71:
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Der
Amorphisationsimpuls 71 wird verwendet, um den Zustand
des Speichers 60 vom Zustand 2N in den
Zustand 1 zu ändern.
Wenn der Amorphisationsimpuls 71 an die N Aufzeichnungsschichten 62 angelegt wird,
wird die Temperatur aller N Aufzeichnungsschichten 62 auf
eine Temperatur erhöht,
die gleich dem oder höher
als der höchste
der Schmelzpunkte der N Aufzeichnungsschichten 62 ist.
Durch Anlegen eines solchen Amorphisationsimpulses 71 mit
einer Amplitude IaN+1 und Impulsbreite taN+1 an die N Aufzeichnungsschichten 62 erreichen
oder überschreiten
alle der N Aufzeichnungsschichten 62 ihre Schmelzpunkte,
damit sie geschmolzen werden, und anschließend werden alle der N Aufzeichnungsschichten 62 abgeschreckt,
wodurch alle der N Aufzeichnungsschichten 62 von der kristallinen
Phase in die amorphe Phase geändert
werden.
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Durch
Anlegen des Amorphisationsimpulses 71, der eine Temperatur
ergibt, die gleich dem oder höher als
der höchste
der Schmelzpunkte der N Aufzeichnungsschichten 62 ist,
an die N Aufzeichnungsschichten 62 über die Anlegeabschnitte 13 können alle
der N Aufzeichnungsschichten 62 von der kristallinen Phase
in die amorphe Phase geändert
werden.
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Indem
nacheinander die Kristallisationsimpulse 70 für jeweilige
Aufzeichnungsschichten in der amorphen Phase unter den N Aufzeichnungsschichten 62 an
den Speicher 60 angelegt werden, kann ein beliebiger aktueller
Zustand des Speichers 60 in den Zustand 2N geändert werden.
Durch Anlegen des Amorphisationsimpulses 71 an den Speicher 60,
der sich im Zustand 2N befindet, kann alternativ
der Speicher 60 vom Zustand 2N in
den Zustand 1 geändert
werden. Wenn sich der Speicher 60 im Zustand 1 befindet,
kann alternativ, indem an den Speicher 60 nacheinander
die Kristallisationsimpulse für
eine oder mehrere Aufzeichnungsschichten in der amorphen Phase unter
den N Aufzeichnungsschichten 62 angelegt werden, deren Änderung
von der amorphen Phase in die kristalline Phase gewünscht ist,
der Speicher 60 vom Zustand 1 in irgendeinen gewünschten
Zustand geändert
werden. Unter Verwendung der Kristallisationsimpulse 70,
des Amorphisationsimpulses 71 oder Kombinationen davon
kann der Zustand des Speichers 60 von irgendeinem der 2N Zustände in
einen anderen geändert
werden.
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Elektrischer Stromimpuls 72:
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Der
elektrische Stromimpuls 72 wird verwendet, um die m-ten
bis (m+n-1)-ten Aufzeichnungsschichten (1 ≤ m ≤ N) unter den N Aufzeichnungsschichten 62 von
der amorphen Phase in die kristalline Phase zu ändern. Wenn der elektrische
Stromimpuls 72 an die N Aufzeichnungsschichten 62 über die
Anlegeabschnitte 13 angelegt wird, wird die Temperatur
aller N Aufzeichnungsschichten 62 auf eine Temperatur (Tx) erhöht,
die während
einer Zeit (tx), die txm ≤ tx < tx(m–1) erfüllt, Tx(m+1–1) ≤ Tx < Tx(m+n) erfüllt. Durch Anlegen des elektrischen Stromimpulses 72 mit
einer Amplitude Ic(m+n–1) und Impulsbreite
tcm an die N Aufzeichnungsschichten 62 werden in
jeder der m-ten bis (m+n–1)-ten
Aufzeichnungsschichten die Kristallisationstemperatur (Tx(m+n–1))
und die Kristallisationszeit (txm) erreicht,
so dass sich alle der m-ten bis (m+n–1)-ten Aufzeichnungsschichten
von der amorphen Phase in die kristalline Phase ändern.
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Durch
Anlegen des elektrischen Stromimpulses 72, der während einer
Zeit (tx), die txm ≤ tx < tx(m–1) erfüllt, eine
Temperatur (Tx) ergibt, die Tx(m+n–1) ≤ Tx < Tx(m+n) erfüllt, an die N Aufzeichnungsschichten 62 über die
Anlegeabschnitte 13 können
folglich alle der m-ten bis (m+n–1)-ten Aufzeichnungsschichten
unter den N Aufzeichnungsschichten 62 von der amorphen
Phase in die kristalline Phase geändert werden.
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Der
elektrische Stromimpuls 72 ist nicht unentbehrlich, da
die m-ten bis (m+n–1)-ten Aufzeichnungsschichten
von der amorphen Phase in die kristalline Phase geändert werden
können,
indem nacheinander die Kristallisationsimpulse 70 entsprechend
den m-ten bis (m+n–1)-ten
Aufzeichnungsschichten an den Speicher 60 angelegt werden.
Der elektrische Stromimpuls 72 kann jedoch die m-ten bis
(m+n–1)-ten
Aufzeichnungsschichten von der amorphen Phase in die kristalline
Phase im Vergleich zu einem Fall, in dem die Kristallisationsimpulse 70 entsprechend
den m-ten bis (m+n–1)-ten
Aufzeichnungsschichten nacheinander an den Speicher 60 angelegt
werden, schneller ändern.
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Elektrischer Stromimpuls 73:
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Der
elektrische Stromimpuls 73 wird verwendet, um den Zustand
des Speichers 60 vom Zustand 1 in den Zustand 2N zu ändern.
Wenn der elektrische Stromimpuls 73 an die N Aufzeichnungsschichten 62 angelegt
wird, wird die Temperatur aller N Aufzeichnungsschichten 62 auf
eine Temperatur (Tx) erhöht, die während einer Zeit (tx), die tx1 ≤ tx erfüllt,
eine Temperatur (Tx) ergibt, die TxN ≤ Tx erfüllt.
Durch Anlegen des elektrischen Stromimpulses 73 mit einer
Amplitude IcN und einer Impulsbreite tc1 an die N Aufzeichnungsschichten 62 werden
in allen der N Aufzeichnungsschichten 62 die Kristallisationstemperatur
(TxN) und die Kristallisationszeit (tx1) erreicht, so dass sich alle der N Aufzeichnungsschichten 62 von
der amorphen Phase in die kristalline Phase ändern.
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Durch
Anlegen des elektrischen Stromimpulses 73, der während einer
Zeit (t), die tx1 ≤ tx erfüllt, eine Temperatur
(Tx) ergibt, die TxN ≤ Tx erfüllt,
an die N Aufzeichnungsschichten 62 durch die Anlegeabschnitte 13 können folglich
alle der N Aufzeichnungsschichten 62 von der amorphen Phase
in die kristalline Phase geändert
werden.
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Der
elektrische Stromimpuls 73 ist nicht unentbehrlich, da
alle der N Aufzeichnungsschichten 62 von der amorphen Phase
in die kristalline Phase geändert
werden können,
indem nacheinander die Kristallisationsimpulse 70 an den
Speicher 60 angelegt werden. Der elektrische Stromimpuls 73 kann
jedoch den Zustand des Speichers 60 vom Zustand 1 in den
Zustand 2N im Vergleich zu einem Fall, in
dem die Kristallisationsimpulse 70 nacheinander an den
Speicher 60 angelegt werden, schneller ändern.
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Elektrischer Stromimpuls 74:
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Der
elektrische Stromimpuls 74 wird durch Kombinieren des elektrischen
Stromimpulses 73 und des Amorphisationsimpulses 71 erzeugt.
Der elektrische Stromimpuls 74 wird verwendet, wenn sich
zumindest eine Aufzeichnungsschicht unter den N Aufzeichnungsschichten 62 in
der amorphen Phase befindet, um den Zustand des Speichers 60 in
den Zustand 1 zu ändern.
Durch Anlegen des elektrischen Stromimpulses 74 an die
N Aufzeichnungsschichten 62 wird die Temperatur (T) aller
N Aufzeichnungsschichten 62 auf eine Temperatur (Tx) erhöht,
die während
einer Zeit (tx), die tx1 ≤ tx erfüllt,
Tx ≥ TxN erfüllt,
und dann weiter erhöht,
um den höchsten
der Schmelzpunkte der N Aufzeichnungsschichten 62 zu erreichen.
Durch Anlegen des elektrischen Stromimpulses 74 an die
N Aufzeichnungsschichten 62, der zuerst die Amplitude IcN mit der Impulsbreite tc1 und
dann die Amplitude IaN+1 mit der Impulsbreite
taN+1 aufweist, wird in allen der N Aufzeichnungsschichten 62 die
Kristallisationstemperatur (TxN) und die
Kristallisa tionszeit (tx1) erreicht, so
dass sich alle der N Aufzeichnungsschichten 62 von der
amorphen Phase in die kristalline Phase ändern, und dann alle der N
Aufzeichnungsschichten 62 den höchsten der Schmelzpunkte der
N Aufzeichnungsschichten 62 erreichen oder überschreiten,
so dass alle der N Aufzeichnungsschichten 62 geschmolzen
werden. Anschließend
werden alle der N Aufzeichnungsschichten 62 abgeschreckt,
wodurch alle der N Aufzeichnungsschichten 62 von der kristallinen
Phase in die amorphe Phase geändert
werden.
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Der
elektrische Stromimpuls 74 ist nicht unentbehrlich, da
alle der N Aufzeichnungsschichten 62 in die kristalline
Phase (Zustand 2N) geändert werden können, indem
nacheinander die Kristallisationsimpulse 70 an den Speicher 60 angelegt
werden, und dann kann der Zustand des Speichers 60 vom
Zustand 2N in den Zustand 1 geändert werden,
indem der Amorphisationsimpuls 71 an den Speicher 60 angelegt
wird. Der elektrische Stromimpuls 74 kann jedoch den Zustand
des Speichers 60 von irgendeinem Zustand abgesehen vom Zustand
2N in den Zustand 1 im Vergleich zu einem
Fall, in dem die Kristallisationsimpulse 70 für die erste
bis N-te Aufzeichnungsschicht und der Amorphisationsimpuls 71 nacheinander
an den Speicher 60 angelegt werden, schneller ändern.
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Elektrischer Stromimpuls 75:
-
Der
elektrische Stromimpuls 75 wird in dem Fall verwendet,
in dem jede der einen oder mehreren Aufzeichnungsschichten unter
den N Aufzeichnungsschichten 62 einen Schmelzpunkt aufweist,
der gleich einer oder niedriger als eine Temperatur Tm ist,
und jede der anderen Aufzeichnungsschichten unter den N Aufzeichnungsschichten 62 einen
Schmelzpunkt aufweist, der höher
ist als eine Temperatur Tm, um die eine
oder die mehreren Aufzeichnungsschichten von der kristallinen Phase
in die amorphe Phase zu ändern,
während
die andere Aufzeichnungsschicht in der kristallinen Phase gehalten
wird. Durch Anlegen des elektrischen Stromimpulses 75 an
die N Aufzeichnungsschichten 62 wird die Temperatur (T)
aller N Aufzeichnungsschichten 62 erhöht, so dass jede der einen
oder der mehreren Aufzeichnungsschichten die Temperatur Tm erreicht. Durch Anlegen des elektrischen
Stromimpulses 75 mit der Amplitude Iam und
der Impulsbreite tam an die N Aufzeichnungsschichten 62 erreicht
jede der einen oder mehreren Aufzeichnungsschichten, die Schmelzpunkte
gleich der oder niedriger als die Temperatur Tm aufweisen,
die Temperatur Tm, so dass sie sich von
der kristallinen Phase in die amorphe Phase ändert.
-
Die
Temperatur Tm kann eine beliebige Temperatur
sein, die gleich dem oder höher
als der niedrigste der Schmelzpunkte der N Aufzeichnungsschichten 62 und
niedriger als der höchste
der Schmelzpunkte der N Aufzeichnungsschichten 62 ist.
Durch Bestimmen der Temperatur Tm können die
N Aufzeichnungsschichten 62 in eine Gruppe, die aus einer
oder mehreren Aufzeichnungsschichten besteht, von denen jede einen Schmelzpunkt
aufweist, der gleich der oder niedriger als die Temperatur Tm ist, und eine Gruppe, die aus den anderen
Aufzeichnungsschichten besteht, von denen jede einen Schmelzpunkt
aufweist, der höher
ist als die Temperatur Tm, unterteilt werden.
Durch Anlegen des elektrischen Stromimpulses 75, der die
Temperatur Tm ergibt, an die N Aufzeichnungsschichten 62 kann
jede der Aufzeichnungsschichten mit einem Schmelzpunkt gleich der
oder niedriger als die Temperatur Tm von
der kristallinen Phase in die amorphe Phase geändert werden.
-
Der
elektrische Stromimpuls 75 ist nützlich, wenn die Schmelzpunkte
der N Aufzeichnungsschichten 62 verschieden sind, aber
nicht unentbehrlich, da nur (eine) gewünschte Aufzeichnungsschichten)
unter den N Aufzeichnungsschichten 62 in die kristalline
Phase geändert
werden kann, indem nacheinander der Amorphisationsimpuls 71 und
die Kristallisationsimpulse 70 an den Speicher 60 anstelle
des elektrischen Stromimpulses 75 angelegt werden. Der
elektrische Stromimpuls 75 kann jedoch nur (eine) gewünschte Aufzeichnungsschichten)
unter den N Aufzeichnungsschichten 62 in die kristalline
Phase im Vergleich zu einem Fall, in dem der Amorphisationsimpuls 71 und
die Kristallisationsimpulse 70 nacheinander an den Speicher 60 angelegt
werden, schneller ändern.
-
Wenn
aktuelle Phasenzustände
der N Aufzeichnungsschichten 62 bekannt sind, können die
Phasenzustände
der N Aufzeichnungsschichten 62 durch eine Kombination
der Kristallisationsimpulse 70 und des Amorphisationsimpulses 71 in
gewünschte
Phasenzustände
geändert
werden. Die aktuellen Phasenzustände (anfängliche
Zustände)
der N Aufzeichnungsschichten 62 können durch ein Leseverfahren
identifiziert werden, das später
mit Bezug auf 8 beschrieben wird. Es sollte
beachtet werden, dass, indem an den Speicher 60 nacheinander
die Kristallisationsimpulse 70 entsprechend der jeweiligen
der ersten bis N-ten Aufzeichnungsschichten angelegt werden (oder
indem der elektrische Stromimpuls 73 an den Speicher 60 angelegt
wird) der Zustand des Speichers 60 von irgendeinem Zustand
in den Zustand 2N geändert wird. Der so erreichte
Zustand 2N kann als Anfangszustand zum Ändern der
Phasenzustände
der N Aufzeichnungsschichten 62 in gewünschte Phasenzustände verwendet
werden. Mit einer solchen Anordnung kann die Leseoperation weggelassen werden,
da es nicht erforderlich ist, die aktuellen Phasenzustände der
N Aufzeichnungsschichten 62 zu identifizieren. Der Anfangszustand
des Speichers 60 ist jedoch nicht auf den Zustand 2N begrenzt.
-
Als
nächstes
wird ein Verfahren zum Lesen von Informationen vom Speicher 60 mit
Bezug auf die Schreib/Lese-Vorrichtung 12 von 1 beschrieben
(unter der Annahme, dass der in 1 gezeigte
Speicher 11 gegen den Speicher 60 von 6 ausgetauscht
ist). Das Leseverfahren der Ausführungsform
2 ist im Wesentlichen dasselbe wie jenes der Ausführungsform
1, das mit Bezug auf 4 beschrieben wurde. Wenn Informationen
aus dem Speicher 60 gelesen werden, wird der Schalter 10 geschlossen,
so dass die Schreib/Lese-Vorrichtung 12 mit dem Speicher 60 über die
Anlegeabschnitte 13 verbunden wird. Der Widerstandsmessabschnitt 8 legt
einen elektrischen Stromimpuls Ir an die
N Aufzeichnungsschichten 62 an und erfasst den Widerstandswert
der N Aufzeichnungsschichten 62 (die Summe der Widerstandswerte
von jeder der N Aufzeichnungsschichten 62) auf der Basis
einer Potentialdifferenz, die zwischen der unteren Elektrode 2 und
der oberen Elektrode 6 verursacht wird. Der elektrische
Stromimpuls Ir besitzt eine Amplitude und
Impulsbreite mit einer Größe, so dass
keine Phasenänderung
in den N Aufzeichnungsschichten 62 verursacht wird.
-
8 ist
ein Ablaufplan, der das Verfahren zum Lesen von Informationen aus
dem Speicher 60 unter Verwendung der Schreib/Lese-Vorrichtung 12 der
vorliegenden Erfindung darstellt. Nachstehend werden Schritte des
Verfahrens zum Lesen von Informationen aus dem Speicher 60 mit
Bezug auf 8 in Verbindung mit 1 beschrieben:
- Schritt S801: Der elektrische Stromimpuls Ir wird
an die N Aufzeichnungsschichten 62 durch die Anlegeabschnitte 13 angelegt.
- Schritt S802: Der Widerstandsmessabschnitt 8 misst
die Summe der Widerstandswerte der N Aufzeichnungsschichten 62.
- Schritt S803: Der Bestimmungsabschnitt 16 bestimmt,
welchem der Zustände
1–2N die gemessene Summe der Widerstandswerte
entspricht.
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Durch
diese Schritte werden Informationen aus dem Speicher 60 gelesen.
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Es
sollte beachtet werden, dass mehrere Speicher 60 mit jeweils
einer in 6 gezeigten Struktur in einer
Matrix angeordnet sein können,
wie in 5 gezeigt, wodurch die Kapazität einer Speichervorrichtung erhöht werden
kann.
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Im
Speicher 60 von 6 sind die Aufzeichnungsschichten 62 in
der Reihenfolge von der ersten Aufzeichnungsschicht zur N-ten Aufzeichnungsschicht
ausgebildet. Die ersten bis N-ten Aufzeichnungsschichten können jedoch
in irgendeiner anderen Reihenfolge (z. B. in einer zufälligen Reihenfolge)
ausgebildet sein.
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Ein
Speicher der vorliegenden Erfindung umfasst eine erste Aufzeichnungsschicht
und eine zweite Aufzeichnungsschicht, von denen jede Informationen
unter Verwendung einer reversiblen Phasenänderung zwischen einer kristallinen
Phase und einer amorphen Phase aufzeichnet, die auf Grund von Temperaturerhöhungen auftreten
kann, die durch Anlegen des elektrischen Stromimpulses verursacht
werden. Die Kristallisationstemperatur der ersten Aufzeichnungsschicht,
Tx1, und die Kristallisationstemperatur
der zweiten Aufzeichnungsschicht, Tx2, besitzen
die Beziehung Tx1 < Tx 2 und die Kristallisationszeit der ersten
Aufzeichnungsschicht, tx1, und die Kristallisationszeit
der zweiten Aufzeichnungsschicht, tx2, besitzen
die Beziehung tx1 > tx2, so dass
jede der ersten und der zweiten Aufzeichnungsschicht in einen gewünschten
Phasenzustand (amorphe Phase oder kristalline Phase) gesetzt werden
kann. Wenn der Widerstandswert der ersten Aufzeichnungsschicht in
der amorphen Phase Ra1 ist, der Widerstandswert
der ersten Aufzeichnungsschicht in der kristallinen Phase Rc1 ist, der Widerstandswert der zweiten Aufzeichnungsschicht
in der amorphen Phase Ra2 ist und der Widerstandswert
der zweiten Aufzeichnungsschicht in der kristallinen Phase Rc2 ist, sind ferner Ra1 +
Ra2, Ra1 + Rc2, Rc1 + Ra2 und Rc1 + Rc2 voneinander verschieden. Vier Zustände des
Speichers, die durch Kombinationen des Phasenzustandes der ersten
Aufzeichnungsschicht und des Phasenzustandes der zweiten Aufzeichnungsschicht
dargestellt sind, können
folglich unterscheidbar erfasst werden. In dieser Struktur wird
der Phasenzustand von jeder Aufzeichnungsschicht zwischen der kristallinen
Phase und der amorphen Phase gesteuert. Dies ist leichter als eine
schrittweise Steuerung des Phasenzustandes einer einzelnen Aufzeichnungsschicht.
Die Anzahl von Aufzeichnungsschichten ist nicht auf 2 begrenzt.
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Dieselben
Effekte der vorliegenden Erfindung können selbst mit einem Speicher
mit mehr als zwei Aufzeichnungsschichten erhalten werden.